JPH0967189A - 酸化物単結晶の製造方法および装置 - Google Patents
酸化物単結晶の製造方法および装置Info
- Publication number
- JPH0967189A JPH0967189A JP7217513A JP21751395A JPH0967189A JP H0967189 A JPH0967189 A JP H0967189A JP 7217513 A JP7217513 A JP 7217513A JP 21751395 A JP21751395 A JP 21751395A JP H0967189 A JPH0967189 A JP H0967189A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- oxide single
- composition
- crucible
- pulling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/08—Downward pulling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/30—Niobates; Vanadates; Tantalates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10S117/91—Downward pulling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/1036—Seed pulling including solid member shaping means other than seed or product [e.g., EDFG die]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/1036—Seed pulling including solid member shaping means other than seed or product [e.g., EDFG die]
- Y10T117/1044—Seed pulling including solid member shaping means other than seed or product [e.g., EDFG die] including means forming a flat shape [e.g., ribbon]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
き下げて生産するのに際して、酸化物単結晶の組成を制
御できるようにし、一定の組成を有する酸化物単結晶を
連続的に育成できるようにすることである。 【解決手段】酸化物単結晶の原料の溶融物をルツボから
連続的に引き下げて育成するのに際して、酸化物単結晶
を引き下げる際の引下げ速度を変更することによって、
酸化物単結晶の組成を制御することを特徴とする。好ま
しくは、酸化物単結晶の引下げ速度を20mm/時間以
上、300mm/時間以下の範囲内で変更し、酸化物単
結晶の育成が進行するのにつれて前記引下げ速度を減少
させることができる。
Description
法およびその装置に関するものである。
ような固溶体組成の酸化物を育成する場合、育成条件や
原料の組成によって微妙に育成結晶の組成が変動するた
め、単結晶の光学的特性を均一することは困難であっ
た。最近、酸化物単結晶を育成する方法として、いわゆ
るμ引下げ法によって単結晶ファイバーを形成する方法
が注目を集めている。「電総研ニュース」1993年7
月号(522号)の4〜8頁には、この方法によってニ
オブ酸・カリウム・リチウム(K3 Li2-2xNb5+x O
15+x、以下、KLNと記載する。)単結晶ファイバーを
育成した経緯が、開示されている。
3、No.7 1995年においては、酸化ニオブ、酸
化カリウムおよび酸化リチウムからなる溶融体を使用し
て、KLNの単結晶を育成しており、かつ育成されたK
LN単結晶の組成と第二高調波位相整合波長との関係
を、格子定数の変化等を参照しつつ、理論的に考察して
いる。この結果、ニオブが51mol%の組成を有する
単結晶の場合には、830nmの波長で位相整合してい
たのに対して、ニオブが53mol%の組成では、88
0nmで位相整合していた。このように、組成によって
位相整合波長が変化することを示している。具体的に
は、ニオブの割合が1モル%増加すると、SHG位相整
合波長が、25nmだけ長波長側にシフトしていた。ま
た、SHG位相整合波長を±1.0nmの範囲内に制御
するためには、±0.04mol%の範囲内にKLN単
結晶の組成を制御することが必要なことが示されてい
た。
m程度の育成速度でKLN単結晶を育成した場合につい
て、単結晶の位相整合波長が、育成が進行するのに従っ
て短波長側にシフトする傾向が認められた(第39回人
工結晶討論会 1994年10月17日)。これは、K
LNの相図から判るように、ルツボ内の溶融体よりもニ
オブ組成が多い組成の単結晶が育成されるので、溶融体
中のニオブの割合が徐々に減少していく。溶融体中のニ
オブの割合が減少してくるのに伴い、育成される単結晶
中のニオブの割合も減少し、位相整合波長が短波長側に
シフトしてくる。このように、マイクロ引下げ法におい
ては、目的とする光学特性、特に位相整合波長を有する
単結晶を連続的に育成することは困難であった。
用の素子の材料を生産するのに際しては、単結晶の組成
が僅かに変動しても、その特性が顕著に変動し、不良品
となってしまうので、単結晶を連続的に引き出すのに際
して、その組成の変動を防止することが必要である。
下げ法によって酸化物単結晶を連続的に引き下げて生産
するのに際して、酸化物単結晶の組成を制御できるよう
にすることであり、特には、一定の組成を有する酸化物
単結晶を連続的に育成できるようにすることである。
を引下げ法によって育成する方法であって、酸化物単結
晶の原料の溶融物をルツボから連続的に引き下げて育成
するのに際して、酸化物単結晶を引き下げる際の引下げ
速度を変更することによってこの酸化物単結晶の組成を
制御することを特徴とする製造方法に係るものである。
によって連続的に育成するための装置であって、酸化物
単結晶の原料の溶融物を収容するルツボ、ルツボへと前
記原料を供給する原料供給装置、酸化物単結晶を前記ル
ツボから引き下げて育成するための駆動装置であって、
この引下げ速度を変化させることができる駆動装置、育
成中の酸化物単結晶の組成の変化を検出する検出装置、
およびこの組成の変化に応じて駆動装置による酸化物単
結晶の引下げ速度を変化させるための処理装置を備えて
いることを特徴とする、酸化物単結晶の製造装置に係る
ものである。
に単結晶ファイバーを引下げ、かつその組成を一定に保
持することに成功した。即ち、酸化物単結晶の原料の溶
融物をルツボから連続的に引き下げて育成するのに際し
て、酸化物単結晶を引き下げる際の引下げ速度を変更す
ることによって、酸化物単結晶の組成を制御できること
を見いだし、本発明に到達した。
高精度の駆動装置を設け、かつ高精度に温度を制御でき
るような炉体を設けた。このような高精度の育成装置中
に白金ルツボを設置し、酸化物単結晶を育成した。ルツ
ボからの単結晶の引下げ速度を20〜300mm/時間
に設定し、その温度条件を最適化したところ、安定した
固相−液相界面のメニスカスが生成し、連続的に単結晶
を育成できることが判明した。そして、KLNの場合に
ついて、その引下げ速度と位相整合波長との関係を測定
した結果、表1に示すような相関関係を発見した。
結晶の組成を分析した結果、この位相整合波長は、ニオ
