JPH10101653A - ピリミジン誘導体 - Google Patents
ピリミジン誘導体Info
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- JPH10101653A JPH10101653A JP20782497A JP20782497A JPH10101653A JP H10101653 A JPH10101653 A JP H10101653A JP 20782497 A JP20782497 A JP 20782497A JP 20782497 A JP20782497 A JP 20782497A JP H10101653 A JPH10101653 A JP H10101653A
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- alkyl group
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Abstract
(57)【要約】
【課題】特に鎮痛剤として有用な誘導体を提供。
【解決手段】一般式
【化1】
〔式中、R1 及びR2 はそれぞれ水素原子、低級アルキ
ル基、フェニル基又は置換もしくは無置換のフェニル低
級アルキル基、R3 は低級アルキル基又はフェニル基、
R4 は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、ヒド
ロキシ低級アルキル基、置換カルバモイル低級アルキル
基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、オキソ低
級アルキル基又は置換フェニル基を示し、またR3 及び
R4 は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に
1,4−チオキサン環、置換基を有し得る4−ベンゾイ
ルテトラヒドロ−4H−1,4−チアジン環、4−フロ
イルテトラヒドロ−4H−1,4−チアジン環、テトラ
ヒドロ−2H−チオピラン環又は1,4−ジチアン環を
形成してもよい。〕で表されるピリミジン誘導体。
ル基、フェニル基又は置換もしくは無置換のフェニル低
級アルキル基、R3 は低級アルキル基又はフェニル基、
R4 は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、ヒド
ロキシ低級アルキル基、置換カルバモイル低級アルキル
基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、オキソ低
級アルキル基又は置換フェニル基を示し、またR3 及び
R4 は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に
1,4−チオキサン環、置換基を有し得る4−ベンゾイ
ルテトラヒドロ−4H−1,4−チアジン環、4−フロ
イルテトラヒドロ−4H−1,4−チアジン環、テトラ
ヒドロ−2H−チオピラン環又は1,4−ジチアン環を
形成してもよい。〕で表されるピリミジン誘導体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なピリミジン誘
導体に関する。
導体に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明誘導体は文献未載の新規化合物で
ある。
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は医薬品として
有用な化合物を提供することを目的とする。
有用な化合物を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式(1)で表される新規なピリミジン誘導体が提供さ
れる。
般式(1)で表される新規なピリミジン誘導体が提供さ
れる。
【0005】
【化2】
【0006】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
水素原子、低級アルキル基、フェニル基又は置換基とし
て低級アルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基を示す。R3 は低級アルキル基又は
フェニル基を、R4 は低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低
級アルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェニル
基及び低級アルキル基から選ばれる少なくとも1種を窒
素原子上に有するカルバモイル低級アルキル基、ジ低級
アルキルホスホロ低級アルキル基、オキソ低級アルキル
基又は置換基として低級アルキル基、ヒドロキシル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びN−低級アルカノ
イルアミノ基から選ばれる基の1〜3個を有するフェニ
ル基をそれぞれ示すか、あるいはR3 及びR4 は互いに
結合してそれらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオ
キサン環、ベンゼン環上に低級アルコキシ基の1〜3個
を有することのある4−ベンゾイルテトラヒドロ−4H
−1,4−チアジン環、4−フロイルテトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン環、テトラヒドロ−2H−チオピ
ラン環又は1,4−ジチアン環を形成する基を示す。〕
水素原子、低級アルキル基、フェニル基又は置換基とし
て低級アルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基を示す。R3 は低級アルキル基又は
フェニル基を、R4 は低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低
級アルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェニル
基及び低級アルキル基から選ばれる少なくとも1種を窒
素原子上に有するカルバモイル低級アルキル基、ジ低級
アルキルホスホロ低級アルキル基、オキソ低級アルキル
基又は置換基として低級アルキル基、ヒドロキシル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びN−低級アルカノ
イルアミノ基から選ばれる基の1〜3個を有するフェニ
ル基をそれぞれ示すか、あるいはR3 及びR4 は互いに
結合してそれらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオ
キサン環、ベンゼン環上に低級アルコキシ基の1〜3個
を有することのある4−ベンゾイルテトラヒドロ−4H
−1,4−チアジン環、4−フロイルテトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン環、テトラヒドロ−2H−チオピ
ラン環又は1,4−ジチアン環を形成する基を示す。〕
【0007】
【発明の実施の形態】上記一般式(1)中の各基として
は、次の各基を例示できる。即ち、低級アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基
等の直鎖又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
は、次の各基を例示できる。即ち、低級アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基
等の直鎖又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
