JPH0964004A - リンス機 - Google Patents

リンス機

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Publication number
JPH0964004A
JPH0964004A JP7240828A JP24082895A JPH0964004A JP H0964004 A JPH0964004 A JP H0964004A JP 7240828 A JP7240828 A JP 7240828A JP 24082895 A JP24082895 A JP 24082895A JP H0964004 A JPH0964004 A JP H0964004A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaned
cleaning
cleaning liquid
ejection port
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7240828A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ito
隆志 伊藤
Hiroyuki Saito
博之 斎藤
Haruyuki Kinami
治行 木南
Toshinori Konaka
敏典 小中
Takeshi Murai
剛 村井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M SETETSUKU KK
Original Assignee
M SETETSUKU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M SETETSUKU KK filed Critical M SETETSUKU KK
Priority to JP7240828A priority Critical patent/JPH0964004A/ja
Publication of JPH0964004A publication Critical patent/JPH0964004A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウエハ,太陽電池セル等を洗浄する
ためのリンス機において、被洗浄物を両面同時に洗浄可
能として、別途下面洗浄をする必要をなくし、洗浄作業
の効率を大幅に向上させる。 【解決手段】被洗浄物(1)の下面をスピンチャック(2)で
保持し、被洗浄物(1)の表面の上方から洗浄液を噴出(4)
して被洗浄物(1)の上面を洗浄する。被洗浄物(1)の下方
から洗浄液を噴出して被洗浄物(1)の下面を洗浄するた
めの下方洗浄液噴出口(6)を備えている。被洗浄物(1)の
下面の内側から外周に向かうガス流を作り出すことので
きるガス噴出口(5)を備えている。ガス噴出口(5)は下方
洗浄液噴出口(6)より内側に設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ,太陽電池
セル等の洗浄に用いられるリンス機に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造工程等において、半導体ウ
エハ等の被洗浄物の洗浄が必要となり、この作業にはリ
ンス機といわれる洗浄装置が用いられる。リンス機は高
速回転す被洗浄物の上方から洗浄液を吹き付けて洗浄す
る。
【0003】図1は本発明を説明するための図面である
が、ガス噴出口以外の基本構成は従来のリンス機と同様
であるので、便宜上本図面を用いて従来例の説明を行
う。モーター(3)のシャフトにはスピンチャック(2)が取
り付けられている。モーター(3)の回転軸には吸引路(9)
が設けられており吸引ポンプに接続されている。この吸
引路(9)はスピンチャック(2)の中心の吸引口につながっ
ており、被処理物(1)を吸着している。洗浄液が周囲に
飛び散らないように上部カバー(8)で覆った後にモータ
ー(3)を稼働させ、スピンチャック(2)と共に被処理物
(1)を回転させる。そして、洗浄液噴出口(4)から洗浄液
を被処理物(1)の上面に噴出する。被処理物(1)は回転し
ているので、洗浄液は遠心力により被処理物(1)上面を
洗浄しつつ外周方向に流れて行き、被処理物(1)の外側
に飛ばされ、洗浄液排出口(7)より装置外に排出され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のリンス機では被
洗浄物(1)の上面のみの洗浄であり、下面(裏面)につ
いては同時に洗浄することができなかった。又、洗浄の
際に多くの洗浄液は、被処理物(1)の外側に飛ばされる
が、一部の洗浄液は被洗浄物(1)の表面から下面に回り
込み、下面に汚れた洗浄液による跡が残る。この洗浄跡
は細かい粉末やパーティクル等を含んでいるため、見栄
えがよくないだけでなく、次工程装置の汚染源となり、
それが被洗浄物(1)の表面側に回り込むとパターン配線
上の傷や短絡等の不良原因となるおそれもある。よっ
て、従来は下面を別途洗浄することが必要があり、手間
がかかった。そこで、別途下面洗浄を行う必要のないリ
ンス機が求められていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のリンス機は、被
洗浄物(1)の下面をスピンチャック(2)で保持し、被洗浄
物(1)の上方から洗浄液を噴出(4)して被洗浄物(1)の上
面を洗浄するリンス機において、被洗浄物(1)の下方か
ら洗浄液を噴出して被洗浄物(1)の下面を洗浄するため
の下方洗浄液噴出口(6)を備えていることを特徴とす
る。さらには上記に加えて、被洗浄物(1)の下面の内側
から外周に向かうガス流を作り出すことのできるガス噴