ブの組成によって大きく左右され、図1に示すような相
関関係があることを確認した。この図1に示す傾向自体
は、従来知られていたものと同じであるが、その値は若
干異なっていたことを発見した。これらのデータについ
て、以下説明する。ただし、表1において、横軸は溶融
体の組成を示し、縦軸は引下げ速度を示す。「p
o.」、「NS.」は後述する。
=30:20:50のmol比率の原料を溶解して溶融
体とし、この組成からの単結晶の育成を試みた。引下げ
速度を40mm/時間とした場合には、KLN単結晶の
位相整合波長は920nmであり、引下げ速度を80m
m/時間とした場合には、KLN単結晶の位相整合波長
は870nm付近となった。引下げ速度120mm/時
間で、位相整合波長は840nmとなった。このよう
に、育成速度を大きくすることによって、位相整合波長
が短波長側にずれてくることを発見した。
50.5のmol比率の原料を溶解して溶融体とし、こ
の組成からのKLN単結晶の育成を試みた。この結果、
引下げ速度を40mm/時間とした場合には、KLN単
結晶の位相整合波長は940nmであり、引下げ速度を
80mm/時間とした場合には、KLN単結晶の位相整
合波長は890nm付近となり、引下げ速度を120m
m/時間とした場合には、KLN単結晶の位相整合波長
は860nm付近となった。このように、育成速度を大
きくすることによって、やはり位相整合波長が短波長側
にずれてくることを発見した。また、上記の基本組成と
比較して、ニオブの割合を0.5mol%増大させるこ
とによって、位相整合波長が約20nm長くなることを
確認した。
合が1mol%増大すると、SHG位相整合波長が40
nm長波長側にシフトした。これは、逆に言うと、位相
整合波長を±1.0nmの範囲内に制御するためには、
±0.025mol%の範囲内に組成を制御する必要が
ある。これは、従来の知見よりも、一層厳格な組成制御
が必要であることを示している。
49.5のmol比率の原料を溶解して溶融体とし、こ
の組成からのKLN単結晶の育成を試みた。この結果、
引下げ速度を40mm/時間とした場合には、KLN単
結晶の位相整合波長は900nmであり、引下げ速度を
80mm/時間とした場合には、KLN単結晶の位相整
合波長は850nm付近となり、引下げ速度を120m
m/時間とした場合には、KLN単結晶の位相整合波長
は820nm付近となった。このように、育成速度を大
きくすることによって、やはり位相整合波長が短波長側
にずれてくることを発見した。また、上記の基本組成と
比較して、ニオブの割合を0.5mol%減少させるこ
とによって、位相整合波長が約20nm短くなることを
確認した。
に関しては、KLN組成においてニオブの組成が1mo
l%増大したときには、位相整合波長が約40nm長く
なる。また、基本組成の近辺においては、引下げ速度を
40mm/時間から80mm/時間へと増加させると、
位相整合波長が約50nm短くなり、引下げ速度を80
mm/時間から120mm/時間へと増加させると、位
相整合波長が約30nm短くなった。表1の他の部分
も、これと同様の意味である。
ついて、以下のように推定した。図2は、(K、Li)
−Nbの二元系の相図において、ニオブの組成が50.
0mol%の溶融体から単結晶を育成した場合を示す図
である。KLNのような固溶体組成の酸化物単結晶を引
下げ法によって育成する場合には、ある組成を有する溶
融体から単結晶を育成する際の引下げ速度によって、酸
化物単結晶の組成が変化する。
度では、図2の線1Aに示すように組成が変化し、ニオ
ブの割合が54.5mol%であるKLN単結晶が得ら
れ、940nmで位相整合するようになる。次に、80
mm/時間の引下げ速度を採用すると、図2の線1Bで
示すように組成が変化し、この結果ニオブの割合が53
mol%付近の単結晶が得られ、870nmで位相整合
する。この線1Aと1Bとが、引下げ速度に応じて変化
するのは、溶融体の組成が同じであっても、引下げ速度
が早いと、短時間で冷却が行われるため、実質的な冷却
速度が大きくなり、一層溶融体の組成に近い組成を有す
るKLN単結晶が育成される。
融体の量、固相液相の界面の状態とその制御方法などの
影響を受けるので、溶融体の組成と引下げ速度とが同じ
であっても、位相整合波長に±10nm程度の変化が観
測される。ただし、ルツボの形状、炉体等がすべて同じ
育成装置を使用した場合には、位相整合波長のずれは±
0.5nm以下となり、即ち、非常に再現性の高い結果
が得られた。
させると、図2の線1Cで示すように単結晶が育成さ
れ、ニオブの割合が52mol%付近となり、840n
mで位相整合する。
図において、ニオブの組成が48.0mol%の溶融体
から単結晶を育成した場合を示す図である。例えば30
mm/時間の引下げ速度では、線2Aに示すように組成
が変化し、ニオブの割合が53mol%であるKLN単
結晶が得られ、880nmで位相整合するようになる。
次に、80mm/時間の引下げ速度を採用すると、線2
Bで示すように組成が変化し、この結果ニオブの割合が
51.5mol%付近の単結晶が得られ、820nmで
位相整合する。
質な単結晶の育成が可能であったが、120mm/時間
を越えると、表1に示すように、育成が不可能になっ
た。これは、線2Cで示すよりも育成速度が速い場合に
は、KLNの結晶とLi3 NbO4 とが共存する領域と
なるため、多結晶化したからである。表1では、このよ
うな領域を「po.」(polycrystal)と表
示した。
図において、ニオブの組成が46.0mol%の溶融体
から単結晶を育成した場合を示す図である。例えば、前
述の参考文献で実施されていたような、10mm/時間
未満の引下げ速度では、線3Aに示すように組成が変化
し、ニオブの割合が53mol%であるKLN単結晶が
得られ、870nmで位相整合するようになる。次に、
30mm/時間の引下げ速度を採用すると、線3Bで示
すように組成が変化し、この結果ニオブの割合が52m
ol%の単結晶が得られ、830nmで位相整合した。
な単結晶の育成が可能であったが、50mm/時間を越
えると、線3Cで示すよりも育成速度が速くなり、KL
Nの結晶とLiNbO3 とが共存する領域となり、多結
晶化した。
図において、ニオブの組成が52.0mol%の溶融体
から単結晶を育成した場合を示す図である。例えば、線
4Aで示す場合には、単結晶におけるニオブの割合が5
5mol%以上となるため、SHG活性でない斜方晶の
単結晶が得られる。表1では、この領域を「NS」(N
O SHG)と表示した。引下げ速度を80mm/時間
とした場合には、線4Bで示すように組成が変化し、ニ
オブの割合が54.5mol%であるKLN単結晶が得
られ、920nmで位相整合するようになる。次に、1
60mm/時間の引下げ速度を採用すると、線4Cで示
すように組成が変化し、この結果ニオブの割合が53m
ol%の単結晶が得られ、870nmで位相整合した。
300mm/時間の引下げ速度を採用すると、線4Dで
示すように、溶融体の仕込み組成とほぼ同一である、ニ
オブの割合が52mol%の単結晶が得られ、830n
mで位相整合した。
を変更することによって、ニオブの割合が45〜54m
ol%である組成範囲のKLN単結晶を製造することが
できた。特に、引下げ速度を10〜300mm/時間の
範囲内で制御し、変更することによって、それそれ目的
とする組成のKLN単結晶を製造でき、好ましくはSH
G位相整合する組成のKLN単結晶を育成できる。
単結晶の原料の溶融物をルツボから連続的に引き下げて
育成するのに際して、酸化物単結晶を引き下げる際の引
下げ速度を変更することによって、酸化物単結晶の組成
を制御することを想到した。これによって、初めて、酸
化物単結晶をマイクロ引下げ法によって育成する過程
