JPH0983288A - 表面弾性波素子 - Google Patents
表面弾性波素子Info
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- JPH0983288A JPH0983288A JP23989895A JP23989895A JPH0983288A JP H0983288 A JPH0983288 A JP H0983288A JP 23989895 A JP23989895 A JP 23989895A JP 23989895 A JP23989895 A JP 23989895A JP H0983288 A JPH0983288 A JP H0983288A
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- semiconductor thin
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- linear pattern
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Abstract
(57)【要約】
【課題】製作工程中および回路基板状に装着された表面
弾性波素子の電極間で放電することを防止した表面弾性
波素子を提供する。 【解決手段】パッド電極部22と櫛形電極部21とが圧
電基板1上に形成した表面弾性波素子において、櫛形電
極部21の表面と櫛形電極部21を構成する線状パター
ン電極21A、21B、21C、21Dのそれぞれ隣接
する電極間の表面とを含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31を形成した。
弾性波素子の電極間で放電することを防止した表面弾性
波素子を提供する。 【解決手段】パッド電極部22と櫛形電極部21とが圧
電基板1上に形成した表面弾性波素子において、櫛形電
極部21の表面と櫛形電極部21を構成する線状パター
ン電極21A、21B、21C、21Dのそれぞれ隣接
する電極間の表面とを含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31を形成した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば通信機用の
フィルタ回路や共振回路として使用するのに適した表面
弾性波素子に関する。
フィルタ回路や共振回路として使用するのに適した表面
弾性波素子に関する。
【0002】
【従来の技術】圧電体に電圧を印加して生じる表面弾性
波を利用する素子として表面弾性波素子が知られてい
る。
波を利用する素子として表面弾性波素子が知られてい
る。
【0003】図6(a)は、従来の表面弾性波素子の外
観模式図であり、図6(b)は、圧電性を有する、例え
ば64°Y−X LiNbO3 からなる圧電基板1の表
面に形成した電極パターンの模式図である。
観模式図であり、図6(b)は、圧電性を有する、例え
ば64°Y−X LiNbO3 からなる圧電基板1の表
面に形成した電極パターンの模式図である。
【0004】電極パターンは櫛形電極部21とパッド電
極部22とから構成される。櫛形電極部21はそれぞれ
規則的に配列された数百本の線状パターン電極21A、
21B、21Cおよび21Dから構成され、各々は図6
(a)に示すように線状パターン電極21Aと線状パタ
ーン電極21Bとは1本おきに順次配置され、線状パタ
ーン電極21Cと線状パターン電極21Dとは1本おき
に順次配置される。
極部22とから構成される。櫛形電極部21はそれぞれ
規則的に配列された数百本の線状パターン電極21A、
21B、21Cおよび21Dから構成され、各々は図6
(a)に示すように線状パターン電極21Aと線状パタ
ーン電極21Bとは1本おきに順次配置され、線状パタ
ーン電極21Cと線状パターン電極21Dとは1本おき
に順次配置される。
【0005】パッド電極部22は、櫛形電極部21と外
部回路とを接続するためのパターン部であり、パッド電
極22A、22B、22Cおよび22Dから構成され、
パッド電極22Aは線状パターン電極21Aと電気的に
接続され、パッド電極22Bは線状パターン電極21B
と電気的に接続され、パッド電極22Cは線状パターン
電極21Cと電気的に接続され、パッド電極22Dは線
状パターン電極21Dと電気的に接続されている。
部回路とを接続するためのパターン部であり、パッド電
極22A、22B、22Cおよび22Dから構成され、
パッド電極22Aは線状パターン電極21Aと電気的に
接続され、パッド電極22Bは線状パターン電極21B
と電気的に接続され、パッド電極22Cは線状パターン
電極21Cと電気的に接続され、パッド電極22Dは線
状パターン電極21Dと電気的に接続されている。
【0006】図6(c)は、櫛形電極部21のA−A′
断面図であり、圧電基板1の表面上に櫛形電極部21が
形成されている。櫛形電極部21は、通常、アルミニウ
ム金属薄膜であり、その膜厚は50nm〜300nm、
電極幅(W)および電極ピッチ(L)は、それぞれ0.
