JPH0989866A - 液管理装置 - Google Patents
液管理装置Info
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- JPH0989866A JPH0989866A JP7240021A JP24002195A JPH0989866A JP H0989866 A JPH0989866 A JP H0989866A JP 7240021 A JP7240021 A JP 7240021A JP 24002195 A JP24002195 A JP 24002195A JP H0989866 A JPH0989866 A JP H0989866A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸素センサの検出部に水分が付着することを
防止して、正確な成分分析を行うことが可能な液管理装
置の提供を目的とする。 【解決手段】 酸素センサ６の検出部６Ａに向けて乾燥
ガスを吹き付ける乾燥ガス供給手段２０を設ける。
防止して、正確な成分分析を行うことが可能な液管理装
置の提供を目的とする。 【解決手段】 酸素センサ６の検出部６Ａに向けて乾燥
ガスを吹き付ける乾燥ガス供給手段２０を設ける。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、過酸化水素、オゾ
ンなどの酸素を発生させる成分を測定する液管理装置に
関する。
ンなどの酸素を発生させる成分を測定する液管理装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体等の洗浄液を管理する液管
理装置として、例えば特願平４−２７２０６８号に示さ
れるものが知られている。この液管理装置は、過酸化水
素、オゾン等の酸素を発生させる成分が含まれる洗浄液
を加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された洗
浄液中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、
該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する
抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の
酸素濃度を検出する酸素センサと、該酸素センサにて検
出された酸素濃度に基づき、洗浄液中の成分濃度を演算
する演算手段とを具備するものである。
理装置として、例えば特願平４−２７２０６８号に示さ
れるものが知られている。この液管理装置は、過酸化水
素、オゾン等の酸素を発生させる成分が含まれる洗浄液
を加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された洗
浄液中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、
該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する
抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の
酸素濃度を検出する酸素センサと、該酸素センサにて検
出された酸素濃度に基づき、洗浄液中の成分濃度を演算
する演算手段とを具備するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な液管理装置では、抽出手段において、抽出ガスを供給
することにより洗浄液中の酸素ガスを該洗浄液から気液
分離するようにしているが、このとき洗浄液は先に通過
した加熱手段において加熱された状態にあり、これによ
って該洗浄液から多量の水蒸気が発生して、発生した水
蒸気が抽出手段にて除去されずに酸素センサの検出部に
まで至り、該検出部にて凝縮するという現象が生じる。
そして、このような現象が生じた場合には、酸素センサ
の検出部に付着した水分によって、該酸素センサからの
出力信号にドリフトが生じ、正確な成分分析ができなく
なるという不具合が発生する。
な液管理装置では、抽出手段において、抽出ガスを供給
することにより洗浄液中の酸素ガスを該洗浄液から気液
分離するようにしているが、このとき洗浄液は先に通過
した加熱手段において加熱された状態にあり、これによ
って該洗浄液から多量の水蒸気が発生して、発生した水
蒸気が抽出手段にて除去されずに酸素センサの検出部に
まで至り、該検出部にて凝縮するという現象が生じる。
そして、このような現象が生じた場合には、酸素センサ
の検出部に付着した水分によって、該酸素センサからの
出力信号にドリフトが生じ、正確な成分分析ができなく
なるという不具合が発生する。
【０００４】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、酸素センサの検出部に水分が付着するこ
とを防止して、正確な成分分析を行うことが可能な液管
理装置の提供を目的とする。
ものであって、酸素センサの検出部に水分が付着するこ
とを防止して、正確な成分分析を行うことが可能な液管
理装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第１の発明では、酸素を発生させる成分が含まれた溶