で、酸化物単結晶の組成を精密に制御することが可能に
なった。従って、本発明は、酸化物単結晶の量産および
組成の精密制御を必要とする分野において、極めて重要
である。
2-2x(Tay Nb1-y )5+ x 〕O15+x、Ba1-X SrX
Nb2 O6 、LNT〔LiNb1-X TaX O3 〕等の各
単結晶の育成についても、上記と類似した結果を得た
が、特に固溶体単結晶の育成に対して極めて好適である
ことをも確認した。
および量産性を考慮した場合、引下げ速度を20〜30
0mm/時間とすることが特に好ましく、50〜200
mm/時間とすることが一層好ましい。これを20mm
/時間以上とすることによって、酸化物単結晶の量産性
が著しく良好となり、200mm/時間以下とすること
によって、特に良質な結晶性を有する酸化物単結晶を安
定して製造することができた。
物単結晶の組成がその育成方向で均一となるように、酸
化物単結晶の引下げ速度を制御する。このためには、固
溶体単結晶においては、単結晶の育成が進行するのにつ
れて、前述したように、ルツボ中の溶融体の組成が変化
してくるため、単結晶の組成も変化してくる。そこで、
単結晶の育成が進行するのにつれて、引下げ速度を減少
させることによって、単結晶の組成を一定に保持するこ
とができる。
の育成を進行させるのと共に、酸化物単結晶の目的組成
と同じ組成を有する原料を、ルツボ内に連続的または間
欠的に供給することによって、育成された酸化物単結晶
の組成の変動を防止することができる。この場合におい
ては、酸化物単結晶の育成の進行に伴うルツボ中の溶融
体の組成の変化は相対的に小さくすることができる。し
かし、原料を溶融体中に投入するときなどに、酸化物単
結晶の組成に顕著な変化が生ずることがあるが、これに
応じて引下げ速度を変化させることによって、酸化物単
結晶の組成の変化を抑制することができる。
度勾配は、1000℃/時間以下とするが好ましい。こ
れは、引下げ育成炉から引き出された単結晶が、急激に
室温近辺の雰囲気に晒されると、熱応力によって酸化物
単結晶中にクラックが発生したり、結晶性の劣化が認め
られたからである。このため、育成炉の下部に取り付け
るアニール炉に関しては、育成速度を大きくすればする
ほど、長いアニール炉を必要とし、これによって100
0℃/時間を越える速度の急速冷却が生じないようにす
ることが好ましい。更に好ましくは、100〜400℃
/時間の徐冷によって単結晶を取り出すことによって、
結晶品質を保持できる。
レーザー光を照射し、この酸化物単結晶からの出力光を
測定し、この測定値に従って引下げ速度を変更すること
が特に効果的である。これによって、酸化物単結晶のリ
アルタイムの組成変化を検出し、即座に引下げ速度にフ
ィードバックすることができるからである。
レーザー用の酸化物単結晶とし、この酸化物単結晶に対
してレーザー光を照射し、このレーザー光の波長を変換
した変換光を検出することができる。また、酸化物単結
晶が、前述したKLN単結晶のように、第二高調波発生
効果を有している場合には、この酸化物単結晶に対して
レーザー光を照射し、このレーザー光に対する2倍波を
検出することができる。
力光のピーク波長が、長波長側または短波長側に移動す
ると、その単結晶の組成がずれたことを意味しているの
で、そのピーク波長の移動を減少させるように、原料の
組成比率を変動させる。これによって、単結晶ファイバ
ー等を引出しながら、その組成を一定範囲内に保持する
ことができる。
としては、KLN、KLTN、KN等のように、SHG
により青色光を発生する酸化物単結晶や、CLBO、B
BO、LBO等のように、更に紫外光を発生する酸化物
単結晶が好ましい。ただし、本発明は、第三高調波、第
四高調波等、更に高次の波長変換においても実施可能で
ある。また、本発明によって育成できる固溶体単結晶と
しては、例えば、KLN、KLTN〔K3 Li2-2x(T
ay Nb1-y )5+x 〕O15+x、Ba 1-X SrX Nb2 O
6 を中心としたタングステンブロンズの構造やMn−Z
nフェライトを例示することができる。
単結晶に対してレーザー光を照射し、このレーザー光に
対する2倍波を検出することが好ましい。
ザー光が、目的とする組成に対応する波長を含むような
波長範囲を有していれば、酸化物単結晶からの出力光を
スペクトラムアナライザーによって検出することによっ
て、所定の波長範囲内の各波長についてその強度を知る
ことができる。
成に対応する出力光の波長はλ0 であり、レーザー光は
波長λ1 とλ2 との間の光を含んでいるものとする。波
長λ1 とλ2 との間のレーザー光の強度をスペクトラム
アナライザーで検出する。ルツボの引出し口から引下げ
られた酸化物単結晶の組成が、目的の組成であるときに
は、レーザー光の強度は、波長λ0 で最大値Tをとる。
しかし、製造が進むのにつれて、微妙に酸化物単結晶の
引出し口付近の熱的状態、重力の影響等が変化してくる
と、このピーク波長は、λ1 またはλ2 の方へと向かっ
てわずかに移動する。これに伴い、グラフHも矢印F方
向または矢印G方向へと向かって、グラフの全体がわず
かに移動する。また、溶融体の組成が変化してくると、
このピーク波長は顕著に移動する。
階で、その組成に変化が生じ、その出力光のピーク波長
が変化した場合には、直ちにピーク波長の変化を検出
し、引下げ用の駆動装置へと、および必要に応じて原料
供給装置へとフィードバックすることができる。
うに、波長成分の分布を検出できない場合には、各波長
の出力光の強度を直接知ることはできない。そこで、こ
の場合の好ましい監視方法を、図7を参照しつつ、説明
する。
λ0 とする。ルツボの引出し口から引下げられた酸化物
単結晶の組成が、目的の組成であるときには、レーザー
光の強度は、波長λ0 で最大値Tをとる。製造が進むの
につれて、前記したように、このピーク波長λ0 が移動
し、λ4 またはλ5 となる。これに伴い、グラフHは、
右側または左側へと向かって移動し、グラフIまたはグ
ラフJとなる。
の周辺ではきわめて傾斜が小さい。従って、グラフの最
大値がわずかに移動した場合には、波長λ0 における出
力の変化は更にきわめて小さいので、組成の変化の検出
は事実上困難である。
7 を有する第一のレーザー光と、波長2λ0 よりも小さ
い波長2λ6 を有する第二のレーザー光とを、酸化物単
結晶に対して照射し、これらの各レーザー光に対応し
て、その出力光の強度を測定する受光装置を設けた。そ
して、第一のレーザー光に対応する出力光と、前記第二
のレーザー光に対応する出力光との強度を検出してみ
た。
れた酸化物単結晶の組成が、目的の組成であるときに
は、波長λ6 での強度はp0 となり、波長λ7 での強度
はq0 となる。製造が進むのにつれて、ピーク波長λ0
がλ5 の方へと向かって移動すると、グラフHは右側へ
と向かって移動し、グラフIとなる。このとき、波長λ
6 での強度はp1 となり、p0 よりも減少する。この一
方、波長λ7での強度はq1 となり、q0 よりも増加す
る。これに対して、ピーク波長λ0 がλ4 の方へと向か
って移動すると、グラフHは左側へと向かって移動し、
グラフJとなる。このとき、波長λ6 での強度はp2 と
なり、p0 よりも増加する。この一方、波長λ7 での強
度はq2 となり、q0 よりも減少する。
一対となって現れてくるのて、きわめて組成変化に対す
る感度が良好になる。しかも、特にピーク波長λ 0 、λ
4 、λ5 付近を避けてその外側で測定波長を選択するこ
とによって、グラフの比較的に傾きの大きい部分を利用
することができるので、この観点からも一層感度が良好
になる。
第二のレーザー光とを同時に照射することができるが、
また、波長可変レーザーを使用して、二種類の波長の各
