JPH0970543A - ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダイス - Google Patents
ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダイスInfo
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- JPH0970543A JPH0970543A JP7228345A JP22834595A JPH0970543A JP H0970543 A JPH0970543 A JP H0970543A JP 7228345 A JP7228345 A JP 7228345A JP 22834595 A JP22834595 A JP 22834595A JP H0970543 A JPH0970543 A JP H0970543A
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率よく固−気接触反応が生じるハニカム触
媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダ
イスを提供する。 【解決手段】 隣接通路間を格子状隔壁によって仕切ら
れた互いに平行な多数のユニット通路３の集合体からな
るハニカム触媒または触媒担体の製造に際し、所定の格
子状スリット１３を設けた押出しダイス１１の後流側
で、押出し成形された可塑状態にあるハニカム触媒また
は触媒担体１のユニット壁面２に、凹凸成形部材１９を
用いて長さ方向に沿って断続的に凹凸部４を形成し、こ
の凹凸部により境界層の発達を防止する。
媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダ
イスを提供する。 【解決手段】 隣接通路間を格子状隔壁によって仕切ら
れた互いに平行な多数のユニット通路３の集合体からな
るハニカム触媒または触媒担体の製造に際し、所定の格
子状スリット１３を設けた押出しダイス１１の後流側
で、押出し成形された可塑状態にあるハニカム触媒また
は触媒担体１のユニット壁面２に、凹凸成形部材１９を
用いて長さ方向に沿って断続的に凹凸部４を形成し、こ
の凹凸部により境界層の発達を防止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハニカム触媒また
はハニカム触媒担体およびその製造方法ならびに製造用
ダイスに係り、特に触媒表面と処理ガスとの固気接触反
応を向上させたハニカム触媒または触媒担体およびその
製造方法ならびに製造用ダイスに関する。
はハニカム触媒担体およびその製造方法ならびに製造用
ダイスに係り、特に触媒表面と処理ガスとの固気接触反
応を向上させたハニカム触媒または触媒担体およびその
製造方法ならびに製造用ダイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ボイラの排ガスに含まれる窒素酸
化物は図２０に示すように、ボイラ２１を出て、ダクト
２２で電気集塵機（ＥＰ）２３へ導かれた後、アンモニ
ア２４を注入され、ブーストアップファン２５を経て脱
硝反応器２６へ流入する。脱硝反応器２６の内部には、
触媒層２７が設置されており、ボイラの排ガスに含まれ
ている窒素酸化物は、触媒層２７通過時に上流にて注入
されたアンモニア２４と反応して、水と窒素に分解され
る。
化物は図２０に示すように、ボイラ２１を出て、ダクト
２２で電気集塵機（ＥＰ）２３へ導かれた後、アンモニ
ア２４を注入され、ブーストアップファン２５を経て脱
硝反応器２６へ流入する。脱硝反応器２６の内部には、
触媒層２７が設置されており、ボイラの排ガスに含まれ
ている窒素酸化物は、触媒層２７通過時に上流にて注入
されたアンモニア２４と反応して、水と窒素に分解され
る。
【０００３】触媒層２７は、触媒がガス流れに対して平
行であり圧力損失の少ないパラレルフロー触媒（ハニカ
ム触媒、板状触媒等）を用いて形成されることが多い。
図２１に正方形格子のハニカム触媒１の外形図を示し、
図２２に同触媒をガス流れ方向から見た図を示し、図２
３に同触媒をガス流れ方向に平行に断面した図を示す。
行であり圧力損失の少ないパラレルフロー触媒（ハニカ