5μm〜10μmの範囲である。
断面図であり、圧電基板1の表面上に櫛形電極部21が
形成されている。櫛形電極部21は、通常、アルミニウ
ム金属薄膜であり、その膜厚は50nm〜300nm、
電極幅(W)および電極ピッチ(L)は、それぞれ0.
5μm〜10μmの範囲である。
【0007】この表面弾性波素子の櫛形電極部(入力電
極部)の一対間(例えば、線状パターン電極21Aと線
状パターン電極21B)に高周波信号を入力すると、電
極ピッチ(L)に対応した周期で圧電基板1の表面に機
械的歪みが生じる。この機械的歪みは表面波として圧電
基板1の表面を伝わり、もう一方の櫛形電極部の対、す
なわち、本例では線状パターン電極21Cと線状パター
ン電極21D(出力電極)に到達する。出力電極ではこ
の機械的歪みにより起電力が生じ、電気信号として検出
される。このとき、入力電極および出力電極の電極ピッ
チ(L)に対応しない信号の成分は多数の線状パターン
電極21A〜21Dで互いに打ち消され、信号として検
知されない。
極部)の一対間(例えば、線状パターン電極21Aと線
状パターン電極21B)に高周波信号を入力すると、電
極ピッチ(L)に対応した周期で圧電基板1の表面に機
械的歪みが生じる。この機械的歪みは表面波として圧電
基板1の表面を伝わり、もう一方の櫛形電極部の対、す
なわち、本例では線状パターン電極21Cと線状パター
ン電極21D(出力電極)に到達する。出力電極ではこ
の機械的歪みにより起電力が生じ、電気信号として検出
される。このとき、入力電極および出力電極の電極ピッ
チ(L)に対応しない信号の成分は多数の線状パターン
電極21A〜21Dで互いに打ち消され、信号として検
知されない。
【0008】表面弾性波素子を部品として完成させるに
は、表面弾性波素子をパッケージに接着固定し、パッド
電極部22とパッケージの外部接続端子とを接続し、そ
のパッケージをカバーで封着して完成品とする。
は、表面弾性波素子をパッケージに接着固定し、パッド
電極部22とパッケージの外部接続端子とを接続し、そ
のパッケージをカバーで封着して完成品とする。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、表面弾性波素
子の製作作業工程中に、圧電基板は機械的応力や加熱、
冷却工程で温度変化を受ける。これらの機械的応力や温
度変化により、圧電基板の表面には電荷が蓄積され帯電
する。この帯電により櫛形電極部を構成する線状パター
ン電極間の電圧が大きくなり櫛形電極部を構成する線状
パターン電極間で放電が発生する場合がある。
子の製作作業工程中に、圧電基板は機械的応力や加熱、
冷却工程で温度変化を受ける。これらの機械的応力や温
度変化により、圧電基板の表面には電荷が蓄積され帯電
する。この帯電により櫛形電極部を構成する線状パター
ン電極間の電圧が大きくなり櫛形電極部を構成する線状
パターン電極間で放電が発生する場合がある。
【0010】また、表面弾性波素子が回路基板に搭載さ
れている場合でも、外部回路から電圧が印加されること
により線状パターン電極間で放電が生じる場合がある。
れている場合でも、外部回路から電圧が印加されること
により線状パターン電極間で放電が生じる場合がある。
【0011】これらの線状パターン電極間の放電は局部
的に発生するため、約0.5μm〜10μm幅の線状パ
ターン電極は放電電流によるジュール熱で破損し、表面
弾性波素子の所用の特性が損なわれるという問題があっ
た。
的に発生するため、約0.5μm〜10μm幅の線状パ
ターン電極は放電電流によるジュール熱で破損し、表面
弾性波素子の所用の特性が損なわれるという問題があっ
た。
【0012】本発明は、従来の表面弾性波素子が有する
上記不具合を解決するためになされたもので、表面弾性
波素子の製作工程中および表面弾性波素子が回路基板に
搭載されているときに発生する電極間の放電による破損
を防ぐことのできる表面弾性波素子を提供することを目
的とする。
上記不具合を解決するためになされたもので、表面弾性
波素子の製作工程中および表面弾性波素子が回路基板に
搭載されているときに発生する電極間の放電による破損
を防ぐことのできる表面弾性波素子を提供することを目
的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明に係る表面弾性波
素子は、圧電基板上に形成した金属電極部表面と該金属
電極部表面間の圧電基板表面とを含む圧電基板表面に半
導体薄膜を形成したことを特徴とする。
