JPH0975913A - 写真処理廃液の処理方法及び処理装置 - Google Patents
写真処理廃液の処理方法及び処理装置Info
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- JPH0975913A JPH0975913A JP26759395A JP26759395A JPH0975913A JP H0975913 A JPH0975913 A JP H0975913A JP 26759395 A JP26759395 A JP 26759395A JP 26759395 A JP26759395 A JP 26759395A JP H0975913 A JPH0975913 A JP H0975913A
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- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ミニラボ等の店頭作動においても悪臭を発生す
ることなく、効率の高い廃液処理を行うことができ、し
かもコンパクトで安価でかつランニングコストが低い処
理方法及び処理装置を得る。 【解決手段】写真処理廃液をマイクロ波で加熱して蒸発
させ、残留分を濃縮液又は固形分ととして分離すると共
に、蒸発気体を触媒処理し、該気体中のアンモニアガス
を窒素ガスと水蒸気に分離する。
ることなく、効率の高い廃液処理を行うことができ、し
かもコンパクトで安価でかつランニングコストが低い処
理方法及び処理装置を得る。 【解決手段】写真処理廃液をマイクロ波で加熱して蒸発
させ、残留分を濃縮液又は固形分ととして分離すると共
に、蒸発気体を触媒処理し、該気体中のアンモニアガス
を窒素ガスと水蒸気に分離する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真感光材料の写
真処理に伴い発生する廃液を処理する方法及び処理装置
に関するものである。
真処理に伴い発生する廃液を処理する方法及び処理装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、写真感光材料の写真処理は、黒
白感光材料の場合には現像、定着、水洗、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白、定着、水洗、安定化の機
能の1つ又は2つ以上を用いた工程を組合わせて行われ
ている。そして、これらの写真処理に伴い発生する廃液
は、銀、マンガン、ホルマリン、酢酸等を多量に含有し
ている。
白感光材料の場合には現像、定着、水洗、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白、定着、水洗、安定化の機
能の1つ又は2つ以上を用いた工程を組合わせて行われ
ている。そして、これらの写真処理に伴い発生する廃液
は、銀、マンガン、ホルマリン、酢酸等を多量に含有し
ている。
【0003】係る廃液処理の一つの手段として、蒸発法
が挙げられる。これは、廃液を蒸発させて濃縮廃液とか
固形スラッジ残滓等の処理し易い形にしてしまうという
ものである。
が挙げられる。これは、廃液を蒸発させて濃縮廃液とか
固形スラッジ残滓等の処理し易い形にしてしまうという
ものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、蒸発法
による処理に際し、大量の蒸気が発生し、その中に含有
される揮発性物質(例えば、アンモニアガス)が、悪
臭、空気汚染等の新たな環境汚染因子となるという問題
がある。また、写真処理廃液は自動現像機の側近で、直
ちに蒸発濃縮してしまうことが望ましいが、ミニラボ等
では店のスペースが極めて限られており、処理する際に
発生する悪臭が作業環境上の問題となるばかりでなく、
廃液処理装置自体の設置スペースが採れないという問題
がある。また、電気ヒーターでの加熱・蒸発では効率が
悪く、コストが嵩むものであった。つまり、装置の価格
やランニングコストも重要な問題であり、コンパクトで
安価でかつランニングコストが低い処理装置が要望され
ている。本発明は、上記問題点に鑑み、ミニラボ等の店
頭作動においても悪臭を発生することなく、効率の高い
廃液処理を行うことができ、しかもコンパクトで安価で
かつランニングコストが低い処理方法及び処理装置を提
供することを目的とするものである。