液を加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された
溶液中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、
該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する
抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の
酸素濃度を検出する酸素センサとを有し、該酸素センサ
にて検出された酸素濃度に基づき、溶液中の成分濃度を
演算するようにした液管理装置であって、酸素センサの
検出部に向けて乾燥ガスを吹き付ける乾燥ガス供給手段
が設けられていることを特徴とする。
に第１の発明では、酸素を発生させる成分が含まれた溶
液を加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された
溶液中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、
該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する
抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の
酸素濃度を検出する酸素センサとを有し、該酸素センサ
にて検出された酸素濃度に基づき、溶液中の成分濃度を
演算するようにした液管理装置であって、酸素センサの
検出部に向けて乾燥ガスを吹き付ける乾燥ガス供給手段
が設けられていることを特徴とする。
【０００６】第２の発明では、酸素を発生させる成分が
含まれた溶液を加熱する加熱手段と、該加熱手段により
加熱された溶液中の成分を分解して酸素を発生させる分
解手段と、該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスによ
り抽出する抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽
出ガス中の酸素濃度を検出する酸素センサとを有し、該
酸素センサにて検出された酸素濃度に基づき、溶液中の
成分濃度を演算するようにした液管理装置であって、前
記分解手段と酸素センサとの間に、該分解手段を経由し
た洗浄液を冷却する冷却手段が設けられていることを特
徴とする。
含まれた溶液を加熱する加熱手段と、該加熱手段により
加熱された溶液中の成分を分解して酸素を発生させる分
解手段と、該分解手段にて発生した酸素を抽出ガスによ
り抽出する抽出手段と、該抽出手段により抽出された抽
出ガス中の酸素濃度を検出する酸素センサとを有し、該
酸素センサにて検出された酸素濃度に基づき、溶液中の
成分濃度を演算するようにした液管理装置であって、前
記分解手段と酸素センサとの間に、該分解手段を経由し
た洗浄液を冷却する冷却手段が設けられていることを特
徴とする。
【０００７】そして、以上のように構成された液管理装
置では次のような作用を奏する。すなわち、第１の発明
に示される液管理装置では、乾燥ガス供給手段によって
酸素センサの検出部に乾燥ガスを吹き付けるようにして
いるので、この乾燥ガスによって酸素センサの検出部に
水分が付着することを防止することができ、正確な成分
分析を行うことができる。
置では次のような作用を奏する。すなわち、第１の発明
に示される液管理装置では、乾燥ガス供給手段によって
酸素センサの検出部に乾燥ガスを吹き付けるようにして
いるので、この乾燥ガスによって酸素センサの検出部に
水分が付着することを防止することができ、正確な成分
分析を行うことができる。
【０００８】第２の発明に示される液管理装置では、冷
却手段によって分解手段を経由した溶液を冷却すること
ができるので、該溶液から水蒸気が発生することが防止
され、かつ水蒸気を原因とした酸素センサの結露を防止
することができ、その結果、該酸素センサによって正確
な成分分析を行うことができる。
却手段によって分解手段を経由した溶液を冷却すること
ができるので、該溶液から水蒸気が発生することが防止
され、かつ水蒸気を原因とした酸素センサの結露を防止
することができ、その結果、該酸素センサによって正確
な成分分析を行うことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明として実施の形態を
図１及び図２に基づいて説明する。図１において符号１
で示すものはポンプであって、このポンプ１によって、
過酸化水素、オゾン等の酸素を発生させる成分が含有さ
れた洗浄液が、洗浄液供給路Ａを通じて下流側の加熱分
解手段２に常時一定流量で供給される。なお、洗浄液と
しては、ＨＣｌ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏ からなる酸性の半導体
用洗浄液、又は、ＮＨ4ＯＨ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏからなるア
ルカリ性の半導体用洗浄液（酸素を発生させる成分はい
ずれも過酸化水素）などが使用される。
図１及び図２に基づいて説明する。図１において符号１
で示すものはポンプであって、このポンプ１によって、
過酸化水素、オゾン等の酸素を発生させる成分が含有さ
れた洗浄液が、洗浄液供給路Ａを通じて下流側の加熱分
解手段２に常時一定流量で供給される。なお、洗浄液と