素子は、圧電基板上に形成した金属電極部表面と該金属
電極部表面間の圧電基板表面とを含む圧電基板表面に半
導体薄膜を形成したことを特徴とする。
【0014】一般的に、半導体材料と金属との接触によ
ってショットキー接合が形成され、ダイオード特性を呈
する。その接触界面の直流電圧−電流特性は、直線的で
はなく図5に破線で示すような非線形特性、いわゆる整
流特性となる。さらに、金属側に正電圧(順方向)に印
加した場合、通電開始電圧は低下し、V1≒0.4Vで
電流は急激に流れ出し、負電圧を印加した場合(逆方
向)はV3≒10〜20Vで電流は急激に流れ出す特性
を示す。
ってショットキー接合が形成され、ダイオード特性を呈
する。その接触界面の直流電圧−電流特性は、直線的で
はなく図5に破線で示すような非線形特性、いわゆる整
流特性となる。さらに、金属側に正電圧(順方向)に印
加した場合、通電開始電圧は低下し、V1≒0.4Vで
電流は急激に流れ出し、負電圧を印加した場合(逆方
向)はV3≒10〜20Vで電流は急激に流れ出す特性
を示す。
【0015】また、(金属/半導体/金属)の3層構
造、例えば、アルミニウム/シリコン(半導体)/アル
ミニウムの構成とした場合、両端の金属(アルミニウ
ム)間の電流特性は図5に示す実線の特性となる。すな
わち、順方向、逆方向の電圧を加えた場合はともに約1
0〜20Vの電圧(V2,V3)で急激に電流が流れ
る。
造、例えば、アルミニウム/シリコン(半導体)/アル
ミニウムの構成とした場合、両端の金属(アルミニウ
ム)間の電流特性は図5に示す実線の特性となる。すな
わち、順方向、逆方向の電圧を加えた場合はともに約1
0〜20Vの電圧(V2,V3)で急激に電流が流れ
る。
【0016】圧電基板上の電極部を含む圧電基板表面に
半導体薄膜を形成した構造とした場合、櫛形電極部を構
成する隣接各電極間で、前記の(金属/半導体/金属)
という3層構造が形成される。このため、櫛形電極部を
構成する隣接各電極間の電流特性は、前述したように、
図5に実線で示す特性となる。
半導体薄膜を形成した構造とした場合、櫛形電極部を構
成する隣接各電極間で、前記の(金属/半導体/金属)
という3層構造が形成される。このため、櫛形電極部を
構成する隣接各電極間の電流特性は、前述したように、
図5に実線で示す特性となる。
【0017】このような特性を有するため、表面弾性波
素子で使用される最大数ボルトの信号電圧が櫛形電極部
間に印加されても、半導体薄膜は高抵抗膜として機能す
るのみであり、表面弾性波素子の特性を損なうことはな
い。
素子で使用される最大数ボルトの信号電圧が櫛形電極部
間に印加されても、半導体薄膜は高抵抗膜として機能す
るのみであり、表面弾性波素子の特性を損なうことはな
い。
【0018】一方、櫛形電極部を構成する隣接各電極間
に、放電が発生する約50V以上に電圧が上昇する場
合、電極表面に形成した半導体材料を介して放電開始電
圧より低い電圧で電流が流れ始め、放電電圧に達しな
い。
に、放電が発生する約50V以上に電圧が上昇する場
合、電極表面に形成した半導体材料を介して放電開始電
圧より低い電圧で電流が流れ始め、放電電圧に達しな
い。
【0019】すなわち、本発明に用いた半導体薄膜の効
果は、信号電圧に対しては高抵抗、一方、放電発生する
ような高電圧に対しては低抵抗という機能を有する。
果は、信号電圧に対しては高抵抗、一方、放電発生する
ような高電圧に対しては低抵抗という機能を有する。
【0020】この結果、櫛形電極部を構成するそれぞれ
の隣接する電極間の電圧は放電が発生する電圧以下とな
り、放電は生ぜず電極の損傷を受けない。
の隣接する電極間の電圧は放電が発生する電圧以下とな
り、放電は生ぜず電極の損傷を受けない。
【0021】また、本発明に係る表面弾性波素子は、金
属電極部は櫛形電極部であることを特徴とする。このよ
うにした場合においても櫛形電極部と半導体薄膜とによ
ってショットキー接合が形成され、櫛形電極部を構成す
る隣接各電極間における電圧は放電が発生する電圧以下
に抑制されることになって、放電は生じない。
属電極部は櫛形電極部であることを特徴とする。このよ
うにした場合においても櫛形電極部と半導体薄膜とによ
ってショットキー接合が形成され、櫛形電極部を構成す
る隣接各電極間における電圧は放電が発生する電圧以下
に抑制されることになって、放電は生じない。
【0022】また、本発明に係る表面弾性波素子は、金
属電極部はパッド電極部であることを特徴とする。この
