JPH0978263A - Ｃｒエッチング装置 - Google Patents
Ｃｒエッチング装置Info
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- JPH0978263A JPH0978263A JP7233566A JP23356695A JPH0978263A JP H0978263 A JPH0978263 A JP H0978263A JP 7233566 A JP7233566 A JP 7233566A JP 23356695 A JP23356695 A JP 23356695A JP H0978263 A JPH0978263 A JP H0978263A
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- etching
- tank
- etched
- liquid
- inlet
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 Ｃｒエッチング液による析出物の被エッチン
グ材への悪影響を防止する。 【解決手段】 少なくともＣｒエッチング液が噴霧され
るエッチング槽２が備えられ、このエッチング槽２には
搬送されてくる被エッチング部材を内部に導く入口２０
が設けられているＣｒエッチング装置において、その内
壁面のうち少なくとも前記入口の重力方向と反対側の周
辺部分に流体を注ぐ手段が備えられている。
グ材への悪影響を防止する。 【解決手段】 少なくともＣｒエッチング液が噴霧され
るエッチング槽２が備えられ、このエッチング槽２には
搬送されてくる被エッチング部材を内部に導く入口２０
が設けられているＣｒエッチング装置において、その内
壁面のうち少なくとも前記入口の重力方向と反対側の周
辺部分に流体を注ぐ手段が備えられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｃｒエッチング装置に
係り、たとえば液晶表示装置の製造において用いられる
Ｃｒエッチング装置に関する。
係り、たとえば液晶表示装置の製造において用いられる
Ｃｒエッチング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置は、液晶を介して
互いに対向配置される透明基板を備え、該透明基板の表
面にマトリッスク状に形成された各画素における光透過
を独立に制御できるように構成されている。
互いに対向配置される透明基板を備え、該透明基板の表
面にマトリッスク状に形成された各画素における光透過
を独立に制御できるように構成されている。
【０００３】このため、各透明基板のうちの一方の透明
基板における液晶側の面には、信号線およびこの信号線
に接続された電極等が微細にかつ複雑に加工されたもの
となっている。
基板における液晶側の面には、信号線およびこの信号線
に接続された電極等が微細にかつ複雑に加工されたもの
となっている。
【０００４】そして、このような信号線あるいは電極と
してＣｒ（クロム）層を用いたものが知られ、他の金属
層と同様に、いわゆるフォトリソグラフィ技術を用いた
選択エッチング方法によって構成されるようになってい
る。
してＣｒ（クロム）層を用いたものが知られ、他の金属
層と同様に、いわゆるフォトリソグラフィ技術を用いた
選択エッチング方法によって構成されるようになってい
る。
【０００５】ここで、Ｃｒ層の選択エッチングするため
のＣｒエッチング装置は、他の金属層を選択エッチング
するためのエッチング装置と比ベて、エッチング液が異
なっている他はほぼ同様の構成となっている。また、Ｃ
ｒエッチング液としては、硝酸第２セリウムアンモニウ
ムを主としたものが用いられている。
のＣｒエッチング装置は、他の金属層を選択エッチング
するためのエッチング装置と比ベて、エッチング液が異
なっている他はほぼ同様の構成となっている。また、Ｃ
ｒエッチング液としては、硝酸第２セリウムアンモニウ
ムを主としたものが用いられている。
【０００６】すなわち、透明基板の主表面にＣｒ層が形
成され、さらにその表面にマスクとなるフォトレジスト
が形成されたもの（以下、被エッチング材と称す）の搬
送方向に、エッチング槽と水洗層（場合によっては複数
個備える）が並設され、該被エッチング材は、まず、エ
ッチング槽内で選択エッチングされ、その後、水洗内で
洗浄されるようになっている。
成され、さらにその表面にマスクとなるフォトレジスト