レーザー光を、時間をずらして逐次に照射することも可
能である。
詳細に説明する。本発明者は、酸化物単結晶のμ引下げ
法による量産技術を確立するべく、ルツボを大型化する
ための研究を続けていたが、この過程で、ルツボを大型
化すると共に、このルツボから下方へと延びるノズル部
を備え、このノズル部の下端に単結晶育成部を設け、ル
ツボと単結晶育成部とを互いに独立に温度制御してみ
た。
g以上といった多量にし、これに合わせてルツボの容積
を大きくしても、酸化物単結晶を連続的に容易に引き下
げうることを見いだした。
らく、ノズル部の下端部に単結晶育成部を設けることに
よって、ルツボにおける溶融物が発生させる熱量の影響
を、単結晶育成部が直接受けにくいようになり、同時に
単結晶育成部ないしノズル部と、ルツボとを別々に温度
制御することによって、単結晶育成部付近における温度
勾配を大きくすることができたからと、考えられる。
融する原料粉末の量を30〜50g程度にまで増大させ
た場合でも、KLN単結晶ファイバーにおける組成の変
動が、わずかに0.01mol%以下という驚くべき精
度にまで減少していたことを発見した。従って、この製
造方法と本発明とを組み合わせることによって、こうし
た極めて高い精度の組成を有する酸化物単結晶を量産す
ることができる。
用して、単結晶育成部における溶融物の状態と単結晶の
物性について研究した。この結果、単結晶育成部の環境
に対して、重力よりも表面張力の方が支配的である場合
には、きわめて組成の変動の少ない良好な酸化物単結晶
を、連続的に引き出しうることを見いだした。これによ
って、良好な固相液相界面が形成されるからと思われ
る。
力の方が重力よりも支配的な条件を生じさせるために
は、ノズル部内の溶融物に加わる重力を減少させる機構
を、ルツボ内に設けることが有効である。本発明者は,
このような機構について検討したが、特にノズル部の内
径を0.5mm以下とすることによって、ノズル部内に
おいて、溶融物に加わる重力よりも表面張力の方が支配
的な条件を生成でき、ノズル部の先端開口において均一
なメニスカスを形成できることを確認した。
m未満であると、単結晶の育成速度が小さくなりすぎる
ので、量産の観点からノズル部の内径を0.01mm以
上とすることが好ましい。ノズル部の最適な内径は、
0.01〜0.5mmの範囲内で、溶融物の粘性、表面
張力、比重、単結晶の育成速度等によって若干変動す
る。
た結果、次のような知見を得るに至った。即ち、従来の
μ引下げ法においては、ルツボの規模が小さいので、単
結晶ファイバーを連続的に引き下げることができたと考
えられるが、これは、ルツボ内の溶融物の量が少なく、
溶融物がルツボの壁面に対して、その表面張力によって
張りつくことから、引出し口へと加わる重力が相対的に
小さくなっていたために、ある程度は均質な固相液相界
面が形成されたものと推定できる。しかし、ルツボの寸
法を大きくすると、引出し口付近において表面張力が支
配的な条件が失われたものと推定される。
付近において、ノズル部をその長さ方向に見たときの温
度勾配を大きくすることが容易である。これによって、
ノズル部内を流下してきた溶融物を急速に冷却できる。
料の溶解熱によって、ルツボ内の熱的状態に変動が発生
し、単結晶の組成の変動等がこれによって発生する。し
かし、ルツボの下方に前記のようにしてノズル部を設け
る場合には、ルツボに対して原料を連続的に、または間
欠的に供給することができる。なぜなら、ルツボ内で前
記のような熱的変動が発生しても、単結晶育成部への熱
的影響は少なく、かつ単結晶育成部では平衡状態ではな
く、速度論的状態なので、熱的変動の影響をますます受
けにくいからである。
に限定されない。しかし、単結晶製造装置の周囲を囲む
ように、加熱炉を設けることが好ましい。この際、加熱
炉を上側炉と下側炉とに分離し、ルツボを上側炉によっ
て包囲し、この上側炉の方を相対的に高温で発熱させ
て、ルツボ内の粉末の溶融を助けることが好ましい。こ
れに対してノズル部の周囲に下側炉を設置し、この下側
炉の方の温度を相対的に低くすることによって、ノズル
部の下端部の単結晶育成部における温度勾配を大きくす
ることが好ましい。
上させるためには、ルツボの外側の加熱炉のみによって
ルツボを加熱するよりも、ルツボ自体を導電性材料によ
って形成し、このルツボに電力を供給することによっ
て、ルツボを発熱させることが好ましい。更に、ノズル
部内を流れる溶融物の溶融状態を保持するためには、ノ
ズル部を導電性材料によって形成し、このノズル部に電
力を供給することによって発熱させることが好ましい。
の観点から、白金、白金−金合金、白金−ロジウム合
金、白金−イリジウム合金、イリジウム等の材料が好ま
しい。
だけでなく、単結晶からなる板状体ないしプレートの製
造に対しても、良好に適用することができる。具体的な
プレートの形成方法は後述する。
を集めており、特に半導体レーザー用の青色光第二高調
波発生(SHG)素子用の単結晶として注目されてい
る。これは、390nmの紫外光領域まで発生すること
が可能であるので、こうした短波長の光を利用すること
で、光ディスクメモリー用、医学用、光化学用、各種光
計測用等の幅広い応用が可能である。また、KLN単結
晶は、電気光学効果も大きいので、そのフォトリフラク
ティブ効果を利用した光記憶素子等にも適用できる。
を模式的に示すブロック図である。この育成装置におい
ては、上側炉20内にヒーター22Aが設けられてお
り、下側炉21内にヒーター22Bが設けられている。
上側炉、下側炉の所定箇所に、温度測定装置(好ましく
熱電対)5A、5B、5C、5D、5Eが設置されてい
る。各温度測定装置から、それぞれ制御装置9へと信号
線が延びている。上側炉20の内側空間10内にルツボ
11が設置されており、ルツボ11のノズルから下側炉
21の内側空間18内へと単結晶を引き出す。この部分
の具体的好適例については後述する。上側炉20の上方
に原料供給装置19が設置されており、この原料供給装
置19の供給口19aがルツボ11の上面に向かって開
いている。原料供給装置19も制御装置9に対して連絡
している。
6が設置されており、この撮影装置6がモニター7に接
続されている。撮影装置6の下には、ブロックとして模
式的に表示した駆動装置23が設置されており、この下
側に、組成の検出装置13および切断装置14が設けら
れている。駆動装置23、検出装置13および切断装置
14は、制御装置9へと接続されている。駆動装置23
による引下げ速度は、制御装置9を通して精密に制御で
きるようになっている。16は切断部であり、50は、
切断によって得られた所定形状、寸法の単結晶品であ
る。
が設置されている。制御装置9は、端末8によって監視
し、制御できるように構成されている。
成用の製造装置を模式的に示す概略断面図であり、図1
0(a)、(b)は、そのノズル部の先端部分の状態を
説明するための概念図である。
る。ルツボ11およびその上側空間10を包囲するよう
に、上側炉20が設置されており、上側炉20内にはヒ
ーター22Aが埋設されている。ルツボ11の下端部か
ら下方向へと向かってノズル部29が延びており、ノズ
ル部29の下端部に開口29aが形成されている。ノズ
ル部29およびその周囲の空間18を包囲するように下
側炉21が設置されており、下側炉21の中にヒーター
22Bが埋設されている。こうした加熱炉の形態自体
は、種々変更することができる。例えば図9において
は、加熱炉を2ゾーンに分割しているが、加熱炉を3ゾ
ーン以上に分割することもできる。ルツボ11およびノ
ズル部29は、いずれも耐食性の導電性材料によって形
成されている。
の一方の電極が電線によって接続されており、ルツボ1
1の下側の折曲端Bに対して、電源36Aの他方の電極