ム触媒、板状触媒等）を用いて形成されることが多い。
図２１に正方形格子のハニカム触媒１の外形図を示し、
図２２に同触媒をガス流れ方向から見た図を示し、図２
３に同触媒をガス流れ方向に平行に断面した図を示す。
【０００４】正方形格子のハニカム触媒１は、成分を調
整した触媒の粉末を混練し、図２４に示す押出ダイスを
用いて押出成形した後、乾燥させ、加熱炉にて加熱調整
することにより製造される。図２５に押出ダイスを押出
方向に平行に断面した図を示す。
整した触媒の粉末を混練し、図２４に示す押出ダイスを
用いて押出成形した後、乾燥させ、加熱炉にて加熱調整
することにより製造される。図２５に押出ダイスを押出
方向に平行に断面した図を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のハニカム触媒を
含むパラレルフロー触媒は、排ガス通過時の圧力損失が
少ない反面、通過する排ガスに乱れが生じ難いため、図
２６に示すように触媒表面に境界層が発生し易く、物質
移動速度が小さくなり、触媒表面における固気接触反応
が充分行なわれないという欠点があった。
含むパラレルフロー触媒は、排ガス通過時の圧力損失が
少ない反面、通過する排ガスに乱れが生じ難いため、図
２６に示すように触媒表面に境界層が発生し易く、物質
移動速度が小さくなり、触媒表面における固気接触反応
が充分行なわれないという欠点があった。
【０００６】本発明の目的は、従来技術の欠点をなく
し、簡単な構造でより効率よく固気接触反応を発揮する
ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならび
に製造用ダイスを提供することにある。
し、簡単な構造でより効率よく固気接触反応を発揮する
ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならび
に製造用ダイスを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本願で特許請求する発明は以下のとおりである。 （１）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体において、前記ユニット通路の隔壁面に通
路の長さ方向に断続的に凹凸部を設けたことを特徴とす
るハニカム触媒または触媒担体。 （２）（１）において、ユニット通路壁面に凹凸部を設
けることにより、ユニット通路の通過断面積を断続的に
変化させたことを特徴とするハニカム触媒または触媒担
体。 （３）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体の製造方法において、所定の格子状スリッ
トを設けた押出しダイスの後流側で、押出し成形された
可塑状態にある前記ハニカム触媒または触媒担体のユニ
ット通路壁面に、凹凸形成部材を用いて長さ方向に沿っ
て断続的に凹凸部を形成することを特徴とするハニカム
触媒または触媒担体の製造方法。 （４）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体の製造方法において、所定形状の格子状ス
リットを設けた押出し用ダイスの後流側で、押出し成形
された可塑状態にある前記ハニカム触媒または触媒担体
のユニット通路壁面の通路長さ方向に沿って、所定間隔
で所定長の切れ目を入れ、切れ目を入れた個所を膨出部
形成部材を用いて膨出させ、開口を有する膨出部を断続
的に形成させることを特徴とするハニカム触媒または触
媒担体の製造方法。 （５）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体製造用ダイスであって、該ダイスの後流側
に所定の格子状スリットを設けたものにおいて、前記ス
リット後流側にて、押出成形されたユニット通路壁面を
膨出させる出し入れ可能なへら状膨出手段と、該へら状
膨出手段の出し入れ装置とを設けたことを特徴とするハ
ニカム触媒または触媒担体製造用ダイス。 （６）（５）において、前記へら状膨出手段が、押出成
形されたユニット通路壁面に切れ目を入れ、この切れ目
壁面部を膨出させるカッタ機能手段を有するへら状膨出
手段であることを特徴とするハニカム触媒または触媒担
体製造用ダイス。