が形成されたもの（以下、被エッチング材と称す）の搬
送方向に、エッチング槽と水洗層（場合によっては複数
個備える）が並設され、該被エッチング材は、まず、エ
ッチング槽内で選択エッチングされ、その後、水洗内で
洗浄されるようになっている。
【０００７】そして、Ｃｒエッチング装置においては、
その長期使用によって、そのエッチングの内壁面にたと
えばシャーベット状の固形化した析出物が残留するよう
になる。この析出物は、噴霧されるＣｒエッチング液の
一部が該内壁面に付着し、乾燥する事によって発生す
る。
その長期使用によって、そのエッチングの内壁面にたと
えばシャーベット状の固形化した析出物が残留するよう
になる。この析出物は、噴霧されるＣｒエッチング液の
一部が該内壁面に付着し、乾燥する事によって発生す
る。
【０００８】また、エッチング槽や水洗槽に設けられた
タンクにも粉状の析出物が発生する。この析出物はＣｒ
エッチング液のｐＨが大きくなる事によって発生する事
が知られている。ｐＨの増大は水分の吸収や水洗槽で被
エッチング材に付着しているエッチング液を置換する時
に起こると考えられる。
タンクにも粉状の析出物が発生する。この析出物はＣｒ
エッチング液のｐＨが大きくなる事によって発生する事
が知られている。ｐＨの増大は水分の吸収や水洗槽で被
エッチング材に付着しているエッチング液を置換する時
に起こると考えられる。
【０００９】この様にＣｒエッチング液は２種類の析出
物を発生する。
物を発生する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな析出物が原因となって、液晶表示装置の製造におけ
る歩留まり低下や、部品使用量増大が指摘されるに至っ
た。
うな析出物が原因となって、液晶表示装置の製造におけ
る歩留まり低下や、部品使用量増大が指摘されるに至っ
た。
【００１１】そこで、この原因を究明した。エッチング
槽には、搬送される被エッチング材を内部に導く入口が
設けられており、この入口を被エッチング材が通過する
際に、エッチング槽の内壁面に析出された該シャーベッ
ト状析出物の一部が落下して該被エッチング材に付着し
てしまうことが確認された。上述のように、透明基板の
主表面には微細かつ複雑に信号線等が形成されているこ
とから、該析出物の落下が僅かであっても、断線の原
因、あるいはその後に形成する信号線等との電気的短絡
の原因になってしまっていた。
槽には、搬送される被エッチング材を内部に導く入口が
設けられており、この入口を被エッチング材が通過する
際に、エッチング槽の内壁面に析出された該シャーベッ
ト状析出物の一部が落下して該被エッチング材に付着し
てしまうことが確認された。上述のように、透明基板の
主表面には微細かつ複雑に信号線等が形成されているこ
とから、該析出物の落下が僅かであっても、断線の原
因、あるいはその後に形成する信号線等との電気的短絡
の原因になってしまっていた。
【００１２】また、エッチング液、純水が使用される直
前およびエッチング液、純水を溜めるタンクには、フィ
ルタが設けてある。
前およびエッチング液、純水を溜めるタンクには、フィ
ルタが設けてある。
【００１３】粉状析出物が発生することによって、これ
らのフィルタ詰まりを促進させ、フィルタ寿命が短くな
り使用量を増大させる原因になっていた。
らのフィルタ詰まりを促進させ、フィルタ寿命が短くな
り使用量を増大させる原因になっていた。
【００１４】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的は、Ｃｒエッチング液による
析出物への悪影響を防止したＣｒエッチング装置を提供
することにある。
れたものであり、その目的は、Ｃｒエッチング液による
析出物への悪影響を防止したＣｒエッチング装置を提供
することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００１６】すなわち、少なくともＣｒエッチング液が
噴霧されるエッチング槽が備えられ、このエッチング槽
には搬送されてくる被エッチング部材を内部に導く入口
が設けられているＣｒエッチング装置において、その内
壁面のうち少なくとも前記入口の重力方向と反対側の周
辺部分に流体を注ぐ手段が備えられていることを特徴と
するものである。
噴霧されるエッチング槽が備えられ、このエッチング槽
には搬送されてくる被エッチング部材を内部に導く入口
が設けられているＣｒエッチング装置において、その内
