JPH10101754A - フォトポリマー - Google Patents
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- JPH10101754A JPH10101754A JP27043997A JP27043997A JPH10101754A JP H10101754 A JPH10101754 A JP H10101754A JP 27043997 A JP27043997 A JP 27043997A JP 27043997 A JP27043997 A JP 27043997A JP H10101754 A JPH10101754 A JP H10101754A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 寸法精度を改善されたプラスチック部材の製
造を可能にする機械的特性の優れた線収縮の少ないステ
レオリソグラフィ用フォトポリマーを提供する。 【解決手段】 フォトポリマーを以下の組成、即ち −構造式 【化1】 [式中n=3〜8を表す]ジメチルアクリレート60〜
95%、 −少なくともラジカルを生成する光開始剤1〜10%、 −分子量≧1000g/モルの二及び/又は三官能性の
ウレタンアクリレート0〜30%、 −添加物0〜10%で製造する。
造を可能にする機械的特性の優れた線収縮の少ないステ
レオリソグラフィ用フォトポリマーを提供する。 【解決手段】 フォトポリマーを以下の組成、即ち −構造式 【化1】 [式中n=3〜8を表す]ジメチルアクリレート60〜
95%、 −少なくともラジカルを生成する光開始剤1〜10%、 −分子量≧1000g/モルの二及び/又は三官能性の
ウレタンアクリレート0〜30%、 −添加物0〜10%で製造する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にステレオリソ
グラフィにより寸法通りの三次元のプラスチック部材を
製造するためのメタクリレートベースのフォトポリマー
に関する。
グラフィにより寸法通りの三次元のプラスチック部材を
製造するためのメタクリレートベースのフォトポリマー
に関する。
【0002】
【従来の技術】いわゆるラピッド・プロトタイプ。エン
ジニアリング(Rapid Prototyping
Engineering=RPE)における最も重要な
技術はステレオリソグラフィである。この場合プラスチ
ック製プロトタイプ(原器)は、計算機で制御されたレ
ーザ光線がレーザ光により硬化可能の液状フォトポリマ
ーの表面を画像に応じて露光し、形成すべき三次元形成
物の第1の部分層を硬化させるようにして層ごとに形成
される。この(一部)硬化された層は更に例えばフォト
ポリマー浴中に沈められ、新しいフォトポリマーで被覆
され、新たに画像に応じてレーザで露光される。この場
合三次元形成物の第1の部分層と結合する第2の硬化部
分層が生じる。このプロセスはその際フォトポリマー浴
中につけられる形成物全体が作り上げられるまで進めら
れる。このようにして形成された部分的に硬化されたに
過ぎない“グリーン部分”は引続きUVA光線での比較
的長い露光により引続き硬化される。
ジニアリング(Rapid Prototyping
Engineering=RPE)における最も重要な
技術はステレオリソグラフィである。この場合プラスチ
ック製プロトタイプ(原器)は、計算機で制御されたレ
ーザ光線がレーザ光により硬化可能の液状フォトポリマ
ーの表面を画像に応じて露光し、形成すべき三次元形成
物の第1の部分層を硬化させるようにして層ごとに形成
される。この(一部)硬化された層は更に例えばフォト
ポリマー浴中に沈められ、新しいフォトポリマーで被覆
され、新たに画像に応じてレーザで露光される。この場
合三次元形成物の第1の部分層と結合する第2の硬化部
分層が生じる。このプロセスはその際フォトポリマー浴
中につけられる形成物全体が作り上げられるまで進めら
れる。このようにして形成された部分的に硬化されたに
過ぎない“グリーン部分”は引続きUVA光線での比較
的長い露光により引続き硬化される。
【0003】ステレオリソグラフィによりパターンモジ
ュールを製造するには、その高い反応性の故にアクリレ
ート又はメタクリレートベースの光硬化性反応樹脂が原
理的に適している。しかしそれらはステレオリソグラフ
ィ用フォトポリマーの全ての重要な要件を満たすもので
はない(これに関しては例えばプァイファ(R.W.P
feiffer)による「ラピッド・プロトタイプに関
する第1回欧州会議議事録(Proceedings
of the 1st European Confe