本願で特許請求する発明は以下のとおりである。 （１）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体において、前記ユニット通路の隔壁面に通
路の長さ方向に断続的に凹凸部を設けたことを特徴とす
るハニカム触媒または触媒担体。 （２）（１）において、ユニット通路壁面に凹凸部を設
けることにより、ユニット通路の通過断面積を断続的に
変化させたことを特徴とするハニカム触媒または触媒担
体。 （３）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体の製造方法において、所定の格子状スリッ
トを設けた押出しダイスの後流側で、押出し成形された
可塑状態にある前記ハニカム触媒または触媒担体のユニ
ット通路壁面に、凹凸形成部材を用いて長さ方向に沿っ
て断続的に凹凸部を形成することを特徴とするハニカム
触媒または触媒担体の製造方法。 （４）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体の製造方法において、所定形状の格子状ス
リットを設けた押出し用ダイスの後流側で、押出し成形
された可塑状態にある前記ハニカム触媒または触媒担体
のユニット通路壁面の通路長さ方向に沿って、所定間隔
で所定長の切れ目を入れ、切れ目を入れた個所を膨出部
形成部材を用いて膨出させ、開口を有する膨出部を断続
的に形成させることを特徴とするハニカム触媒または触
媒担体の製造方法。 （５）隣接通路間を隔壁によって仕切られた互いに平行
な多数のユニット通路の集合体からなるハニカム触媒ま
たは触媒担体製造用ダイスであって、該ダイスの後流側
に所定の格子状スリットを設けたものにおいて、前記ス
リット後流側にて、押出成形されたユニット通路壁面を
膨出させる出し入れ可能なへら状膨出手段と、該へら状
膨出手段の出し入れ装置とを設けたことを特徴とするハ
ニカム触媒または触媒担体製造用ダイス。 （６）（５）において、前記へら状膨出手段が、押出成
形されたユニット通路壁面に切れ目を入れ、この切れ目
壁面部を膨出させるカッタ機能手段を有するへら状膨出
手段であることを特徴とするハニカム触媒または触媒担
体製造用ダイス。
【０００８】壁面に断続的に凹凸部を設けた格子壁面を
有するハニカム触媒では、ガス通過時に格子２の壁面に
断続する膨出部（格子壁面の凹凸部）の下流に渦流が発
生し、この渦流により図２６に示す境界層が破壊される
ため、良好な物質移動速度を維持でき、触媒表面と処理
ガスとの固気接触反応を十分行なわせることが可能とな
る。
有するハニカム触媒では、ガス通過時に格子２の壁面に
断続する膨出部（格子壁面の凹凸部）の下流に渦流が発
生し、この渦流により図２６に示す境界層が破壊される
ため、良好な物質移動速度を維持でき、触媒表面と処理
ガスとの固気接触反応を十分行なわせることが可能とな
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１〜図６により、本発明になる
ハニカム触媒または触媒担体構造の一例を、正方形格子
を有するハニカム触媒または触媒担体の例を用いて説明
する。図１は、成分調整の後、混練し、押出し成形され
た直後の乾燥工程に移す前の、まだ可塑状態にあるハニ
カム触媒１のガス流路３の壁面の所定位置（Ａ、Ｂ）を
一方から押すことにより、反対側のガス流路に膨出さ
せ、ガス流路に断続的に凹凸部４を設けたことを示す説
明図であり、図２は、図１をガス流れ方向からみた図を
示す。図３、図４は、それぞれ図１の III−III 、IV−
IV線矢視方向断面であり、凹凸部の状態を明快に示す図
である。
ハニカム触媒または触媒担体構造の一例を、正方形格子
を有するハニカム触媒または触媒担体の例を用いて説明
する。図１は、成分調整の後、混練し、押出し成形され
た直後の乾燥工程に移す前の、まだ可塑状態にあるハニ
カム触媒１のガス流路３の壁面の所定位置（Ａ、Ｂ）を
一方から押すことにより、反対側のガス流路に膨出さ
せ、ガス流路に断続的に凹凸部４を設けたことを示す説
明図であり、図２は、図１をガス流れ方向からみた図を
示す。図３、図４は、それぞれ図１の III−III 、IV−
IV線矢視方向断面であり、凹凸部の状態を明快に示す図
である。
