JPH0968606A - カラーフィルタの製造法 - Google Patents
カラーフィルタの製造法Info
- Publication number
- JPH0968606A JPH0968606A JP22344195A JP22344195A JPH0968606A JP H0968606 A JPH0968606 A JP H0968606A JP 22344195 A JP22344195 A JP 22344195A JP 22344195 A JP22344195 A JP 22344195A JP H0968606 A JPH0968606 A JP H0968606A
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- JP
- Japan
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- light
- shielding layer
- alcohol
- black
- shielding
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 結晶の着色の無い安定して良好なシンチレ−
タ性能を有する希土類珪酸塩単結晶を育成することがで
きる単結晶の育成方法を提供する。 【構成】 珪酸ガドリニウム単結晶を育成する場合にお
いて、Ｆｅの不純物濃度が０.１ｐｐｍ以下の希土類酸
化物を原料として使用しその融液から希土類珪酸塩単結
晶を育成する。
タ性能を有する希土類珪酸塩単結晶を育成することがで
きる単結晶の育成方法を提供する。 【構成】 珪酸ガドリニウム単結晶を育成する場合にお
いて、Ｆｅの不純物濃度が０.１ｐｐｍ以下の希土類酸
化物を原料として使用しその融液から希土類珪酸塩単結
晶を育成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置に使用されるカラーフィルタの製造法に関する。
置に使用されるカラーフィルタの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ティスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダーなど数多くの用途に使われ始めており、その市場は
今後、急激に拡大するものと予想されている。
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダーなど数多くの用途に使われ始めており、その市場は
今後、急激に拡大するものと予想されている。
【０００３】ＬＣＤをカラー表示させるためのカラーフ
ィルタは、図１に示すように格子状パターンのＢＭ（ブ
ラックマトリックス）１が形成されたガラス板等の基板
２上に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）からなるカラー画素
３（約１００×１００×２μｍ）を順次形成し、その上
に透明なオーバーコート層（ＯＣ）４形成したものであ
る。５は偏光板、６はＩＴＯ電極である。
ィルタは、図１に示すように格子状パターンのＢＭ（ブ
ラックマトリックス）１が形成されたガラス板等の基板
２上に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）からなるカラー画素
３（約１００×１００×２μｍ）を順次形成し、その上
に透明なオーバーコート層（ＯＣ）４形成したものであ
る。５は偏光板、６はＩＴＯ電極である。
【０００４】カラーＬＣＤは、カラーフィルタ７をＬＣ
Ｄ内部に設置し、バックライト光をカラーフィルタに透
過することによって表示画面をカラー化できる。８は配
向膜、９は液晶、１０はシ−ル材、１１はトップコ−ト
層、１２はＩＴＯ電極、１３はガラス板等の基板、１４
は偏光板である。
Ｄ内部に設置し、バックライト光をカラーフィルタに透
過することによって表示画面をカラー化できる。８は配
向膜、９は液晶、１０はシ−ル材、１１はトップコ−ト
層、１２はＩＴＯ電極、１３はガラス板等の基板、１４
は偏光板である。
【０００５】現在、カラーフィルタは主に染色法を用い
て製造されている。しかし、この方法はガラス基板上に
透明な感光性樹脂を塗布、乾燥、露光、現像によって画
素を形成後、染料を用いて染色しその後、混色防止層を
形成するといった工程を３回繰り返し行う必要があるた
め、工程数が多くコスト高となる。また、着色剤として
染料を用いているため、カラーフィルタの重要課題であ
る信頼性（耐候性・耐熱性）が劣るという欠点がある。
そこで、着色剤として顔料を用いたカラーフィルタがい
くつか提案されており、その中に電着法、印刷法、フォ
