JPH0976359A - フィルム - Google Patents
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- JPH0976359A JPH0976359A JP23674295A JP23674295A JPH0976359A JP H0976359 A JPH0976359 A JP H0976359A JP 23674295 A JP23674295 A JP 23674295A JP 23674295 A JP23674295 A JP 23674295A JP H0976359 A JPH0976359 A JP H0976359A
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】有機高分子からなる表面平滑性および表面平坦
性に優れた基材フィルムにより、高出力かつ低ドロップ
アウトである磁気テ−プ、特に詳しくはデ−タストレ−
ジ用途に適したフィルムを提供する。 【解決手段】有機高分子体からなるフィルムであって、
少なくとも片面の測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元
表面粗さＳＲａI が１．０〜５０ｎｍの範囲であり、か
つＳＲａI と測定面積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さ
ＳＲａIIが下記式(1) を満足するようにする。 ０．８≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦２．５ (1)
性に優れた基材フィルムにより、高出力かつ低ドロップ
アウトである磁気テ−プ、特に詳しくはデ−タストレ−
ジ用途に適したフィルムを提供する。 【解決手段】有機高分子体からなるフィルムであって、
少なくとも片面の測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元
表面粗さＳＲａI が１．０〜５０ｎｍの範囲であり、か
つＳＲａI と測定面積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さ
ＳＲａIIが下記式(1) を満足するようにする。 ０．８≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦２．５ (1)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は表面平滑性および表
面平坦性の優れたフィルム、特に磁気記録媒体用、さら
にはコンピュ−タのメモリ−用途であるデジタルデ−タ
ストレ−ジ用に好適に用いられるフィルムおよびその製
造方法に関するものである。
面平坦性の優れたフィルム、特に磁気記録媒体用、さら
にはコンピュ−タのメモリ−用途であるデジタルデ−タ
ストレ−ジ用に好適に用いられるフィルムおよびその製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ビデオテ−プ、デ−タメモリ−用
テ−プなどの磁気記録媒体では高密度記録化が要求さ
れ、特公平３−２６４５３号公報などの方法が提案され
ている。またそのベ−スフィルムについては平坦性、無
欠点性などが特に要求され、例えば特開昭５８−１５５
９４０号公報などが提案されている。また特に近年、テ
−プは長時間化の傾向にあり、そのベ−スフィルムの薄
膜化および高弾性化が望まれており、その目的のため特
公平２−５１４６３号公報などに芳香族ポリアミドを用
いた磁気記録媒体が提案されている。
テ−プなどの磁気記録媒体では高密度記録化が要求さ
れ、特公平３−２６４５３号公報などの方法が提案され
ている。またそのベ−スフィルムについては平坦性、無
欠点性などが特に要求され、例えば特開昭５８−１５５
９４０号公報などが提案されている。また特に近年、テ
−プは長時間化の傾向にあり、そのベ−スフィルムの薄
膜化および高弾性化が望まれており、その目的のため特
公平２−５１４６３号公報などに芳香族ポリアミドを用
いた磁気記録媒体が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
手段を用いる場合に以下の問題がある。第１に、フィル
ムの表面の凹凸が大きい場合、特にフィルム表面がいわ
ゆる「ユズ肌」状である場合には、例えば磁気テ−プな
どの磁気記録媒体にした際にテ−プ走行中の磁気ヘッド
と磁気記録層とのスペ−シングの変動による出力低下や
ドロップアウトが発生する懸念があり、その改善が必要
となる。
手段を用いる場合に以下の問題がある。第１に、フィル
ムの表面の凹凸が大きい場合、特にフィルム表面がいわ
ゆる「ユズ肌」状である場合には、例えば磁気テ−プな
どの磁気記録媒体にした際にテ−プ走行中の磁気ヘッド
と磁気記録層とのスペ−シングの変動による出力低下や
ドロップアウトが発生する懸念があり、その改善が必要
となる。
【０００４】第２に、デジタルデ−タストレ−ジ用途な
ど高密度磁気記録媒体は、ヘッドタッチ性向上が求めら
れるため、その基材フィルムは高弾性化が求められる
が、従来のオ−ディオ用あるいは一般ビデオ用テ−プ用
途の基材フィルムではその要求に答えられない。以上の
理由から、従来の手法では、実際の使用の上での要求を
満たすことは困難であった。
ど高密度磁気記録媒体は、ヘッドタッチ性向上が求めら
れるため、その基材フィルムは高弾性化が求められる
が、従来のオ−ディオ用あるいは一般ビデオ用テ−プ用
途の基材フィルムではその要求に答えられない。以上の
理由から、従来の手法では、実際の使用の上での要求を
満たすことは困難であった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる問題点を解決する
ために、本発明は以下の構成からなる。すなわち有機高
分子体からなるフィルムにおいて、少なくとも片面の測
定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａI が
１．０〜５０ｎｍの範囲であり、かつＳＲａと測定面積
１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａIIが下記式(1)
を満足することを特徴とするフィルムに関することであ
る。
ために、本発明は以下の構成からなる。すなわち有機高
分子体からなるフィルムにおいて、少なくとも片面の測