【００１０】図５、図６は、ガス流路の壁面にスリット
を入れた後、その部分の壁面を押出すことにより、ガス
流路に断続的に凹凸部を設けるとともに隣接するガス流
路間に連通孔を設けた場合を示し、図１の III−III 、
IV−IV線矢視方向断面に対応する部分を示す図である。
（実施にあたっては、ハニカム触媒構造の外周面につい
てはガスのショートパスを防止するため、図３、図４に
示すスリットのない凹凸部とする場合もある） 図７〜図１６により、本発明になる構造のハニカム触媒
または触媒担体の製造方法の一例を、正方形格子を有す
るハニカム触媒１の製造方法の例を用いて説明する。
を入れた後、その部分の壁面を押出すことにより、ガス
流路に断続的に凹凸部を設けるとともに隣接するガス流
路間に連通孔を設けた場合を示し、図１の III−III 、
IV−IV線矢視方向断面に対応する部分を示す図である。
（実施にあたっては、ハニカム触媒構造の外周面につい
てはガスのショートパスを防止するため、図３、図４に
示すスリットのない凹凸部とする場合もある） 図７〜図１６により、本発明になる構造のハニカム触媒
または触媒担体の製造方法の一例を、正方形格子を有す
るハニカム触媒１の製造方法の例を用いて説明する。
【００１１】図７〜図９は、本発明になる押出ダイスの
構造を示し、図７は押出ダイスのスリット出口側から見
た図、図８、図９は、それぞれ図７のVIII−VIII線矢視
方向断面図およびIX−IX線矢視方向断面図である。図１
０〜図１６は、ハニカム触媒１の壁面に凹凸部を設ける
ためのデバイスの詳細構造を示す。図７〜図９に示すよ
うに、本発明になるハニカム触媒または触媒担体用押出
ダイスは従来構造のダイスを、触媒材料の流れ方向に対
し２分割した構造からなり、前流側にあたるデバイス駆
動側押出ダイス１１にはハニカム成形用材料供給穴１２
をさけて溝状にデバイス駆動穴１４が設けられている。
また、２分割されたダイスには、溝状に設けたデバイス
駆動穴１４に合わせてデバイスセット穴１５がちょうど
材料供給穴１２相互の中間に設けてある（押出ダイス１
０のデバイスセット穴１５は貫通穴である）。
構造を示し、図７は押出ダイスのスリット出口側から見
た図、図８、図９は、それぞれ図７のVIII−VIII線矢視
方向断面図およびIX−IX線矢視方向断面図である。図１
０〜図１６は、ハニカム触媒１の壁面に凹凸部を設ける
ためのデバイスの詳細構造を示す。図７〜図９に示すよ
うに、本発明になるハニカム触媒または触媒担体用押出
ダイスは従来構造のダイスを、触媒材料の流れ方向に対
し２分割した構造からなり、前流側にあたるデバイス駆
動側押出ダイス１１にはハニカム成形用材料供給穴１２
をさけて溝状にデバイス駆動穴１４が設けられている。
また、２分割されたダイスには、溝状に設けたデバイス
駆動穴１４に合わせてデバイスセット穴１５がちょうど
材料供給穴１２相互の中間に設けてある（押出ダイス１
０のデバイスセット穴１５は貫通穴である）。
【００１２】図１０は、前述したデバイスセット穴１５
にハニカム触媒１の壁面に格子凹凸部４を設けるための
デバイスをセットした状態を示す。本例は、デバイス駆
動穴１４にセットされたデバイス駆動バー１６、各デバ
イスセット穴１５の中を移動するピストン１８、ピスト
ン１８とデバイスセット穴１５を連結するピン１７、ピ
ストン１８の端部に取付られた触媒拡張へら１９、デバ
イスセット穴１５の端部に触媒拡張へら１９に対応して
取付られた拡張へら拡張キャップ２０により構成される
（図１０に示す３個デバイスのうち左右のデバイスは拡
張した場合を示し、中央のデバイスはノーマルな位置に
ある場合を示す）。
にハニカム触媒１の壁面に格子凹凸部４を設けるための
デバイスをセットした状態を示す。本例は、デバイス駆
動穴１４にセットされたデバイス駆動バー１６、各デバ
イスセット穴１５の中を移動するピストン１８、ピスト
ン１８とデバイスセット穴１５を連結するピン１７、ピ
ストン１８の端部に取付られた触媒拡張へら１９、デバ
イスセット穴１５の端部に触媒拡張へら１９に対応して
取付られた拡張へら拡張キャップ２０により構成される
（図１０に示す３個デバイスのうち左右のデバイスは拡
張した場合を示し、中央のデバイスはノーマルな位置に
ある場合を示す）。
【００１３】図１１は、図１０のXI−XI線矢視方向断面