壁面のうち少なくとも前記入口の重力方向と反対側の周
辺部分に流体を注ぐ手段が備えられていることを特徴と
するものである。
【００１７】
【作用】このように構成されたＣｒエッチング装置は、
入口の上方の周辺部に流体が注がれる構成となっている
ことから、この部分においてＣｒエッチング液の析出物
が残留しにくくなる。
入口の上方の周辺部に流体が注がれる構成となっている
ことから、この部分においてＣｒエッチング液の析出物
が残留しにくくなる。
【００１８】このため、被エッチング材が該入口を通過
する際に、この被エッチング材にエッチング槽の内壁面
に析出された析出物の一部が落下してしまうようなこと
はなくなる。
する際に、この被エッチング材にエッチング槽の内壁面
に析出された析出物の一部が落下してしまうようなこと
はなくなる。
【００１９】したがって、Ｃｒエッチング液による析出
物の被エッチング材への悪影響を防止できるようにな
る。
物の被エッチング材への悪影響を防止できるようにな
る。
【００２０】この場合、流体としてＣｒエッチング液を
用いることによって、エッチング処理の際の噴霧時に、
すなわち定期的に該Ｃｒエッチング液が注がれるように
なることから、上述した効果は顕著になる。
用いることによって、エッチング処理の際の噴霧時に、
すなわち定期的に該Ｃｒエッチング液が注がれるように
なることから、上述した効果は顕著になる。
【００２１】
【実施例】図２は、本発明が適用されるＣｒエッチング
装置の一実施例の概略を示す構成図である。
装置の一実施例の概略を示す構成図である。
【００２２】同図において、被エッチング材が搬送され
る搬送路１があり、この搬送路１のの搬送方向に沿っ
て、順次、エッチング槽２、第１水洗槽３、第２水洗槽
４、第３水洗槽５が並設されている。
る搬送路１があり、この搬送路１のの搬送方向に沿っ
て、順次、エッチング槽２、第１水洗槽３、第２水洗槽
４、第３水洗槽５が並設されている。
【００２３】ここで、被エッチング材としては、この実
施例では、たとえば液晶を介して互いに対向配置される
透明基板のうちの一方の透明基板であって、その透明基
板の主表面に形成されたＣｒ層の表面に選択エッチング
のためのマスクが形成されているものを対象としてい
る。
施例では、たとえば液晶を介して互いに対向配置される
透明基板のうちの一方の透明基板であって、その透明基
板の主表面に形成されたＣｒ層の表面に選択エッチング
のためのマスクが形成されているものを対象としてい
る。
【００２４】エッチング槽２には、その上部にＣｒエッ
チング液を噴霧する複数のノズル６を備え、このノズル
６からのＣｒエッチング液は前記搬送路１上の被エッチ
ング材に噴霧されるようになっている。
チング液を噴霧する複数のノズル６を備え、このノズル
６からのＣｒエッチング液は前記搬送路１上の被エッチ
ング材に噴霧されるようになっている。
【００２５】ノズル６から噴霧されるＣｒエッチング液
は、エッチングタンク７からポンプ８、フィルタ９を介
して組み上げられるようになっており、さらに、エッチ
ング槽２においてエッチングに用いられたＣｒエッチン
グ液は前記エッチングタンク７に循環されるようになっ
ている。
は、エッチングタンク７からポンプ８、フィルタ９を介
して組み上げられるようになっており、さらに、エッチ
ング槽２においてエッチングに用いられたＣｒエッチン
グ液は前記エッチングタンク７に循環されるようになっ
ている。
【００２６】すなわち、エッチングに用いられたＣｒエ
ッチング液は、再利用されるようになっており、エッチ
ングタンク７それ自体にもポンプ１０、フィルタ１１を
介してＣｒエッチング液を循環させるようになってい
る。
ッチング液は、再利用されるようになっており、エッチ
ングタンク７それ自体にもポンプ１０、フィルタ１１を
介してＣｒエッチング液を循環させるようになってい
る。
【００２７】第１水洗槽３には、その上部に洗浄水を噴
霧する複数のノズル１２を備え、このノズル１２からの
洗浄水は前記搬送路１上の被エッチング材に噴霧される
ようになっている。
霧する複数のノズル１２を備え、このノズル１２からの
洗浄水は前記搬送路１上の被エッチング材に噴霧される
ようになっている。
【００２８】ノズル１２から噴霧される洗浄水は、洗浄
水タンク１３からポンプ１４、フィルタ１５を介して組
み上げられるようになっており、さらに、隣接する第２
水洗槽４において洗浄に用いられた洗浄水は前記洗浄水
タンク１３に循環されるようになっている。
水タンク１３からポンプ１４、フィルタ１５を介して組