rence on Rapid Prototypin
g)」1992年、第119〜132頁参照)。即ち −高い反応性、これは最小の露光エネルギーで選択され
た層厚の固化、即ちレーザの高い処理速度を可能にし、
それ故短時間の従って経済的な製造時間に対する決定的
要件である。 −グリーン部分の高い強度、即ちフォトポリマー浴中で
形成される部分的に硬化されたに過ぎないモジュールの
機械的耐性が十分であること。これは寸法通りの製造プ
ロセス及び無破壊操作にとってこのモジュールを後硬化
し、その最終特性が獲得されるまで必要な要件である。 −硬化時の最小の収縮率、これは製造プロセス中の最小
のカール(Curl)及び従って最適の寸法精度を意味
する。層ごとの製造プロセスの故に常に部分的に硬化さ
れる層が新たに形成される約100μmの薄い層と結合
されるので、水平方向の線収縮率はカールを少なくする
ための決定的要件である。新たに製造された層の収縮反
応によりその下にある部分的に硬化された層に応力が加
えられ、ひずみ又は周知のカール現象を招く。 −硬化された部分の良好な機械的特性、これはモジュー
ルの機能性のテスト並びにRPE技術に一般的な二次プ
ロセスを可能にする。 −25℃で<3000mPa.s、有利には<1500
mPa.sの低い粘度、これは最適な再被覆(リコーテ
ィング)の前提条件であり、即ち層形成プロセス後のフ
ォトポリマー層を平坦化するまでの待ち時間を短縮する
ことの前提条件である。
ュールを製造するには、その高い反応性の故にアクリレ
ート又はメタクリレートベースの光硬化性反応樹脂が原
理的に適している。しかしそれらはステレオリソグラフ
ィ用フォトポリマーの全ての重要な要件を満たすもので
はない(これに関しては例えばプァイファ(R.W.P
feiffer)による「ラピッド・プロトタイプに関
する第1回欧州会議議事録(Proceedings
of the 1st European Confe
rence on Rapid Prototypin
g)」1992年、第119〜132頁参照)。即ち −高い反応性、これは最小の露光エネルギーで選択され
た層厚の固化、即ちレーザの高い処理速度を可能にし、
それ故短時間の従って経済的な製造時間に対する決定的
要件である。 −グリーン部分の高い強度、即ちフォトポリマー浴中で
形成される部分的に硬化されたに過ぎないモジュールの
機械的耐性が十分であること。これは寸法通りの製造プ
ロセス及び無破壊操作にとってこのモジュールを後硬化
し、その最終特性が獲得されるまで必要な要件である。 −硬化時の最小の収縮率、これは製造プロセス中の最小
のカール(Curl)及び従って最適の寸法精度を意味
する。層ごとの製造プロセスの故に常に部分的に硬化さ
れる層が新たに形成される約100μmの薄い層と結合
されるので、水平方向の線収縮率はカールを少なくする
ための決定的要件である。新たに製造された層の収縮反
応によりその下にある部分的に硬化された層に応力が加
えられ、ひずみ又は周知のカール現象を招く。 −硬化された部分の良好な機械的特性、これはモジュー
ルの機能性のテスト並びにRPE技術に一般的な二次プ
ロセスを可能にする。 −25℃で<3000mPa.s、有利には<1500
mPa.sの低い粘度、これは最適な再被覆(リコーテ
ィング)の前提条件であり、即ち層形成プロセス後のフ
ォトポリマー層を平坦化するまでの待ち時間を短縮する
ことの前提条件である。
【0004】ステレオリソグラフィ用フォトポリマーの
錯綜する多様な要件の故に、一般的に公知の樹脂の組成
は以下に記載する例に見られるように多数の混合成分か
ら成る。
錯綜する多様な要件の故に、一般的に公知の樹脂の組成
は以下に記載する例に見られるように多数の混合成分か
ら成る。
【0005】欧州特許出願公開第0425441号明細
書によれば、5〜25%のモノマーの脂肪族又は脂環式
のジ(メタ)クリレート、少なくとも三官能性の0〜1
5%のモノマーのポリ(メタ)クリレート、0〜20%
のモノ(メタ)クリレート又はモノ−N−ビニル化合
物、二〜四官能性の20〜60%のウレタン(メタ)ク
リレート、10〜50%のビスフェノールA又はFをベ
ースとするモノマー又はオリゴマーのジ(メタ)クリレ
ート、0.1〜10%の光開始剤及び0〜5%の通常の
添加物から成るステレオリソグラフィに適した組成が記
載されている。
書によれば、5〜25%のモノマーの脂肪族又は脂環式
のジ(メタ)クリレート、少なくとも三官能性の0〜1
5%のモノマーのポリ(メタ)クリレート、0〜20%
のモノ(メタ)クリレート又はモノ−N−ビニル化合
物、二〜四官能性の20〜60%のウレタン(メタ)ク