定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａI が
１．０〜５０ｎｍの範囲であり、かつＳＲａと測定面積
１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａIIが下記式(1)
を満足することを特徴とするフィルムに関することであ
る。
【０００６】 ０．８≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦２．５ (1)
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の有機高分子体からなるフ
ィルムには、従来公知の有機高分子体が使用されるが、
主としてポリエチレンテレフタレ−トやポリエチレン−
２，６−ナフタレ−トなどのポリエステル、あるいは芳
香族ポリアミド、または芳香族ポリイミドフィルムが好
ましく、さらに好ましくは、芳香族ポリアミドまたは芳
香族ポリイミドである。ここで「主として」とは、芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドを５０モル％以上
含むことを指す。
ィルムには、従来公知の有機高分子体が使用されるが、
主としてポリエチレンテレフタレ−トやポリエチレン−
２，６−ナフタレ−トなどのポリエステル、あるいは芳
香族ポリアミド、または芳香族ポリイミドフィルムが好
ましく、さらに好ましくは、芳香族ポリアミドまたは芳
香族ポリイミドである。ここで「主として」とは、芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドを５０モル％以上
含むことを指す。
【０００８】ここで、芳香族ポリアミドとは、次の一般
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り返
し単位を５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上含
むものからなる。
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り返
し単位を５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上含
むものからなる。
【０００９】一般式（Ｉ）
【化１】 一般式（II）
【化２】 ここでＡｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は、例えば、
【化３】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＯ
−、−ＳＯ2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、アルキル基、
アルコキシル基などの置換基で置換されているものも含
み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の
置換基によって置換されているものも含む。なお、Ａｒ
１、Ａｒ２、Ａｒ３は同じかまたは異なってもよい。ま
たこれらは２種以上の共重合体であっても良いし、混合
体であっても良い。さらに上記以外の芳香族または脂肪
族の共重合成分を５０モル％未満の割合で共重合されて
いても良い。ここで共重合可能な成分としてはシクロヘ
キシレンなどの脂環族化合物、ヘキシレンなどの脂肪族
化合物を挙げることができる。また上記の芳香環がパラ
位で結合されたものが、全芳香環の５０モル％以上、好
ましくは７５モル％以上をを占める重合体が、フィルム
のヤング率が高く耐熱性も良好となるため好ましい。ま
た芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に塩素）
で置換された芳香環が全体の３０モル％以上であると耐
湿性が向上し、吸湿による寸法変化、剛性低下などの特
性が改善されるために好ましい。なお、芳香族ポリイミ
ドとは、重合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環
を１つ以上含むものであり、一般式（III ）および／ま
たは一般式（IV）で表される繰り返し単位を５０モル％
以上、好ましくは７０モル％以上含むものである。
−、−ＳＯ2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、アルキル基、
アルコキシル基などの置換基で置換されているものも含
み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の
置換基によって置換されているものも含む。なお、Ａｒ
１、Ａｒ２、Ａｒ３は同じかまたは異なってもよい。ま
たこれらは２種以上の共重合体であっても良いし、混合
体であっても良い。さらに上記以外の芳香族または脂肪
族の共重合成分を５０モル％未満の割合で共重合されて
いても良い。ここで共重合可能な成分としてはシクロヘ
キシレンなどの脂環族化合物、ヘキシレンなどの脂肪族
化合物を挙げることができる。また上記の芳香環がパラ
位で結合されたものが、全芳香環の５０モル％以上、好
ましくは７５モル％以上をを占める重合体が、フィルム
のヤング率が高く耐熱性も良好となるため好ましい。ま
た芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に塩素）
で置換された芳香環が全体の３０モル％以上であると耐
湿性が向上し、吸湿による寸法変化、剛性低下などの特
性が改善されるために好ましい。なお、芳香族ポリイミ
ドとは、重合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環
を１つ以上含むものであり、一般式（III ）および／ま
たは一般式（IV）で表される繰り返し単位を５０モル％
以上、好ましくは７０モル％以上含むものである。
【００１０】一般式（III ）
【化４】 一般式（IV）
【化５】 ここでＡｒ４、Ａｒ６は少なくとも１個の芳香環を含
み、イミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。このＡｒ４は、芳
香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。
代表例としては次のようなものが挙げられる。
み、イミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。このＡｒ４は、芳