による処理に際し、大量の蒸気が発生し、その中に含有
される揮発性物質(例えば、アンモニアガス)が、悪
臭、空気汚染等の新たな環境汚染因子となるという問題
がある。また、写真処理廃液は自動現像機の側近で、直
ちに蒸発濃縮してしまうことが望ましいが、ミニラボ等
では店のスペースが極めて限られており、処理する際に
発生する悪臭が作業環境上の問題となるばかりでなく、
廃液処理装置自体の設置スペースが採れないという問題
がある。また、電気ヒーターでの加熱・蒸発では効率が
悪く、コストが嵩むものであった。つまり、装置の価格
やランニングコストも重要な問題であり、コンパクトで
安価でかつランニングコストが低い処理装置が要望され
ている。本発明は、上記問題点に鑑み、ミニラボ等の店
頭作動においても悪臭を発生することなく、効率の高い
廃液処理を行うことができ、しかもコンパクトで安価で
かつランニングコストが低い処理方法及び処理装置を提
供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】このため本発明では、写
真処理廃液をマイクロ波で加熱して蒸発させ、残留分を
濃縮液又は固形物として分離することを第1の特徴と
し、この蒸発気体を触媒処理し、該気体中のアンモニア
ガスを窒素ガスと水蒸気に分解することを第2の特徴と
する。
真処理廃液をマイクロ波で加熱して蒸発させ、残留分を
濃縮液又は固形物として分離することを第1の特徴と
し、この蒸発気体を触媒処理し、該気体中のアンモニア
ガスを窒素ガスと水蒸気に分解することを第2の特徴と
する。
【0006】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る実施の形態に
ついて図面を参照して説明する。図1は本発明に係る廃
液処理装置を示す構成図である。図2は蒸発皿の構造を
示す拡大断面図である。図3は蒸発皿の底面図である。
図4は蒸発皿の他の実施形態を示す拡大断面図である。
図5は図4の蒸発皿の底面図である。図1に示すよう
に、本発明に係る廃液処理装置は、主に、写真処理廃液
から水分を蒸発させる蒸発装置Aと、この蒸発装置Aに
より分離された蒸気を触媒処理する蒸気処理装置Bと、
この2つの装置を連通する連結部材とから構成されてい
る。
ついて図面を参照して説明する。図1は本発明に係る廃
液処理装置を示す構成図である。図2は蒸発皿の構造を
示す拡大断面図である。図3は蒸発皿の底面図である。
図4は蒸発皿の他の実施形態を示す拡大断面図である。
図5は図4の蒸発皿の底面図である。図1に示すよう
に、本発明に係る廃液処理装置は、主に、写真処理廃液
から水分を蒸発させる蒸発装置Aと、この蒸発装置Aに
より分離された蒸気を触媒処理する蒸気処理装置Bと、
この2つの装置を連通する連結部材とから構成されてい
る。
【0007】蒸発装置Aの内部には写真処理廃液(以
下、写真廃液という)を貯留する蒸発皿1とその近傍に
配置されたマイクロ波を発生するマグネトロン(高周波
電磁波発生装置)2とが備えてある。蒸発皿1は誘電損
失係数の小さい物質(マイクロ波が良く透過する物
質)、例えば陶磁器等のセラミック類、テフロン、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ガラスで製作することが好
ましく、本装置においては、磁器製のものを使用してい
る。そして、この蒸発皿1内部に貯留された写真廃液は
マグネトロン2からのマイクロ波の放射により、加熱さ
れ沸騰・蒸発する。
下、写真廃液という)を貯留する蒸発皿1とその近傍に
配置されたマイクロ波を発生するマグネトロン(高周波
電磁波発生装置)2とが備えてある。蒸発皿1は誘電損
失係数の小さい物質(マイクロ波が良く透過する物
質)、例えば陶磁器等のセラミック類、テフロン、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ガラスで製作することが好
ましく、本装置においては、磁器製のものを使用してい
る。そして、この蒸発皿1内部に貯留された写真廃液は
マグネトロン2からのマイクロ波の放射により、加熱さ
れ沸騰・蒸発する。
【0008】写真廃液は、銀、鉄、ナトリウム、カリウ
ム等の金属イオンを多量に含んでいるため、同量の水だ
けを蒸発させる場合に比べ、同程度のマイクロ波の出力
(すなわち同程度の電力)で極めて高い活性化を呈し、
短時間に沸騰・蒸発させることができる。本発明者によ