リレート、10〜50%のビスフェノールA又はFをベ
ースとするモノマー又はオリゴマーのジ(メタ)クリレ
ート、0.1〜10%の光開始剤及び0〜5%の通常の
添加物から成るステレオリソグラフィに適した組成が記
載されている。
【0006】欧州特許出願公開第0517657号明細
書からは、5〜95%の光反応性ポリエステル、10〜
90%の多官能性の(メタ)クリレート、0〜70%の
モノ(メタ)クリレート及び0〜10%の添加物から成
るフォトポリマー混合物が公知である。
書からは、5〜95%の光反応性ポリエステル、10〜
90%の多官能性の(メタ)クリレート、0〜70%の
モノ(メタ)クリレート及び0〜10%の添加物から成
るフォトポリマー混合物が公知である。
【0007】国際特許出願公開第89/08021号明
細書は、ステレオリソグラフィプロセス用の20〜80
%の樹脂状ポリ(メタ)クリレート、80〜20%の液
状ポリ(メタ)クリレート及び10〜40%のビニルモ
ノマーから成るフォトポリマーの使用に関するものであ
る。
細書は、ステレオリソグラフィプロセス用の20〜80
%の樹脂状ポリ(メタ)クリレート、80〜20%の液
状ポリ(メタ)クリレート及び10〜40%のビニルモ
ノマーから成るフォトポリマーの使用に関するものであ
る。
【0008】欧州特許出願公開第0525578号明細
書には、25〜65%の二官能性のウレタンアクリレー
ト、15〜65%のポリエチレングリコールジ(メタ)
クリレート及び0〜30%の多官能性の反応性希釈剤か
ら成るフォトポリマー混合物並びに三次元体を製造する
ためのその使用について記載されている。
書には、25〜65%の二官能性のウレタンアクリレー
ト、15〜65%のポリエチレングリコールジ(メタ)
クリレート及び0〜30%の多官能性の反応性希釈剤か
ら成るフォトポリマー混合物並びに三次元体を製造する
ためのその使用について記載されている。
【0009】欧州特許出願公開第0378144号明細
書から、5〜25%の三、四又は五官能性の(メタ)ク
リレート、1〜25%のモノアクリレート及び以下の構
造式:
書から、5〜25%の三、四又は五官能性の(メタ)ク
リレート、1〜25%のモノアクリレート及び以下の構
造式:
【化2】 (式中p=0又は1、p=0のときt=0又は1並びに
2又は3、x=O、S、SO2又はR10−C−R11(式
中R10及びR11=H、CH3又はCF3)、R7はp=0
のときH又はCH3、p=1のときH、R8はp=0のと
きH、p=1のときOH、R9=H又はCH3、の10〜
80%のジ(メタ)クリレートから組み立てられている
フォトポリマーが公知である。
2又は3、x=O、S、SO2又はR10−C−R11(式
中R10及びR11=H、CH3又はCF3)、R7はp=0
のときH又はCH3、p=1のときH、R8はp=0のと
きH、p=1のときOH、R9=H又はCH3、の10〜
80%のジ(メタ)クリレートから組み立てられている
フォトポリマーが公知である。
【0010】この種の化合物はビスフェノール−A−ジ
グリシジルエーテルを(メタ)クリル酸と反応させるか
又は相応するジオールを(メタ)クリル酸でエステル化
により製造することができる。
グリシジルエーテルを(メタ)クリル酸と反応させるか
又は相応するジオールを(メタ)クリル酸でエステル化
により製造することができる。
【0011】第一の場合(メタ)クリル酸エステルは遊
離OH基及びオリゴマー分により得られる。これは不所
望の高い粘度を招き、ステレオリソグラフィ用途では低
粘度の単又は多官能性反応希釈剤の添加により調整され
なければならない。しかしこの種の化合物は一般に蒸気
圧が高く、従って揮発性が高い。ステレオリソグラフィ
ではフォトポリマーは若干温度を高められ開放容器に入
れられているので、一方では組成従って加工特性及びモ
ジュールの特性が時間の経過と共に制御不能に変化する
危険性が生じ、また他方ではこの種の揮発性成分が例え
ば1−ビニル−2−ピロリジノンのように作業者の健康
を損なう危険を高めることになる。更にこの種の単官能
性化合物がステレオリソグラフィプロセスで形成された
部分的に硬化されているに過ぎないモジュールを容易に
膨潤させ、それにより変形及び寸法誤差が生じることは
欠点である。
離OH基及びオリゴマー分により得られる。これは不所
望の高い粘度を招き、ステレオリソグラフィ用途では低
粘度の単又は多官能性反応希釈剤の添加により調整され
なければならない。しかしこの種の化合物は一般に蒸気
圧が高く、従って揮発性が高い。ステレオリソグラフィ
ではフォトポリマーは若干温度を高められ開放容器に入