【0008】低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
【0009】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、イソプロポ
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、ペ
ンチルオキシカルボニルメチル、ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル、2−メトキシカルボニルエチル、3−メト
キシカルボニルプロピル、4−メトキシカルボニルブチ
ル、5−メトキシカルボニルペンチル、6−メトキシカ
ルボニルヘキシル基等を例示できる。
としては、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、イソプロポ
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、ペ
ンチルオキシカルボニルメチル、ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル、2−メトキシカルボニルエチル、3−メト
キシカルボニルプロピル、4−メトキシカルボニルブチ
ル、5−メトキシカルボニルペンチル、6−メトキシカ
ルボニルヘキシル基等を例示できる。
【0010】ヒドロキシ低級アルキル基としては、ヒド
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペン
チル、6−ヒドロキシヘキシル基等を例示できる。
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペン
チル、6−ヒドロキシヘキシル基等を例示できる。
【0011】ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基と
しては、ジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホロメ
チル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピルホス
ホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチルホス
ホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、2−(ジメチ
ルホスホロ)エチル、2−(ジエチルホスホロ)エチ
ル、3−(ジエチルホスホロ)プロピル、4−(ジエチ
ルホスホロ)ブチル、5−(ジエチルホスホロ)ペンチ
ル、6−(ジエチルホスホロ)ヘキシル基等を例示でき
る。
しては、ジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホロメ
チル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピルホス
ホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチルホス
ホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、2−(ジメチ
ルホスホロ)エチル、2−(ジエチルホスホロ)エチ
ル、3−(ジエチルホスホロ)プロピル、4−(ジエチ
ルホスホロ)ブチル、5−(ジエチルホスホロ)ペンチ
ル、6−(ジエチルホスホロ)ヘキシル基等を例示でき
る。
【0012】N−低級アルカノイルアミノ基としては、
N−アセチルアミノ、N−プロピオニルアミノ、N−ブ
チリルアミノ、N−バレリルアミノ、N−ピバロイルア
ミノ、N−ヘキサノイルアミノ、N−ヘプタノイルアミ
ノ基等を例示できる。
N−アセチルアミノ、N−プロピオニルアミノ、N−ブ
チリルアミノ、N−バレリルアミノ、N−ピバロイルア
ミノ、N−ヘキサノイルアミノ、N−ヘプタノイルアミ
ノ基等を例示できる。
【0013】置換基として低級アルコキシ基の1〜3個
を有することのあるフェニル基及び低級アルキル基から
選ばれる少なくとも1種を窒素原子上に有するカルバモ
イル低級アルキル基としては、N−メチルカルバモイル
メチル、N−エチルカルバモイルメチル、N−プロピル
カルバモイルメチル、N−ブチルカルバモイルメチル、
N−ペンチルカルバモイルメチル、N−ヘキシルカルバ
モイルメチル、2−(N−メチルカルバモイル)エチ
ル、3−(N−メチルカルバモイル)プロピル、4−
(N−メチルカルバモイル)ブチル、5−(N−メチル
カルバモイル)ペンチル、6−(N−メチルカルバモイ
ル)ヘキシル、N−フェニルカルバモイルメチル、2−
(N−フェニルカルバモイル)エチル、3−(N−フェ
ニルカルバモイル)プロピル、4−(N−フェニルカル
バモイル)ブチル、5−(N−フェニルカルバモイル)
ペンチル、6−(N−フェニルカルバモイル)ヘキシ
ル、N−メチル−N−フェニルカルバモイルメチル、N
−エチル−N−フェニルカルバモイルメチル、N−フェ
ニル−N−プロピルカルバモイルメチル、N−ブチル−
N−フェニルカルバモイルメチル、N−ペンチル−N−
フェニルカルバモイルメチル、N−ヘキシル−N−フェ
ニルカルバモイルメチル、N−(4−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、N−(3−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、N−(2−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、2−〔N−(4−メトキシフ
ェニル)カルバモイル〕エチル、2−〔N−(3,4,
5−トリメトキシフェニル)カルバモイル〕エチル、3
−〔N−(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバ
モイル〕プロピル、4−〔N−(3,4,5−トリメト
キシフェニル)カルバモイル〕ブチル、5−〔N−
(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバモイル〕
ペンチル、6−〔N−(3,4,5−トリメトキシフェ
ニル)カルバモイル〕ヘキシル、2−〔N−メチル−N
−(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバモイ
ル〕エチル、2−〔N−メチル−N−(3,4−ジリメ
トキシフェニル)カルバモイル〕エチル基等を例示でき
る。
を有することのあるフェニル基及び低級アルキル基から
選ばれる少なくとも1種を窒素原子上に有するカルバモ
イル低級アルキル基としては、N−メチルカルバモイル
メチル、N−エチルカルバモイルメチル、N−プロピル
カルバモイルメチル、N−ブチルカルバモイルメチル、
N−ペンチルカルバモイルメチル、N−ヘキシルカルバ
モイルメチル、2−(N−メチルカルバモイル)エチ
ル、3−(N−メチルカルバモイル)プロピル、4−
(N−メチルカルバモイル)ブチル、5−(N−メチル
カルバモイル)ペンチル、6−(N−メチルカルバモイ
ル)ヘキシル、N−フェニルカルバモイルメチル、2−
(N−フェニルカルバモイル)エチル、3−(N−フェ
ニルカルバモイル)プロピル、4−(N−フェニルカル
バモイル)ブチル、5−(N−フェニルカルバモイル)
ペンチル、6−(N−フェニルカルバモイル)ヘキシ
ル、N−メチル−N−フェニルカルバモイルメチル、N
−エチル−N−フェニルカルバモイルメチル、N−フェ
ニル−N−プロピルカルバモイルメチル、N−ブチル−
N−フェニルカルバモイルメチル、N−ペンチル−N−
フェニルカルバモイルメチル、N−ヘキシル−N−フェ