る比較実験結果から、その効率は約4〜5倍であること
が判明している。
ム等の金属イオンを多量に含んでいるため、同量の水だ
けを蒸発させる場合に比べ、同程度のマイクロ波の出力
(すなわち同程度の電力)で極めて高い活性化を呈し、
短時間に沸騰・蒸発させることができる。本発明者によ
る比較実験結果から、その効率は約4〜5倍であること
が判明している。
【0009】蒸発皿1の上端には写真廃液を貯留した廃
液槽6が定量パルスポンプ5を介して注入管5aにより
連結されており、廃液槽6内に貯留された写真廃液を蒸
発皿1内部に最適蒸発量になるように、定量ずつ間欠的
に注入できるようにされている。図1中、L1は液面計
である。蒸発皿1内に注入された写真廃液は薄い皮膜状
態ではマイクロ波により加熱されることはなく、ある程
度の廃液の嵩(厚み)があることによって活発に沸騰す
る。この嵩(厚み)は約2mm以上必要である。そこ
で、本装置における蒸発皿1はその底部に写真廃液の滞
留部(凹所)1cが設けてあり、高い加熱効果が得られ
るようにされている。
液槽6が定量パルスポンプ5を介して注入管5aにより
連結されており、廃液槽6内に貯留された写真廃液を蒸
発皿1内部に最適蒸発量になるように、定量ずつ間欠的
に注入できるようにされている。図1中、L1は液面計
である。蒸発皿1内に注入された写真廃液は薄い皮膜状
態ではマイクロ波により加熱されることはなく、ある程
度の廃液の嵩(厚み)があることによって活発に沸騰す
る。この嵩(厚み)は約2mm以上必要である。そこ
で、本装置における蒸発皿1はその底部に写真廃液の滞
留部(凹所)1cが設けてあり、高い加熱効果が得られ
るようにされている。
【0010】ここで、蒸発皿1の構造を詳述すると、図
2及び図3に示すように、蒸発皿1は碗状の受け皿部1
aに同じく碗状の蓋部1bを伏せた状態で嵌合された上
下2分割の構造にされている。この上下2分割の構造に
より、製作及び清掃等のメンテナンスが容易になるとい
う利点が生じる。受け皿部1aの底部には前述した写真
廃液の滞留部1cが設けられると共に、側方からは蒸発
皿1内部で発生した蒸気と濃縮された写真廃液を濃縮液
収納ポット3へ落下させるための導出管1dが下方に向
かって延設されている。ここで、滞留部1cと導出部1
dの間には若干の水平部1eが設けられており、滞留部
1cで沸騰した後流出する廃液の流れに嵩(厚み)を持
たせてマイクロ波で更に加熱できるようにされている。
この水平部1eでの加熱により、濃縮廃液の水分をさら
に蒸発させることができる。
2及び図3に示すように、蒸発皿1は碗状の受け皿部1
aに同じく碗状の蓋部1bを伏せた状態で嵌合された上
下2分割の構造にされている。この上下2分割の構造に
より、製作及び清掃等のメンテナンスが容易になるとい
う利点が生じる。受け皿部1aの底部には前述した写真
廃液の滞留部1cが設けられると共に、側方からは蒸発
皿1内部で発生した蒸気と濃縮された写真廃液を濃縮液
収納ポット3へ落下させるための導出管1dが下方に向
かって延設されている。ここで、滞留部1cと導出部1
dの間には若干の水平部1eが設けられており、滞留部
1cで沸騰した後流出する廃液の流れに嵩(厚み)を持
たせてマイクロ波で更に加熱できるようにされている。
この水平部1eでの加熱により、濃縮廃液の水分をさら
に蒸発させることができる。
【0011】次いで、蒸発皿1の温度制御について述べ
る。写真廃液の蒸発を活発に効率よく行うために、蒸発
皿1の滞留部1Cの底部の温度が140℃〜160℃の
間、廃液の濃縮率向上のために濃縮廃液が蒸発皿1から
排出される時点(すなわち廃液が蒸発皿1の導出管1d
にある時)の温度が110℃〜120℃の間にあるのが
好ましく、本装置ではこの2点に温度計4を配置して温
度測定を行い、蒸発皿1注入される写真廃液の量及びマ
イクロ波の出力を制御して常に適温に保つようにされて
いる。図1中、7a及び7bは装置の過熱を防止するた
めのサーマルリミッターである。
る。写真廃液の蒸発を活発に効率よく行うために、蒸発
皿1の滞留部1Cの底部の温度が140℃〜160℃の
間、廃液の濃縮率向上のために濃縮廃液が蒸発皿1から
排出される時点(すなわち廃液が蒸発皿1の導出管1d
にある時)の温度が110℃〜120℃の間にあるのが
好ましく、本装置ではこの2点に温度計4を配置して温
度測定を行い、蒸発皿1注入される写真廃液の量及びマ