れられているので、一方では組成従って加工特性及びモ
ジュールの特性が時間の経過と共に制御不能に変化する
危険性が生じ、また他方ではこの種の揮発性成分が例え
ば1−ビニル−2−ピロリジノンのように作業者の健康
を損なう危険を高めることになる。更にこの種の単官能
性化合物がステレオリソグラフィプロセスで形成された
部分的に硬化されているに過ぎないモジュールを容易に
膨潤させ、それにより変形及び寸法誤差が生じることは
欠点である。
【0012】上記の反応の第2の場合にはpが値1、2
又は3を有しているかどうかにより1倍〜3倍のアルコ
キシル化ビスフェノールA基体を含むOH基不含の(メ
タ)クリレート酸ジエステルが得られる。
又は3を有しているかどうかにより1倍〜3倍のアルコ
キシル化ビスフェノールA基体を含むOH基不含の(メ
タ)クリレート酸ジエステルが得られる。
【0013】上述の(メタ)クリレートベースのフォト
ポリマーではステレオリソグラフィにより三次元のプラ
スチック体を製造することができるが、しかしそれらは
前記の要件を十分に満たすものではない。とりわけ収縮
が強すぎると硬化の際に周知のカーリングを来し、従っ
て不適切な許容し得ない寸法精度を招く。既に説明した
ようにとりわけ線収縮はカーリングにとって決定的であ
る。その際それぞれ新たに形成されるポリマー層は、そ
の下にある層に収縮により生じる応力により特有のひず
みを来す。
ポリマーではステレオリソグラフィにより三次元のプラ
スチック体を製造することができるが、しかしそれらは
前記の要件を十分に満たすものではない。とりわけ収縮
が強すぎると硬化の際に周知のカーリングを来し、従っ
て不適切な許容し得ない寸法精度を招く。既に説明した
ようにとりわけ線収縮はカーリングにとって決定的であ
る。その際それぞれ新たに形成されるポリマー層は、そ
の下にある層に収縮により生じる応力により特有のひず
みを来す。
【0014】市販のステレオリソグラフィ用フォトポリ
マーは約2〜2.5%の線収縮率を示す。この収縮は例
えば、液状フォトポリマーを上向きに開放されているア
ルミニウムの型に1mmの深さで満たし、市販の表面照
射器でのUV露光により硬化させることにより求められ
る。線収縮は硬化された試料条片の設定長さと実際の長
さの差から生ずる。更に上記形式の組成は比較的脆性の
成形材を生じ、通常観察の対象として使用されるに過ぎ
ず、機能的にテストできるものではなく、ラピッド・プ
ロトタイプの二次プロセス用には限定的に適するに過ぎ
ない。
マーは約2〜2.5%の線収縮率を示す。この収縮は例
えば、液状フォトポリマーを上向きに開放されているア
ルミニウムの型に1mmの深さで満たし、市販の表面照
射器でのUV露光により硬化させることにより求められ
る。線収縮は硬化された試料条片の設定長さと実際の長
さの差から生ずる。更に上記形式の組成は比較的脆性の
成形材を生じ、通常観察の対象として使用されるに過ぎ
ず、機能的にテストできるものではなく、ラピッド・プ
ロトタイプの二次プロセス用には限定的に適するに過ぎ
ない。
【0015】更にとりわけ電気工学及び電子工学ではモ
ジュールは益々コンパクトに成ってきている。満足のい
かない寸法精度は今日まで新しいプラスチック部材の開
発の際にステレオリソグラフィを一層広範に使用するこ
とを妨げている。
ジュールは益々コンパクトに成ってきている。満足のい
かない寸法精度は今日まで新しいプラスチック部材の開
発の際にステレオリソグラフィを一層広範に使用するこ
とを妨げている。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、寸法
精度が改善されたプラスチック部材の製造を可能にし、
機械的特性が比較的良好である故に機能性をテストでき
る明らかに収縮反応の少ないフォトポリマーを提供する
ことにある。
精度が改善されたプラスチック部材の製造を可能にし、
機械的特性が比較的良好である故に機能性をテストでき
る明らかに収縮反応の少ないフォトポリマーを提供する
ことにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明によ
り、請求項1に記載のフォトポリマーにより解決され
る。
り、請求項1に記載のフォトポリマーにより解決され
る。
【0018】即ち多数のアクリレート及びメタクリレー
ト化合物の収縮挙動の広範囲の研究の結果驚くべきこと
には、レーザによる硬化時に上記の構造式のアルコキシ
ル化ビスフェノールAのメタクリル酸エステルが比較的
に収縮率の極めて少ない成形材となることを示した。そ
の際メタクリレートの濃度の最適範囲が3〜8のアルコ
キシル化度nに相応して約1.9モル/kgから約3.