ニルカルバモイルメチル、N−(4−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、N−(3−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、N−(2−メトキシフェニ
ル)カルバモイルメチル、2−〔N−(4−メトキシフ
ェニル)カルバモイル〕エチル、2−〔N−(3,4,
5−トリメトキシフェニル)カルバモイル〕エチル、3
−〔N−(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバ
モイル〕プロピル、4−〔N−(3,4,5−トリメト
キシフェニル)カルバモイル〕ブチル、5−〔N−
(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバモイル〕
ペンチル、6−〔N−(3,4,5−トリメトキシフェ
ニル)カルバモイル〕ヘキシル、2−〔N−メチル−N
−(3,4,5−トリメトキシフェニル)カルバモイ
ル〕エチル、2−〔N−メチル−N−(3,4−ジリメ
トキシフェニル)カルバモイル〕エチル基等を例示でき
る。
【0014】置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びN−低級ア
ルカノイルアミノ基から選ばれる基の1〜3個を有する
フェニル基としては、2−メチルフェニル、3−メチル
フェニル、4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、
4−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−ペン
チルフェニル、4−ヘキシルフェニル、2−ヒドロキシ
フェニル、3−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフ
ェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニ
ル、4−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4
−プロポキシフェニル、4−ブトキシフェニル、4−ペ
ンチルオキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、
2−(N−アセチルアミノ)フェニル、3−(N−アセ
チルアミノ)フェニル、4−(N−アセチルアミノ)フ
ェニル、4−(N−プロピオニルアミノ)フェニル、4
−(N−ブチリルアミノ)フェニル、4−(N−バレリ
ルアミノ)フェニル、4−(N−ピバロイルアミノ)フ
ェニル、4−(N−ヘキサノイルアミノ)フェニル、4
−(N−ヘプタノイルアミノ)フェニル、2,3−ジメ
チルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、3,4−ジ
メチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,5−
ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,3
−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル、
3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシフェ
ニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキ
シフェニル、2,3−ジヒドロキシフェニル、2,4−
ジヒドロキシフェニル、3,4−ジヒドロキシフェニ
ル、3,5−ジヒドロキシフェニル、2,5−ジヒドロ
キシフェニル、2,6−ジヒドロキシフェニル、2,4
−ビス(N−アセチルアミノ)フェニル、3,4,5−
トリメチルフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニ
ル、3,4,5−トリヒドロキシフェニル、2,4,6
−トリス(N−アセチルアミノ)フェニル、4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル、3−ヒドロキシ−4−メチ
ルフェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシフェ
ニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル、4−
メトキシ−3,5−ジメチルフェニル、4−(N−アセ
チルアミノ)−3−メトキシフェニル、3−(N−アセ
チルアミノ)−4−メトキシフェニル、4−(N−アセ
チルアミノ)−3−メチルフェニル、3−(N−アセチ
ルアミノ)−4−メチルフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、4−フ
ルオロフェニル、4−ブロモフェニル、4−ヨードフェ
ニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフ
ェニル、3,5−ジクロロフェニル、2,4,6−トリ
クロロフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル基等
を例示できる。
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びN−低級ア
ルカノイルアミノ基から選ばれる基の1〜3個を有する
フェニル基としては、2−メチルフェニル、3−メチル
フェニル、4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、
4−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−ペン
チルフェニル、4−ヘキシルフェニル、2−ヒドロキシ
フェニル、3−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフ
ェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニ
ル、4−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4
−プロポキシフェニル、4−ブトキシフェニル、4−ペ
ンチルオキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、
2−(N−アセチルアミノ)フェニル、3−(N−アセ
チルアミノ)フェニル、4−(N−アセチルアミノ)フ
ェニル、4−(N−プロピオニルアミノ)フェニル、4
−(N−ブチリルアミノ)フェニル、4−(N−バレリ
ルアミノ)フェニル、4−(N−ピバロイルアミノ)フ
ェニル、4−(N−ヘキサノイルアミノ)フェニル、4
−(N−ヘプタノイルアミノ)フェニル、2,3−ジメ
チルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、3,4−ジ
メチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,5−
ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,3
−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル、
3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシフェ
ニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキ
シフェニル、2,3−ジヒドロキシフェニル、2,4−
ジヒドロキシフェニル、3,4−ジヒドロキシフェニ
ル、3,5−ジヒドロキシフェニル、2,5−ジヒドロ
キシフェニル、2,6−ジヒドロキシフェニル、2,4
−ビス(N−アセチルアミノ)フェニル、3,4,5−
トリメチルフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニ
ル、3,4,5−トリヒドロキシフェニル、2,4,6
−トリス(N−アセチルアミノ)フェニル、4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル、3−ヒドロキシ−4−メチ
ルフェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシフェ
ニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル、4−
メトキシ−3,5−ジメチルフェニル、4−(N−アセ
チルアミノ)−3−メトキシフェニル、3−(N−アセ
チルアミノ)−4−メトキシフェニル、4−(N−アセ
チルアミノ)−3−メチルフェニル、3−(N−アセチ
ルアミノ)−4−メチルフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、4−フ
ルオロフェニル、4−ブロモフェニル、4−ヨードフェ
ニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフ
ェニル、3,5−ジクロロフェニル、2,4,6−トリ
クロロフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル基等
を例示できる。
【0015】オキソ低級アルキル基としては、2−オキ
ソプロピル、2−オキソブチル、3−オキソブチル、2
−オキソペンチル、3−オキソペンチル、4−オキソペ
ンチル、2−オキソヘキシル、3−オキソヘキシル、4
−オキソヘキシル、5−オキソヘキシル基等を例示でき
る。
ソプロピル、2−オキソブチル、3−オキソブチル、2
−オキソペンチル、3−オキソペンチル、4−オキソペ
ンチル、2−オキソヘキシル、3−オキソヘキシル、4
−オキソヘキシル、5−オキソヘキシル基等を例示でき
る。
【0016】ベンゼン環上に低級アルコキシ基の1〜3
個を有することのあるフェニル低級アルキル基として
は、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチ
ル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−
フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、2−メトキ
シベンジル、3−メトキシベンジル、4−メトキシベン
ジル、4−エトキシベンジル、4−プロポキシベンジ
ル、4−ブトキシベンジル、4−ペンチルオキシベンジ
ル、4−ヘキシルオキシベンジル、2,4−ジメトキシ
ベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、3,5−ジメ
トキシベンジル、3,4,5−トリメトキシベンジル、
2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)エチル基等
を例示することができる。
個を有することのあるフェニル低級アルキル基として
は、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチ
ル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−
フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、2−メトキ
シベンジル、3−メトキシベンジル、4−メトキシベン
ジル、4−エトキシベンジル、4−プロポキシベンジ
ル、4−ブトキシベンジル、4−ペンチルオキシベンジ
ル、4−ヘキシルオキシベンジル、2,4−ジメトキシ
ベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、3,5−ジメ
トキシベンジル、3,4,5−トリメトキシベンジル、
2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)エチル基等
を例示することができる。
【0017】ベンゼン環上に低級アルコキシ基の1〜3
個を有することのある4−ベンゾイルテトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン環としては、4−ベンゾイルテト
ラヒドロ−4H−1,4−チアジン、4−(2−メトキ
シベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3−メトキシベンゾイル)テトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン、4−(4−メトキシベンゾイ
ル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジン、4−(4
−エトキシベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−
チアジン、4−(4−プロポキシベンゾイル)テトラヒ
ドロ−4H−1,4−チアジン、4−(2,4−ジメト
キシベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3,4−ジメトキシベンゾイル)テトラヒド
ロ−4H−1,4−チアジン、4−(3,5−ジメトキ
シベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)テト
ラヒドロ−4H−1,4−チアジン等を例示できる。
個を有することのある4−ベンゾイルテトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン環としては、4−ベンゾイルテト
ラヒドロ−4H−1,4−チアジン、4−(2−メトキ
シベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3−メトキシベンゾイル)テトラヒドロ−4
H−1,4−チアジン、4−(4−メトキシベンゾイ
ル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジン、4−(4
−エトキシベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−
チアジン、4−(4−プロポキシベンゾイル)テトラヒ
ドロ−4H−1,4−チアジン、4−(2,4−ジメト
キシベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3,4−ジメトキシベンゾイル)テトラヒド
ロ−4H−1,4−チアジン、4−(3,5−ジメトキ
シベンゾイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ン、4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)テト
ラヒドロ−4H−1,4−チアジン等を例示できる。
【0018】フロイル基には2−フロイル及び3−フロ
イル基が包含される。そして、4−フロイルテトラヒド
ロ−4H−1,4−チアジン環には、4−(2−フロイ
ル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジン及び4−
(3−フロイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ンが包含される。