イクロ波の出力を制御して常に適温に保つようにされて
いる。図1中、7a及び7bは装置の過熱を防止するた
めのサーマルリミッターである。
【0012】マイクロ波により加熱された写真廃液は、
蒸発皿1の内部で沸騰し、水分が蒸発して濃縮される。
その際、濃縮された廃液の一部が蒸発皿1内部で飛散
し、蒸発皿1の内壁(特に上部内壁)に付着し、これが
堆積するとマイクロ波で更に加熱され燃焼してガスを発
生するおそれがある。そこで本装置では、蒸発皿1への
廃液の注入に際し、注入管5aの端部に廃液を放射状に
射出できる形状にした弁体5bを設け蓋部1bの内壁の
全周に倣って常に新しい廃液が流れるようにして、内壁
面に付着した濃縮廃液を洗い落とすと共に、廃液の予熱
を行う。これにより、廃液の加熱効率を上げることがで
き、また、安定した蒸発ができる。すなわち、廃液の蒸
発効率を上げるために、蒸発皿1内部では、その内壁の
表面を常に洗浄し、新しい廃液が覆って濡れた状態にす
ることと、廃液を予熱することが大切であり、図4及び
図5に示すように、蒸発皿15を予熱室15Cと蒸発室
15dとに画成し、蒸発室15dの受け皿15aと蓋部
15bとのギャップを、沸騰した廃液から生じる泡が蓋
部15bの内壁面に到達して営に濡れた状態に保つよう
にしたものでも所期の効果を達成することができる。
蒸発皿1の内部で沸騰し、水分が蒸発して濃縮される。
その際、濃縮された廃液の一部が蒸発皿1内部で飛散
し、蒸発皿1の内壁(特に上部内壁)に付着し、これが
堆積するとマイクロ波で更に加熱され燃焼してガスを発
生するおそれがある。そこで本装置では、蒸発皿1への
廃液の注入に際し、注入管5aの端部に廃液を放射状に
射出できる形状にした弁体5bを設け蓋部1bの内壁の
全周に倣って常に新しい廃液が流れるようにして、内壁
面に付着した濃縮廃液を洗い落とすと共に、廃液の予熱
を行う。これにより、廃液の加熱効率を上げることがで
き、また、安定した蒸発ができる。すなわち、廃液の蒸
発効率を上げるために、蒸発皿1内部では、その内壁の
表面を常に洗浄し、新しい廃液が覆って濡れた状態にす
ることと、廃液を予熱することが大切であり、図4及び
図5に示すように、蒸発皿15を予熱室15Cと蒸発室
15dとに画成し、蒸発室15dの受け皿15aと蓋部
15bとのギャップを、沸騰した廃液から生じる泡が蓋
部15bの内壁面に到達して営に濡れた状態に保つよう
にしたものでも所期の効果を達成することができる。
【0013】蒸発装置Aにて蒸発した蒸気は、蒸発装置
Aと蒸発処理装置Bとを気密状態で連結する流入パイプ
12を通って蒸発処理装置B内に流入する。ここで、流
入パイプ12の途中には、エアポンプ10が装備された
エジェクター11が設けられており、蒸気はこのエジェ
クター11の作動により吸引されて蒸気処理装置B内に
送気される。この蒸気は主に水蒸気とアンモニアガスと
の混合物であるが、蒸気処理装置B内には触媒8aが収
容されており、アンモニアガスを窒素ガスと水蒸気に分
解する。蒸気処理装置Bでは、装置内部の温度を触媒8
aの反応温度に保持するため、装置の入口部分(上面)
に蒸気の流入パイプ12を囲むように渦巻きヒーター9
が設けられ、蒸気を再加熱できるようにされている。こ
こで、触媒8aの反応温度は200℃〜300℃の間、
好ましくは230℃〜250℃の間にする必要があるた
め、装置内の数カ所に熱電対13を設けて内部温度の検
知を行ない渦巻きヒーター9を制御し適温に保つことが
できるようにされている。
Aと蒸発処理装置Bとを気密状態で連結する流入パイプ
12を通って蒸発処理装置B内に流入する。ここで、流
入パイプ12の途中には、エアポンプ10が装備された
エジェクター11が設けられており、蒸気はこのエジェ
クター11の作動により吸引されて蒸気処理装置B内に
送気される。この蒸気は主に水蒸気とアンモニアガスと
の混合物であるが、蒸気処理装置B内には触媒8aが収
容されており、アンモニアガスを窒素ガスと水蒸気に分
解する。蒸気処理装置Bでは、装置内部の温度を触媒8
aの反応温度に保持するため、装置の入口部分(上面)
に蒸気の流入パイプ12を囲むように渦巻きヒーター9
が設けられ、蒸気を再加熱できるようにされている。こ
こで、触媒8aの反応温度は200℃〜300℃の間、
好ましくは230℃〜250℃の間にする必要があるた
め、装置内の数カ所に熱電対13を設けて内部温度の検
知を行ない渦巻きヒーター9を制御し適温に保つことが
できるようにされている。