み上げられるようになっており、さらに、隣接する第２
水洗槽４において洗浄に用いられた洗浄水は前記洗浄水
タンク１３に循環されるようになっている。
【００２９】すなわち、洗浄に用いられた洗浄水は、再
利用されるようになっており、洗浄水タンク１３それ自
体にもポンプ１６、フィルタ１７を介して洗浄水を循環
させるようになっている。
利用されるようになっており、洗浄水タンク１３それ自
体にもポンプ１６、フィルタ１７を介して洗浄水を循環
させるようになっている。
【００３０】そして、第２水洗槽４および第３水洗槽５
においても同様の構成となっている。
においても同様の構成となっている。
【００３１】ここで、搬送方向における最終段の洗浄水
タンク１３には、純粋な洗浄水が供給されており、これ
により、各洗浄水タンク１３は搬送方向と逆の方向に配
置されるに従って、その純粋性が低下されるようになっ
ている。これは、第１水洗槽４、第２水洗槽４、および
第３水洗槽５と順を追って水洗していく際に、その洗浄
水が純粋になって洗浄の効果を上げることにある。
タンク１３には、純粋な洗浄水が供給されており、これ
により、各洗浄水タンク１３は搬送方向と逆の方向に配
置されるに従って、その純粋性が低下されるようになっ
ている。これは、第１水洗槽４、第２水洗槽４、および
第３水洗槽５と順を追って水洗していく際に、その洗浄
水が純粋になって洗浄の効果を上げることにある。
【００３２】実施例１．図１は、エッチング槽２におい
て、搬送路１に沿って搬送されてくる被エッチング材の
入口２０の周辺（図２中、点線丸で示す）を示した詳細
図である。
て、搬送路１に沿って搬送されてくる被エッチング材の
入口２０の周辺（図２中、点線丸で示す）を示した詳細
図である。
【００３３】同図において、並設された複数のローラ１
Ａによって構成される搬送路１があり、この搬送路１が
貫通されるエッチング槽２の壁部２Ａにはシャッタ２Ｂ
を備えた入口２０が設けられている。すなわち、搬送路
１に沿って搬送されていくる被エッチング材３０がエッ
チング槽２内に搬送される際においてのみシャッタ２Ｂ
が自動的に開くようになって入口２０を通過できるよう
になっている。
Ａによって構成される搬送路１があり、この搬送路１が
貫通されるエッチング槽２の壁部２Ａにはシャッタ２Ｂ
を備えた入口２０が設けられている。すなわち、搬送路
１に沿って搬送されていくる被エッチング材３０がエッ
チング槽２内に搬送される際においてのみシャッタ２Ｂ
が自動的に開くようになって入口２０を通過できるよう
になっている。
【００３４】そして、入口２０の近傍における壁部２Ａ
のうち、該入口２０の上部における内壁面および外壁面
に流体を注ぐ流体抽出ノズル４０Ａ、４０Ｂが備えられ
ている。すなわち、この流体注出ノズル４０Ａ、４０Ｂ
からの注出流体によって、前記入口２０の特に上方の壁
面においてＣｒエッチング液の主成分が析出しまうのを
防止するようにしている。
のうち、該入口２０の上部における内壁面および外壁面
に流体を注ぐ流体抽出ノズル４０Ａ、４０Ｂが備えられ
ている。すなわち、この流体注出ノズル４０Ａ、４０Ｂ
からの注出流体によって、前記入口２０の特に上方の壁
面においてＣｒエッチング液の主成分が析出しまうのを
防止するようにしている。
【００３５】このように構成したＣｒエッチング装置
は、被エッチング材３０が該入口２０を通過する際に、
この被エッチング材３０にエッチング槽２の壁面に析出
された析出物の一部が落下してしまうようなことはなく
なる。
は、被エッチング材３０が該入口２０を通過する際に、
この被エッチング材３０にエッチング槽２の壁面に析出
された析出物の一部が落下してしまうようなことはなく
なる。
【００３６】したがって、Ｃｒエッチング液による析出
物の被エッチング材３０への悪影響を防止できるように
なる。
物の被エッチング材３０への悪影響を防止できるように
なる。
【００３７】なお、この実施例では、エッチング槽２の
外壁面にも流体注出ノズル４０Ｂを設けたものである
が、内壁面における流体注出ノズル４０Ａが備えられて
おれば、必ずしも設けなくてもよいことはいうまでもな
い。被エッチング材３０への悪影響は内壁面に析出さる
析出物によるところが大きいからである。
外壁面にも流体注出ノズル４０Ｂを設けたものである
が、内壁面における流体注出ノズル４０Ａが備えられて
おれば、必ずしも設けなくてもよいことはいうまでもな
い。被エッチング材３０への悪影響は内壁面に析出さる