が接続されている。ノズル部29の位置Cに対して、電
源36Bの一方の電極が電線によって接続されており、
ノズル部29の下端Dに対して他方の電極が接続されて
いる。これらの各通電機構は、共に分離されており、独
立してその電圧を制御できるように構成されている。
いて、空間18内にアフターヒーター28が設けられて
いる。ルツボ11内で、取り入れ管27が上方向へと向
かって延びており、この取り入れ管27の上端に取り入
れ口26が設けられている。取り入れ口26は、ルツボ
11の底部から若干突き出している。
ーター28を発熱させて空間10、18の温度分布を適
切に定め、溶融物の原料をルツボ11内に供給し、ルツ
ボ11およびノズル部29に電力を供給して発熱させ
る。この状態では、図10(a)に示すように、ノズル
部29の下端部にある単結晶育成部30では、開口29
aから溶融物24が僅かに突出し、その表面張力によっ
て保持されて、比較的に平坦な表面37が形成されてい
る。
る重力は、ノズル部29内の壁面に対する溶融物の接触
によって大きく減少している。特に、ノズル部29の内
径を0.5mm以下とすることによって、前記したよう
に均一な固相液相界面を形成することができた。
うに上方向へと移動させ、種結晶15の端面15aを表
面37に対して接触させる。次いで、図10(b)に示
すように、種結晶15を下方向へと引下げる。この際、
種結晶15の上端部と、ノズル部29から下方向へと引
き出されてくる溶融物24との間には、均一な固相液相
界面(メニスカス)38が形成される。
側に単結晶12が連続的に形成され、下方向へと向かっ
て引き出されてくる。本実施例では、この単結晶12
を、駆動装置であるローラー13によって送っている。
投入する粉末の量を増加させた場合には、ルツボの引出
し口から下方向へと向かって、溶融物による膨張部分が
形成される。この状態で種結晶15の端面15aを溶融
物に対して接触させると、良好な固相液相界面が形成さ
れない。
引き出されてくると、検出装置23においては、レーザ
ー光源31から矢印Rのように波長2λ0 付近のレーザ
ー光を出射させて単結晶12に照射し、単結晶12から
の第2高調波λ0付近の出力光Sを長波長カットフィル
ター34を通して受光装置35Cで受光し、その強度を
検出する。受光装置35A、35B、35Cからの信号
を制御装置9へと送り、ここで処理する。この処理を受
けて、駆動装置による引下げ速度を制御すると共に、ル
ツボ11上の原料供給装置19から投入する原料の組成
比率を制御することによって、酸化物単結晶の組成の変
動を打ち消す方向へとフィードバック制御する。
体的なノズル部の形態について、好適例を説明する。図
11(a)に示すように、平板42に複数列の細長い溝
43を、互いに平行となるように形成する。図11
(b)に示すように、各平板42を貼り合わせて、平板
形状のノズル部45を形成し、ノズル部45の中に複数
列の融液流通孔44を形成する。46は継ぎ目である。
ルツボ47の底部に、ノズル部45が接合されている。
このルツボ47内の融液は、ノズル部45の各融液流通
孔44内を流下し、各融液流通孔44から流れだす。こ
のとき、各融液流通孔から流れだした融液が、ノズル部
45の底面45a上で一体となって流れ、この底面45
aの直下で固相となるが、これによってプレート状の単
結晶48がノズル部45の下方へと向かって引き出され
る。こうした方法であれば、単結晶プレートを形成する
ための内径の小さなノズル部を、容易に製造することが
できる。
る。 (実施例1) (ルツボの炉体部分の構成)図8および図9に示すよう
な構造の育成装置を使用し、KLN単結晶を育成した。
炭酸カリウム、炭酸リチウム、酸化ニオブを、モル比率
で30:20:50の組成比率となるように調合して原
料粉末を製造し、この原料粉末約300gを白金製のル
ツボ内に収容した。この育成炉の炉体部分は、前述した
ように上部炉と下部炉とによって全体の温度を制御し、
ノズル通電部分とアフターヒーター通電部分とで、単結
晶の育成点付近の温度勾配を制御できるようになってい
る。
に調整し、白金ルツボ内の原料を融解させた。下部炉部
分の温度を500〜1000℃の範囲内で均一に制御し
た。更に、ルツボのノズル部の通電およびアフターヒー
ターへの通電によって、単結晶育成点の温度を最適化
し、単結晶の育成を実施した。良好な単結晶の育成が可
能であるような条件に制御し、即ち、育成点の温度を1
050℃〜1150℃とし、温度勾配を10〜50℃/
mmに制御して、単結晶の育成を実施した。
して、種単結晶を保持して移動させるための機構部分
と、育成された酸化物単結晶をローラーによって保持し
て移動させるための機構とをそれぞれ備えた駆動装置を
使用した。切断装置としては、炭酸ガスレーザーによっ
て単結晶を局部的に加熱し、溶解させる機構を搭載し
た。なお、引下げ駆動機構部分の速度は、垂直方向に見
て2〜300mm/時間で均一に制御できるように構成
されている。搬送装置としては、酸化物単結晶を搬送す
るベルトコンベアを使用した。
晶を接触させ、界面を最適なメニスカス状態とし、当初
は80mm/時間の一定速度で単結晶を育成した。この
ように育成した、断面が1mm×1mmの寸法の結晶の
長さが約200mmに達したところで、連続送り用のロ
ーラーによって酸化物単結晶を両側から保持し、移動さ
せた。
のにつれて、ニオブの割合が53mol%であるKLN
単結晶が育成されてくるために、ルツボ内の溶融体にお
けるニオブの割合が50mol%から49.5mol
%、49.0mol%といったように徐々に減少してき
た。そこで、前記した検出装置を使用し、チタンサファ
イアレーザーまたは半導体レーザーを使用して、KLN
単結晶から発生する位相整合波長を監視しながら、87
0nmの位相整合波長が得られるように、引下げ速度を
80mm/時間から徐々に65mm/時間、50mm/
時間へと減少させていった。この結果、約100本のK
LN単結晶ファイバーを10日間で育成することに成功
した。
定)このようにして育成したすべてのKLN単結晶ファ
イバーについて、第二高調波発生素子の波長を測定し
た。この結果、位相整合波長は、目標とする870nm
に対して、±0.2nmの範囲内にあることが判明し
た。また、出力の変換効率も、理論値とほぼ同一の値が
得られたし、出力の変動も±1%以内の検出限界以下で
あった。
な構造の育成装置を使用し、KLN単結晶を育成した。
炭酸カリウム、炭酸リチウム、酸化ニオブを、モル比率
で30:20:50の組成比率となるように調合して原
料粉末を製造し、この原料粉末約2000gを白金製の
ルツボ内に収容した。ルツボの上側には、原料を供給す
るための原料供給装置を備え、溶融体の表面に設置した
熱電対からの信号、即ち温度変化を示す信号によって、
原料の供給を制御する構造とした。また、ルツボの形態
としては、図11(a)〜(c)に示したものを使用し
た。
上部炉と下部炉とによって全体の温度を制御し、ノズル
通電部分とアフターヒーター通電部分とで、単結晶の育
成点付近の温度勾配を制御できるようになっている。
に調整し、白金ルツボ内の原料を融解させた。下部炉部
分の温度を500〜1000℃の範囲内で均一に制御し
た。更に、ルツボのノズル部の通電およびアフターヒー
ターへの通電によって、単結晶育成点の温度を最適化
し、単結晶の育成を実施した。良好な単結晶の育成が可
能であるような条件に制御し、即ち、育成点の温度を1
050℃〜1150℃とし、温度勾配を10〜50℃/
mmに制御して、単結晶の育成を実施した。
して、種単結晶を保持して移動させるための機構部分
と、育成された酸化物単結晶をローラーによって保持し
て移動させるための機構とをそれぞれ備えた駆動装置を