トリソ法（フォトリソグラフィー法）がある。
て製造されている。しかし、この方法はガラス基板上に
透明な感光性樹脂を塗布、乾燥、露光、現像によって画
素を形成後、染料を用いて染色しその後、混色防止層を
形成するといった工程を３回繰り返し行う必要があるた
め、工程数が多くコスト高となる。また、着色剤として
染料を用いているため、カラーフィルタの重要課題であ
る信頼性（耐候性・耐熱性）が劣るという欠点がある。
そこで、着色剤として顔料を用いたカラーフィルタがい
くつか提案されており、その中に電着法、印刷法、フォ
トリソ法（フォトリソグラフィー法）がある。
【０００６】しかし、電着法は電極パターンを形成する
必要があるため（１）パターンの自由度が少ない、
（２）コストが高い、また印刷法は（１）大型基板の位
置合わせが難しく解像度が低いため微細化の対応が困
難、（２）パターンの平坦性が劣る、などの問題があ
り、現状ではフォトリソ法が主流と考えられている。フ
ォトリソ法には、液状レジストとフィルムが考えられ
る。液状レジストは、感光性樹脂中に顔料を分散させた
ワニスをスピナーでガラス基板上に塗布、乾燥後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。一方、フィ
ルムは、プリント板用感光性フィルムと同様にワニスを
フィルム化したものであり、基板にラミネート後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。
必要があるため（１）パターンの自由度が少ない、
（２）コストが高い、また印刷法は（１）大型基板の位
置合わせが難しく解像度が低いため微細化の対応が困
難、（２）パターンの平坦性が劣る、などの問題があ
り、現状ではフォトリソ法が主流と考えられている。フ
ォトリソ法には、液状レジストとフィルムが考えられ
る。液状レジストは、感光性樹脂中に顔料を分散させた
ワニスをスピナーでガラス基板上に塗布、乾燥後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。一方、フィ
ルムは、プリント板用感光性フィルムと同様にワニスを
フィルム化したものであり、基板にラミネート後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】黒色材料を含む感光性
レジスト材料は黒色材料を高濃度化できないので、薄膜
化には限界がある。一方、エッチング法でブラックマト
リクス（遮光層）を形成する場合、遮光層には感光性を
付与する必要はないので、黒色材料を高濃度化できる。
しかし、従来のエッチング法の主である遮光層の樹脂に
ポリイミドを用いた系の場合、溶解性の異なるレジスト
層と遮光層をアルカリで一括して現像・エッチングを行
うため、高精度のパターンを形成するのが難しい。本発
明は、薄膜で高光学濃度のブラックマトリクス（遮光
層）の作製方法を提供するものである。
レジスト材料は黒色材料を高濃度化できないので、薄膜
化には限界がある。一方、エッチング法でブラックマト
リクス（遮光層）を形成する場合、遮光層には感光性を
付与する必要はないので、黒色材料を高濃度化できる。
しかし、従来のエッチング法の主である遮光層の樹脂に
ポリイミドを用いた系の場合、溶解性の異なるレジスト
層と遮光層をアルカリで一括して現像・エッチングを行
うため、高精度のパターンを形成するのが難しい。本発
明は、薄膜で高光学濃度のブラックマトリクス（遮光
層）の作製方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願発明は、透明基板上
に遮光層、３色の着色画素を順時形成するカラーフィル
タの製造法において、遮光層をアルコール可溶性ポリア
ミドを含有する遮光層形成用樹脂組成により形成するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造法である。
に遮光層、３色の着色画素を順時形成するカラーフィル
タの製造法において、遮光層をアルコール可溶性ポリア
ミドを含有する遮光層形成用樹脂組成により形成するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明では、遮光層の樹脂に耐ア
ルカリ性に優れたアルコール可溶性ポリアミドを用いる
ことにより、レジスト層の現像と遮光層のエッチングが
別々に行えるようになり（レジスト層をアルカリ現像し
た後、遮光層を酸やアルコールでエッチングする）、高
精度のパターンを形成することが可能になる。
ルカリ性に優れたアルコール可溶性ポリアミドを用いる
ことにより、レジスト層の現像と遮光層のエッチングが