ようにした場合においてもパッド電極部と半導体薄膜と
によってショットキー接合が形成され、櫛形電極部はパ
ッド電極部と電気的に接続されているために、櫛形電極
部を構成する隣接各電極間における電圧は放電が発生す
る電圧以下に抑制されることになって、放電は生じな
い。
属電極部はパッド電極部であることを特徴とする。この
ようにした場合においてもパッド電極部と半導体薄膜と
によってショットキー接合が形成され、櫛形電極部はパ
ッド電極部と電気的に接続されているために、櫛形電極
部を構成する隣接各電極間における電圧は放電が発生す
る電圧以下に抑制されることになって、放電は生じな
い。
【0023】さらにまた、本発明に係る表面弾性波素子
は、圧電基板表面にループを形成する半導体薄膜と、該
半導体薄膜を挟んで圧電基板上に形成したパッド電極部
を有する金属電極部とを備えたことを特徴とする。半導
体薄膜を圧電基板とパッド電極部間に設けても同様に、
櫛形電極部はパッド電極部と電気的に接続されているた
めに、櫛形電極部を構成する隣接各電極間における電圧
は放電が発生する電圧以下に抑制されることになって、
放電は生じない。
は、圧電基板表面にループを形成する半導体薄膜と、該
半導体薄膜を挟んで圧電基板上に形成したパッド電極部
を有する金属電極部とを備えたことを特徴とする。半導
体薄膜を圧電基板とパッド電極部間に設けても同様に、
櫛形電極部はパッド電極部と電気的に接続されているた
めに、櫛形電極部を構成する隣接各電極間における電圧
は放電が発生する電圧以下に抑制されることになって、
放電は生じない。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明に係る表面弾性波素子の実
施の第1形態について説明する。
施の第1形態について説明する。
【0025】本実施の第1形態を図1に模式的に示す。
図1(a)は外観図、図1(b)は基板表面パターン
図、図1(c)は本形態に係る表面弾性波素子のB−
B′断面図である。
図1(a)は外観図、図1(b)は基板表面パターン
図、図1(c)は本形態に係る表面弾性波素子のB−
B′断面図である。
【0026】圧電基板1上のパッド電極部22を除き、
線状パターン電極21A、21B、21Cおよび21D
からなる櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導
体薄膜31が形成されている。
線状パターン電極21A、21B、21Cおよび21D
からなる櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導
体薄膜31が形成されている。
【0027】線状パターン電極21A〜21Dおよびパ
ッド電極22A〜22Dは、従来技術として知られるフ
ォトリソグラフィー法を用い、エッチング法、若しくは
リフトオフ法で形成する。
ッド電極22A〜22Dは、従来技術として知られるフ
ォトリソグラフィー法を用い、エッチング法、若しくは
リフトオフ法で形成する。
【0028】半導体薄膜31は、シラン(SiH4 )を
用いたCVD(化学的気相堆積)法、プラズマCVD
(プラズマを用いた化学気相堆積)法、スパッタ法など
により形成できることが知られている。
用いたCVD(化学的気相堆積)法、プラズマCVD
(プラズマを用いた化学気相堆積)法、スパッタ法など
により形成できることが知られている。
【0029】この半導体薄膜31は、パッド電極部22
を除き、線状パターン電極21A〜21D上にのみ約5
0nmの厚みで形成する。この場合においても、従来技
術のフォトリソグラフィー法を用いることで、半導体薄
膜31の形成部を限定することができる。
を除き、線状パターン電極21A〜21D上にのみ約5
0nmの厚みで形成する。この場合においても、従来技
術のフォトリソグラフィー法を用いることで、半導体薄
膜31の形成部を限定することができる。
【0030】このように形成することにより、対向する
櫛形電極部21を構成する線状パターン電極21A〜2
1Dは、半導体薄膜31を介して接続した構成となり、
線状パターン電極21A〜21D間の電気的特性は図5
に実線で示す特性となる。この結果、線状パターン電極
21A〜21Dを構成するそれぞれの隣接する電極間に
おいて信号電圧に対して半導体薄膜31は実質的に高抵
抗を呈して信号電圧によっては放電せず、放電を発生す
るような高電圧に対しては半導体薄膜31は実質的に低
抵抗を呈して放電が発生する電圧以下に低下することに