を示し、触媒拡張へら１９を押し上げるしくみを示す。
図１２〜図１６はそれぞれ図１０の XII−XII 線矢視方
向図、XIII−XIII、 XIV−XIV、 XV−XV、 XVI−XVI 線
矢視方向断面図である。デバイス駆動バー１６には、図
１１に示すごとくピン１７がはまるピン作動溝３３が設
けてあり、デバイス駆動バー１６をデバイス駆動穴１４
に沿って距離Ｌ程（甲）または（乙）方向に移動させる
と、ピン１７がピン作動溝３３の傾斜部に沿って移動す
るため、ピストン１８およびピストン端部の触媒拡張へ
ら１９がデバイスセット穴１５の軸方向に距離Ｈ移動
し、触媒拡張へら１９が拡張へら拡張キャップ２０によ
り図１０に示すごとく拡張し、ハニカム触媒１の壁面を
押すことになる。したがって、本構成においてハニカム
触媒１を押出成形しながら、デバイス駆動バー１６を、
中立位置から（甲）方向へＬだけ移動させた後中立位置
へ戻し、次に、中立位置から（乙）方向へＬだけ移動さ
せた後、中立位置へ戻す動作を一定時間をおいて繰り返
すことにより、ハニカム触媒の壁面に凹凸部を設けるこ
とが可能になる。（図１１に示すデバイスはいずれもノ
ーマル位置を示し、（甲）または（乙）方向に距離Ｌ移
動させることにより、（Ａ）または（Ｂ）のデバイスを
１個おきに作動させる構成を示す） 図１７は、デバイス駆動バー１６を、上下２段に
（イ）、（ロ）に分割した例を示し、（イ）と（ロ）を
作動させる時間をずらすことにより、ハニカム触媒１の
ガス流路３へ任意の配置パターンで格子壁面凹凸部４を
形成させることができる。
を示し、触媒拡張へら１９を押し上げるしくみを示す。
図１２〜図１６はそれぞれ図１０の XII−XII 線矢視方
向図、XIII−XIII、 XIV−XIV、 XV−XV、 XVI−XVI 線
矢視方向断面図である。デバイス駆動バー１６には、図
１１に示すごとくピン１７がはまるピン作動溝３３が設
けてあり、デバイス駆動バー１６をデバイス駆動穴１４
に沿って距離Ｌ程（甲）または（乙）方向に移動させる
と、ピン１７がピン作動溝３３の傾斜部に沿って移動す
るため、ピストン１８およびピストン端部の触媒拡張へ
ら１９がデバイスセット穴１５の軸方向に距離Ｈ移動
し、触媒拡張へら１９が拡張へら拡張キャップ２０によ
り図１０に示すごとく拡張し、ハニカム触媒１の壁面を
押すことになる。したがって、本構成においてハニカム
触媒１を押出成形しながら、デバイス駆動バー１６を、
中立位置から（甲）方向へＬだけ移動させた後中立位置
へ戻し、次に、中立位置から（乙）方向へＬだけ移動さ
せた後、中立位置へ戻す動作を一定時間をおいて繰り返
すことにより、ハニカム触媒の壁面に凹凸部を設けるこ
とが可能になる。（図１１に示すデバイスはいずれもノ
ーマル位置を示し、（甲）または（乙）方向に距離Ｌ移
動させることにより、（Ａ）または（Ｂ）のデバイスを
１個おきに作動させる構成を示す） 図１７は、デバイス駆動バー１６を、上下２段に
（イ）、（ロ）に分割した例を示し、（イ）と（ロ）を
作動させる時間をずらすことにより、ハニカム触媒１の
ガス流路３へ任意の配置パターンで格子壁面凹凸部４を
形成させることができる。
【００１４】図１８は、図１７において触媒拡張へら１
９の代わりに、カッター付触媒拡張へら３１を設けた例
を示し、本構成にすれば、図５、図６に示す、ガス流路
壁面に断続した凹凸部を形成し、なおかつ隣接するガス
流路間に連通孔を有するハニカム触媒を押出成形させる
ことができる。図１９は、正三角形の格子を有するハニ
カム触媒１の格子壁面２に格子壁面凹凸部４を形成させ
るにあたり、デバイス駆動シャフト３２に触媒拡張へら
を取付け格子の壁面に凹凸を形成させる例を示す。本例
におけるデバイス駆動シャフト３２の駆動方法は、デバ
イス駆動シャフト３２にピニオンを設け、デバイス駆動
バー１６をラックとすること等により行なう。
９の代わりに、カッター付触媒拡張へら３１を設けた例
を示し、本構成にすれば、図５、図６に示す、ガス流路
壁面に断続した凹凸部を形成し、なおかつ隣接するガス
流路間に連通孔を有するハニカム触媒を押出成形させる
ことができる。図１９は、正三角形の格子を有するハニ
カム触媒１の格子壁面２に格子壁面凹凸部４を形成させ
るにあたり、デバイス駆動シャフト３２に触媒拡張へら