2モル/kgまでの間であることが判明している。
ト化合物の収縮挙動の広範囲の研究の結果驚くべきこと
には、レーザによる硬化時に上記の構造式のアルコキシ
ル化ビスフェノールAのメタクリル酸エステルが比較的
に収縮率の極めて少ない成形材となることを示した。そ
の際メタクリレートの濃度の最適範囲が3〜8のアルコ
キシル化度nに相応して約1.9モル/kgから約3.
2モル/kgまでの間であることが判明している。
【0019】メタクリレートの濃度を更に高めた場合メ
タクリレート基は完全には硬化されず、そのため比較的
長時間にわたる昼光では制御不能の後硬化の影響が寸法
変化を生じかねないため、長期的特性に悪影響を及ぼ
す。一方メタクリレートの濃度が低すぎるとプラスチッ
ク部材のモデルに必要な強度を持たない軟質のゴム状の
成形材が得られるに過ぎない。
タクリレート基は完全には硬化されず、そのため比較的
長時間にわたる昼光では制御不能の後硬化の影響が寸法
変化を生じかねないため、長期的特性に悪影響を及ぼ
す。一方メタクリレートの濃度が低すぎるとプラスチッ
ク部材のモデルに必要な強度を持たない軟質のゴム状の
成形材が得られるに過ぎない。
【0020】更に驚くべきことには、上述の構造式のア
ルコキシル化ビスフェノールAからのメタクリル酸エス
テルは単独で容易に(光開始剤と共に)収縮性の少ない
機械的に優れた成形材を形成するフォトポリマーになる
ことが判明している。更に以下に記載することは重要で
ある。メタクリレートがアクリレートに比べて重合速度
が明らかに遅いことは当業者にとって公知である。しか
し驚くべきことには、上記形式のメタクリレートの官能
性化合物の場合ステレオリソグラフィで反応性を特徴づ
ける通常の特性値、即ち臨界エネルギー(Critic
al Exposure)Ec及び侵透深さ(Pene
tration Depth)Dp(これに関してはニ
ューイエン(H.Nguyen)、リヒター(J.Ri
chter)、ヤコブス(P.E.Jacobs)によ
る「ラピッド・プロトタイプに関する第1回欧州会議議
事録(Proceedings of the 1st
European Conference on Ra
pid Prototyping)」1992年、第1
33〜161頁参照)はアクリレートの官能性化合物と
類似の値を達成することが判明している。ちなみに成形
材特性の最適化は、1.9から3.2モル/kgまでの
メタクリレート濃度の枠内にあるモル量分布のメタクリ
レート混合物で行われる。このメタクリレートの製造は
ビスフェノールAを酸化エチレンと反応させ、その際生
成されるジオールを公知の条件下にメタクリル酸でエス
テル化するようにして行われる。
ルコキシル化ビスフェノールAからのメタクリル酸エス
テルは単独で容易に(光開始剤と共に)収縮性の少ない
機械的に優れた成形材を形成するフォトポリマーになる
ことが判明している。更に以下に記載することは重要で
ある。メタクリレートがアクリレートに比べて重合速度
が明らかに遅いことは当業者にとって公知である。しか
し驚くべきことには、上記形式のメタクリレートの官能
性化合物の場合ステレオリソグラフィで反応性を特徴づ
ける通常の特性値、即ち臨界エネルギー(Critic
al Exposure)Ec及び侵透深さ(Pene
tration Depth)Dp(これに関してはニ
ューイエン(H.Nguyen)、リヒター(J.Ri
chter)、ヤコブス(P.E.Jacobs)によ
る「ラピッド・プロトタイプに関する第1回欧州会議議
事録(Proceedings of the 1st
European Conference on Ra
pid Prototyping)」1992年、第1
33〜161頁参照)はアクリレートの官能性化合物と
類似の値を達成することが判明している。ちなみに成形
材特性の最適化は、1.9から3.2モル/kgまでの
メタクリレート濃度の枠内にあるモル量分布のメタクリ
レート混合物で行われる。このメタクリレートの製造は
ビスフェノールAを酸化エチレンと反応させ、その際生
成されるジオールを公知の条件下にメタクリル酸でエス
テル化するようにして行われる。
【0021】光感受性を十分に調整するために0.1〜
10%のジメチルアクリレートに少なくとも1つのラジ
カル生成光開始剤を添加する。その際この光開始剤はス
テレオリソグラフィプロセスに使用された一般にUV範
囲の波長のレーザに適したものが選択される。このこと
はこのレーザ波長では光開始剤が光を吸収し、ラジカル
を生成することを意味する。光開始剤の濃度はステレオ
リソグラフィプロセスで選択された層厚が通常のレーザ
処理速度で硬化可能であるように調整される。例えば
0.1から0.2mmまでの層厚には濃度は0.05か
ら0.3mmまでの範囲の侵透深さが生じるように選択