なり、櫛形電極部21を構成する線状パターン電極21
A〜21Dの隣接する各電極間の放電は防止できる。
櫛形電極部21を構成する線状パターン電極21A〜2
1Dは、半導体薄膜31を介して接続した構成となり、
線状パターン電極21A〜21D間の電気的特性は図5
に実線で示す特性となる。この結果、線状パターン電極
21A〜21Dを構成するそれぞれの隣接する電極間に
おいて信号電圧に対して半導体薄膜31は実質的に高抵
抗を呈して信号電圧によっては放電せず、放電を発生す
るような高電圧に対しては半導体薄膜31は実質的に低
抵抗を呈して放電が発生する電圧以下に低下することに
なり、櫛形電極部21を構成する線状パターン電極21
A〜21Dの隣接する各電極間の放電は防止できる。
【0031】次に、本発明の実施の第2形態について説
明する。
明する。
【0032】本実施の第2形態を図2に模式的に示す。
図2(a)は外観図、図2(b)は基板表面パターン
図、図2(c)は本形態に係る表面弾性波素子のC−
C′断面図である。
図2(a)は外観図、図2(b)は基板表面パターン
図、図2(c)は本形態に係る表面弾性波素子のC−
C′断面図である。
【0033】本実施の第2形態の場合には、櫛形電極部
21の対向するパッド電極22Aとパッド電極22B間
を電気的に接続するように半導体薄膜32を形成する。
櫛形電極部21上には半導体薄膜32を形成しない。こ
の実施の形態においても、対向する櫛形電極部21を構
成する線状パターン電極21A〜21Dの隣接する各電
極間の電気的特性は、図5に実線で示す特性となるの
で、本発明の実施の第1形態と同等の効果が得られる。
21の対向するパッド電極22Aとパッド電極22B間
を電気的に接続するように半導体薄膜32を形成する。
櫛形電極部21上には半導体薄膜32を形成しない。こ
の実施の形態においても、対向する櫛形電極部21を構
成する線状パターン電極21A〜21Dの隣接する各電
極間の電気的特性は、図5に実線で示す特性となるの
で、本発明の実施の第1形態と同等の効果が得られる。
【0034】すなわち、第2形態においても半導体薄膜
32の存在によって櫛形電極部21を構成する線状パタ
ーン電極21Aと線状パターン電極21Bを構成するそ
れぞれの隣接する各電極間の電圧は放電電圧にまで上昇
せず、線状パターン電極21Aと線状パターン電極21
Bとの隣接する各電極間で放電することは防止される。
なお、線状パターン電極21Cと線状パターン電極21
Dとを構成するそれぞれの隣接する各電極間の場合も同
様である。
32の存在によって櫛形電極部21を構成する線状パタ
ーン電極21Aと線状パターン電極21Bを構成するそ
れぞれの隣接する各電極間の電圧は放電電圧にまで上昇
せず、線状パターン電極21Aと線状パターン電極21
Bとの隣接する各電極間で放電することは防止される。
なお、線状パターン電極21Cと線状パターン電極21
Dとを構成するそれぞれの隣接する各電極間の場合も同
様である。
【0035】さらに本発明の実施の第3形態について説
明する。
明する。
【0036】本実施の第3形態を図3に模式的に示す。
図3(a)は基板表面パターン図、図3(b)は本形態
に係る表面弾性波素子のD−D′断面図である。
図3(a)は基板表面パターン図、図3(b)は本形態
に係る表面弾性波素子のD−D′断面図である。
【0037】本実施の第3形態では、第2実施の形態と
比較し、パッド電極部22と半導体薄膜32Bの形成位
置が異なる。本形態では、半導体薄膜32Bは圧電基板
1の表面に閉ループを構成するように形成し、半導体薄
膜32Bを挟んで圧電基板1上にパッド電極22A、2
2B、22Cおよび22Dを形成し、かつ線状パターン
電極21A、21B、21Cおよび21Dを形成して、
表面弾性波素子を形成する。したがって、本形態の表面
弾性波素子は半導体薄膜32Bが形成された圧電基板1
上に半導体薄膜32Bにてパッド電極22A、22B、
22Cおよび22Dを電気的に接続した状態となる。
比較し、パッド電極部22と半導体薄膜32Bの形成位
置が異なる。本形態では、半導体薄膜32Bは圧電基板
1の表面に閉ループを構成するように形成し、半導体薄
膜32Bを挟んで圧電基板1上にパッド電極22A、2
2B、22Cおよび22Dを形成し、かつ線状パターン
電極21A、21B、21Cおよび21Dを形成して、
表面弾性波素子を形成する。したがって、本形態の表面
弾性波素子は半導体薄膜32Bが形成された圧電基板1
上に半導体薄膜32Bにてパッド電極22A、22B、