イル基が包含される。そして、4−フロイルテトラヒド
ロ−4H−1,4−チアジン環には、4−(2−フロイ
ル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジン及び4−
(3−フロイル)テトラヒドロ−4H−1,4−チアジ
ンが包含される。
【0019】本発明のピリミジン誘導体は、医薬として
有用である。特に、本発明誘導体は、鎮痛剤(術後疼
痛、偏頭痛、痛風、慢性疼痛、神経因性疼痛、癌性疼痛
等)、抗炎症剤、鎮静剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、血糖
降下剤、脂質低下剤、血圧低下剤、制癌剤等として有用
であり、なかでも、鎮痛剤として好ましく用いられ、こ
れは従来の鎮痛剤に見られる副作用を示さない特徴を有
している。
有用である。特に、本発明誘導体は、鎮痛剤(術後疼
痛、偏頭痛、痛風、慢性疼痛、神経因性疼痛、癌性疼痛
等)、抗炎症剤、鎮静剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、血糖
降下剤、脂質低下剤、血圧低下剤、制癌剤等として有用
であり、なかでも、鎮痛剤として好ましく用いられ、こ
れは従来の鎮痛剤に見られる副作用を示さない特徴を有
している。
【0020】更に本発明のピリミジン誘導体は、誘導型
一酸化窒素合成酵素を選択的に阻害する作用を有してお
り、その作用に基づき、例えば敗血症、エンドトキシン
ショック、慢性関節リウマチ等の予防及び治療剤として
も有用である。
一酸化窒素合成酵素を選択的に阻害する作用を有してお
り、その作用に基づき、例えば敗血症、エンドトキシン
ショック、慢性関節リウマチ等の予防及び治療剤として
も有用である。
【0021】上記鎮痛剤等として有効な本発明誘導体の
好ましい例としては、上記一般式(1)中、R1 が水素
原子又は低級アルキル基で、R2 が水素原子、低級アル
キル基又はフェニル基であるものを挙げることができ
る。
好ましい例としては、上記一般式(1)中、R1 が水素
原子又は低級アルキル基で、R2 が水素原子、低級アル
キル基又はフェニル基であるものを挙げることができ
る。
【0022】之等の内でも、R3 が低級アルキル基で、
R4 が置換基として低級アルキル基、ヒドロキシル基及
び低級アルコキシ基から選ばれる基の1〜3個を有する
フェニル基を示すか、あるいはR3 及びR4 は互いに結
合してそれらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオキ
サン環を形成する基を示すものである本発明ピリミジン
誘導体は、好適である。
R4 が置換基として低級アルキル基、ヒドロキシル基及
び低級アルコキシ基から選ばれる基の1〜3個を有する
フェニル基を示すか、あるいはR3 及びR4 は互いに結
合してそれらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオキ
サン環を形成する基を示すものである本発明ピリミジン
誘導体は、好適である。
【0023】特に好ましい本発明誘導体としては、前記
一般式(1)中、R1 及びR2 がそれぞれ水素原子であ
るか又はそれぞれ低級アルキル基であり且つR3 及びR
4 が上記のものである化合物を挙げることができる。そ
れらの好ましい本発明ピリミジン誘導体の内でも、R4
が4−低級アルキルフェニル基、4−ヒドロキシフェニ
ル基又は3,4,5−トリ低級アルコキシフェニル基で
あるか、あるいはR3と互いに結合してそれらが結合す
る硫黄原子と共に1,4−チオキサン環を形成する基を
示すものであるピリミジン誘導体は、最も好適である。
一般式(1)中、R1 及びR2 がそれぞれ水素原子であ
るか又はそれぞれ低級アルキル基であり且つR3 及びR
4 が上記のものである化合物を挙げることができる。そ
れらの好ましい本発明ピリミジン誘導体の内でも、R4
が4−低級アルキルフェニル基、4−ヒドロキシフェニ
ル基又は3,4,5−トリ低級アルコキシフェニル基で
あるか、あるいはR3と互いに結合してそれらが結合す
る硫黄原子と共に1,4−チオキサン環を形成する基を
示すものであるピリミジン誘導体は、最も好適である。
【0024】上記本発明誘導体は、各種方法により製造
できる。その具体例を以下に反応工程式を挙げて説明す
る。
できる。その具体例を以下に反応工程式を挙げて説明す
る。
【0025】
【化3】
【0026】〔式中、R1 、R2 、R3 及びR4 は前記
に同じ。Phはフェニル基を示す。〕上記工程式によれ
ば、まず化合物(2)を、アルカリの存在下に、ヨード
ベンゼンジアセテートと反応させることにより化合物
(3)を得る。該反応においては、溶媒として水を好適
に使用でき、アルカリとしては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を使
用できる。上記アルカリ及びヨードベンゼンジアセテー
トの使用量は、それぞれ原料化合物を基準として等モル
量〜少過剰量とするのが好ましい。反応は0℃〜室温付
近の温度で約1〜10時間を要して行われる。
に同じ。Phはフェニル基を示す。〕上記工程式によれ
ば、まず化合物(2)を、アルカリの存在下に、ヨード
ベンゼンジアセテートと反応させることにより化合物
(3)を得る。該反応においては、溶媒として水を好適
に使用でき、アルカリとしては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を使
用できる。上記アルカリ及びヨードベンゼンジアセテー
トの使用量は、それぞれ原料化合物を基準として等モル
量〜少過剰量とするのが好ましい。反応は0℃〜室温付
近の温度で約1〜10時間を要して行われる。
【0027】次に、上記で得られる化合物(3)をチオ
エーテル誘導体(4)と反応させることにより本発明化
合物(1)を得ることができる。該反応は、メタノー
ル、エタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール
等の低級アルコール等を溶媒として用いて、p−トルエ
ンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加して行なうこ
とができる。チオエーテル誘導体(4)の使用量は、化
合物(3)に対して1〜10倍モル量程度とするのがよ
く、反応は室温〜還流温度にて約10分〜30時間で完
了する。
エーテル誘導体(4)と反応させることにより本発明化
合物(1)を得ることができる。該反応は、メタノー
ル、エタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール
等の低級アルコール等を溶媒として用いて、p−トルエ
ンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加して行なうこ
とができる。チオエーテル誘導体(4)の使用量は、化
合物(3)に対して1〜10倍モル量程度とするのがよ
く、反応は室温〜還流温度にて約10分〜30時間で完
了する。
【0028】
【化4】
【0029】〔式中、R3 及びR4 は前記に同じ。R1a
は低級アルキル基、フェニル基又は置換基として低級ア
ルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェニル低級
アルキル基を、R2aは置換基として低級アルコキシ基の
1〜3個を有することのあるフェニル低級アルキル基
を、Xはハロゲン原子をそれぞれ示す。〕 上記工程式−2に示すように、本発明化合物(1a)
は、これを等モル量〜少過剰量の化合物(5)と反応さ
せることにより、本発明化合物(1b)に変換させるこ