を取付け格子の壁面に凹凸を形成させる例を示す。本例
におけるデバイス駆動シャフト３２の駆動方法は、デバ
イス駆動シャフト３２にピニオンを設け、デバイス駆動
バー１６をラックとすること等により行なう。
【００１５】以上説明したデバイスをハニカム触媒１の
押出ダイス１０に施すことにより、ハニカム触媒のガス
流路壁面に断続した凹凸部を有するハニカム触媒を製
造、供給することが可能となり、本ハニカム触媒のガス
流路壁面に形成された凹凸部により、ハニカム触媒内を
流れるガスに乱流が発生するため、触媒面における境界
層の発生防止が可能となる。
押出ダイス１０に施すことにより、ハニカム触媒のガス
流路壁面に断続した凹凸部を有するハニカム触媒を製
造、供給することが可能となり、本ハニカム触媒のガス
流路壁面に形成された凹凸部により、ハニカム触媒内を
流れるガスに乱流が発生するため、触媒面における境界
層の発生防止が可能となる。
【００１６】以上、本発明の実施態様を述べたが、本発
明はハニカム触媒または触媒担体ブロックにおいて、ガ
ス流路に断続的に凹凸部を設け所要の触媒性能を発揮さ
せようとするものであり、ハニカム触媒の材質、ガス流
路壁面に設けた凹凸の形状、寸法、ガス流路に体する凹
凸の高さ、凹凸部のガス流れ方向への設置間隔、切込み
を設ける場合の切込み長さとあわせて、触媒拡張へら、
カッター付触媒拡張へらの作動方法を本説明例に限定す
るものではない。（作動方法については、機械的な方法
の他に流体圧を利用する方法等があるが、類推は容易で
あり、説明を割愛する） また、ハニカム触媒のガス通過断面形状についても、正
方形、正三角形の他に正六角形の場合でも同様な効果を
得ることができる。
明はハニカム触媒または触媒担体ブロックにおいて、ガ
ス流路に断続的に凹凸部を設け所要の触媒性能を発揮さ
せようとするものであり、ハニカム触媒の材質、ガス流
路壁面に設けた凹凸の形状、寸法、ガス流路に体する凹
凸の高さ、凹凸部のガス流れ方向への設置間隔、切込み
を設ける場合の切込み長さとあわせて、触媒拡張へら、
カッター付触媒拡張へらの作動方法を本説明例に限定す
るものではない。（作動方法については、機械的な方法
の他に流体圧を利用する方法等があるが、類推は容易で
あり、説明を割愛する） また、ハニカム触媒のガス通過断面形状についても、正
方形、正三角形の他に正六角形の場合でも同様な効果を
得ることができる。
【００１７】なお、本発明により製造されたハニカム触
媒担体に、触媒活性成分を含浸、塗布などにより担持す
ることにより、ハニカム触媒とすることができる。
媒担体に、触媒活性成分を含浸、塗布などにより担持す
ることにより、ハニカム触媒とすることができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明になるハニカム触媒または触媒担
体においては、ガス流路に設けた断続する凹凸により、
触媒流路壁面において、境界層の発生が妨げられるため
固気接触反応を高効率で行なわせることが可能となり、
触媒が本来保有する性能を十分に発揮させ得るため、触
媒層を形成するために充填する触媒量を従来よりも低減
させることができる。
体においては、ガス流路に設けた断続する凹凸により、
触媒流路壁面において、境界層の発生が妨げられるため
固気接触反応を高効率で行なわせることが可能となり、
触媒が本来保有する性能を十分に発揮させ得るため、触
媒層を形成するために充填する触媒量を従来よりも低減
させることができる。
【００１９】本発明では、ハニカム触媒の格子壁面に設
けた断続する凹凸およびスリットを入れたことにより新
たに生じた断面が、従来のハニカム触媒に比較して、ガ
スとの接触面積を増加させるため、上記発明の効果に加
えて、触媒自体の性能向上がはかれることとなり、充填
する触媒量の低減にさらに貢献することができる。また
スリット開口部をとおして隣接流路間のガスの流通が自
由となり、流路間のガスの偏流が防止され、ガス通過圧
力損失を低減できるとともに、触媒性能が向上する。
けた断続する凹凸およびスリットを入れたことにより新
たに生じた断面が、従来のハニカム触媒に比較して、ガ
スとの接触面積を増加させるため、上記発明の効果に加
えて、触媒自体の性能向上がはかれることとなり、充填
する触媒量の低減にさらに貢献することができる。また