香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。
代表例としては次のようなものが挙げられる。
【００１１】
【化６】 ここでＺは−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＯ−、−ＳＯ
2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選ばれるが、
これに限定されるものではない。またＡｒ６は無水カル
ボン酸あるいはこのハライドに由来する。Ａｒ５、Ａｒ
７は例えば
2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選ばれるが、
これに限定されるものではない。またＡｒ６は無水カル
ボン酸あるいはこのハライドに由来する。Ａｒ５、Ａｒ
７は例えば
【化７】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＯ
−、−ＳＯ2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、アルキル基、
アルコキシル基などの置換基で置換されているものも含
み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の
置換基によって置換されているものも含む。また本発明
の芳香族ポリイミドには他の繰り返し単位が共重合、あ
るいは単に混合されていても良い。
−、−ＳＯ2 −、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、アルキル基、
アルコキシル基などの置換基で置換されているものも含
み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の
置換基によって置換されているものも含む。また本発明
の芳香族ポリイミドには他の繰り返し単位が共重合、あ
るいは単に混合されていても良い。
【００１２】なお、本発明のフィルムの製造方法は、溶
液製膜方法のうち湿式法、乾湿式法あるいは半乾半湿式
法であることが好ましい。すなわち、製膜途中のフィル
ムを水中に通過させる、いわゆる湿式工程を経ることに
よって、フィルム中の溶媒や無機塩などの抽出が可能と
なるからである。さらに好ましくは、乾湿式法あるいは
半乾半湿式法である。すなわち、乾式工程を経ずに湿式
工程を行った場合、フィルム中の溶媒や無機塩などの抽
出が急激に起こり、平面性の悪化やフィルムの失透、お
よびフィルム表面が「ユズ肌」状となる、等の原因とな
るためである。これを防ぐため、乾式工程でフィルム中
の所定の溶媒を徐々に蒸発させておき、その後に湿式工
程にて残りの溶媒や無機塩などを抽出することが好まし
い。
液製膜方法のうち湿式法、乾湿式法あるいは半乾半湿式
法であることが好ましい。すなわち、製膜途中のフィル
ムを水中に通過させる、いわゆる湿式工程を経ることに
よって、フィルム中の溶媒や無機塩などの抽出が可能と
なるからである。さらに好ましくは、乾湿式法あるいは
半乾半湿式法である。すなわち、乾式工程を経ずに湿式
工程を行った場合、フィルム中の溶媒や無機塩などの抽
出が急激に起こり、平面性の悪化やフィルムの失透、お
よびフィルム表面が「ユズ肌」状となる、等の原因とな
るためである。これを防ぐため、乾式工程でフィルム中
の所定の溶媒を徐々に蒸発させておき、その後に湿式工
程にて残りの溶媒や無機塩などを抽出することが好まし
い。
【００１３】また、本発明の芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドには、フィルムの物性を損なわない程
度に滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤その他の添加剤等が
添加されていても良い。
芳香族ポリイミドには、フィルムの物性を損なわない程
度に滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤その他の添加剤等が
添加されていても良い。
【００１４】本発明の基材フィルムの少なくとも一方向
のヤング率が９００ｋｇ／ｍｍ2 以上であることが好ま
しい。すなわち磁気テ−プの出力は、テ−プと磁気ヘッ
ドのヘッドタッチ性の向上に伴って上がるが、そのため
に基材フィルムの高ヤング率が求められる。記録方法が
固定ヘッド方式の場合は長手方向の、ヘリカルスキャン
方式の場合は幅方向の高ヤング率が特に必要であり、基
材フィルムのいずれの方向のヤング率も９００ｋｇ／ｍ
ｍ2 未満であれば、いずれの記録方式を採用しても高出
力は得られないので好ましくない。なお基材フィルムの
少なくとも一方向のヤング率は、好ましくは１０００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上、特に好ましくは１１００ｋｇ／ｍｍ2
以上である。なお、すべての方向のヤング率が９００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上であることが好ましいのは言うまでもな
い。なお、デジタルデ−タストレ−ジ用テ−プではヘリ
カルスキャン方式を採用しているので、前述の通り、ヘ
ッドタッチ性向上のため、基材フィルムの幅方向のヤン
グ率が９００ｋｇ／ｍｍ2以上であることが好ましい。
なお、基材フィルムの幅方向のヤング率は好ましくは１
０００ｋｇ／ｍｍ2 以上、さらに好ましくは１１００ｋ
ｇ／ｍｍ2 である。なお、本発明のヤング率を達成する
ため、有機高分子フィルムに非磁性金属の層を設けても
良い。
のヤング率が９００ｋｇ／ｍｍ2 以上であることが好ま
しい。すなわち磁気テ−プの出力は、テ−プと磁気ヘッ
ドのヘッドタッチ性の向上に伴って上がるが、そのため
に基材フィルムの高ヤング率が求められる。記録方法が
固定ヘッド方式の場合は長手方向の、ヘリカルスキャン
方式の場合は幅方向の高ヤング率が特に必要であり、基
材フィルムのいずれの方向のヤング率も９００ｋｇ／ｍ
ｍ2 未満であれば、いずれの記録方式を採用しても高出
力は得られないので好ましくない。なお基材フィルムの
少なくとも一方向のヤング率は、好ましくは１０００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上、特に好ましくは１１００ｋｇ／ｍｍ2