22Cおよび22Dを電気的に接続した状態となる。
【0038】このように形成した結果、第3形態におい
ても半導体薄膜32Bの存在によって櫛形電極部21を
構成する線状パターン電極21Aと線状パターン電極2
1Bを構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放
電電圧にまで上昇せず、同様に線状パターン電極21C
と線状パターン電極21Dを構成するそれぞれの隣接す
る各電極間の電圧は放電電圧にまで上昇せず、隣接する
各電極間で放電することは防止される。
ても半導体薄膜32Bの存在によって櫛形電極部21を
構成する線状パターン電極21Aと線状パターン電極2
1Bを構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放
電電圧にまで上昇せず、同様に線状パターン電極21C
と線状パターン電極21Dを構成するそれぞれの隣接す
る各電極間の電圧は放電電圧にまで上昇せず、隣接する
各電極間で放電することは防止される。
【0039】次に、本発明に係る表面弾性波素子の実施
の第4形態について説明する。
の第4形態について説明する。
【0040】図4は本発明に係る表面弾性波素子の実施
の第4形態を示す模式図であって、図4(a)は表面パ
ターン図を、図4(b)は本形態に係る表面弾性波素子
のE−E′断面図を示す。
の第4形態を示す模式図であって、図4(a)は表面パ
ターン図を、図4(b)は本形態に係る表面弾性波素子
のE−E′断面図を示す。
【0041】本第4形態の表面弾性波素子においては、
前記第3形態の場合と同様に、半導体薄膜32Bは圧電
基板1の表面に閉ループを構成するように形成し、半導
体薄膜32Bが形成された圧電基板1の表面に櫛形電極
部21を形成し、半導体薄膜32Bおよび櫛形電極部2
1が形成された圧電基板1の表面に半導体薄膜32Bを
挟んで圧電基板1上にパッド電極部22を形成し、パッ
ド電極部22と櫛形電極部21とはパッド電極部22に
形成した接続部40にて電気的に接続してある。さら
に、櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31が形成される。
前記第3形態の場合と同様に、半導体薄膜32Bは圧電
基板1の表面に閉ループを構成するように形成し、半導
体薄膜32Bが形成された圧電基板1の表面に櫛形電極
部21を形成し、半導体薄膜32Bおよび櫛形電極部2
1が形成された圧電基板1の表面に半導体薄膜32Bを
挟んで圧電基板1上にパッド電極部22を形成し、パッ
ド電極部22と櫛形電極部21とはパッド電極部22に
形成した接続部40にて電気的に接続してある。さら
に、櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31が形成される。
【0042】本第4形態の表面弾性波素子では、圧電基
板1上に半導体薄膜32Bと櫛形電極部21とを形成
し、半導体薄膜32Bの一部と圧電基板1の一部との上
に接続部40を有するパッド電極部22を形成するとと
もに櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31を形成する。
板1上に半導体薄膜32Bと櫛形電極部21とを形成
し、半導体薄膜32Bの一部と圧電基板1の一部との上
に接続部40を有するパッド電極部22を形成するとと
もに櫛形電極部21を含む圧電基板1の表面に半導体薄
膜31を形成する。
【0043】したがって、本第4形態は、第1形態と第
3形態とを併せて形成した場合と略同様であって、この
場合においても半導体薄膜31および32Bの存在によ
って線状パターン電極21Aと線状パターン電極21B
とを構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放電
電圧まで上昇せず、線状パターン電極21Cと21Dと
を構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放電電
圧まで上昇せず、隣接する各電極間で放電することは防
止される。
3形態とを併せて形成した場合と略同様であって、この
場合においても半導体薄膜31および32Bの存在によ
って線状パターン電極21Aと線状パターン電極21B
とを構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放電
電圧まで上昇せず、線状パターン電極21Cと21Dと