スリット開口部をとおして隣接流路間のガスの流通が自
由となり、流路間のガスの偏流が防止され、ガス通過圧
力損失を低減できるとともに、触媒性能が向上する。
【図１】本発明になる格子壁面に断続的に凹凸部を設け
たハニカム触媒のガス流路に平行な断面図。
たハニカム触媒のガス流路に平行な断面図。
【図２】図１のハニカム触媒をガス流れ方向から見た
図。
図。
【図３】図１のハニカム触媒の III−III 線矢視方向断
面図。
面図。
【図４】図１のハニカム触媒のIV−IV線矢視方向断面
図。
図。
【図５】、
【図６】本発明の他の実施例図。
【図７】本発明になるハニカム触媒押出ダイスを、押出
方向（スリット側）から見た図。
方向（スリット側）から見た図。
【図８】図７のVIII−VIII線矢視方向断面図。
【図９】図７のIX−IX線矢視方向断面図。
【図１０】図７〜図９に示す、デバイスセット穴１５
に、本発明になるハニカム触媒格子壁面拡張デバイスを
組込み、作動させた一例を示す図。
に、本発明になるハニカム触媒格子壁面拡張デバイスを
組込み、作動させた一例を示す図。
【図１１】図１０のXI−XI線矢視方向断面図。
【図１２】図１０の XII−XII 線方向視図。
【図１３】図１０のXIII−XIII線矢視方向断面図。
【図１４】図１０のXIV−XIV 線矢視方向断面図。
【図１５】図１０のXV−XV線矢視方向断面図。
【図１６】図１０のXVI −XVI 線矢視方向断面図。
【図１７】図１１においてデバイスの構成が異なる例を
示す図。
示す図。
【図１８】図１７のデバイスの構成が異なる例を示す
図。
図。
【図１９】ガス通過断面が正三角形のハニカム触媒に本
発明を実施した例を示す図。
発明を実施した例を示す図。
【図２０】ボイラ排ガス処理用脱硝装置の概略フローを
示す図。
示す図。
【図２１】正方形格子ハニカム触媒の外形図。
【図２２】図２１に示す正方形格子ハニカム触媒をガス
流れ方向から見た図。
流れ方向から見た図。
【図２３】図２１に示す正方形格子ハニカム触媒のガス
流れ方向に平行な断面図。
流れ方向に平行な断面図。
【図２４】図２１に示す正方形格子ハニカム触媒の押出
ダイスを、押出方向（スリット側）から見た図。
ダイスを、押出方向（スリット側）から見た図。
【図２５】図２４のXXV −XXV 矢視方向断面図。
【図２６】パラレルフロー触媒（ハニカム触媒、板状触
媒）において、ガス流路に発生する境界層を示す図。
媒）において、ガス流路に発生する境界層を示す図。
１…ハニカム触媒、２…格子、３…ガス流路、４…格子
壁凹凸部、５…連通孔、１０…押出ダイス、１１…デバ
イス駆動側押出ダイス、１２…材料供給穴、１３…ダイ
ススリット、１４…デバイス駆動穴、１５…デバイスセ
ット穴、１６…デバイス駆動バー、１７…ピン、１８…
ピストン、１９…触媒拡張へら、２０…拡張へら拡張キ
ャップ、３３…ピン作動溝。
壁凹凸部、５…連通孔、１０…押出ダイス、１１…デバ
イス駆動側押出ダイス、１２…材料供給穴、１３…ダイ
ススリット、１４…デバイス駆動穴、１５…デバイスセ
ット穴、１６…デバイス駆動バー、１７…ピン、１８…
ピストン、１９…触媒拡張へら、２０…拡張へら拡張キ
ャップ、３３…ピン作動溝。
Claims (6)
- 【請求項１】 隣接通路間を隔壁によって仕切られた互
いに平行な多数のユニット通路の集合体からなるハニカ
ム触媒または触媒担体において、前記ユニット通路の隔
壁面に通路の長さ方向に断続的に凹凸部を設けたことを
特徴とするハニカム触媒または触媒担体。 - 【請求項２】 請求項１において、ユニット通路壁面に
凹凸部を設けることにより、ユニット通路の通過断面積
を断続的に変化させたことを特徴とするハニカム触媒ま
たは触媒担体。 - 【請求項３】 隣接通路間を隔壁によって仕切られた互
いに平行な多数のユニット通路の集合体からなるハニカ
ム触媒または触媒担体の製造方法において、所定の格子
状スリットを設けた押出しダイスの後流側で、押出し成
形された可塑状態にある前記ハニカム触媒または触媒担
体のユニット通路壁面に、凹凸形成部材を用いて長さ方
向に沿って断続的に凹凸部を形成することを特徴とする
ハニカム触媒または触媒担体の製造方法。 - 【請求項４】 隣接通路間を隔壁によって仕切られた互