出口(5)を備えており、ガス噴出口(5)は下方洗浄液噴出
口(6)より内側に設けられていることを特徴とする。
【0006】
【実施例】以下、本発明を好適な実施例を用いて説明す
る。図1に実施例の要部断面図を示す。下方洗浄液噴出
口(6)とガス噴出口(5)以外の構成,機能は従来のリンス
機と同様であるので省略する。
【0007】洗浄作業中には下方洗浄液噴出口(6)から
も洗浄液が噴出され、洗浄液は遠心力により被洗浄物
(1)の下面を外周方向に流れて行き、被洗浄物(1)下面が
洗浄される。これにより、下面の洗浄を別途行う必要も
なくなるので作業効率が大幅に向上する。
【0008】又、ガス噴出口(5)からN2ガスが噴出さ
れ、このガスはスピンチャック(2)の周囲(5a)から被洗
浄物(1)の下面(裏面)に勢いよく放出される。ガス噴
出口(5)は下方洗浄液噴出口(6)より内側(スピンチャッ
ク(2)側)に設けられており、ガスは被洗浄物(1)の下面
を外周側に向かって流れるため、下方洗浄液噴出口(6)
から噴出した洗浄液や、被洗浄物(1)の上面より下面に
回り込もうとする洗浄液は、ガス流によりガス噴出口
(5)より内側に入り込むことができない。したがって下
面中心部に洗浄液の跡が残ることもない。
【0009】尚、本実施例では噴出ガスとしてN2ガス
を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、
被洗浄物に悪影響を与えないガスであれば他の種類のガ
スや混合ガスを用いてもよい。
【0010】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により被洗浄
物を両面同時に洗浄することができ、別途下面洗浄を必
要としないので、洗浄作業の効率を大幅に向上させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の要部断面図。
【符号の説明】 (1) 被洗浄物(半導体ウエハ) (2) スピンチャック (3) モーター (4) 洗浄液噴出口 (5) ガス噴出口 (6) 下方洗浄液噴出口 (7) 洗浄液排出口 (8) 上部カバー (9) 吸引路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小中 敏典 東京都台東区谷中3丁目6番16号 エム・ セテック株式会社内 (72)発明者 村井 剛 東京都台東区谷中3丁目6番16号 エム・ セテック株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被洗浄物の下面をスピンチャックで保持
    し、被洗浄物の上方から洗浄液を噴出して被洗浄物を洗
    浄するリンス機において、 被洗浄物の下方から洗浄液を噴出して被洗浄物の下面を
    洗浄するための下方洗浄液噴出口を備えていることを特
    徴とするリンス機。
  2. 【請求項2】 被洗浄物の下面をスピンチャックで保持
    し、被洗浄物の上方から洗浄液を噴出して被洗浄物を洗
    浄するリンス機において、 被洗浄物の下方から洗浄液を噴出して被洗浄物の下面を
    洗浄するための下方洗浄液噴出口と、 被洗浄物の下面の内側から外周に向かうガス流を作り出
    すことのできるガス噴出口を備えており、 ガス噴出口は下方洗浄液噴出口より内側に設けられてい
    ることを特徴とするリンス機。
JP7240828A 1995-08-25 1995-08-25 リンス機 Pending JPH0964004A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7240828A JPH0964004A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7240828A JPH0964004A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0964004A true JPH0964004A (ja) 1997-03-07

Family

ID=17065304

Family Applications (1)

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JP7240828A Pending JPH0964004A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機

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JP (1) JPH0964004A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102588860A (zh) * 2011-01-07 2012-07-18 北京联合大学 一种太阳能路灯光伏板的清洁方法
KR20140031109A (ko) * 2012-09-03 2014-03-12 가부시키가이샤 소쿠도 처리 컵 및 기판 처리 장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102588860A (zh) * 2011-01-07 2012-07-18 北京联合大学 一种太阳能路灯光伏板的清洁方法
KR20140031109A (ko) * 2012-09-03 2014-03-12 가부시키가이샤 소쿠도 처리 컵 및 기판 처리 장치
JP2014049679A (ja) * 2012-09-03 2014-03-17 Sokudo Co Ltd カップおよび基板処理装置

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