しては、ＨＣｌ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏ からなる酸性の半導体
用洗浄液、又は、ＮＨ4ＯＨ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏからなるア
ルカリ性の半導体用洗浄液（酸素を発生させる成分はい
ずれも過酸化水素）などが使用される。
【００１０】加熱分解手段２は、洗浄液を一時貯留する
容器２Ａと、該容器２Ａにおいて洗浄液を加熱するホッ
トチューブ（図示略）と、該容器２Ａに充填されて、過
酸化水素、オゾン等を分解して酸素ガスを発生させる固
体触媒２Ｂとから構成される。なお、固体触媒２Ｂとし
ては、水処理及びオゾン分解用等に用いられる活性炭や
白金系の固体触媒が使用される。また、この固体触媒２
Ｂの形状は、球状、ペレット状、ハニカム状、コイル状
などいずれのものを用いても良い。そして、この加熱分
解手段２においては、ホットチューブにより洗浄液が加
熱された状態で、該洗浄液中の過酸化水素、オゾン等の
成分が固体触媒２Ｂにより分解されて、酸素が生成され
る。そして、この加熱分解手段２にて生成された酸素
は、前記洗浄液とともに更に下流に位置する反応セル３
に供給される。なお、本実施の形態では、加熱分解手段
２内において洗浄液を加熱し、かつ洗浄液中の成分を分
解するようにしたが、これに限定されず、この加熱分解
手段２を、洗浄液を加熱する加熱手段と、洗浄液中の成
分を分解する分解手段とに分け、かつ分解手段の上流側
に加熱手段を位置させるようにしても良い。
容器２Ａと、該容器２Ａにおいて洗浄液を加熱するホッ
トチューブ（図示略）と、該容器２Ａに充填されて、過
酸化水素、オゾン等を分解して酸素ガスを発生させる固
体触媒２Ｂとから構成される。なお、固体触媒２Ｂとし
ては、水処理及びオゾン分解用等に用いられる活性炭や
白金系の固体触媒が使用される。また、この固体触媒２
Ｂの形状は、球状、ペレット状、ハニカム状、コイル状
などいずれのものを用いても良い。そして、この加熱分
解手段２においては、ホットチューブにより洗浄液が加
熱された状態で、該洗浄液中の過酸化水素、オゾン等の
成分が固体触媒２Ｂにより分解されて、酸素が生成され
る。そして、この加熱分解手段２にて生成された酸素
は、前記洗浄液とともに更に下流に位置する反応セル３
に供給される。なお、本実施の形態では、加熱分解手段
２内において洗浄液を加熱し、かつ洗浄液中の成分を分
解するようにしたが、これに限定されず、この加熱分解
手段２を、洗浄液を加熱する加熱手段と、洗浄液中の成
分を分解する分解手段とに分け、かつ分解手段の上流側
に加熱手段を位置させるようにしても良い。
【００１１】一方、加熱分解手段２の上流側に位置する
洗浄液供給路Ａには、加熱分解手段２に抽出ガスを供給
するための抽出ガス供給管４が設けられている。そし
て、この抽出ガス供給管４から供給された抽出ガスは、
酸素及び洗浄液とともに反応セル３に供給され、この反
応セル３内において、酸素を洗浄液から分離した後、該
酸素とともに反応セル３の上部に設けられた配管３Ａに
送られる。一方、酸素ガスが抽出された後の洗浄液はド
レンとして、該反応セル３の下部に設けられた配管３Ｂ
から機外へ排出される。
洗浄液供給路Ａには、加熱分解手段２に抽出ガスを供給
するための抽出ガス供給管４が設けられている。そし
て、この抽出ガス供給管４から供給された抽出ガスは、
酸素及び洗浄液とともに反応セル３に供給され、この反
応セル３内において、酸素を洗浄液から分離した後、該
酸素とともに反応セル３の上部に設けられた配管３Ａに
送られる。一方、酸素ガスが抽出された後の洗浄液はド
レンとして、該反応セル３の下部に設けられた配管３Ｂ
から機外へ排出される。
【００１２】また、反応セル３において気液分離された
後の酸素ガスは配管３Ａを経由してバッファタンク５に
案内されるようになっている。このバッファタンク５
は、反応セル３から供給された酸素ガスを一定量貯留し
て、該酸素ガス中に残留する水分を除去し、かつ該酸素
ガスの濃度を均一化するためのものであって、このバッ
ファタンク５を経由した酸素ガスは、配管５Ａに送ら
れ、更に該配管５Ａの途中に設けられた酸素センサ６に
より酸素濃度が測定されるようになっている。なお、こ
の酸素センサ６はその検出部６Ａが配管５Ａ内に臨むよ
うに配置されている。
後の酸素ガスは配管３Ａを経由してバッファタンク５に
案内されるようになっている。このバッファタンク５
は、反応セル３から供給された酸素ガスを一定量貯留し
て、該酸素ガス中に残留する水分を除去し、かつ該酸素
ガスの濃度を均一化するためのものであって、このバッ
ファタンク５を経由した酸素ガスは、配管５Ａに送ら
れ、更に該配管５Ａの途中に設けられた酸素センサ６に
より酸素濃度が測定されるようになっている。なお、こ
の酸素センサ６はその検出部６Ａが配管５Ａ内に臨むよ
うに配置されている。
【００１３】また、酸素センサ６にて検出された酸素濃
度を示す検出データは制御手段Ｂに供給され、この制御
手段Ｂにおいて、酸素センサ６から供給された酸素濃度
と、洗浄液供給路Ａを通じて供給される洗浄液の流量
（一定）、抽出ガス供給管４を通じて供給される抽出ガ
スの流量（一定）とに基づき、洗浄液中に含有される過
酸化水素、オゾン等の濃度を演算する。また、バッファ
タンク５の下部には配管５Ｂが設けられており、この配
管５Ｂを経由して、バッファタンク５内で除去された酸