使用した。切断装置としては、炭酸ガスレーザーによっ
て単結晶を局部的に加熱し、溶解させる機構を搭載し
た。なお、引下げ駆動機構部分の速度は、垂直方向に見
て2〜300mm/時間で均一に制御できるように構成
されている。搬送装置としては、酸化物単結晶を搬送す
るベルトコンベアを使用した。また、単結晶プレートの
厚さを半導体レーザーを用いて監視し、検出するモニタ
ーを設置した。
晶を接触させ、界面を最適なメニスカス状態とし、当初
は80mm/時間の一定速度で単結晶プレートを育成し
た。このように育成した、断面が50mm×1mmの寸
法の単結晶プレートの長さが約200mmに達したとこ
ろで、連続送り用のローラーによって単結晶プレートを
両側から保持し、移動させた。
のにつれて、ルツボ内の溶融体が単結晶プレートとして
消費されるために、その重量が減少してくる。溶融体の
量が減少すると、その界面の位置が変化してくるが、こ
の界面の位置の変化を熱電対で検出し、原料を供給して
ルツボ内の原料の重量が一定範囲に保持されるようにし
た。なお、この例ではルツボ内の溶融体の量の変化を熱
電対によって検出したが、ルツボおよび溶融体の総重量
をロードセルによって検出し、この重量の変化が±1g
の範囲内となるように、間欠的に原料粉末をルツボ内に
供給することができる。この原料粉末の組成は、ニオブ
組成53mol%の育成結晶の組成と同じ組成とした。
イアレーザーを使用して、KLN単結晶から発生する位
相整合波長を、0.05nmの精度で、光スペクトラム
アナライザーによって測定した。この測定結果を、制御
装置であるコンピューターを使用して、引下げ速度の方
にフィードバックした。この引下げ速度の制御範囲は、
原料粉末を供給してから原料粉末が完全に溶融するまで
の時間差や、原料の蒸発等に起因する要因や、ルツボの
形状等の要因によって変化するが、ほぼ80mm±3m
m/時間の範囲であった。
で50mm成長するので、50mm成長するごとに炭酸
ガスレーザーで単結晶プレートを切断し、寸法50mm
×50mm×1mmの単結晶プレートを連続的に育成し
た。10日間連続的に運転を行うことによって、400
枚の単結晶プレートを製造した。
定)このようにして育成したすべてのKLN単結晶プレ
ートについて、第二高調波発生素子の波長を測定した。
この結果、位相整合波長は、目標とする870nmに対
して、各プレートの内部のいずれの点でも、またいずれ
のプレートにおいても、±0.2nmの範囲内にあるこ
とが判明した。また、出力の変換効率も、理論値とほぼ
同一の値が得られたし、出力の変動も±1%以内の検出
限界以下であった。
使用した。ただし、SHG位相整合波長の検出装置を取
り除き、一定速度(80mm/時間)で単結晶ファイバ
ーの育成を連続的に行った。当初は、870nmで位相
整合する単結晶が得られていたが、時間が経過するのに
つれて位相整合波長がシフトし、最終的には単結晶中の
ニオブの割合が49mol%に接近し、位相整合波長は
840nm付近にまで変化した。
使用し、単結晶プレートを育成した。ただし、SHG位
相整合波長の検出装置を取り除き、一定速度(80mm
/時間)で単結晶ファイバーの育成を連続的に行った。
この結果、最大限精密に原料供給を制御しても、上記し
たような要因によって、位相整合波長は870nm±5
nmの範囲内で変動した。
N単結晶ファイバーを育成した。ただし、表1に示すよ
うに溶融体の組成を変更した。また、表1に示すよう
に、単結晶ファイバーの引下げ速度を種々変更した。こ
の結果、位相整合波長が、表1に示したように、また前
述したように変動した。
イクロ引下げ法によって酸化物単結晶を育成するのに際
して、この酸化物単結晶における組成を適切に、迅速に
制御することが可能になった。
割合との関係を示すグラフである。
ニオブの組成が50.0mol%の溶融体から単結晶を
育成した場合を示す図である。
ニオブの組成が48.0mol%の溶融体から単結晶を
育成した場合を示す図である。
ニオブの組成が46.0mol%の溶融体から単結晶を
育成した場合を示す図である。
ニオブの組成が52.0mol%の溶融体から単結晶を
育成した場合を示す図である。
ペクトラムアナライザーで検出する態様について説明す
るためのグラフである。
度を測定する態様について説明するためのグラフであ
る。
に示すブロック図である。
に示すブロック図である。
のノズル部29の先端部分の状態を説明するための概念
図である。
を育成するのに適したルツボおよびノズルの形態を例示
するための図てある。
C、4A、4B、4C、4D 組成の変化を説明するた
めの仮想線 9 制御装置 11 ルツボ 12 酸化物単結晶 14 切断装
置 15 種結晶 23 検出装置
3、No.7 1995年においては、酸化ニオブ、炭
酸カリウムおよび炭酸リチウムからなる溶融体を使用し
て、KLNの単結晶を育成しており、かつ育成されたK
LN単結晶の組成と第二高調波位相整合波長との関係
を、格子定数の変化等を参照しつつ、理論的に考察して
いる。この結果、ニオブが51mol%の組成を有する
単結晶の場合には、830nmの波長で位相整合してい
たのに対して、ニオブが53mol%の組成では、88
0nmで位相整合していた。このように、組成によって
位相整合波長が変化することを示している。具体的に
は、ニオブの割合が1モル%増加すると、SHG位相整
合波長が、25nmだけ長波長側にシフトしていた。ま
た、SHG位相整合波長を±1.0nmの範囲内に制御
するためには、±0.04mol%の範囲内にKLN単
結晶の組成を制御することが必要なことが示されてい
た。
な単結晶の育成が可能であったが、50mm/時間を越
えると、線3Cで示すよりも育成速度が速くなり、KL
Nの結晶とLi3 NbO4 とが共存する領域となり、多
結晶化した。
を変更することによって、ニオブの割合が45〜54m
ol%である組成範囲のKLN溶融体から単結晶を製造
することができた。特に、引下げ速度を10〜300m
m/時間の範囲内で制御し、変更することによって、そ
れそれ目的とする組成のKLN単結晶を製造でき、好ま
しくはSHG位相整合する組成のKLN単結晶を育成で
きる。
が設置されている。制御装置9は、端末8によって監視
し、制御できるように構成されている。
使用した。ただし、SHG位相整合波長の検出装置を取
り除き、一定速度(80mm/時間)で単結晶ファイバ
ーの育成を連続的に行った。当初は、870nmで位相
整合する単結晶が得られていたが、時間が経過するのに
つれて位相整合波長がシフトし、最終的にはルツボ中の
溶融体中のニオブの割合が49mol%に接近し、位相
整合波長は840nm付近にまで変化した。
使用し、単結晶プレートを育成した。ただし、SHG位
相整合波長の検出装置を取り除き、一定速度(80mm
/時間)で単結晶の育成を連続的に行った。この結果、
最大限精密に原料供給を制御しても、上記したような要
因によって、位相整合波長は870nm±5nmの範囲
内で変動した。
Claims (9)
- 【請求項1】酸化物単結晶を引下げ法によって育成する
方法であって、前記酸化物単結晶の原料の溶融物をルツ
ボから連続的に引き下げて育成するのに際して、前記酸
化物単結晶を引き下げる際の引下げ速度を変更すること
によってこの酸化物単結晶の組成を制御することを特徴
とする、酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項2】前記酸化物単結晶の引下げ速度を20mm
/時間以上、300mm/時間以下の範囲内で変更する
ことを特徴とする、請求項1記載の酸化物単結晶の製造
方法。 - 【請求項3】前記酸化物単結晶の組成がその育成方向で
均一となるように前記酸化物単結晶の引下げ速度を制御