以上である。なお、すべての方向のヤング率が９００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上であることが好ましいのは言うまでもな
い。なお、デジタルデ−タストレ−ジ用テ−プではヘリ
カルスキャン方式を採用しているので、前述の通り、ヘ
ッドタッチ性向上のため、基材フィルムの幅方向のヤン
グ率が９００ｋｇ／ｍｍ2以上であることが好ましい。
なお、基材フィルムの幅方向のヤング率は好ましくは１
０００ｋｇ／ｍｍ2 以上、さらに好ましくは１１００ｋ
ｇ／ｍｍ2 である。なお、本発明のヤング率を達成する
ため、有機高分子フィルムに非磁性金属の層を設けても
良い。
【００１５】本発明の基材フィルムの少なくとも片面
の、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲ
ａI が１．０〜５０ｎｍの範囲である必要がある。すな
わち、磁気テ−プとする際に磁性層を施す側の面は、電
磁変換特性の向上のため平滑面である必要があるが、Ｓ
ＲａI が５０ｎｍを越える場合は電磁変換特性の出力低
下を引き起こすためであり、一方ＳＲａI が１．０ｎｍ
未満であれば磁気テ−プの走行性不良を引き起こすため
である。なお好ましくはＳＲａI が２．０〜４０ｎｍの
範囲であり、より好ましくはＳＲａI が５．０〜３０ｎ
ｍの範囲である。この表面粗さを達成するために、本発
明のフィルムに粒子を含有せしめても良い。すなわち粒
子径が１０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは２０〜２０
０ｎｍの範囲であり、材料としては、有機高分子からな
る粒子、無機粒子、表面に有機高分子の被膜を施した無
機粒子および／又は有機粒子から選ばれた少なくとも１
種類以上の粒子が挙げられる。該粒子の形状については
球状粒子であることが好ましい。またフィルム表面に形
成する突起の高さをそれぞれ均一にするために、該粒子
の粒度分布が相対標準偏差で０．５以下であることが特
に好ましい。該粒子の含有量は０．００１〜３重量％、
好ましくは０．０１〜１重量％である。該粒子を含有せ
しめる方法としては、重合前、重合中、重合後のいずれ
に添加しても良い。なお磁性層を施す側の反対面は、磁
気テ−プに走行性を付与するために易滑面であることが
好ましく、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗
さＳＲａI が１０〜７０ｎｍの範囲であることが好まし
い。なお、本発明の基材フィルムは、少なくとも２層以
上からなる積層フィルムであることが好ましい。
の、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲ
ａI が１．０〜５０ｎｍの範囲である必要がある。すな
わち、磁気テ−プとする際に磁性層を施す側の面は、電
磁変換特性の向上のため平滑面である必要があるが、Ｓ
ＲａI が５０ｎｍを越える場合は電磁変換特性の出力低
下を引き起こすためであり、一方ＳＲａI が１．０ｎｍ
未満であれば磁気テ−プの走行性不良を引き起こすため
である。なお好ましくはＳＲａI が２．０〜４０ｎｍの
範囲であり、より好ましくはＳＲａI が５．０〜３０ｎ
ｍの範囲である。この表面粗さを達成するために、本発
明のフィルムに粒子を含有せしめても良い。すなわち粒
子径が１０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは２０〜２０
０ｎｍの範囲であり、材料としては、有機高分子からな
る粒子、無機粒子、表面に有機高分子の被膜を施した無
機粒子および／又は有機粒子から選ばれた少なくとも１
種類以上の粒子が挙げられる。該粒子の形状については
球状粒子であることが好ましい。またフィルム表面に形
成する突起の高さをそれぞれ均一にするために、該粒子
の粒度分布が相対標準偏差で０．５以下であることが特
に好ましい。該粒子の含有量は０．００１〜３重量％、
好ましくは０．０１〜１重量％である。該粒子を含有せ
しめる方法としては、重合前、重合中、重合後のいずれ
に添加しても良い。なお磁性層を施す側の反対面は、磁
気テ−プに走行性を付与するために易滑面であることが
好ましく、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗
さＳＲａI が１０〜７０ｎｍの範囲であることが好まし
い。なお、本発明の基材フィルムは、少なくとも２層以
上からなる積層フィルムであることが好ましい。
【００１６】また、本発明の該基材フィルムの少なくと
も一つの面にセルロ−ス等の水溶性高分子や、コロイダ
ルシリカ、酸化アルミニウム、架橋ポリビニルベンゼン
等の微細粒子、あるいはその両方とからなる水性塗液を
塗布せしめてなる塗膜を形成しても良い。
も一つの面にセルロ−ス等の水溶性高分子や、コロイダ
ルシリカ、酸化アルミニウム、架橋ポリビニルベンゼン
等の微細粒子、あるいはその両方とからなる水性塗液を
塗布せしめてなる塗膜を形成しても良い。
【００１７】本発明の基材フィルムの少なくとも片面
の、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲ
ａI と測定面積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａ
IIが下記式(1) を満足する必要がある。
の、測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲ
ａI と測定面積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａ
IIが下記式(1) を満足する必要がある。
【００１８】 ０．８≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦２．５ (1) すなわち、ＳＲａII／ＳＲａI ＞２．５であれば、フィ
ルム表面はいわゆる「ユズ肌」状となり、磁性層を施し
て磁気テ−プとした際に出力低下やドロップアウト多発
となり、一方ＳＲａII／ＳＲａI ＜０．８であれば、磁
気テ−プの走行性の低下やロ−ル状に巻いた際のブロッ
キングを引き起こすためである。なおＳＲａII／ＳＲａ
I が式(1) を満足するために、例えば下記の方法が有効
である。すなわち該フィルムの製造工程において、エン
ドレスベルト等から剥離したフィルムに接触するロ−ル
の表面を鏡面加工する方法や、フィルムの溶媒抽出や乾