素ガス及び抽出ガス中の水分が外部に排出されるように
なっている。
度を示す検出データは制御手段Ｂに供給され、この制御
手段Ｂにおいて、酸素センサ６から供給された酸素濃度
と、洗浄液供給路Ａを通じて供給される洗浄液の流量
（一定）、抽出ガス供給管４を通じて供給される抽出ガ
スの流量（一定）とに基づき、洗浄液中に含有される過
酸化水素、オゾン等の濃度を演算する。また、バッファ
タンク５の下部には配管５Ｂが設けられており、この配
管５Ｂを経由して、バッファタンク５内で除去された酸
素ガス及び抽出ガス中の水分が外部に排出されるように
なっている。
【００１４】また、前記ポンプ１の上流側には、洗浄液
に含まれる塩酸の濃度を測定するためのＨＣｌセンサ７
が設けられており、このＨＣｌセンサ７で検出された塩
酸濃度を示す検出データは、酸素センサ６と制御手段Ｂ
に供給され、該制御手段Ｂにおいて、洗浄液中の塩酸濃
度が演算されるようになっている。このＨＣｌセンサ７
は、洗浄液がＨＣｌ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏ からなる酸性の半
導体用洗浄液である場合に使用されるものであるが、洗
浄液にＨ2ＳＯ4が含まれる場合にはＨ2ＳＯ4センサ等を
用いるようにし、また、洗浄液がＮＨ4ＯＨ-Ｈ2Ｏ2-Ｈ2
Ｏからなるアルカリ性の半導体用洗浄液である場合に
は、ＮＨ4ＯＨ センサを用いる。すなわち、洗浄液の成
分に応じてＨＣｌセンサ７を適宜変更すると良い。ま
た、図２において、符号８で示すものは洗浄液供給路Ａ
による洗浄液の供給を遮断するための電磁弁、符号９で
示すものは、抽出ガス供給管４による抽出ガスの供給を
遮断するための電磁弁である。また、符号１０で示すも
のは、抽出ガスの流量を検出するための流量計であり、
符号１１〜１３で示すものは、洗浄液、抽出ガスがそれ
ぞれ逆流することを防止する逆止弁である。
に含まれる塩酸の濃度を測定するためのＨＣｌセンサ７
が設けられており、このＨＣｌセンサ７で検出された塩
酸濃度を示す検出データは、酸素センサ６と制御手段Ｂ
に供給され、該制御手段Ｂにおいて、洗浄液中の塩酸濃
度が演算されるようになっている。このＨＣｌセンサ７
は、洗浄液がＨＣｌ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ2Ｏ からなる酸性の半
導体用洗浄液である場合に使用されるものであるが、洗
浄液にＨ2ＳＯ4が含まれる場合にはＨ2ＳＯ4センサ等を
用いるようにし、また、洗浄液がＮＨ4ＯＨ-Ｈ2Ｏ2-Ｈ2
Ｏからなるアルカリ性の半導体用洗浄液である場合に
は、ＮＨ4ＯＨ センサを用いる。すなわち、洗浄液の成
分に応じてＨＣｌセンサ７を適宜変更すると良い。ま
た、図２において、符号８で示すものは洗浄液供給路Ａ
による洗浄液の供給を遮断するための電磁弁、符号９で
示すものは、抽出ガス供給管４による抽出ガスの供給を
遮断するための電磁弁である。また、符号１０で示すも
のは、抽出ガスの流量を検出するための流量計であり、
符号１１〜１３で示すものは、洗浄液、抽出ガスがそれ
ぞれ逆流することを防止する逆止弁である。
【００１５】一方、酸素センサ６には乾燥ガスを供給す
る乾燥ガス供給手段２０が設けられている。この乾燥ガ
ス供給手段２０は、窒素ガス等の乾燥ガスを貯留するガ
スボンベ２１と、ガスボンベ２１に通じる乾燥ガス供給
管２２と、乾燥ガス供給管２２の先端部に設けられてガ
スボンベ２１から供給された乾燥ガスを酸素センサ６の
検出部６Ａに吹き付けるためのノズル２３と、乾燥ガス
供給管２２の途中に設けられて該乾燥ガス供給管２２の
管路を開閉するための開閉電磁弁２４とから構成されて
いるものであって、該開閉電磁弁２４の開閉は、制御手
段Ｂから供給される制御信号に基づき行われる。
る乾燥ガス供給手段２０が設けられている。この乾燥ガ
ス供給手段２０は、窒素ガス等の乾燥ガスを貯留するガ
スボンベ２１と、ガスボンベ２１に通じる乾燥ガス供給
管２２と、乾燥ガス供給管２２の先端部に設けられてガ
スボンベ２１から供給された乾燥ガスを酸素センサ６の
検出部６Ａに吹き付けるためのノズル２３と、乾燥ガス
供給管２２の途中に設けられて該乾燥ガス供給管２２の
管路を開閉するための開閉電磁弁２４とから構成されて
いるものであって、該開閉電磁弁２４の開閉は、制御手
段Ｂから供給される制御信号に基づき行われる。
【００１６】そして、以上のように構成された液管理装
置では、ポンプ１を駆動することにより、例えば過酸化
水素、オゾン等を成分として含有する洗浄液が、洗浄液
供給路Ａを通じて加熱分解手段２内に導かれ、更にこの
加熱分解手段２内において、洗浄液が加熱されて、充填
された触媒２Ｂにより該洗浄液中の過酸化水素、オゾン
等が酸素と水とに分解される。また、この加熱分解手段
２において得られた酸素ガスは、反応セル３及びバッフ
ァタンク５において洗浄液から気液分離された後、酸素
センサ６によりその濃度が測定され、更に制御手段Ｂに
おいて、酸素センサ６において測定された酸素濃度に基
づき、洗浄液中に含有されていた過酸化水素、オゾン等
の割合（％濃度）が検出される。また、制御手段Ｂから
出力された制御信号に基づき、開閉電磁弁２４が「開」
の状態となったとき、ガスボンベ２１内に充填された乾
燥ガスが乾燥ガス供給管２２、ノズル２３を通じて酸素
センサ６の検出部６Ａに吹き付けられ、これによって例
えば酸素センサ６の検出部６Ａへの水分の付着が防止さ