することを特徴とする、請求項1または2記載の酸化物
単結晶の製造方法。 - 【請求項4】前記酸化物単結晶の育成が進行するのにつ
れて前記引下げ速度を減少させることを特徴とする、請
求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載の酸化物単結
晶の製造方法。 - 【請求項5】前記酸化物単結晶の育成を進行させるのと
共に前記ルツボ内に前記酸化物単結晶の目的組成と同じ
組成を有する原料を連続的または間欠的に供給して、育
成された酸化物単結晶の組成の変動を防止することを特
徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載
の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項6】前記酸化物単結晶に対してレーザー光を照
射し、この酸化物単結晶からの出力光を測定し、この測
定値に従って前記引下げ速度を変更することを特徴とす
る、請求項1〜5のいずれか一つの請求項に記載の酸化
物単結晶の製造方法。 - 【請求項7】前記酸化物単結晶が固体レーザー用の酸化
物単結晶であり、この酸化物単結晶に対してレーザー光
を照射し、このレーザー光の波長を変換した変換光を検
出することを特徴とする、請求項6記載の酸化物単結晶
の製造方法。 - 【請求項8】前記酸化物単結晶が第二高調波発生効果を
有しており、この酸化物単結晶に対してレーザー光を照
射し、このレーザー光に対する2倍波を検出することを
特徴とする、請求項6記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項9】酸化物単結晶を引下げ法によって連続的に
育成するための装置であって、 前記酸化物単結晶の原料の溶融物を収容するルツボ、 前記ルツボへと前記原料を供給する原料供給装置、 前記酸化物単結晶を前記ルツボから引き下げて育成する
ための駆動装置であって、この引下げ速度を変化させる
ことができる駆動装置、 育成中の前記酸化物単結晶の組成の変化を検出する検出
装置およびこの組成の変化に応じて前記駆動装置による
前記酸化物単結晶の引下げ速度を変化させるための制御
装置を備えていることを特徴とする、酸化物単結晶の製
造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21751395A JP3734860B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 酸化物単結晶の製造方法および装置 |
| EP96306173A EP0763610B1 (en) | 1995-08-25 | 1996-08-23 | Method and apparatus for producing oxide series single crystals |
| US08/702,157 US5919304A (en) | 1995-08-25 | 1996-08-23 | Method and apparatus for producing oxide series single crystals |
| DE69605507T DE69605507T2 (de) | 1995-08-25 | 1996-08-23 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung Einkristallen vom Typ Oxid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21751395A JP3734860B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 酸化物単結晶の製造方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967189A true JPH0967189A (ja) | 1997-03-11 |
| JP3734860B2 JP3734860B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=16705415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21751395A Expired - Fee Related JP3734860B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 酸化物単結晶の製造方法および装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5919304A (ja) |
| EP (1) | EP0763610B1 (ja) |
| JP (1) | JP3734860B2 (ja) |
| DE (1) | DE69605507T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022157858A1 (ja) * | 2021-01-20 | 2022-07-28 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5993540A (en) * | 1995-06-16 | 1999-11-30 | Optoscint, Inc. | Continuous crystal plate growth process and apparatus |
| US6800137B2 (en) | 1995-06-16 | 2004-10-05 | Phoenix Scientific Corporation | Binary and ternary crystal purification and growth method and apparatus |
| CN1224735C (zh) * | 1998-05-29 | 2005-10-26 | 东洋通信机株式会社 | 单晶制造装置、单晶制造方法及单晶体 |
| JP4257717B2 (ja) * | 2000-02-14 | 2009-04-22 | 日本碍子株式会社 | 単結晶育成用の原料粉末の製造方法および単結晶の製造方法 |
| US6565654B2 (en) * | 2000-07-05 | 2003-05-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Process and apparatus for producing a planar body of an oxide single crystal |
| JP4374156B2 (ja) | 2000-09-01 | 2009-12-02 | 日本碍子株式会社 | Iii−v族窒化物膜の製造装置及び製造方法 |
| RU2005136369A (ru) * | 2003-04-23 | 2006-06-27 | Стелла Кемифа Корпорейшн (Jp) | Устройство для получения кристалла фторида |
| DE102006017621B4 (de) * | 2006-04-12 | 2008-12-24 | Schott Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von multikristallinem Silizium |
| US8790460B2 (en) * | 2009-05-18 | 2014-07-29 | Empire Technology Development Llc | Formation of silicon sheets by impinging fluid |