燥が急激に起こるのを防ぐために、例えば溶媒抽出の工
程での水温を２０〜７０℃の範囲とする方法、およびエ
ンドレスベルト等から剥離する際のフィルム中の有機高
分子体の濃度を３０〜７０重量％とする方法、ステンタ
−での乾燥および熱処理を実施する前段階で５０〜１０
０℃の温度にフィルムを予熱する方法、あるいは上記方
法の組み合わせなどが挙げられる。なお、好ましくは本
発明の基材フィルムの少なくとも片面の、測定面積０．
００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａI と測定面積
１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａIIが下記式(2)
を満足することである。
ルム表面はいわゆる「ユズ肌」状となり、磁性層を施し
て磁気テ−プとした際に出力低下やドロップアウト多発
となり、一方ＳＲａII／ＳＲａI ＜０．８であれば、磁
気テ−プの走行性の低下やロ−ル状に巻いた際のブロッ
キングを引き起こすためである。なおＳＲａII／ＳＲａ
I が式(1) を満足するために、例えば下記の方法が有効
である。すなわち該フィルムの製造工程において、エン
ドレスベルト等から剥離したフィルムに接触するロ−ル
の表面を鏡面加工する方法や、フィルムの溶媒抽出や乾
燥が急激に起こるのを防ぐために、例えば溶媒抽出の工
程での水温を２０〜７０℃の範囲とする方法、およびエ
ンドレスベルト等から剥離する際のフィルム中の有機高
分子体の濃度を３０〜７０重量％とする方法、ステンタ
−での乾燥および熱処理を実施する前段階で５０〜１０
０℃の温度にフィルムを予熱する方法、あるいは上記方
法の組み合わせなどが挙げられる。なお、好ましくは本
発明の基材フィルムの少なくとも片面の、測定面積０．
００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａI と測定面積
１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａIIが下記式(2)
を満足することである。
【００１９】 １．１≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦１．８ (2) なお、本発明のフィルムはポリマ−の溶液状態にて、濾
過精度４μｍ未満のフィルタ−を通過せしめて、ポリマ
−中の粗大異物を除去せしめても良い。
過精度４μｍ未満のフィルタ−を通過せしめて、ポリマ
−中の粗大異物を除去せしめても良い。
【００２０】また、キャスティングおよび延伸装置の雰
囲気を、周囲をエアフィルタ−にて覆う方法、あるいは
いわゆるクリ−ンル−ム化を採用しても良い。この際の
雰囲気のクリ−ン度は、好ましくはアメリカ連邦規格Ｆ
ｅｄ．Ｓｔｄ．２０９Ｂに定めるクリ−ンル−ム規格
で、クラス１０００よりクリ−ンであることである。
囲気を、周囲をエアフィルタ−にて覆う方法、あるいは
いわゆるクリ−ンル−ム化を採用しても良い。この際の
雰囲気のクリ−ン度は、好ましくはアメリカ連邦規格Ｆ
ｅｄ．Ｓｔｄ．２０９Ｂに定めるクリ−ンル−ム規格
で、クラス１０００よりクリ−ンであることである。
【００２１】次に本発明フィルムの製造方法について述
べるがこれに限定されるものではない。また、基材フィ
ルムとして芳香族ポリアミドを使用する場合は、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジメチルアセトアミドなどの非プロト
ン性有機溶媒中で酸クロライドとジアミンの溶液重合に
て得る。この際に発生する塩化水素は水酸化カルシウ
ム、炭酸カルシウム、水酸化リチウム、炭酸リチウムな
どの無機の中和剤あるいはエチレンオキサイド、トリエ
チルアミン、ジエタノ−ルアミンなどの有機の中和剤に
よって中和する。これらのポリマ溶液はそのまま製膜原
液として使用しても良く、また、一旦単離したのち有機
溶剤あるいは硫酸などの無機溶剤に再溶解して用いても
良い。また表面粗さの調整などのため、粒子を添加する
場合は、この際に添加することが好ましい。なお添加方
法および希釈方法は公知の方法が適用できる。このよう
にして得られた製膜原液を、いわゆる溶液製膜法によっ
てフィルム化する。なお、溶液製膜法には乾湿式法、乾
式法、湿式法、半乾半湿式などがあり、特に乾湿式法、
半乾半湿式が好ましい。なおここでは乾湿式法を例にと
る。まず製膜原液を口金からドラム、エンドレスベルト
等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜
層から溶媒を飛散させ薄膜自体が自己支持性を持つまで
乾燥する。この際の薄膜中の有機高分子体の濃度が３０
〜７０重量％となるように乾燥温度、乾燥時間を選択す
る。続いて該薄膜を支持体から剥離し、２０〜７０℃の
水中を通過させ脱塩、脱溶媒する。この際に該薄膜の延
伸を行っても良い。なお延伸にロ−ルを用いる場合は、
表面が鏡面であるロ−ルを用いる。水中を通過させた
後、一旦該薄膜を５０〜１００℃の温度で予熱し、その
後に該薄膜の両端を把持した状態で、ステンタ−にて該
薄膜を乾燥する。さらに該薄膜の両端を把持した状態
で、ステンタ−にて１００〜４００℃の温度範囲で５秒
間以上熱処理し、最終的には所定の幅に裁断し製品とす
る。
べるがこれに限定されるものではない。また、基材フィ
ルムとして芳香族ポリアミドを使用する場合は、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジメチルアセトアミドなどの非プロト
ン性有機溶媒中で酸クロライドとジアミンの溶液重合に
て得る。この際に発生する塩化水素は水酸化カルシウ
ム、炭酸カルシウム、水酸化リチウム、炭酸リチウムな
どの無機の中和剤あるいはエチレンオキサイド、トリエ
チルアミン、ジエタノ−ルアミンなどの有機の中和剤に
よって中和する。これらのポリマ溶液はそのまま製膜原
液として使用しても良く、また、一旦単離したのち有機
溶剤あるいは硫酸などの無機溶剤に再溶解して用いても
良い。また表面粗さの調整などのため、粒子を添加する
場合は、この際に添加することが好ましい。なお添加方
法および希釈方法は公知の方法が適用できる。このよう
にして得られた製膜原液を、いわゆる溶液製膜法によっ
てフィルム化する。なお、溶液製膜法には乾湿式法、乾
式法、湿式法、半乾半湿式などがあり、特に乾湿式法、
半乾半湿式が好ましい。なおここでは乾湿式法を例にと