れるとともに、仮に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分
が付着していたとしても、該水分が乾燥ガスによって除
去されることになる。
置では、ポンプ１を駆動することにより、例えば過酸化
水素、オゾン等を成分として含有する洗浄液が、洗浄液
供給路Ａを通じて加熱分解手段２内に導かれ、更にこの
加熱分解手段２内において、洗浄液が加熱されて、充填
された触媒２Ｂにより該洗浄液中の過酸化水素、オゾン
等が酸素と水とに分解される。また、この加熱分解手段
２において得られた酸素ガスは、反応セル３及びバッフ
ァタンク５において洗浄液から気液分離された後、酸素
センサ６によりその濃度が測定され、更に制御手段Ｂに
おいて、酸素センサ６において測定された酸素濃度に基
づき、洗浄液中に含有されていた過酸化水素、オゾン等
の割合（％濃度）が検出される。また、制御手段Ｂから
出力された制御信号に基づき、開閉電磁弁２４が「開」
の状態となったとき、ガスボンベ２１内に充填された乾
燥ガスが乾燥ガス供給管２２、ノズル２３を通じて酸素
センサ６の検出部６Ａに吹き付けられ、これによって例
えば酸素センサ６の検出部６Ａへの水分の付着が防止さ
れるとともに、仮に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分
が付着していたとしても、該水分が乾燥ガスによって除
去されることになる。
【００１７】次に、制御手段Ｂの制御内容を図２に示す
フローチャートを参照して詳細に説明する。なお、図２
のフローチャートは、酸素センサ６から出力される検出
データに基づき、開閉電磁弁２４を開閉制御する際の制
御内容を示すものである。また、以下のフローチャート
のスタート時においては開閉電磁弁２４は閉状態にある
ものとする。 《ステップ１》電源をＯＮしたときの酸素センサ６の電
圧値Ｏ1 を初期値として記憶した後、次のステップ２に
進む。そして、電源がＯＮされている場合には、洗浄液
供給路Ａを通じて被測定液である洗浄液が装置内に取り
込まれて、該洗浄液中の成分濃度が分析されることにな
る。 《ステップ２》タイマｔ1 による時間計測をスタートさ
せた後、次のステップ３に進む。
フローチャートを参照して詳細に説明する。なお、図２
のフローチャートは、酸素センサ６から出力される検出
データに基づき、開閉電磁弁２４を開閉制御する際の制
御内容を示すものである。また、以下のフローチャート
のスタート時においては開閉電磁弁２４は閉状態にある
ものとする。 《ステップ１》電源をＯＮしたときの酸素センサ６の電
圧値Ｏ1 を初期値として記憶した後、次のステップ２に
進む。そして、電源がＯＮされている場合には、洗浄液
供給路Ａを通じて被測定液である洗浄液が装置内に取り
込まれて、該洗浄液中の成分濃度が分析されることにな
る。 《ステップ２》タイマｔ1 による時間計測をスタートさ
せた後、次のステップ３に進む。
【００１８】《ステップ３》タイマｔ1 による計測時間
が設定時間である１時間を越えた場合に、酸素センサ６
の電圧値Ｏ2 が、該酸素センサ６の検出部６Ａに水分が
付着したことを示す「電圧値Ｏ1＋４０mＶ」以上を示し
ているか否かを判断し、ＮＯの場合にステップ４に進
み、また、ＹＥＳの場合にステップ５に進む。なお、こ
のステップ３において、酸素センサ６の電圧値が、１時
間前の酸素センサ６の電圧値と比較して４０ｍＶ以上ド
リフトした場合に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分が
付着したと判断するが、このような電圧変化の要因とし
ては洗浄液中の成分濃度が変化することも考えられる。
しかしながら、洗浄液中の成分濃度の変化は、該ステッ
プ３で設定した設定時間と比較してかなり遅く、従っ
て、本ステップ３では、酸素センサ６の電圧値が、１時
間前の酸素センサ６の電圧値と比較して４０ｍＶ以上変
化した場合に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分が付着
したことを原因とするドリフトとみなして、以下のステ
ップ５以下の処理を行う。また、ステップ３で設定され
ている設定時間（１時間）、電圧変動値（４０ｍＶ）は
一例であって、適宜変更して良いことはいうまでも無
い。
が設定時間である１時間を越えた場合に、酸素センサ６
の電圧値Ｏ2 が、該酸素センサ６の検出部６Ａに水分が
付着したことを示す「電圧値Ｏ1＋４０mＶ」以上を示し
ているか否かを判断し、ＮＯの場合にステップ４に進
み、また、ＹＥＳの場合にステップ５に進む。なお、こ
のステップ３において、酸素センサ６の電圧値が、１時
間前の酸素センサ６の電圧値と比較して４０ｍＶ以上ド
リフトした場合に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分が
付着したと判断するが、このような電圧変化の要因とし
ては洗浄液中の成分濃度が変化することも考えられる。
しかしながら、洗浄液中の成分濃度の変化は、該ステッ
プ３で設定した設定時間と比較してかなり遅く、従っ
て、本ステップ３では、酸素センサ６の電圧値が、１時
間前の酸素センサ６の電圧値と比較して４０ｍＶ以上変
化した場合に、酸素センサ６の検出部６Ａに水分が付着
したことを原因とするドリフトとみなして、以下のステ
ップ５以下の処理を行う。また、ステップ３で設定され