を構成するそれぞれの隣接する各電極間の電圧は放電電
圧まで上昇せず、隣接する各電極間で放電することは防
止される。
【0044】実施の各形態では電極材料としてアルミニ
ウムを用いたが、金(Au)、銅(Cu)、銅を含有す
るアルミニウム合金、シリコンを含有するアルミニウム
合金、さらにはチタン、モリブデン、タングステンなど
の高融点金属を用いてもよく、それらの積層構造として
も本発明の目的とする効果が得られる。
ウムを用いたが、金(Au)、銅(Cu)、銅を含有す
るアルミニウム合金、シリコンを含有するアルミニウム
合金、さらにはチタン、モリブデン、タングステンなど
の高融点金属を用いてもよく、それらの積層構造として
も本発明の目的とする効果が得られる。
【0045】また、半導体薄膜としては、シリコン半導
体薄膜またはゲルマニウム半導体薄膜を用いることがで
きる。
体薄膜またはゲルマニウム半導体薄膜を用いることがで
きる。
【0046】
【発明の効果】本発明の表面弾性波素子により、電極間
放電が防止でき、本発明の表面弾性波素子を用いて信頼
性の高い表面弾性波フィルタや共振回路を実現すること
ができる。
放電が防止でき、本発明の表面弾性波素子を用いて信頼
性の高い表面弾性波フィルタや共振回路を実現すること
ができる。
【図1】本発明に係る表面弾性波素子の第1の形態を示
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第1形態の外観図、(b)は、本発明に係
る表面弾性波素子の実施の第1形態の表面パターン図、
(c)は、本発明に係る表面弾性波素子の実施の第1形
態の一部断面図である。
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第1形態の外観図、(b)は、本発明に係
る表面弾性波素子の実施の第1形態の表面パターン図、
(c)は、本発明に係る表面弾性波素子の実施の第1形
態の一部断面図である。
【図2】本発明に係る表面弾性波素子の第2の形態を示
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第2形態の外観図、(b)は、本発明に係
る表面弾性波素子の実施の第2形態の表面パターン図、
(c)は、本発明に係る表面弾性波素子の実施の第2形
態の一部断面図である。
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第2形態の外観図、(b)は、本発明に係
る表面弾性波素子の実施の第2形態の表面パターン図、
(c)は、本発明に係る表面弾性波素子の実施の第2形
態の一部断面図である。
【図3】本発明に係る表面弾性波素子の第3の形態を示
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第3形態の表面パターン図、(b)は、本
発明に係る表面弾性波素子の実施の第3形態の一部断面
図である。
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第3形態の表面パターン図、(b)は、本
発明に係る表面弾性波素子の実施の第3形態の一部断面
図である。
【図4】本発明に係る表面弾性波素子の第4の形態を示
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第4形態の表面パターン図、(b)は、本
発明に係る表面弾性波素子の実施の第4形態の一部断面
図である。
す模式図であって、(a)は、本発明に係る表面弾性波
素子の実施の第4形態の表面パターン図、(b)は、本
発明に係る表面弾性波素子の実施の第4形態の一部断面
図である。
【図5】破線は半導体と金属電極間の電圧(V)−電流
(I)特性を示す図、実線は本発明に係る表面弾性波素
子の実施の形態における電極間の電圧(V)−電流
(I)特性を示す図である。
(I)特性を示す図、実線は本発明に係る表面弾性波素
子の実施の形態における電極間の電圧(V)−電流
(I)特性を示す図である。
【図6】従来の表面弾性波素子を示す模式図であって、
(a)は、従来の表面弾性波素子の電極構造を示す図、
(b)は、従来の表面弾性波素子の表面パターン図、
(c)は、従来の表面弾性波素子の一部断面図である。
(a)は、従来の表面弾性波素子の電極構造を示す図、
(b)は、従来の表面弾性波素子の表面パターン図、
(c)は、従来の表面弾性波素子の一部断面図である。
1…圧電基板 21…櫛形電極