る。まず製膜原液を口金からドラム、エンドレスベルト
等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜
層から溶媒を飛散させ薄膜自体が自己支持性を持つまで
乾燥する。この際の薄膜中の有機高分子体の濃度が３０
〜７０重量％となるように乾燥温度、乾燥時間を選択す
る。続いて該薄膜を支持体から剥離し、２０〜７０℃の
水中を通過させ脱塩、脱溶媒する。この際に該薄膜の延
伸を行っても良い。なお延伸にロ−ルを用いる場合は、
表面が鏡面であるロ−ルを用いる。水中を通過させた
後、一旦該薄膜を５０〜１００℃の温度で予熱し、その
後に該薄膜の両端を把持した状態で、ステンタ−にて該
薄膜を乾燥する。さらに該薄膜の両端を把持した状態
で、ステンタ−にて１００〜４００℃の温度範囲で５秒
間以上熱処理し、最終的には所定の幅に裁断し製品とす
る。
【００２２】なお磁気記録媒体とするには、該フィルム
の表面に磁性体粉末を含んだ高分子バインダ−を塗布す
る方法、あるいはコバルト等の磁性金属を減圧下で蒸着
する方法によって磁性体を施し、表面処理などを施した
後に所定の幅に裁断し、カセット等に組み込み製品とす
る。このようにして得られたテ−プは、コンピュ−タメ
モリ−用のデジタルデ−タストレ−ジ用途に特に好適で
ある。
の表面に磁性体粉末を含んだ高分子バインダ−を塗布す
る方法、あるいはコバルト等の磁性金属を減圧下で蒸着
する方法によって磁性体を施し、表面処理などを施した
後に所定の幅に裁断し、カセット等に組み込み製品とす
る。このようにして得られたテ−プは、コンピュ−タメ
モリ−用のデジタルデ−タストレ−ジ用途に特に好適で
ある。
【００２３】
【特性の測定法】本発明の特性値は次の測定法、評価基
準によるものである。
準によるものである。
【００２４】ヤング率の測定 フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに切断し、
チャック間１００ｍｍにして引張速度３００ｍｍ／分、
チャ−ト速度５００ｍｍ／分にて、インストロンタイプ
の万能引張試験装置で引張る。得られた荷重−伸び曲線
の立上がり部の接線よりヤング率を求める。
チャック間１００ｍｍにして引張速度３００ｍｍ／分、
チャ−ト速度５００ｍｍ／分にて、インストロンタイプ
の万能引張試験装置で引張る。得られた荷重−伸び曲線
の立上がり部の接線よりヤング率を求める。
【００２５】３次元表面粗さ（ＳＲａ） 小坂製作所製の微細形状測定器ＥＴ−３０ＨＫを用いて
測定した。検出には光触針（ＨＩＰＯＳＳ、商品名）を
用い、フィルム表面に真空下でアルミ蒸着を施した後に
測定した。なお下記の測定条件にてＳＲａI 、ＳＲａII
を求めた。
測定した。検出には光触針（ＨＩＰＯＳＳ、商品名）を
用い、フィルム表面に真空下でアルミ蒸着を施した後に
測定した。なお下記の測定条件にてＳＲａI 、ＳＲａII
を求めた。
【００２６】 イ．ＳＲａI （測定面積０．００２ｍｍ2 ） ・長手方向の測定長：０．０２ｍｍ ・幅方向の測定長 ：０．１０ｍｍ ・カットオフ値 ：０．０８ｍｍ ロ．ＳＲａII（測定面積１．０ｍｍ2 ） ・長手方向の測定長：０．５０ｍｍ ・幅方向の測定長 ：２．００ｍｍ ・カットオフ値 ：０．０８ｍｍ
【００２７】磁気テ−プ特性 得られたフィルムの磁性面側に、以下の組成からなる磁
性塗膜を乾燥後の膜厚で２μｍとなるように塗設した。
性塗膜を乾燥後の膜厚で２μｍとなるように塗設した。
【００２８】 ・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 微粉末 ：２００重量部 ・ポリウレタン樹脂 ： ３０重量部 ・ニトロセルロ−ス ： １０重量部 ・塩化ビニル ： １０重量部 ・ポリイソシアネ−ト ： ５重量部 （溶媒：メチルエチルケトン）このようにして得られた
磁性層塗設後のフィルムを、１／２インチにスリット
し、松下電器（株）製ＮＶ−３７００型ビデオデッキに
より、常速にて下記の磁気テ−プ特性を評価した。
磁性層塗設後のフィルムを、１／２インチにスリット
し、松下電器（株）製ＮＶ−３７００型ビデオデッキに
より、常速にて下記の磁気テ−プ特性を評価した。
【００２９】イ．ＶＴＲヘッド出力：シンクロスコ−プ
により測定周波数４メガヘルツに於けるＶＴＲヘッド出
力を測定し、基準サンプルに対する相対値をデシベル
（ｄＢ）で表示した。
により測定周波数４メガヘルツに於けるＶＴＲヘッド出
力を測定し、基準サンプルに対する相対値をデシベル
（ｄＢ）で表示した。
【００３０】ロ．ドロップアウト：４．４メガヘルツの
信号を記録し、該テ−プを再生し、大倉インダストリ−
（株）製ドロップアウトカウンタ−にて１５μｓｅｃ−
２０ｄＢにおけるドロップアウト数を２０分間測定し、
１分間当たりのドロップアウト数（個／分）に換算し
た。
信号を記録し、該テ−プを再生し、大倉インダストリ−
（株）製ドロップアウトカウンタ−にて１５μｓｅｃ−
２０ｄＢにおけるドロップアウト数を２０分間測定し、
１分間当たりのドロップアウト数（個／分）に換算し
た。
【００３１】
【実施例】次に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明
する。
する。
【００３２】（実施例１）Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）に芳香族ジアミン成分として８５モル％に相当する
２−クロルパラフェニレンジアミンと、１５モル％に相
当する４、４´−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解
させ、これに１００モル％に相当する２−クロルテレフ
タル酸クロリド部を添加し、２時間撹拌し重合した。こ
れを水酸化リチウムで中和して、ポリマ−濃度１０重量
％、粘度３０００ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得
た。この溶液に、一次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリ
マ当たり２重量％添加した。
Ｐ）に芳香族ジアミン成分として８５モル％に相当する
２−クロルパラフェニレンジアミンと、１５モル％に相
当する４、４´−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解
させ、これに１００モル％に相当する２−クロルテレフ