【0014】蒸気処理装置Bにて触媒処理された後の蒸
気(水蒸気と窒素ガスの混合物)は冷却用水槽14に送
気されて水蒸気は凝縮されて水になり水槽14内に一旦
貯留された後、下水道に排水処理され窒素ガスは空気中
に飛散して排出される。図1中、L2は水位計、Tは水
温計である。
気(水蒸気と窒素ガスの混合物)は冷却用水槽14に送
気されて水蒸気は凝縮されて水になり水槽14内に一旦
貯留された後、下水道に排水処理され窒素ガスは空気中
に飛散して排出される。図1中、L2は水位計、Tは水
温計である。
【0015】以上のように、本処理装置によれば、写真
廃液を蒸発装置Aにて濃縮して濃縮液収納ポット3に貯
留し、蒸発装置Aにて発生した蒸気は蒸気処理装置Bの
触媒処理により無害化することができ、これにより生じ
た水はそのまま下水道に排水することができる。尚、濃
縮液収納ポット3に貯留された濃縮廃液は処理業者が回
収し焼却処理等をされることになるが、回収の容易さを
考慮して、濃縮液収納ポット3に排出バルブを取付け、
貯留した濃縮廃液を別容器に取り出す構造にすると便利
である。また、本装置においては、蒸発装置Aと並置し
て蒸気処理装置Bを設けているが、蒸気は自ずと上昇す
るので、蒸気処理装置Bを蒸発装置Aの上方に配置する
ようにしたものでも良い。
廃液を蒸発装置Aにて濃縮して濃縮液収納ポット3に貯
留し、蒸発装置Aにて発生した蒸気は蒸気処理装置Bの
触媒処理により無害化することができ、これにより生じ
た水はそのまま下水道に排水することができる。尚、濃
縮液収納ポット3に貯留された濃縮廃液は処理業者が回
収し焼却処理等をされることになるが、回収の容易さを
考慮して、濃縮液収納ポット3に排出バルブを取付け、
貯留した濃縮廃液を別容器に取り出す構造にすると便利
である。また、本装置においては、蒸発装置Aと並置し
て蒸気処理装置Bを設けているが、蒸気は自ずと上昇す
るので、蒸気処理装置Bを蒸発装置Aの上方に配置する
ようにしたものでも良い。
【0016】
【発明の効果】本発明の廃液処理装置は以上のように構
成したので、ミニラボ等の店頭作動においても悪臭を発
生することなく、効率の高い廃液処理を行うことがで
き、しかもコンパクトで安価でかつランニングコストが
低い処理方法及び処理装置を得ることができるという優
れた効果がある。
成したので、ミニラボ等の店頭作動においても悪臭を発
生することなく、効率の高い廃液処理を行うことがで
き、しかもコンパクトで安価でかつランニングコストが
低い処理方法及び処理装置を得ることができるという優
れた効果がある。
【図1】本発明に係る廃液処理装置を示す構成図であ
る。
る。
【図2】蒸発皿の構造を示す拡大断面図である。
【図3】蒸発皿の底面図である。
【図4】蒸発皿の他の実施形態を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図5】図4の蒸発皿の底面図である。
A 蒸発装置(蒸発部) B 蒸気処理装置(蒸気処理部) 1 蒸発皿 1a 受け皿部 1b 蓋部 1c 滞留部 1d 導出管 1e 水平部 2 マグネトロン(高周波電磁波発生装置) 3 濃縮廃液収納ポット 4 温度計 5 定量パルスポンプ 6 廃液槽 7a サーマルリミッター 7b サーマルリミッター 8 触媒槽 8a 触媒 9 渦巻きヒーター 10 エアポンプ 11 エジェクター 12 流入パイプ 13 熱電対 14 水槽 15 蒸発皿 15a 受け皿 15b 蓋部 15c 予熱室 15d 蒸発室
Claims (8)
- 【請求項1】写真処理廃液をマイクロ波で加熱して蒸発
させ、残留分を濃縮液又は固形物として分離することを
特徴とする写真処理廃液の処理方法。 - 【請求項2】蒸発気体を触媒処理し、該気体中のアンモ
ニアガスを窒素ガスと水蒸気に分解することを特徴とす
る請求項1記載の写真処理廃液の処理方法。 - 【請求項3】写真処理廃液が注入される蒸発皿とその近
傍に配置されたマイクロ波を発生するマグネトロン(高
周波電磁波発生装置)とを備えた蒸発部と、内部にアン
モニアガスを窒素ガスと水蒸気に分解する触媒が収納さ
れた蒸気処理部と、前記蒸発部と前記蒸気処理部とを前
記蒸発部で発生した蒸気を流通可能かつ気密に連結する
連結部とからなることを特徴とする写真処理廃液の処理
装置。 - 【請求項4】蒸発皿が、誘電損失係数の小さい物質で作
製されていることを特徴とする請求項3記載の写真処理