される。
10%のジメチルアクリレートに少なくとも1つのラジ
カル生成光開始剤を添加する。その際この光開始剤はス
テレオリソグラフィプロセスに使用された一般にUV範
囲の波長のレーザに適したものが選択される。このこと
はこのレーザ波長では光開始剤が光を吸収し、ラジカル
を生成することを意味する。光開始剤の濃度はステレオ
リソグラフィプロセスで選択された層厚が通常のレーザ
処理速度で硬化可能であるように調整される。例えば
0.1から0.2mmまでの層厚には濃度は0.05か
ら0.3mmまでの範囲の侵透深さが生じるように選択
される。
【0022】原理上使用可能の光開始剤はベンゾイン、
ベンゾインエーテル、ベンジル、ベンジルケタール、ア
セトフェノン及びノリッシュI型に基づき反応するアシ
ル酸化ホスフィンのような化合物並びにベンゾフェノ
ン、チオキサントン及びカンフル(しょうのう)キノン
(ノリッシュII型に基づきラジカルを生成する)よう
な化合物である(カルボ(Leonard J.Cal
bo)著「塗料添加物便覧(Handbook of
Coatings Additives)」第2巻、第
1〜43頁、マーセル・デッカー社(Marcel D
ekker Inc.)1992年参照)。本発明によ
るフォトポリマーは種々の光開始剤の混合物を含んでい
てもよい。
ベンゾインエーテル、ベンジル、ベンジルケタール、ア
セトフェノン及びノリッシュI型に基づき反応するアシ
ル酸化ホスフィンのような化合物並びにベンゾフェノ
ン、チオキサントン及びカンフル(しょうのう)キノン
(ノリッシュII型に基づきラジカルを生成する)よう
な化合物である(カルボ(Leonard J.Cal
bo)著「塗料添加物便覧(Handbook of
Coatings Additives)」第2巻、第
1〜43頁、マーセル・デッカー社(Marcel D
ekker Inc.)1992年参照)。本発明によ
るフォトポリマーは種々の光開始剤の混合物を含んでい
てもよい。
【0023】レーザとしては一般にステレオリソグラフ
ィプロセスに使用されるアルゴンイオンレーザ、HeC
dレーザ及び周波数を倍増された固体レーザのようなレ
ーザが用いられる。その際次の光開始剤を使用すると有
利である。HeCdレーザ(325nm)で硬化する場
合は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び
アルゴンイオンレーザ(351/364nm)で硬化す
る場合2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル酸
化ホスフィン又は2−ベンジル−2−N,N−ジメチル
アミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノンが
使用される。本発明によるフォトポリマーには光増感
剤、光発生剤及び表面張力、湿潤及び脱ガス特性を変更
する添加剤が付加される。
ィプロセスに使用されるアルゴンイオンレーザ、HeC
dレーザ及び周波数を倍増された固体レーザのようなレ
ーザが用いられる。その際次の光開始剤を使用すると有
利である。HeCdレーザ(325nm)で硬化する場
合は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び
アルゴンイオンレーザ(351/364nm)で硬化す
る場合2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル酸
化ホスフィン又は2−ベンジル−2−N,N−ジメチル
アミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノンが
使用される。本発明によるフォトポリマーには光増感
剤、光発生剤及び表面張力、湿潤及び脱ガス特性を変更
する添加剤が付加される。
【0024】ステレオリソグラフィにより製造された成
形材の機械的特性を更に改善するにはメタクリル酸エス
テルにモル量≧1000g/モル及び二官能〜三官能性
のウレタンアクリレートを30%まで添加する。この種
の化合物はそれ自体公知である。それらは例えば二又は
三官能性のアルコールをジイソシアネートと反応させる
ようにして生成されるが、その際イソシアネート基とヒ
ドロキシル基の割合は少なくとも2:1である。生成さ
れたジ又はトリイソシアネートは更にヒドロキシ官能性
アクリレートと反応させることにより所望のウレタンア
クリレートに官能化される。イソシアネート基とヒドロ
キシル基のモル比を適切に選択することにより目的とす
るモル量に調整することができる。アルコールとしては
ポリエーテル、ポリエステル及びポリアルキレンポリオ
ール又はヒドロキシル基を末端基とするポリウレタンを