析出物によるところが大きいからである。
【００３８】実施例２．図３は、図１に対応する図であ
る。図１と同符号のものは同一機能を有するようになっ
ている。
る。図１と同符号のものは同一機能を有するようになっ
ている。
【００３９】図１と異なる構成は、流体注出ノズル４０
Ａ’、４０Ｂ’として、ノズル６と同様の構成をとって
いるとともに、エッチングのためのＣｒエッチング液の
噴霧と同時に該流体注出ノズル４０Ａ’、４０Ｂ’から
Ｃｒエッチング液の噴霧を行っている。
Ａ’、４０Ｂ’として、ノズル６と同様の構成をとって
いるとともに、エッチングのためのＣｒエッチング液の
噴霧と同時に該流体注出ノズル４０Ａ’、４０Ｂ’から
Ｃｒエッチング液の噴霧を行っている。
【００４０】このようにした場合でも、実施例１と同様
の効果が得られるとともに、定期的に該Ｃｒエッチング
液が注がれるようになることから、上述した効果は顕著
になる。
の効果が得られるとともに、定期的に該Ｃｒエッチング
液が注がれるようになることから、上述した効果は顕著
になる。
【００４１】なお、この場合においても、エッチング槽
２の外壁面に設けられている流体注出ノズル４０Ｂ’は
なくてもよいことはいうまでもない。
２の外壁面に設けられている流体注出ノズル４０Ｂ’は
なくてもよいことはいうまでもない。
【００４２】実施例３．図４は、図１に対応する図であ
る。図１と同符号のものは同一機能を有するようになっ
ている。
る。図１と同符号のものは同一機能を有するようになっ
ている。
【００４３】図１と異なる構成は、流体注出ノズル４０
Ａ、４０Ｂを特に設けていない構成となっているが、流
体注出ノズル４０Ａ、４０Ｂを設けたのと同様な効果を
もたらすようになっている。
Ａ、４０Ｂを特に設けていない構成となっているが、流
体注出ノズル４０Ａ、４０Ｂを設けたのと同様な効果を
もたらすようになっている。
【００４４】すなわち、同図に示すように、エッチング
槽２の内壁面のうち入口２０の上方の周辺部分から延在
するカバー５０が備えられているとともに、ノズル６か
ら噴霧されるＣｒエッチング液の一部が該カバー５０に
沿って降下するように構成されている。
槽２の内壁面のうち入口２０の上方の周辺部分から延在
するカバー５０が備えられているとともに、ノズル６か
ら噴霧されるＣｒエッチング液の一部が該カバー５０に
沿って降下するように構成されている。
【００４５】このように構成した場合、搬送路１上に垂
下されるカバー５０の部分にはＣｒエッチング液が流れ
る個所となって析出物が析出せず、エッチング槽２の入
口２０は該カバー５０によって被われていることから、
析出物の析出がなされないことはいうまでもない。また
下側のカバー５０が無い場合でも効果が認められる。
下されるカバー５０の部分にはＣｒエッチング液が流れ
る個所となって析出物が析出せず、エッチング槽２の入
口２０は該カバー５０によって被われていることから、
析出物の析出がなされないことはいうまでもない。また
下側のカバー５０が無い場合でも効果が認められる。
【００４６】実施例４．図５は、図２に対応する図であ
り、図２と同符号のものは同一の機能を有するものとな
っている。なお、この実施例では、エッチング槽２の入
口２０において、実施例１ないし３のうちのいずれかの
構成が採用されている。
り、図２と同符号のものは同一の機能を有するものとな
っている。なお、この実施例では、エッチング槽２の入
口２０において、実施例１ないし３のうちのいずれかの
構成が採用されている。
【００４７】図２と異なる構成は、Ｃｒエッチング液タ
ンク７および洗浄水タンク１３にある。すなわち、Ｃｒ
エッチング液タンク７には、その中の蓄積流体を重力方
向およびその方向と反対側の方向へ蛇行させて移動させ
るための画壁６０が多段に設けられているようになって
いる。洗浄水タンク１３においても全く同様の構成にな
っている。
ンク７および洗浄水タンク１３にある。すなわち、Ｃｒ
エッチング液タンク７には、その中の蓄積流体を重力方
向およびその方向と反対側の方向へ蛇行させて移動させ
るための画壁６０が多段に設けられているようになって
いる。洗浄水タンク１３においても全く同様の構成にな
っている。
【００４８】このようにした場合、Ｃｒエッチング液タ
ンク７Ａの底部にたとえばＣｅ（ＯＨ）4等からなる物
質が沈殿し易くなり、Ｃｒエッチング液タンク７Ｂ、７
Ｃとなるに従ってほとんど該物質が含まれないようにな
る。このため、フィルタ９、１１の寿命を向上させる効