タル酸クロリド部を添加し、２時間撹拌し重合した。こ
れを水酸化リチウムで中和して、ポリマ−濃度１０重量
％、粘度３０００ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得
た。この溶液に、一次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリ
マ当たり２重量％添加した。
【００３３】このようにして得られたポリマ−溶液を用
いて、クリ−ン度がクラス１０００の製膜室内で製膜し
た。まずこのポリマ−溶液を濾過精度４μｍのフィルタ
−で濾過した後、高さおよび深さ３０μｍ以上の突起、
および異物が皆無であるベルト上に流延し、１８０℃の
熱風で１分間加熱してフィルム中のポリマ−濃度が４５
重量％となるように溶媒を蒸発させ、得られたフィルム
をベルトから連続的に剥離した。次にＮＭＰの濃度勾配
をつけた水温６０℃の水槽内へフィルムを導入して残存
溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行った。この際に
フィルムの長手方向に１．２倍に延伸を実施した。水抽
出終了後、フィルムを７０℃の熱風にて３０秒間予熱
し、その後２８０℃のステンタ−にて乾燥、幅方向に
１．３倍に延伸、および熱処理を、合計１．５分間行
い、２０℃／秒の速度で徐冷した。最終的に、厚さ５μ
ｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィル
ムは磁気テ−プにした際のドロップアウトも少なく良好
であった。
いて、クリ−ン度がクラス１０００の製膜室内で製膜し
た。まずこのポリマ−溶液を濾過精度４μｍのフィルタ
−で濾過した後、高さおよび深さ３０μｍ以上の突起、
および異物が皆無であるベルト上に流延し、１８０℃の
熱風で１分間加熱してフィルム中のポリマ−濃度が４５
重量％となるように溶媒を蒸発させ、得られたフィルム
をベルトから連続的に剥離した。次にＮＭＰの濃度勾配
をつけた水温６０℃の水槽内へフィルムを導入して残存
溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行った。この際に
フィルムの長手方向に１．２倍に延伸を実施した。水抽
出終了後、フィルムを７０℃の熱風にて３０秒間予熱
し、その後２８０℃のステンタ−にて乾燥、幅方向に
１．３倍に延伸、および熱処理を、合計１．５分間行
い、２０℃／秒の速度で徐冷した。最終的に、厚さ５μ
ｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィル
ムは磁気テ−プにした際のドロップアウトも少なく良好
であった。
【００３４】（実施例２）実施例１の方法において、一
次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリマ当たり２重量％添
加する代わりに、粒径４５ｎｍの球状シリカをポリマ当
たり０．２重量％添加する他は、実施例１と同じ方法で
本発明を実施した。磁気テ−プにした際に実施例１に比
べ、より高出力が得られ良好であった。
次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリマ当たり２重量％添
加する代わりに、粒径４５ｎｍの球状シリカをポリマ当
たり０．２重量％添加する他は、実施例１と同じ方法で
本発明を実施した。磁気テ−プにした際に実施例１に比
べ、より高出力が得られ良好であった。
【００３５】（実施例３）実施例１の方法において、水
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温４０℃の水
にて水抽出する他は、実施例１と同じ方法で本発明を実
施した。得られたフィルムは実施例１と同様、ドロップ
アウトも少なく良好であった。
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温４０℃の水
にて水抽出する他は、実施例１と同じ方法で本発明を実
施した。得られたフィルムは実施例１と同様、ドロップ
アウトも少なく良好であった。
【００３６】（実施例４）実施例１の方法において、フ
ィルム長手方向の１．２倍の延伸に対して１．１５倍の
延伸に、幅方向の１．３倍の延伸に対して１．４倍延伸
する他は、実施例１と同じ方法で本発明を実施した。実
施例１に比べ、幅方向の高ヤング率が得られ、また実施
例１に比べて磁気テ−プにした際に高出力であった。ま
たドロップアウトも少なく良好であった。
ィルム長手方向の１．２倍の延伸に対して１．１５倍の
延伸に、幅方向の１．３倍の延伸に対して１．４倍延伸
する他は、実施例１と同じ方法で本発明を実施した。実
施例１に比べ、幅方向の高ヤング率が得られ、また実施
例１に比べて磁気テ−プにした際に高出力であった。ま
たドロップアウトも少なく良好であった。
【００３７】（実施例５）実施例１の方法において、水
抽出終了後に７０℃の熱風で３０秒間予熱する代わり
に、１００℃の熱風で１０秒間加熱する他は、実施例１
と同じ方法で本発明を実施した。得られたフィルムは実
施例１と同様、ドロップアウトも少なく良好であった。
抽出終了後に７０℃の熱風で３０秒間予熱する代わり
に、１００℃の熱風で１０秒間加熱する他は、実施例１
と同じ方法で本発明を実施した。得られたフィルムは実
施例１と同様、ドロップアウトも少なく良好であった。
【００３８】（比較例１）実施例１の方法において、一
次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリマ当たり２重量％添
加する代わりに、粒径４００ｎｍの球状シリカをポリマ
当たり１重量％添加する他は、実施例１と同じ方法で本
発明を実施した。実施例１に比べ、磁気テ−プにした際
の出力が低かった。
次粒径１６ｎｍの乾式シリカをポリマ当たり２重量％添
加する代わりに、粒径４００ｎｍの球状シリカをポリマ
当たり１重量％添加する他は、実施例１と同じ方法で本
発明を実施した。実施例１に比べ、磁気テ−プにした際
の出力が低かった。
【００３９】（比較例２）実施例１の方法において、水
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温９０℃の水
にて水抽出する他は、実施例３と同じ方法で本発明を実
施した。得られたフィルムは表面がユズ肌状であり、実
施例１と比べて磁気テ−プにした際の出力が低く、また
ドロップアウトが多かった。