使用する。適したジイソシアネートには例えばトルイレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート及びジフェニルメタン
ジイソシアネートがある。ポリエステルポリオール及び
トルイレンジイソシアネートをベースとするウレタンア
クリレートが有利である。ウレタンアクリレートの製造
のもう1つの方法はオリゴマーのイソシアネート官能性
化合物をヒドロキシ官能性アクリレートと反応させるも
のである。ウレタンアクリレートのモル量は5000g
/モル以下であると有利である。モル量が増すにつれて
混合物の粘度が著しく高められ、ガラス遷移温度の低下
が観察される。
形材の機械的特性を更に改善するにはメタクリル酸エス
テルにモル量≧1000g/モル及び二官能〜三官能性
のウレタンアクリレートを30%まで添加する。この種
の化合物はそれ自体公知である。それらは例えば二又は
三官能性のアルコールをジイソシアネートと反応させる
ようにして生成されるが、その際イソシアネート基とヒ
ドロキシル基の割合は少なくとも2:1である。生成さ
れたジ又はトリイソシアネートは更にヒドロキシ官能性
アクリレートと反応させることにより所望のウレタンア
クリレートに官能化される。イソシアネート基とヒドロ
キシル基のモル比を適切に選択することにより目的とす
るモル量に調整することができる。アルコールとしては
ポリエーテル、ポリエステル及びポリアルキレンポリオ
ール又はヒドロキシル基を末端基とするポリウレタンを
使用する。適したジイソシアネートには例えばトルイレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート及びジフェニルメタン
ジイソシアネートがある。ポリエステルポリオール及び
トルイレンジイソシアネートをベースとするウレタンア
クリレートが有利である。ウレタンアクリレートの製造
のもう1つの方法はオリゴマーのイソシアネート官能性
化合物をヒドロキシ官能性アクリレートと反応させるも
のである。ウレタンアクリレートのモル量は5000g
/モル以下であると有利である。モル量が増すにつれて
混合物の粘度が著しく高められ、ガラス遷移温度の低下
が観察される。
【0025】
【実施例】本発明を実施例に基づき以下に詳述する。
【0026】後に記載する混合物を調整するために(メ
タ)クリレート成分を適当な攪拌容器に予め入れ、それ
に相応する分量の光開始剤を添加する。引続き室温で光
開始剤が完全に溶解するまで攪拌する。その際得られる
樹脂混合物の検査又は加工の前に攪拌された気泡が完全
に上昇し、はじけるまで待機する。この調整はUV光線
の排除下に行われる。
タ)クリレート成分を適当な攪拌容器に予め入れ、それ
に相応する分量の光開始剤を添加する。引続き室温で光
開始剤が完全に溶解するまで攪拌する。その際得られる
樹脂混合物の検査又は加工の前に攪拌された気泡が完全
に上昇し、はじけるまで待機する。この調整はUV光線
の排除下に行われる。
【0027】例1〜例6 以下の構造式
【化3】 のそれぞれエトキシル化ビスフェノール−A−ジアクリ
レート又は−ジメタクリレート及び光開始剤として3.
5質量部のベンジルジメチルケタールから成るフォトポ
リマーを使用する。
レート又は−ジメタクリレート及び光開始剤として3.
5質量部のベンジルジメチルケタールから成るフォトポ
リマーを使用する。
【0028】
【表 1】例 1 2 3 4 5 6 反応基 アクリ アクリ アクリ メタクリ メタクリ メタクリ レート レート レート レート レート レート R H H H CH3 CH3 CH3 二重結合含有量 (モル/kg) 3.89 3.53 2.72 3.85 3.15 1.95 n(二重結合含有量 から算出) 2.0 2.6 4.5 1.8 3.1 7.5 ガラス遷移温度(℃)1) 90 62 16 149 92 55 容量収縮率%2) 5.7 5.9 5.0 5.9 5.8 3.6 線収縮(x及びy方向)3) 2.1 2.1 2.3 1.2 0.9 0.7 置換率 87% 93% 100% 70% 97% 98% 臨界エネルギーEc (mJ/cm2)5) 3.6 3.0 3.0 4.5 3.8 3.7 侵透深さDp (mm)5) 0.19 0.17 0.16 0.18 0.16 0.16
【0029】表1注の注1)〜5)は次のとおりである。1) 機械的損失率tanδの最大値として定義されるガ
ラス遷移温度は1Hz及び5K/分の加熱率での動的力
学的測定により検出される。検体は水銀中圧照射器によ
り15J/cm2のUV線量で液状混合物をUV露光す
ることにより厚さ1mmに硬化されたもの。2) 容量収縮率は液状フォトポリマーと硬化された成形
材との密度の差から算出される。3) 液状フォトポリマーは上方が開放されている深さ1