ている設定時間（１時間）、電圧変動値（４０ｍＶ）は
一例であって、適宜変更して良いことはいうまでも無
い。
【００１９】《ステップ４》ステップ２でスタートさせ
たタイマｔ1 をリセットした後、先のステップ１に戻
る。そして、ステップ４を経てステップ１に戻った場合
には、該ステップ１において再度、酸素センサ６の電圧
値Ｏ1 を取り込んで初期値として記憶し直すようにす
る。
たタイマｔ1 をリセットした後、先のステップ１に戻
る。そして、ステップ４を経てステップ１に戻った場合
には、該ステップ１において再度、酸素センサ６の電圧
値Ｏ1 を取り込んで初期値として記憶し直すようにす
る。
【００２０】《ステップ５》ステップ２でスタートさせ
たタイマｔ1 をリセットし、かつポンプ１を停止させた
後、次のステップ６に進む。 《ステップ６》タイマｔ2 による時間計測をスタートさ
せた後、次のステップ７に進む。 《ステップ７》開閉電磁弁２４を開とする制御信号を出
力して、ガスボンベ２１内に充填された乾燥ガスを乾燥
ガス供給管２２、ノズル２３を通じて酸素センサ６の検
出部６Ａに吹き付け、この乾燥ガスによって、酸素セン
サ６の検出部６Ａに付着されている水分を除去して乾燥
させる。
たタイマｔ1 をリセットし、かつポンプ１を停止させた
後、次のステップ６に進む。 《ステップ６》タイマｔ2 による時間計測をスタートさ
せた後、次のステップ７に進む。 《ステップ７》開閉電磁弁２４を開とする制御信号を出
力して、ガスボンベ２１内に充填された乾燥ガスを乾燥
ガス供給管２２、ノズル２３を通じて酸素センサ６の検
出部６Ａに吹き付け、この乾燥ガスによって、酸素セン
サ６の検出部６Ａに付着されている水分を除去して乾燥
させる。
【００２１】《ステップ８》タイマｔ2 による時間計測
が１分以上となったか否かを判断する、すなわち、ステ
ップ７にて開始した酸素センサ６の検出部６Ａに対する
乾燥ガスの吹き付けが１分以上継続して行われたか否か
を判断し、ＮＯの場合に先のステップ７に戻り、ＹＥＳ
の場合に次のステップ９に進む。なお、このステップ８
で設定した設定時間（１分）は一例であって自由に変更
できるものとする。 《ステップ９》開閉電磁弁２４を閉とする制御信号を出
力して、酸素センサ６の検出部６Ａに対する乾燥ガスの
吹き付けを停止するとともに、ステップ６にて計測を開
始したタイマｔ2 をリセットした後、次のステップ１０
に進む。
が１分以上となったか否かを判断する、すなわち、ステ
ップ７にて開始した酸素センサ６の検出部６Ａに対する
乾燥ガスの吹き付けが１分以上継続して行われたか否か
を判断し、ＮＯの場合に先のステップ７に戻り、ＹＥＳ
の場合に次のステップ９に進む。なお、このステップ８
で設定した設定時間（１分）は一例であって自由に変更
できるものとする。 《ステップ９》開閉電磁弁２４を閉とする制御信号を出
力して、酸素センサ６の検出部６Ａに対する乾燥ガスの
吹き付けを停止するとともに、ステップ６にて計測を開
始したタイマｔ2 をリセットした後、次のステップ１０
に進む。
【００２２】《ステップ１０》タイマｔ3 による時間計
測をスタートさせた後、次のステップ１１に進む。 《ステップ１１》タイマｔ3 による計測時間が、酸素セ
ンサ６の出力が安定するまでの時間（５分）を計測した
か否かを判断し、ＹＥＳの場合に次のステップ１２に進
む。なお、このステップ１１で設定した設定時間（５
分）は一例であって自由に変更できるものとする。 《ステップ１２》ステップ１０でスタートさせたタイマ
ｔ3 をリセットし、かつポンプ１を起動して洗浄液の分
析を開始した後、次のステップ１に進む。そして、ステ
ップ１２を経てステップ１に戻った場合には、該ステッ
プ１において再度、酸素センサ６の電圧値Ｏ1 を取り込
んで初期値として記憶し直すようにする。
測をスタートさせた後、次のステップ１１に進む。 《ステップ１１》タイマｔ3 による計測時間が、酸素セ
ンサ６の出力が安定するまでの時間（５分）を計測した
か否かを判断し、ＹＥＳの場合に次のステップ１２に進
む。なお、このステップ１１で設定した設定時間（５
分）は一例であって自由に変更できるものとする。 《ステップ１２》ステップ１０でスタートさせたタイマ
ｔ3 をリセットし、かつポンプ１を起動して洗浄液の分
析を開始した後、次のステップ１に進む。そして、ステ
ップ１２を経てステップ１に戻った場合には、該ステッ
プ１において再度、酸素センサ６の電圧値Ｏ1 を取り込
んで初期値として記憶し直すようにする。
【００２３】以上詳細に説明したように本実施の形態に
示される液管理装置では、酸素センサ６の検出部６Ａに
水分が付着したことが検出された場合に（ステップ３の
ＹＥＳ）、乾燥ガス供給手段２０によって酸素センサ６
の検出部６Ａに乾燥ガスを供給するようにしているので
（ステップ７）、この乾燥ガスの吹き付けによって、酸
素センサ６の検出部６Ａに水分が付着することを防止す
ることができ、正確な成分分析を行うことが可能とな
る。なお、上記実施の形態では、ステップ６、ステップ
８において乾燥ガスの吹き付け時間が１分となった場合
に、ステップ９に進んで乾燥ガスの吹き付けを停止させ
るようにしたが、このような処理に代えて、ステップ８
において、酸素センサ６の電圧値Ｏ2 が、該酸素センサ
６の検出部６Ａに水分が付着したか否かの判断基準とな
る「電圧値Ｏ1＋４０mＶ」未満となったか否かを判断
し、ＹＥＳの場合に次のステップ９にて乾燥ガスの吹き