とができる。該反応は、一般にはN,N−ジメチルホル
ムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド
(DMA)等の不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に行なわ
れる。上記脱酸剤としては水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物やナトリウムエトキシ
ド等を好適に使用できる。之等の使用量は、原料化合物
(1a)に対して1〜1.5当量程度とするのが好まし
い。反応は通常0℃〜室温付近の温度で約20分〜5時
間で完了する。
は低級アルキル基、フェニル基又は置換基として低級ア
ルコキシ基の1〜3個を有することのあるフェニル低級
アルキル基を、R2aは置換基として低級アルコキシ基の
1〜3個を有することのあるフェニル低級アルキル基
を、Xはハロゲン原子をそれぞれ示す。〕 上記工程式−2に示すように、本発明化合物(1a)
は、これを等モル量〜少過剰量の化合物(5)と反応さ
せることにより、本発明化合物(1b)に変換させるこ
とができる。該反応は、一般にはN,N−ジメチルホル
ムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド
(DMA)等の不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に行なわ
れる。上記脱酸剤としては水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物やナトリウムエトキシ
ド等を好適に使用できる。之等の使用量は、原料化合物
(1a)に対して1〜1.5当量程度とするのが好まし
い。反応は通常0℃〜室温付近の温度で約20分〜5時
間で完了する。
【0030】上記の如くして得られる本発明化合物
(1)は、下記に示す共鳴構造をとると考えられる。従
って、本発明化合物はそれらのいずれの構造式でも表し
得る。
(1)は、下記に示す共鳴構造をとると考えられる。従
って、本発明化合物はそれらのいずれの構造式でも表し
得る。
【0031】
【化5】
【0032】かくして得られる本発明化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては
例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層ク
ロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては
例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層ク
ロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
【0033】尚、本発明化合物の一部には、硫黄原子及
び/又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体が存在す
るものがあり、本発明は当然ラセミ体、光学活性体の両
方を包含し、上記光学異性体は、慣用の分割法、例えば
公知の光学分割剤を使用する方法等で分離することがで
きる。
び/又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体が存在す
るものがあり、本発明は当然ラセミ体、光学活性体の両
方を包含し、上記光学異性体は、慣用の分割法、例えば
公知の光学分割剤を使用する方法等で分離することがで
きる。
【0034】また、本発明化合物は、医薬的に許容され
る酸付加塩とすることができ、之等の塩も本発明化合物
に包含される。上記酸付加塩を形成させ得る酸として
は、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、シュウ
酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、p−ト
ルエンスルホン酸等の有機酸を例示でき、この酸付加塩
の形成反応は、常法に従うことができる。
る酸付加塩とすることができ、之等の塩も本発明化合物
に包含される。上記酸付加塩を形成させ得る酸として
は、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、シュウ
酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、p−ト
ルエンスルホン酸等の有機酸を例示でき、この酸付加塩
の形成反応は、常法に従うことができる。
【0035】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、
次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、
次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【0036】また、各例で得られた化合物の構造、融点
及び 1H−NMRスペクトルデータ(δ:ppm)を第
1表に記載する。尚、 1H−NMRスペクトルは、特に
記載のない限り、DMSO(ジメチルスルホキシド)−
d6 溶液で、内部基準としてTMS(テトラメチルシラ
ン)を用いて測定した。
及び 1H−NMRスペクトルデータ(δ:ppm)を第
1表に記載する。尚、 1H−NMRスペクトルは、特に
記載のない限り、DMSO(ジメチルスルホキシド)−
d6 溶液で、内部基準としてTMS(テトラメチルシラ
ン)を用いて測定した。
【0037】
【参考例1】 2,6−ジオキソ−5−フェニルヨード
ニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4
−オラートの製造 11.1gの炭酸ナトリウムを水200mlに溶解し、
この水溶液に11.2gのバルビツル酸を溶かし、更に
室温下、ヨードベンゼンジアセテート32.2gを加
え、室温で2時間攪拌した。反応終了後、析出した結晶
を濾取し、メタノール及びジエチルエーテルで順次洗浄
し、室温で24時間減圧乾燥して、目的化合物の結晶3
0.2g(融点:225〜227℃)を得た。
ニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4
−オラートの製造 11.1gの炭酸ナトリウムを水200mlに溶解し、
この水溶液に11.2gのバルビツル酸を溶かし、更に
室温下、ヨードベンゼンジアセテート32.2gを加
え、室温で2時間攪拌した。反応終了後、析出した結晶
を濾取し、メタノール及びジエチルエーテルで順次洗浄
し、室温で24時間減圧乾燥して、目的化合物の結晶3
0.2g(融点:225〜227℃)を得た。
【0038】1H−NMR: 7.13-7.90(6H,m), 11.94(1
H,brs)
H,brs)
【0039】
【参考例2〜6】参考例1と同様にして、下記参考例2
〜6の各化合物を製造した。
〜6の各化合物を製造した。
【0040】参考例2の化合物: 1−メチル−2,6−ジオキソ−5−フェニルヨードニ
ウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4−
オラート 融点:253〜255℃1 H−NMR: 3.11(3H,s), 7.37-7.58(3H,m), 7.78(1
H,d,J=8.4), 10.48(1H,brs)。
ウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4−
オラート 融点:253〜255℃1 H−NMR: 3.11(3H,s), 7.37-7.58(3H,m), 7.78(1
H,d,J=8.4), 10.48(1H,brs)。