別々に行えるようになり（レジスト層をアルカリ現像し
た後、遮光層を酸やアルコールでエッチングする）、高
精度のパターンを形成することが可能になる。
【００１０】アルコール可溶性ポリアミドとしては、二
塩基性脂肪酸とジアミン、ω-アミノ酸、ラクタムまた
はこれらの誘導体から公知の方法によって合成される共
重合ポリアミドが使用でき、代表的な例としては、６／
６６、６／６６／６１０、６／６６／６１０／１２、６
／６６／１２などの共重合体ナイロン、１１−アミノウ
ンデカン酸／アゼライン酸／セバシン酸／ピペラジンと
の共重合体、セバシン酸／ドデカン二酸／ピペラジンと
の共重合体などが挙げられる。
塩基性脂肪酸とジアミン、ω-アミノ酸、ラクタムまた
はこれらの誘導体から公知の方法によって合成される共
重合ポリアミドが使用でき、代表的な例としては、６／
６６、６／６６／６１０、６／６６／６１０／１２、６
／６６／１２などの共重合体ナイロン、１１−アミノウ
ンデカン酸／アゼライン酸／セバシン酸／ピペラジンと
の共重合体、セバシン酸／ドデカン二酸／ピペラジンと
の共重合体などが挙げられる。
【００１１】上記アルコール可溶性ポリアミドの溶液
に、遮光材を分散したものを遮光層形成用樹脂組成物と
する。遮光材としては、カーボンブラック、鉄黒、アニ
リンブラック、シアニンブラック、チタンブラックなど
の黒色顔料、四酸化鉄などの金属酸化物、金属硫化物、
またはそれらの混合物を用いることができる。また、遮
光性を向上させるために、黒色染料や黒色以外の顔料を
併用することも可能である。
に、遮光材を分散したものを遮光層形成用樹脂組成物と
する。遮光材としては、カーボンブラック、鉄黒、アニ
リンブラック、シアニンブラック、チタンブラックなど
の黒色顔料、四酸化鉄などの金属酸化物、金属硫化物、
またはそれらの混合物を用いることができる。また、遮
光性を向上させるために、黒色染料や黒色以外の顔料を
併用することも可能である。
【００１２】本発明の遮光層形成用樹脂組成物には、耐
熱性および膜強度を向上させるために、熱硬化性、熱架
橋性化合物を配合することもできる。かかる熱硬化性、
熱架橋性化合物としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベ
ンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、
ヘキサメチロールメラミン、アルキル化ヘキサメチロー
ルメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのアルキ
ル化体、多官能不飽和化合物などを挙げることができ
る。さらに、熱硬化、熱架橋反応を促進するために、ア
ミン化合物や酸無水物などの硬化剤を配合しても良い。
熱性および膜強度を向上させるために、熱硬化性、熱架
橋性化合物を配合することもできる。かかる熱硬化性、
熱架橋性化合物としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベ
ンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、
ヘキサメチロールメラミン、アルキル化ヘキサメチロー
ルメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのアルキ
ル化体、多官能不飽和化合物などを挙げることができ
る。さらに、熱硬化、熱架橋反応を促進するために、ア
ミン化合物や酸無水物などの硬化剤を配合しても良い。
【００１３】
実施例１ ＣＡＢＯＴ社製カーボンブラックＲＥＡＧＡＬ−４００
Ｒ（商品名）を９．６ｇ、日本リルサン社製アルコール
可溶性ポリアミドＭＸ−１６０３（商品名）を６．４
ｇ、ｎ−ブタノール８４ｇを遊星ミルにて２時間分散し
て分散ペーストを得た。洗浄・乾燥したガラス基板にこ
の分散ペーストをスピンコートし、１２０℃、１０ｍｉ
ｎ乾燥して０．８μｍの塗膜を得た。この上に東京応化
社製ポジ型レジストＰＭＥＲＰ−６００５Ｃ−３（商品
名）をスピンコートし、９０℃、１０ｍｉｎ乾燥して
１．５μｍのレジスト層を設けた。遮光パターンを有す
るマスクを通して高圧水銀灯の紫外光（６０ｍＪ）を露
光後、０．５％ＮａＯＨ水溶液に６０ｓｅｃ浸漬後、純
水リンスし現像を行った。その後ＩＰＡに９０ｓｅｃ浸
漬し遮光層のエッチングを行い、全面露光後、２％Ｎａ
ＯＨ水溶液で遮光層パターン上に残存するレジスト層を
剥離した。その結果良好な遮光層パターンが得られ、そ
の光学濃度は２．５であった。
Ｒ（商品名）を９．６ｇ、日本リルサン社製アルコール
可溶性ポリアミドＭＸ−１６０３（商品名）を６．４
ｇ、ｎ−ブタノール８４ｇを遊星ミルにて２時間分散し