付けを停止させ、また、ＮＯの場合にステップ７での乾
燥ガスの吹き付けを続行させるようにしても良い。そし
て、このような処理を行うことによって、乾燥ガスを過
不足無く酸素センサ６に対して供給することができ、該
酸素センサ６を乾燥させる作業を効率良く行うことが可
能となる。また、ステップ８にて上記のような処理を行
う場合には、ステップ６の処理、及びステップ９の中の
タイマｔ2 をリセットする処理は省略する。また、上記
実施の形態に示される反応セル３、バッファタンク５に
よって抽出手段（請求項１に対応）が構成される。
示される液管理装置では、酸素センサ６の検出部６Ａに
水分が付着したことが検出された場合に（ステップ３の
ＹＥＳ）、乾燥ガス供給手段２０によって酸素センサ６
の検出部６Ａに乾燥ガスを供給するようにしているので
（ステップ７）、この乾燥ガスの吹き付けによって、酸
素センサ６の検出部６Ａに水分が付着することを防止す
ることができ、正確な成分分析を行うことが可能とな
る。なお、上記実施の形態では、ステップ６、ステップ
８において乾燥ガスの吹き付け時間が１分となった場合
に、ステップ９に進んで乾燥ガスの吹き付けを停止させ
るようにしたが、このような処理に代えて、ステップ８
において、酸素センサ６の電圧値Ｏ2 が、該酸素センサ
６の検出部６Ａに水分が付着したか否かの判断基準とな
る「電圧値Ｏ1＋４０mＶ」未満となったか否かを判断
し、ＹＥＳの場合に次のステップ９にて乾燥ガスの吹き
付けを停止させ、また、ＮＯの場合にステップ７での乾
燥ガスの吹き付けを続行させるようにしても良い。そし
て、このような処理を行うことによって、乾燥ガスを過
不足無く酸素センサ６に対して供給することができ、該
酸素センサ６を乾燥させる作業を効率良く行うことが可
能となる。また、ステップ８にて上記のような処理を行
う場合には、ステップ６の処理、及びステップ９の中の
タイマｔ2 をリセットする処理は省略する。また、上記
実施の形態に示される反応セル３、バッファタンク５に
よって抽出手段（請求項１に対応）が構成される。
【００２４】次に、第２の実施の形態を図３を参照して
説明する。第２の実施の形態は、図３に示すように、第
１の実施の形態に示される乾燥ガス供給手段２０に代え
て、反応セル３に冷却槽３０（請求項２の冷却手段に相
当する）を設けた点にある。この冷却槽３０は、加熱分
解手段２にて加熱された洗浄液を冷却して、該洗浄液か
ら水蒸気が発生することを防止するようにしたものであ
って、具体的には、ペルチエ素子、ヒートポンプを使用
したもの、あるいは反応セル３の外側に冷却水を循環さ
せる方式等が採用される。
説明する。第２の実施の形態は、図３に示すように、第
１の実施の形態に示される乾燥ガス供給手段２０に代え
て、反応セル３に冷却槽３０（請求項２の冷却手段に相
当する）を設けた点にある。この冷却槽３０は、加熱分
解手段２にて加熱された洗浄液を冷却して、該洗浄液か
ら水蒸気が発生することを防止するようにしたものであ
って、具体的には、ペルチエ素子、ヒートポンプを使用
したもの、あるいは反応セル３の外側に冷却水を循環さ
せる方式等が採用される。
【００２５】そして、以上のように構成された液管理装
置では、冷却槽３０によって加熱分解手段２を経由した
洗浄液を冷却することができるので、該洗浄液から水蒸
気が発生することが防止され、かつ該水蒸気によって酸
素センサ６が結露することが防止される。その結果、該
酸素センサ６によって正確な成分分析を行うことが可能
となる。なお、本実施の形態では、反応セル２に冷却手
段である冷却槽３０を設けるようにしたが、これに限定
されず、加熱分解手段２から酸素センサ６までの間にお
いて、洗浄液を冷却しかつ液化した水蒸気を回収可能な
箇所であれば、いずれの箇所に設けても良い。例えば、
このような冷却手段は、加熱分解手段２と反応セル３と
の間の配管（符号２Ｃで示す）、反応セル３とバッファ
タンク５との間の配管３Ａを設けても良く、また、バッ
ファタンク５に設けて該バッファタンク５内を冷却する
ようにしても良い。
置では、冷却槽３０によって加熱分解手段２を経由した
洗浄液を冷却することができるので、該洗浄液から水蒸
気が発生することが防止され、かつ該水蒸気によって酸
素センサ６が結露することが防止される。その結果、該
酸素センサ６によって正確な成分分析を行うことが可能
となる。なお、本実施の形態では、反応セル２に冷却手
段である冷却槽３０を設けるようにしたが、これに限定
されず、加熱分解手段２から酸素センサ６までの間にお
いて、洗浄液を冷却しかつ液化した水蒸気を回収可能な
箇所であれば、いずれの箇所に設けても良い。例えば、
このような冷却手段は、加熱分解手段２と反応セル３と
の間の配管（符号２Ｃで示す）、反応セル３とバッファ
タンク５との間の配管３Ａを設けても良く、また、バッ
ファタンク５に設けて該バッファタンク５内を冷却する
ようにしても良い。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように第１の発
明に示される液管理装置では、乾燥ガス供給手段によっ
て酸素センサの検出部に乾燥ガスを吹き付けるようにし
ているので、この乾燥ガスによって酸素センサの検出部
に水分が付着することを防止することができ、正確な成
分分析を行うことが可能となる。
明に示される液管理装置では、乾燥ガス供給手段によっ
て酸素センサの検出部に乾燥ガスを吹き付けるようにし
ているので、この乾燥ガスによって酸素センサの検出部