| JP2012166979A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Sumco Corp | 多結晶シリコンの電磁鋳造方法および電磁鋳造装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5690734A (en) * | 1995-03-22 | 1997-11-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Single crystal growing method |
-
1995
- 1995-08-25 JP JP21751395A patent/JP3734860B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-23 DE DE69605507T patent/DE69605507T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-23 US US08/702,157 patent/US5919304A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-23 EP EP96306173A patent/EP0763610B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022157858A1 (ja) * | 2021-01-20 | 2022-07-28 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5919304A (en) | 1999-07-06 |
| EP0763610A3 (en) | 1997-06-11 |
| DE69605507T2 (de) | 2000-05-31 |
| EP0763610A2 (en) | 1997-03-19 |
| EP0763610B1 (en) | 1999-12-08 |
| DE69605507D1 (de) | 2000-01-13 |
| JP3734860B2 (ja) | 2006-01-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5961720A (en) | Single crystal-growing apparatus | |
| JP3734860B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法および装置 | |
| JPH08319191A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法および装置 | |
| JPH10251098A (ja) | 酸化物単結晶体の製造方法およびその装置 | |
| EP0737884A2 (en) | Second harmonic generation element and a process for producing the same | |
| JP2006124223A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
| Prokofiev et al. | Growth of single-crystal photorefractive fibers of Bi12SiO20 and Bi12TiO20 by the laser-heated pedestal growth method | |
| Lee et al. | Bridgman growth of strontium barium niobate single crystals | |
| JP3643136B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法および装置 | |
| JP2966317B2 (ja) | 単結晶品の連続育成方法およびその装置 | |
| JP3668276B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法および装置 | |
| EP1103843B1 (en) | Nonlinear optical crystal | |
| EP0569968A2 (en) | Method of producing single crystal of KTiOPO4 | |
| JP4257717B2 (ja) | 単結晶育成用の原料粉末の製造方法および単結晶の製造方法 | |
| JP4682350B2 (ja) | 結晶成長方法およびその装置 | |
| JPH10265293A (ja) | 単結晶の育成方法および装置 | |
| JP4334773B2 (ja) | 酸化物単結晶の板状体の製造方法 | |
| EP1160359B1 (en) | Process and appparatus for producing an oxide single crystal | |
| Echizenya et al. | Continuous feed growth and characterization of PMN-PT single crystals | |
| Brice et al. | The Platinum Metals in Crystal Pulling | |
| Pan et al. | Crack-free K3Li2− xNb5+ 2xO15+ 2x crystals grown by the resistance-heated Czochralski technique | |
| Linz et al. | Growth of fluoride laser host crystals | |
| JPS5950639B2 (ja) | 帯状シリコン結晶の製造装置 | |
| Hilton | Apparatus for Growth of Single Crystal, Single Domain LiNbO3 | |
| JPH04325497A (ja) | マグネシウム添加ニオブ酸リチウム単結晶の製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050512 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050721 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050927 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051020 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081028 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091028 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101028 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101028 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111028 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121028 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |