JPH0968694A - 熱書き込み液晶セル - Google Patents

熱書き込み液晶セル

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JPH0968694A
JPH0968694A JP7223724A JP22372495A JPH0968694A JP H0968694 A JPH0968694 A JP H0968694A JP 7223724 A JP7223724 A JP 7223724A JP 22372495 A JP22372495 A JP 22372495A JP H0968694 A JPH0968694 A JP H0968694A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal cell
pair
heat
type liquid
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Pending
Application number
JP7223724A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichi Ito
栄一 伊藤
Shingo Shiotani
慎吾 塩谷
Kiyoshi Yamamoto
山本  清
Koichi Furusawa
宏一 古澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 表示パターンの書き込みだけでなく、書き込
んだ表示パターンを消去できる熱書き込み液晶セルを提
供すること。 【構成】 一定温度以上に加熱されると透光状態から散
乱状態に転移する熱転移型液晶を透明部材に封入し、上
記熱転移型液晶の散乱状態を透光状態に戻すべく該熱転
移型液晶に所定の電圧を与えるための電極を外部に露出
させた熱書き込み液晶セル。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、熱光学的効果を利用して
文字等の表示パターンを書き込む熱書き込み液晶セルに
関する。
【0002】
【従来技術及びその問題点】熱書き込み型液晶セル描画
装置は、熱を加えることによって生じる液晶の相変化を
利用して、液晶セル(液晶素子)に文字等の像(表示パ
ターン)を描画するものである。この液晶セルの表示パ
ターンは、例えば投影機を用いてスクリーン上に投影す
ることができる。加熱には、細密な描画を行なうためレ
ーザ光が一般に用いられ、熱書き込み液晶セルとして
は、スメクテック液晶(熱転移型液晶)が用いられる。
【0003】一対の透明基板の間に封入されたスメクテ
ック液晶は、スメクテックA相として垂直配向されて常
時は透明状態をなし、この透明状態の液晶分子に、レー
ザ光を照射して加熱すると、アイソトロピック相へ相転
移する。そしてこの後レーザ光の照射を停止して急冷す
ると、ランダム配向となる。このランダム配向状態は、
投影光に対して散乱作用を有する、いわゆる書き込まれ
た状態である。このためレーザ光が照射されない液晶表
示部分の透明部分と、照射された散乱部分との透過光の
比をもってコントラスト比をなす表示画像が得られ、こ
れを投影して観察像とすることができる。このスメクテ
ック液晶の相転移に伴う書き込みは、熱光学効果と呼ば
れている。
【0004】ところで、上記従来の熱書き込み液晶セル
は、レーザ光によって自由に表示パターンを作成するこ
とができるが、表示パターンを一旦描いたものは再利用
できない。このため、例えば投影機によって投影する場
合には、投影する情報の数だけ熱書き込み液晶セルが必
要となり、無駄であった。
【0005】
【発明の目的】本発明は、熱書き込み液晶セルに関する
上記従来の問題点に基づき、表示パターンの書き込みだ
けでなく、書き込んだ表示パターンを簡単に消去できる
熱書き込み液晶セルを提供することを目的とする。
【0006】
【発明の概要】上記目的を達成するための本発明は、一
定温度以上に加熱されると透光状態から散乱状態に転移
する熱転移型液晶を透明部材に封入し、上記熱転移型液
晶の散乱状態を透光状態に戻すべく該熱転移型液晶に所
定の電圧を与えるための電極を外部に露出させたことを
特徴としている。
【0007】
【発明の実施の形態】以下図示実施例に基づいて本発明
を説明する。図6は、本発明による熱書き込み液晶セル
に文字等の表示パターンを書き込む熱書き込み型液晶セ
ル描画装置を示す、図7のVI-VI 線の沿う側面断面図で
ある。図7は、該描画装置の平面図である。
【0008】この液晶セル描画装置10は、所定位置に
セットした、矩形平板状の熱書き込み液晶セル9にレー
ザ光を照射することにより、該液晶セル9に文字や図形
等の像(表示パターン)を描画する。液晶セル描画装置
10は、描画熱源としてのレーザダイオード16、コリ
メートレンズ43及びアナモフィックプリズム17a、
17bを備えたビーム整形部17、反射ミラー44、主
走査部をなすガルバノミラー20、fθレンズ21、レ
ーザ光を二方向に分割するハーフミラー22、レーザ光
を検知するホトディテクタ23を備えている。
【0009】このホトディテクタ23は、ハーフミラー
22の後方において、ガルバノミラー20で偏向された
レーザ光L1 の内、反射されたレーザ光L2 が描画可能
領域外の基準位置を通るときに透過したレーザ光L3
受光する位置に配置されている。これらの各部材は、4
本の脚26で支持されたテーブル25上に配置されてい
る。このテーブル25の下方には、熱書き込み液晶セル
9を保持しこれを副走査方向(図6の左右方向)に駆動
するステージ27を備えている。なお、図6において、
符号48はガルバノ回転軸、49はガルバノ本体、50
はミラー保持体である。
【0010】レーザダイオード16から発せられたレー
ザ光は、コリメートレンズ43で収束され、アナモフィ
ックプリズム17a、17bで断面形状が略円形に整形
され、反射ミラー44で光路を略90度偏向されてガル
バノミラー20に入射する。そして、このガルバノミラ
ー20で反射されたレーザ光L1 は、fθレンズ21を
透過して、ハーフミラー22に入射する。このハーフミ
ラー22に入射したレーザ光L1 のうち、大部分、例え
ば60〜90%、或は90%以上がテーブル25の下方
に配置された熱書き込み液晶セル9に向けてレーザ光L
2 として反射され、一部が、例えば40〜10%、或は
10%以下がレーザ光L3 としてハーフミラー22を透
過する。熱書き込み液晶セル9に入射したレーザ光L2
は、微小なスポットに集光する。
【0011】ガルバノミラー20は、一定の周期で所定
角度範囲を揺動(往復回動)する。このガルバノミラー
20の揺動によって、レーザ光L2 が所定偏向角範囲で
振られ、熱書き込み液晶セル9を走査する。
【0012】熱書き込み液晶セル9は、ステージ27に
設けられた、少なくとも副走査方向に精密移動されるス
ライダ30上に固定されている。このスライダ30に
は、熱書き込み液晶セル9を保持すると共に、液晶転移
温度近くまで昇温させる予熱装置31が装着されてい
る。この予熱装置31は、熱書き込み液晶セル9に接触
するセル保持台32及びこのセル保持台32を加熱する
図示しない加熱手段を備えている。なお、図中の符号3
3は、熱書き込み液晶セル9に所定の電圧を露出電極5
2aと53aから熱転移型液晶12(図2)に印加し
て、書込まれた表示パターン(描画像)を消去するため
の電極を兼ねたセル押えであり、このセル押え33は消
去装置を構成している。
【0013】熱書き込み液晶セル9は、図1と図2に示
すように、ガラス基板13aと13bを上下から一対の
枠部材15a、15bで挟持して構成されている。枠部
材15a、15bは共に、中央部分に、矩形状の開口部
14を有している。
【0014】熱書き込み液晶セル9は、図3〜図5に示
すように、一定温度以上に加熱されると透光状態から散
乱状態に転移する熱転移型液晶12を、二枚のガラス基
板13aと13bの間に密封している。このガラス基板
13a、13bそれぞれの裏面には、透明電極膜55が
貼付されている。図5中の57はブロッキング膜であ
り、59は熱転移型液晶12の周囲を覆うシール剤であ
り、この矩形状に巡らされた該シール剤59の一部には
液晶注入口56が形成されている。また、図3の58
は、枠15の開口部14から露出される熱転移型液晶1
2の有効画角面であり、60はポリエステルフィルム等
からなるスペーサーである。熱転移型液晶12には、所
定の割合で色素が混入されている。例えば、液晶12中
に色素を1%以下、望ましくは0.1〜0.5%を混入
させることができる。なお、上記ガラス基板13aと1
3bには、代表的な光学ガラスであるBK7が使用され
(硝材名には株式会社オハラの硝種名を用いている)、
また透明電極膜55には、570Åの厚さのITO(indiu
m tin oxide)が使用されている。
【0015】枠部材15aは、表面に露出した露出電極
52aと、ガラス基板13bの透明電極膜55と接触す
る、この露出電極52aと一体の裏面電極52bとを有
している。また枠部材15bは、表面に露出した露出電
極53aと、ガラス基板13aの透明電極膜55と接触
する、この露出電極53aと一体の裏面電極53bとを
有している。熱書き込み液晶セル9は予熱装置31上に
載置された状態で、熱転移型液晶12に、裏面電極52
b、53b及び透明電極膜55を介してセル押え33か
らの所定電圧が印加されると、散乱状態の液晶12が透
光状態に復帰する。つまり、描画された表示パターンが
消去される。
【0016】これらの構成を有する熱書き込み液晶セル
9は、一対の枠部材15a、15bを、例えば35mm
のスライド用マウントと同等の大きさに構成することが
できる。なお、図4、図5において、熱転移型液晶1
2、透明電極膜55、シール剤57、スペーサ59等
は、便宜上厚く描かれているが、これらは極めて薄いも
のであるため、実際には図2のように、ガラス基板13
aと13bは殆ど密着しているようになる。
【0017】以上の構成を有する本熱書き込み液晶セル
9に、熱書き込み型液晶セル描画装置10によって表示
パターンを描画する動作は、マイクロコンピュータ等の
制御部38(図6)によって制御される。この制御部3
8は、パーソナルコンピュータなどの外部通信機器から
描画データを入力し、描画用ページメモリ(図示せず)
にメモリし、描画処理を開始する。この描画処理を、図
8に示したフローチャートを参照して説明する。
【0018】描画処理を開始すると、制御部38は、先
ず、スライダ30を初期位置に移動させ、主走査部をな
すガルバノミラー20を作動させる(S11〜S1
3)。そして、描画用ページメモリにメモリされた描画
データを順番に取得し、1水平ライン(主走査)分の描
画データを描画用ラインバッファに書込む(S15、S
17)。
【0019】そして、レーザダイオード16からレーザ
光を発光させ、レーザ光L3 が基準位置に達したことを
ホトディテクタ23が検出したときを基準時として時間
カウントを開始し、描画用ラインバッファにセットした
描画データを一定速度で読出し、読み出したデータに基
づいて、発光部であるレーザダイオード16をオン/オ
フ制御する(S19、S21)。熱書き込み液晶セル9
は、レーザ光がオンしているときにはレーザ光の照射に
よって潜像が形成されるが、レーザ光がオフしていると
きには潜像が形成されないので、この光源駆動部のオン
/オフ制御によってドット状に散乱状態部が形成され
る。周知の通り、このドットの集合によって文字、図形
など描かれる。
【0020】このS21の描画処理を、1水平ライン分
繰り返す(S21、S23)。1水平ライン分の描画を
終了すると、ステージ27を起動してスライダ30を垂
直走査方向に沿って1水平ライン分移動させて、次の1
水平ライン分のデータを描画用ページメモリから読み出
して描画用ラインバッファにセットする(S23、S2
5、S27、S15、S17)。そして、ホトディテク
タ23がレーザ光が基準位置に達したことを検知するの
を待ち、検知したら、S19〜S23の描画処理を繰り
返す。そしてS27にて1ページ分の水平ライン描画が
終了すると、ガルバノミラー20を停止させる(S2
7、S29)。以上の処理によって、熱書き込み液晶セ
ル9に、所定のデータに基づく表示パターンが形成され
る。
【0021】また、熱書き込み型液晶セル描画装置10
に熱書き込み液晶セル9をセットした状態で、消去装置
を構成するセル押え33から露出電極52aと53aに
所定の電圧を与えると、この電圧は裏面電極52b、5
3bから透明電極膜55を介して熱転移型液晶12に印
加される。このため、一定温度以上に加熱されて散乱状
態に転移され、所定の表示パターンを描画された熱書き
込み液晶セル9は、該散乱状態が透光状態に戻され、書
き込まれた表示パターンが消去される。このように、外
部に露出する露出電極52a、53aを有する、本発明
による熱書き込み液晶セル9は、表示パターンを自由に
描画できるだけでなく、書き込んだ表示パターンを簡単
に消去できるため、繰り返し使用可能であり、無駄にな
らない。
【0022】図9に、上記熱書き込み液晶セル9に書き
込んだ表示パターンを投影する投影機の構成の一例を示
す。この投影機の投影光学系40は、該表示パターンを
スクリーン41上に照射するもので、キセノンランプ等
からなる投影光源42、反射器43、コリメートレンズ
44、投影レンズ45及び上記スクリーン41を有す
る。熱書き込み液晶セル9は、コリメートレンズ44と
投影レンズ45の間に位置している。投影光源42から
の光束は、直接或は反射器43で反射してコリメートレ
ンズ44に入射し、これにより平行光とされた後、熱書
き込み液晶セル9に入射する。そして投影光束は、枠1
5a、15bの開口部14から熱転移型液晶12を透過
した後、投影レンズ45に入射し、熱書き込み液晶セル
9の表示パターンをスクリーン41に拡大投影する。
【0023】本実施例の熱書き込み液晶セル9が、一対
の枠部材15a、15bを35mmのスライド用マウン
トと同等の大きさに構成されていれば、上記の構成の投
影機に限らず、市販されている一般の35mmスライド
フィルム用の投影機を用いて投影することができる。
【0024】上記本実施例では、熱書き込み液晶セル9
に表示パターンを書き込むための描画熱源としてレーザ
ダイオード16を用いたが、この描画熱源として、熱書
き込み液晶セル9に接触してこれに熱を与えるサーマル
ヘッドを用いることもできる。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、一定温度
以上に加熱されると透光状態から散乱状態に転移する熱
転移型液晶を透明部材に封入し、この熱転移型液晶の散
乱状態を透光状態に戻すべく該熱転移型液晶に所定の電
圧を与えるための電極を外部に露出させたから、表示パ
ターンの書き込みだけでなく、書き込んだ表示パターン
を簡単に消去できる熱書き込み液晶セルを提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による熱書き込み液晶セルの実施例を示
す分解斜視図である。
【図2】組立状態における同熱書き込み液晶セルの側面
図である。
【図3】枠を外した状態の同熱書き込み液晶セルを示す
正面図である。
【図4】図3の同熱書き込み液晶セルの側面図である。
【図5】図4のA部の拡大図である。
【図6】本発明による熱書き込み液晶セルに表示パター
ンを書き込む熱書き込み型液晶セル描画装置を示す、図
7のVI-VI 線の沿う側面断面図である。
【図7】同熱書き込み型液晶セル描画装置の平面図であ
る。
【図8】本実施例における描画処理を示すフローチャー
ト図である。
【図9】本発明による熱書き込み液晶セルの表示パター
ンを投影する投影機の主な光学系を示す概略図である。
【符号の説明】
9 熱書き込み液晶セル 12 熱転移型液晶 13a 13b ガラス基板(透明部材) 14 開口部 15a 15b 枠部材 33 セル押え(消去装置) 52a 53a 露出電極(電極) 52b 53b 裏面電極 55 透明電極膜 58 有効画角面
フロントページの続き (72)発明者 古澤 宏一 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭光 学工業株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一定温度以上に加熱されると透光状態か
    ら散乱状態に転移する熱転移型液晶を透明部材に封入
    し、 上記熱転移型液晶の散乱状態を透光状態に戻すべく該熱
    転移型液晶に所定の電圧を与えるための電極を外部に露
    出させたこと、を特徴とする熱書き込み液晶セル。
  2. 【請求項2】 請求項1において、熱転移型液晶を封入
    した透明部材は一対のガラス基板であり、この一対のガ
    ラス基板の対向する面には、透明電極膜が設けられ、こ
    の透明電極膜に、外部に露出する上記電極が導通してい
    る熱書き込み液晶セル。
  3. 【請求項3】 請求項2において、一対のガラス基板は
    一対の枠部材によって挟持されており、外部に露出する
    上記電極は該一対の枠部材に固定されている熱書き込み
    液晶セル。
  4. 【請求項4】 請求項3において、一対の枠部材はそれ
    ぞれ、熱転移型液晶の有効画角面を露出させるための開
    口部を有している熱書き込み液晶セル。
  5. 【請求項5】 請求項3または4において、一対の枠部
    材は、35mmのスライド用マウントと同等の大きさに
    構成されている熱書き込み液晶セル。
  6. 【請求項6】 請求項3において、一対のガラス基板
    は、互いにずらして接触されて、対向する面を所定量ず
    つ露出しており、この露出面に設けた上記透明電極膜
    に、上記一対の枠部材に固定された上記電極が接してい
    る熱書き込み液晶セル。
  7. 【請求項7】 請求項3において、熱書き込み液晶セル
    は、熱転移型液晶に表示された表示パターンを消去する
    消去装置にセットされたとき、一対の枠部材に固定した
    上記電極から所定の電圧を与えられる熱書き込み液晶セ
    ル。
JP7223724A 1995-08-31 1995-08-31 熱書き込み液晶セル Pending JPH0968694A (ja)

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