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温９０℃の水
にて水抽出する他は、実施例３と同じ方法で本発明を実
施した。得られたフィルムは表面がユズ肌状であり、実
施例１と比べて磁気テ−プにした際の出力が低く、また
ドロップアウトが多かった。
【００４０】（比較例３）実施例１の方法において、水
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温９０℃の水
にて水抽出し、かつ水抽出終了後に７０℃で３０秒間の
予熱を実施しない他は、実施例１と同じ方法で本発明を
実施した。比較例２に比べてフィルムの表面がユズ肌状
が強く、実施例１と比べて磁気テ−プにした際の出力が
低く、またドロップアウトが多かった。
温６０℃の水にて水抽出する代わりに、水温９０℃の水
にて水抽出し、かつ水抽出終了後に７０℃で３０秒間の
予熱を実施しない他は、実施例１と同じ方法で本発明を
実施した。比較例２に比べてフィルムの表面がユズ肌状
が強く、実施例１と比べて磁気テ−プにした際の出力が
低く、またドロップアウトが多かった。
【００４１】（比較例４）実施例１の方法において、流
延の際に１８０℃の熱風で１分間加熱せず、かつ水温６
０℃の水にて水抽出する代わりに、水温８０℃の水にて
水抽出する他は、実施例３と同じ方法で本発明を実施し
た。比較例２よりも、表面のユズ肌状が強く、磁気テ−
プにした際の出力が低く、またドロップアウトが多かっ
た。
延の際に１８０℃の熱風で１分間加熱せず、かつ水温６
０℃の水にて水抽出する代わりに、水温８０℃の水にて
水抽出する他は、実施例３と同じ方法で本発明を実施し
た。比較例２よりも、表面のユズ肌状が強く、磁気テ−
プにした際の出力が低く、またドロップアウトが多かっ
た。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】本発明フィルムは、有機高分子からなる
表面平滑性および表面平坦性に優れた基材フィルムによ
り、高出力かつ低ドロップアウトである磁気テ−プ、特
に詳しくはデ−タストレ−ジ用途に適したフィルムを提
供する。
表面平滑性および表面平坦性に優れた基材フィルムによ
り、高出力かつ低ドロップアウトである磁気テ−プ、特
に詳しくはデ−タストレ−ジ用途に適したフィルムを提
供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 77:00 79:08
Claims (6)
- 【請求項１】有機高分子体からなるフィルムにおいて、
少なくとも片面の測定面積０．００２ｍｍ2 での３次元
表面粗さＳＲａI が１．０〜５０ｎｍの範囲であり、か
つＳＲａI と測定面積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さ
ＳＲａIIが下記式(1) を満足することを特徴とするフィ
ルム。 ０．８≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦２．５ (1) - 【請求項２】該フィルムの少なくとも一方向のヤング率
が９００ｋｇ／ｍｍ2 以上であることを特徴とする請求
項１に記載のフィルム。 - 【請求項３】該フィルムの少なくとも片面の、測定面積
０．００２ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａI と測定面
積１．０ｍｍ2 での３次元表面粗さＳＲａIIが下記式
(2) を満足することを特徴とする請求項１あるいは２に
記載のフィルム。 １．１≦ＳＲａII／ＳＲａI ≦１．８ (2) - 【請求項４】該フィルムが主として芳香族ポリアミドま
たは芳香族ポリイミドからなることを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載のフィルム。 - 【請求項５】該フィルムが磁気記録媒体用途であること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のフィル
ム。 - 【請求項６】該フィルムがデジタルデ−タストレ−ジ用
途であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記
載のフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23674295A JP3173348B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23674295A JP3173348B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0976359A true JPH0976359A (ja) | 1997-03-25 |
| JP3173348B2 JP3173348B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=17005124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23674295A Expired - Lifetime JP3173348B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3173348B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1120019A (ja) * | 1997-07-02 | 1999-01-26 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 耐熱性フィルム |
-
1995
- 1995-09-14 JP JP23674295A patent/JP3173348B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1120019A (ja) * | 1997-07-02 | 1999-01-26 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 耐熱性フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3173348B2 (ja) | 2001-06-04 |
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