廃液の処理装置。 - 【請求項5】誘電損失係数の小さい物質が、セラミッ
ク、テフロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ガラス
から選ばれた1つまたは2つ以上の素材の組合わせであ
ることを特徴とする請求項4記載の写真処理廃液の処理
装置。 - 【請求項6】蒸発皿は受け皿部と蓋部とから構成され、
前記受け皿部の底部には廃液の滞留部(凹所)を設ける
と共に、側方からは蒸発皿内部で濃縮された廃液及び蒸
気を排出するための導出管を下方に向かって延設したこ
とを特徴とする請求項3記載の写真処理廃液の処理装
置。 - 【請求項7】蒸発皿の蓋部の内壁面に倣って廃液を放射
状に噴出して注入し、蒸発皿の内壁面を洗浄すると共
に、廃液を予熱するようにしたことを特徴とする請求項
6記載の写真処理廃液の処理装置。 - 【請求項8】蒸発皿を予熱室と蒸発室とに画成し、蒸発
室の受け皿と蓋部とのギャップを、沸騰した廃液から生
じる泡が蓋部の内壁面に到達可能な距離にされているこ
とを特徴とする請求項6記載の写真処理廃液の処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26759395A JPH0975913A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 写真処理廃液の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26759395A JPH0975913A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 写真処理廃液の処理方法及び処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0975913A true JPH0975913A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17446910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26759395A Pending JPH0975913A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 写真処理廃液の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0975913A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100912071B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2009-08-12 | 배오성 | 오폐수 소각 정화장치 |
| DE102005049923B4 (de) * | 2005-10-17 | 2017-12-14 | KMU LOFT Cleanwater GmbH | Verfahren und Anordnung zum Reinigen von industriell verunreinigtem Abwasser/Prozesswasser mittels einer Destillationsanlage |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP26759395A patent/JPH0975913A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005049923B4 (de) * | 2005-10-17 | 2017-12-14 | KMU LOFT Cleanwater GmbH | Verfahren und Anordnung zum Reinigen von industriell verunreinigtem Abwasser/Prozesswasser mittels einer Destillationsanlage |
| KR100912071B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2009-08-12 | 배오성 | 오폐수 소각 정화장치 |
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