いに平行な多数のユニット通路の集合体からなるハニカ
ム触媒または触媒担体の製造方法において、所定形状の
格子状スリットを設けた押出し用ダイスの後流側で、押
出し成形された可塑状態にある前記ハニカム触媒または
触媒担体のユニット通路壁面の通路長さ方向に沿って、
所定間隔で所定長の切れ目を入れ、切れ目を入れた個所
を膨出部形成部材を用いて膨出させ、開口を有する膨出
部を断続的に形成させることを特徴とするハニカム触媒
または触媒担体の製造方法。 - 【請求項５】 隣接通路間を隔壁によって仕切られた互
いに平行な多数のユニット通路の集合体からなるハニカ
ム触媒または触媒担体製造用ダイスであって、該ダイス
の後流側に所定の格子状スリットを設けたものにおい
て、前記スリット後流側にて、押出成形されたユニット
通路壁面を膨出させる出し入れ可能なへら状膨出手段
と、該へら状膨出手段の出し入れ装置とを設けたことを
特徴とするハニカム触媒または触媒担体製造用ダイス。 - 【請求項６】 請求項５において、前記へら状膨出手段
が、押出成形されたユニット通路壁面に切れ目を入れ、
この切れ目壁面部を膨出させるカッタ機能手段を有する
へら状膨出手段であることを特徴とするハニカム触媒ま
たは触媒担体製造用ダイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228345A JPH0970543A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228345A JPH0970543A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0970543A true JPH0970543A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=16875015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7228345A Pending JPH0970543A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ハニカム触媒または触媒担体およびその製造方法ならびに製造用ダイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0970543A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10337479A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム型触媒及びその製造方法 |
| JP2007117907A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化触媒及び排ガス浄化触媒の製造方法 |
| US7603757B2 (en) | 2005-10-13 | 2009-10-20 | Hyundai Motor Company | Method of manufacturing mold for producing catalyst carriers |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP7228345A patent/JPH0970543A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10337479A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム型触媒及びその製造方法 |
| US7603757B2 (en) | 2005-10-13 | 2009-10-20 | Hyundai Motor Company | Method of manufacturing mold for producing catalyst carriers |
| JP2007117907A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化触媒及び排ガス浄化触媒の製造方法 |
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