に水分が付着することを防止することができ、正確な成
分分析を行うことが可能となる。
【００２７】第２の発明に示される液管理装置では、冷
却手段によって分解手段を経由した溶液を冷却すること
ができるので、該溶液から水蒸気が発生することが防止
され、かつ水蒸気を原因とした酸素センサの結露を防止
することができる。その結果、該酸素センサによって正
確な成分分析を行うことが可能となる。
却手段によって分解手段を経由した溶液を冷却すること
ができるので、該溶液から水蒸気が発生することが防止
され、かつ水蒸気を原因とした酸素センサの結露を防止
することができる。その結果、該酸素センサによって正
確な成分分析を行うことが可能となる。
【図１】本発明の第１実施の形態であって液管理装置の
全体概略構成図。
全体概略構成図。
【図２】図１の制御手段Ｂの制御内容を示すフローチャ
ート。
ート。
【図３】本発明の第２実施の形態であって液管理装置の
全体概略構成図。
全体概略構成図。
２ 加熱分解手段（加熱手段）（分解手段） ３ 反応セル（抽出手段） ５ バッファタンク（抽出手段） ６ 酸素センサ ２０ 乾燥ガス供給手段 ３０ 冷却槽（冷却手段） Ｂ 制御手段
Claims (2)
- 【請求項１】 酸素を発生させる成分が含まれた溶液を
加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された溶液
中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、該分
解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する抽出
手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の酸素
濃度を検出する酸素センサとを有し、該酸素センサにて
検出された酸素濃度に基づき、溶液中の成分濃度を演算
するようにした液管理装置であって、 酸素センサの検出部に向けて乾燥ガスを吹き付ける乾燥
ガス供給手段が設けられていることを特徴とする液管理
装置。 - 【請求項２】 酸素を発生させる成分が含まれた溶液を
加熱する加熱手段と、該加熱手段により加熱された溶液
中の成分を分解して酸素を発生させる分解手段と、該分
解手段にて発生した酸素を抽出ガスにより抽出する抽出
手段と、該抽出手段により抽出された抽出ガス中の酸素
濃度を検出する酸素センサとを有し、該酸素センサにて
検出された酸素濃度に基づき、溶液中の成分濃度を演算
するようにした液管理装置であって、 前記分解手段と酸素センサとの間に、該分解手段を経由
した洗浄液を冷却する冷却手段が設けられていることを
特徴とする液管理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240021A JPH0989866A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 液管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240021A JPH0989866A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 液管理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0989866A true JPH0989866A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17053294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7240021A Withdrawn JPH0989866A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | 液管理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0989866A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020134397A (ja) * | 2019-02-22 | 2020-08-31 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガスセンサユニット、および、ガス検出方法 |
| CN114246457A (zh) * | 2020-09-25 | 2022-03-29 | 爱斯佩克株式会社 | 烹调器 |
-
1995
- 1995-09-19 JP JP7240021A patent/JPH0989866A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020134397A (ja) * | 2019-02-22 | 2020-08-31 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガスセンサユニット、および、ガス検出方法 |
| CN114246457A (zh) * | 2020-09-25 | 2022-03-29 | 爱斯佩克株式会社 | 烹调器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021203 |