【0041】参考例3の化合物: 1−エチル−2,6−ジオキソ−5−フェニルヨードニ
ウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4−
オラート 融点:167〜170℃1 H−NMR: 1.04(3H,t,J=6.9), 3.77(2H,q,J=6.9),
7.38-7.55(3H,m), 7.77(2H,d,J=8.4), 10.44(1H,brs)
。
ウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−4−
オラート 融点:167〜170℃1 H−NMR: 1.04(3H,t,J=6.9), 3.77(2H,q,J=6.9),
7.38-7.55(3H,m), 7.77(2H,d,J=8.4), 10.44(1H,brs)
。
【0042】参考例4の化合物: 1,3−ジメチル−2,6−ジオキソ−5−フェニルヨ
ードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−4−オラート 融点:300℃以上1 H−NMR: 3.17(6H,s), 7.37-7.56(3H,m), 7.80(2
H,d,J=8.6)。
ードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−4−オラート 融点:300℃以上1 H−NMR: 3.17(6H,s), 7.37-7.56(3H,m), 7.80(2
H,d,J=8.6)。
【0043】参考例5の化合物: 3−メチル−2,6−ジオキソ−1−フェニル−5−フ
ェニルヨードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピ
リミジン−4−オラート 融点:108〜110℃1 H−NMR: 3.20(3H,s), 7.15(2H,d,J=7.4), 7.30-
7.58(6H,m), 7.84(2H,d,J=7.9)。
ェニルヨードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピ
リミジン−4−オラート 融点:108〜110℃1 H−NMR: 3.20(3H,s), 7.15(2H,d,J=7.4), 7.30-
7.58(6H,m), 7.84(2H,d,J=7.9)。
【0044】参考例6の化合物: 1−n−ブチル−3−メチル−2,6−ジオキソ−5−
フェニルヨードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロ
ピリミジン−4−オラート 融点:120〜122℃1 H−NMR: 0.89(3H,t,J=7.4), 1.21-1.40(2H,m),
1.42-1.58(2H,m), 1.91(3H,s), 3.20(3H,s), 3.77(2H,
t,J=7.4), 7.14-7.23(2H,m), 7.40(1H,dd,J=7.4,7.4),
7.74(2H,d,J=7.4)。
フェニルヨードニウム−1,2,3,6−テトラヒドロ
ピリミジン−4−オラート 融点:120〜122℃1 H−NMR: 0.89(3H,t,J=7.4), 1.21-1.40(2H,m),
1.42-1.58(2H,m), 1.91(3H,s), 3.20(3H,s), 3.77(2H,
t,J=7.4), 7.14-7.23(2H,m), 7.40(1H,dd,J=7.4,7.4),
7.74(2H,d,J=7.4)。
【0045】参考例7の化合物: 1−n−ブチル−2,6−ジオキソ−5−フェニルヨー
ドニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
4−オラート 融点:129〜130℃1 H−NMR: 0.87(3H,t,J=7.4),
1.14−1.30(2H,m), 1.35−1.
51(2H,m), 3.73(2H,t,J=7.
4), 7.40−7.81(5H,m), 10.4
2(1H,s)
ドニウム−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
4−オラート 融点:129〜130℃1 H−NMR: 0.87(3H,t,J=7.4),
1.14−1.30(2H,m), 1.35−1.
51(2H,m), 3.73(2H,t,J=7.
4), 7.40−7.81(5H,m), 10.4
2(1H,s)
【0046】
【実施例1】 2,6−ジオキソ−5−〔メチル−(4
−メチルフェニル)スルホニオ〕−1,2,3,6−テ
トラヒドロピリミジン−4−オラートの製造 2,2,2−トリフルオロエタノール25mlに参考例
1で得た化合物2.5g、メチル−(4−メチルフェニ
ル)スルフィド1.3g及びp−トルエンスルホン酸1
00mgを溶かし、60℃で20時間攪拌した。反応終
了後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒…メタノール:クロロホルム=
1:10)で精製して結晶を得、これを更にジエチルエ
ーテルで洗浄して、目的化合物の結晶1.7gを得た。
得られた化合物の構造及び物性を第1表に示す。
−メチルフェニル)スルホニオ〕−1,2,3,6−テ
トラヒドロピリミジン−4−オラートの製造 2,2,2−トリフルオロエタノール25mlに参考例
1で得た化合物2.5g、メチル−(4−メチルフェニ
ル)スルフィド1.3g及びp−トルエンスルホン酸1
00mgを溶かし、60℃で20時間攪拌した。反応終
了後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒…メタノール:クロロホルム=
1:10)で精製して結晶を得、これを更にジエチルエ
ーテルで洗浄して、目的化合物の結晶1.7gを得た。
得られた化合物の構造及び物性を第1表に示す。
【0047】
【実施例2〜35】実施例1と同様にして、第1表に示
す構造及び物性の各化合物を合成した。
す構造及び物性の各化合物を合成した。
【0048】
【表1】
【0049】
【表2】
【0050】
【表3】
【0051】
【表4】
【0052】
【表5】
【0053】
【表6】
【0054】
【表7】
【0055】
【表8】
【0056】
【実施例36〜51】実施例1と同様にして、第2表に
示す構造及び物性の各化合物を合成した。
示す構造及び物性の各化合物を合成した。
【0057】
【実施例52】1−ベンジル−2,6−ジオキソ−5−
メチルプロピルスルホニオ−1,2,3,6−テトラヒ
ドロピリミジン−4−オラートの製造 60%水素化ナトリウム310mgをDMF20mlに
溶かし、この溶液に実施例5で得た化合物1.5gを0
℃下に加え、0℃で10分間攪拌した次にこの混合液
に、臭化ベンジル1.4gを加え、室温で1時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、クロロホルム30
mlで3回抽出した。有機層を集めて水洗した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;メタノー
ル:クロロホルム=1:25)で精製し、更に、ジエチ
ルエーテル−n−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の結
晶1.92gを得た。得られた化合物の構造及び物性を
第2表に示す。
メチルプロピルスルホニオ−1,2,3,6−テトラヒ
ドロピリミジン−4−オラートの製造 60%水素化ナトリウム310mgをDMF20mlに
溶かし、この溶液に実施例5で得た化合物1.5gを0
℃下に加え、0℃で10分間攪拌した次にこの混合液