部 21A〜21D…線状パターン電極 22…パッド電
極部 22A〜22D…パッド電極 31、32、3
2B…半導体薄膜
部 21A〜21D…線状パターン電極 22…パッド電
極部 22A〜22D…パッド電極 31、32、3
2B…半導体薄膜
Claims (4)
- 【請求項1】表面弾性波素子において、圧電基板上に形
成した金属電極部表面と該金属電極部表面間の圧電基板
表面とを含む圧電基板表面に半導体薄膜を形成したこと
を特徴とする表面弾性波素子。 - 【請求項2】金属電極部は櫛形電極部であることを特徴
とする請求項1記載の表面弾性波素子。 - 【請求項3】金属電極部はパッド電極部であることを特
徴とする請求項1記載の表面弾性波素子。 - 【請求項4】表面弾性波素子において、圧電基板表面に
ループを形成する半導体薄膜と、該半導体薄膜を挟んで
圧電基板上に形成したパッド電極部を有する金属電極部
とを備えたことを特徴とする表面弾性波素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23989895A JPH0983288A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 表面弾性波素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23989895A JPH0983288A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 表面弾性波素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0983288A true JPH0983288A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17051505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23989895A Pending JPH0983288A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 表面弾性波素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0983288A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6580198B2 (en) | 1999-11-30 | 2003-06-17 | Tdk Corporation | Surface acoustic wave device having a thin metal oxide film fully covering at least the electrodes and method of fabricating same |
| EP1206036A3 (en) * | 2000-11-09 | 2008-10-22 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Surface acoustic wave filter and surface acoustic wave filter apparatus |
-
1995
- 1995-09-19 JP JP23989895A patent/JPH0983288A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6580198B2 (en) | 1999-11-30 | 2003-06-17 | Tdk Corporation | Surface acoustic wave device having a thin metal oxide film fully covering at least the electrodes and method of fabricating same |
| EP1206036A3 (en) * | 2000-11-09 | 2008-10-22 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Surface acoustic wave filter and surface acoustic wave filter apparatus |
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