果を奏する。洗浄水タンク１３にもその洗浄水内にＣｅ
（ＯＨ）4等が含有されることになることから同様の効
果を奏する。
ンク７Ａの底部にたとえばＣｅ（ＯＨ）4等からなる物
質が沈殿し易くなり、Ｃｒエッチング液タンク７Ｂ、７
Ｃとなるに従ってほとんど該物質が含まれないようにな
る。このため、フィルタ９、１１の寿命を向上させる効
果を奏する。洗浄水タンク１３にもその洗浄水内にＣｅ
（ＯＨ）4等が含有されることになることから同様の効
果を奏する。
【００４９】なお、この実施例４では、エッチング槽２
の入口２０において、実施例１ないし３のうちのいずれ
かの構成が採用されたものとして説明したが、必ずしも
このように構成が採用されていなくてもよいことはいう
までもない。
の入口２０において、実施例１ないし３のうちのいずれ
かの構成が採用されたものとして説明したが、必ずしも
このように構成が採用されていなくてもよいことはいう
までもない。
【００５０】さらに、上述した各実施例では、被エッチ
ング材３０として、液晶を介して互いに対向配置される
透明基板のうちの一方の透明基板であって、その透明基
板の主表面に形成されたＣｒ層の表面に選択エッチング
のためのマスクが形成されているものを対象としたもの
である。しかし、必ずしもこのような部材に限定される
ことはないことはいうまでもない。電子部品の製造過程
における部材であってＣｒ層を微細に加工しなければな
らないものにも適用できるからである。
ング材３０として、液晶を介して互いに対向配置される
透明基板のうちの一方の透明基板であって、その透明基
板の主表面に形成されたＣｒ層の表面に選択エッチング
のためのマスクが形成されているものを対象としたもの
である。しかし、必ずしもこのような部材に限定される
ことはないことはいうまでもない。電子部品の製造過程
における部材であってＣｒ層を微細に加工しなければな
らないものにも適用できるからである。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によるＣｒエッチング装置によれば、Ｃｒエッチ
ング液による析出物の被エッチング材への悪影響を防止
できるようになる。
本発明によるＣｒエッチング装置によれば、Ｃｒエッチ
ング液による析出物の被エッチング材への悪影響を防止
できるようになる。
【図１】本発明によるＣｒエッチング装置の一実施例を
示す要部構成図である。
示す要部構成図である。
【図２】本発明が適用されるＣｒエッチング装置の一実
施例の概略構成図である。
施例の概略構成図である。
【図３】本発明によるＣｒエッチング装置の他の実施例
を示す要部構成図である。
を示す要部構成図である。
【図４】本発明によるＣｒエッチング装置の他の実施例
を示す要部構成図である。
を示す要部構成図である。
【図５】本発明によるＣｒエッチング装置の他の実施例
を示す要部構成図である。
を示す要部構成図である。
【符号の説明】 ２……エッチング槽、２Ａ……壁部、２０……入口、３
０……被エッチング材、４０Ａ、４０Ｂ……流体注出ノ
ズル。
０……被エッチング材、４０Ａ、４０Ｂ……流体注出ノ
ズル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 29/786 Ｈ０１Ｌ 29/78 ６１２Ｄ 21/336 (72)発明者 青木 晃 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 三間 稔之 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (5)
- 【請求項１】 少なくともＣｒエッチング液が噴霧され
るエッチング槽が備えられ、このエッチング槽には搬送
されてくる被エッチング部材を内部に導く入口が設けら
れているＣｒエッチング装置において、 その内壁面のうち少なくとも前記入口の重力方向と反対
側の周辺部分に流体を注ぐ手段が備えられていることを
特徴とするＣｒエッチング装置。 - 【請求項２】 前記流体はＣｒエッチング液であること
を特徴とする請求項１記載のＣｒエッチング装置。 - 【請求項３】 少なくともＣｒエッチング液が重力方向
に噴霧されるエッチング槽が備えられ、このエッチング
槽には搬送されてくる被エッチング部材を内部に導く入
口が設けられているＣｒエッチング装置において、 その内壁面のうち前記入口の重力方向と反対側の周辺部
分から延在するカバーが備えられているとともに、噴霧
される前記Ｃｒエッチング液の一部が該カバーに沿って