に、臭化ベンジル1.4gを加え、室温で1時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、クロロホルム30
mlで3回抽出した。有機層を集めて水洗した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;メタノー
ル:クロロホルム=1:25)で精製し、更に、ジエチ
ルエーテル−n−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の結
晶1.92gを得た。得られた化合物の構造及び物性を
第2表に示す。
【0058】
【実施例53及び54】実施例1と同様にして、第2表
に示す構造及び物性の各化合物を合成した。
に示す構造及び物性の各化合物を合成した。
【0059】
【表9】
【0060】
【表10】
【0061】
【表11】
【0062】
【表12】
【0063】
【表13】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/505 ADN A61K 31/505 ADN ADP ADP ADU ADU ADY ADY ADZ ADZ
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって水素原子、低
級アルキル基、フェニル基又は置換基として低級アルコ
キシ基の1〜3個を有することのあるフェニル低級アル
キル基を示す。R3 は低級アルキル基又はフェニル基
を、R4 は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低級アルコキ
シ基の1〜3個を有することのあるフェニル基及び低級
アルキル基から選ばれる少なくとも1種を窒素原子上に
有するカルバモイル低級アルキル基、ジ低級アルキルホ
スホロ低級アルキル基、オキソ低級アルキル基又は置換
基として低級アルキル基、ヒドロキシル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子及びN−低級アルカノイルアミノ
基から選ばれる基の1〜3個を有するフェニル基をそれ
ぞれ示すか、あるいはR3 及びR4 は互いに結合してそ
れらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオキサン環、
ベンゼン環上に低級アルコキシ基の1〜3個を有するこ
とのある4−ベンゾイルテトラヒドロ−4H−1,4−
チアジン環、4−フロイルテトラヒドロ−4H−1,4
−チアジン環、テトラヒドロ−2H−チオピラン環又は
1,4−ジチアン環を形成する基を示す。〕で表される
ピリミジン誘導体。 - 【請求項2】 請求項1に記載の一般式中、R1 が水素
原子又は低級アルキル基で、R2 が水素原子、低級アル
キル基又はフェニル基である請求項1に記載のピリミジ
ン誘導体。 - 【請求項3】 請求項1に記載の一般式中、R3 が低級
アルキル基で、R4が置換基として低級アルキル基、ヒ
ドロキシル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基の1
〜3個を有するフェニル基を示すか、あるいはR3 及び
R4 は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に
1,4−チオキサン環を形成する基を示すものである請
求項2に記載のピリミジン誘導体。 - 【請求項4】 R1 及びR2 がそれぞれ水素原子である
か又はそれぞれ低級アルキル基である請求項3に記載の
ピリミジン誘導体。 - 【請求項5】 R4 が4−低級アルキルフェニル基、4
−ヒドロキシフェニル基又は3,4,5−トリ低級アル
コキシフェニル基であるか、あるいはR3 と互いに結合
してそれらが結合する硫黄原子と共に1,4−チオキサ
ン環を形成する基を示すものである請求項4に記載のピ
リミジン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20782497A JPH10101653A (ja) | 1996-08-05 | 1997-08-01 | ピリミジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20567596 | 1996-08-05 | ||
| JP8-205675 | 1996-08-05 | ||
| JP20782497A JPH10101653A (ja) | 1996-08-05 | 1997-08-01 | ピリミジン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101653A true JPH10101653A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=26515192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20782497A Pending JPH10101653A (ja) | 1996-08-05 | 1997-08-01 | ピリミジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10101653A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106458960A (zh) * | 2014-03-07 | 2017-02-22 | 通用医疗公司 | 碘(iii)‑介导的放射性氟化 |
| US10259800B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-04-16 | The General Hospital Corporation | Method of fluorination using iodonium ylides |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP20782497A patent/JPH10101653A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106458960A (zh) * | 2014-03-07 | 2017-02-22 | 通用医疗公司 | 碘(iii)‑介导的放射性氟化 |
| JP2017529312A (ja) * | 2014-03-07 | 2017-10-05 | ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション | ヨウ素(iii)を媒介とする放射性フッ素化 |
| JP2020117507A (ja) * | 2014-03-07 | 2020-08-06 | ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション | ヨウ素(iii)を媒介とする放射性フッ素化 |
| CN106458960B (zh) * | 2014-03-07 | 2020-10-23 | 通用医疗公司 | 碘(iii)-介导的放射性氟化 |
| CN112094259A (zh) * | 2014-03-07 | 2020-12-18 | 通用医疗公司 | 碘(iii)-介导的放射性氟化 |
| US10259800B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-04-16 | The General Hospital Corporation | Method of fluorination using iodonium ylides |
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