て分散ペーストを得た。洗浄・乾燥したガラス基板にこ
の分散ペーストをスピンコートし、１２０℃、１０ｍｉ
ｎ乾燥して０．８μｍの塗膜を得た。この上に東京応化
社製ポジ型レジストＰＭＥＲＰ−６００５Ｃ−３（商品
名）をスピンコートし、９０℃、１０ｍｉｎ乾燥して
１．５μｍのレジスト層を設けた。遮光パターンを有す
るマスクを通して高圧水銀灯の紫外光（６０ｍＪ）を露
光後、０．５％ＮａＯＨ水溶液に６０ｓｅｃ浸漬後、純
水リンスし現像を行った。その後ＩＰＡに９０ｓｅｃ浸
漬し遮光層のエッチングを行い、全面露光後、２％Ｎａ
ＯＨ水溶液で遮光層パターン上に残存するレジスト層を
剥離した。その結果良好な遮光層パターンが得られ、そ
の光学濃度は２．５であった。
【００１４】実施例２ ＣＡＢＯＴ社製カーボンブラックＲＥＡＧＡＬ−４００
Ｒ（商品名）を１２．８ｇ、日本リルサン社製アルコー
ル可溶性ポリアミドＭＸ−１６０３（商品名）を３．２
ｇ、ｎ−ブタノール１２６ｇを遊星ミルにて２時間分散
して分散ペーストを得た。これにメラミン樹脂（日立化
成工業株式会社製商品名、メラン２０００）を固形分で
３．２ｇ分加え、混合撹拌して分散液ペーストとした。
その後、実施例１と同様にして、遮光層パターンを得
た。さらに、得られた遮光層パターンを２００℃、３０
ｍｉｎ熱処理してメラミン樹脂を完全に硬化した。硬化
後の遮光層の膜厚は０．６μｍで、光学濃度２．５であ
った。
Ｒ（商品名）を１２．８ｇ、日本リルサン社製アルコー
ル可溶性ポリアミドＭＸ−１６０３（商品名）を３．２
ｇ、ｎ−ブタノール１２６ｇを遊星ミルにて２時間分散
して分散ペーストを得た。これにメラミン樹脂（日立化
成工業株式会社製商品名、メラン２０００）を固形分で
３．２ｇ分加え、混合撹拌して分散液ペーストとした。
その後、実施例１と同様にして、遮光層パターンを得
た。さらに、得られた遮光層パターンを２００℃、３０
ｍｉｎ熱処理してメラミン樹脂を完全に硬化した。硬化
後の遮光層の膜厚は０．６μｍで、光学濃度２．５であ
った。
【００１５】
【発明の効果】本発明により、薄膜で高光学濃度のブラ
ックマトリクス（遮光層）の作製が可能となる。
ックマトリクス（遮光層）の作製が可能となる。
【図１】液晶ティスプレイの断面図。
１．ＢＭ（ブラックマトリックス） ２．ガラス基板 ３．カラー画素 ４．オーバーコート層（ＯＣ） ５．偏光板 ６．ＩＴＯ電極 ７．カラーフィルタ ８．配向膜 ９．液晶 １０．シ−ル材 １１．トップコ−ト層 １２．ＩＴＯ電極 １３．ガラス基板 １４．偏光板
フロントページの続き (72)発明者 佐藤 勉 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に遮光層、３色の着色画素を
順時形成するカラーフィルタの製造法において、遮光層
をアルコール可溶性ポリアミドを含有する遮光層形成用
樹脂組成により形成することを特徴とするカラーフィル
タの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22344195A JPH0968606A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | カラーフィルタの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22344195A JPH0968606A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | カラーフィルタの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0968606A true JPH0968606A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16798199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22344195A Pending JPH0968606A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | カラーフィルタの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0968606A (ja) |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP22344195A patent/JPH0968606A/ja active Pending
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