降下するように構成されていることを特徴とするＣｒエ
ッチング装置。 - 【請求項４】 被エッチング部材の搬送方向に、Ｃｒエ
ッチング液が噴霧されるエッチング槽および少なくとも
一つの水洗槽が並設され、かつ、それぞれのエッチング
槽および水洗槽からのＣｒエッチング液および水をそれ
ぞれ蓄え、フィルタを介してＣｒエッチング槽および水
洗槽へそれぞれ循環させるタンクを備えるＣｒエッチン
グ装置において、 前記タンクには、蓄積流体を重力方向およびその方向と
反対側の方向へ蛇行させて移動させるための画壁が備え
られていることを特徴とするＣｒエッチング装置。 - 【請求項５】 被エッチング部材は、液晶表示装置の液
晶を介して互いに対向配置される透明基板のうちの一方
の透明基板であって、その透明基板の主表面に形成され
たＣｒ層の表面に選択エッチングのためのマスクが形成
されていることを特徴とする請求項１ないし４記載のう
ちいずれか記載のＣｒエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7233566A JPH0978263A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | Ｃｒエッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7233566A JPH0978263A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | Ｃｒエッチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0978263A true JPH0978263A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=16957086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7233566A Pending JPH0978263A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | Ｃｒエッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0978263A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006223994A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2023041453A (ja) * | 2021-09-13 | 2023-03-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 供給タンク、供給装置、供給システム |
| CN117316839A (zh) * | 2023-12-01 | 2023-12-29 | 凯亚姆系统科技(苏州)有限公司 | 一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法 |
-
1995
- 1995-09-12 JP JP7233566A patent/JPH0978263A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006223994A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2023041453A (ja) * | 2021-09-13 | 2023-03-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 供給タンク、供給装置、供給システム |
| CN117316839A (zh) * | 2023-12-01 | 2023-12-29 | 凯亚姆系统科技(苏州)有限公司 | 一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法 |
| CN117316839B (zh) * | 2023-12-01 | 2024-02-13 | 凯亚姆系统科技(苏州)有限公司 | 一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法 |
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