mm、長さ10cmのアルミニウム型内に鋳込み、その
中で水銀中圧照射器の15J/cm2のUV線量でのU
V露光により硬化される。線収縮として検体条片の設定
長さと実際の長さとの差が評価される。4) 官能基の達成可能の変換はフォト−DSC検査から
検出される。19.2kcal/モルのアクリレート及
び13.6kcal/モルのメタクリレートに対する標
準反応エンタルピーと比べて測定された反応エンタルピ
ー(これに関してはパッパス(S.Peter Pap
pas)著「放熱カーリング−科学及びテクノロジー
(Radiation Curing − Scien
ce andTechnologie)」第61頁、プ
レナム・プレス(Plenum Press)社、ニュ
ーヨーク及びロンドン、1992年参照)。5) 焦点を合わせたアルゴンイオンレーザ(出力約60
mW)によりフォトポリマー表面上に平行及び重複する
線を描き、このようにして個々の層を硬化する。レーザ
速度及び線間隔の変化によりUV線量を変化させ、その
際厚さの異なる層が得られる。特性値Ec及びDpはそ
れ自体公知の方法で求められる(前記のプァイファ
(R.W.Pfeiffer)による議事録参照)。
ラス遷移温度は1Hz及び5K/分の加熱率での動的力
学的測定により検出される。検体は水銀中圧照射器によ
り15J/cm2のUV線量で液状混合物をUV露光す
ることにより厚さ1mmに硬化されたもの。2) 容量収縮率は液状フォトポリマーと硬化された成形
材との密度の差から算出される。3) 液状フォトポリマーは上方が開放されている深さ1
mm、長さ10cmのアルミニウム型内に鋳込み、その
中で水銀中圧照射器の15J/cm2のUV線量でのU
V露光により硬化される。線収縮として検体条片の設定
長さと実際の長さとの差が評価される。4) 官能基の達成可能の変換はフォト−DSC検査から
検出される。19.2kcal/モルのアクリレート及
び13.6kcal/モルのメタクリレートに対する標
準反応エンタルピーと比べて測定された反応エンタルピ
ー(これに関してはパッパス(S.Peter Pap
pas)著「放熱カーリング−科学及びテクノロジー
(Radiation Curing − Scien
ce andTechnologie)」第61頁、プ
レナム・プレス(Plenum Press)社、ニュ
ーヨーク及びロンドン、1992年参照)。5) 焦点を合わせたアルゴンイオンレーザ(出力約60
mW)によりフォトポリマー表面上に平行及び重複する
線を描き、このようにして個々の層を硬化する。レーザ
速度及び線間隔の変化によりUV線量を変化させ、その
際厚さの異なる層が得られる。特性値Ec及びDpはそ
れ自体公知の方法で求められる(前記のプァイファ
(R.W.Pfeiffer)による議事録参照)。
【0030】例4〜例6は、メタクリレートの官能性化
合物がx及びy方向に最小の収縮挙動を有することを示
し、これは既に説明したようにステレオリソグラフィの
ような層形成プロセスで特に有利である。それに対して
アクリレートはほぼ倍増された収縮率で作用し、明らか
に不利である(例1〜例3参照)。
合物がx及びy方向に最小の収縮挙動を有することを示
し、これは既に説明したようにステレオリソグラフィの
ような層形成プロセスで特に有利である。それに対して
アクリレートはほぼ倍増された収縮率で作用し、明らか
に不利である(例1〜例3参照)。
【0031】更に完全な置換及び容量収縮を低下させる
ために二重結合含有分ができるだけ僅かであると有利で
あることを示している。しかしこの効果はアクリレート
(例1〜例3)では<3.5モル/kg以下の二重結合
分で初めて顕著であり、16℃以上のガラス遷移温度の
明瞭な復帰と結び付く。従って生じた成形材の工業技術
上の使用を阻害する不十分な弾性率及び不十分な耐性と
結び付くものである。それに対してメタクリレート(例
5及び例6参照)の場合約3.2モル/kg以下の二重
結合分では最小化された収縮挙動が十分に高いガラス遷
移温度及び十分に高い官能基の置換と結び付く。更に高
い二重結合分(例4参照)では僅かなエトキシル化度に
相応して(高すぎるガラス遷移温度のため)不完全に硬
化された成形材が生じる。
ために二重結合含有分ができるだけ僅かであると有利で
あることを示している。しかしこの効果はアクリレート
(例1〜例3)では<3.5モル/kg以下の二重結合
分で初めて顕著であり、16℃以上のガラス遷移温度の
明瞭な復帰と結び付く。従って生じた成形材の工業技術
上の使用を阻害する不十分な弾性率及び不十分な耐性と
結び付くものである。それに対してメタクリレート(例
5及び例6参照)の場合約3.2モル/kg以下の二重
結合分では最小化された収縮挙動が十分に高いガラス遷
移温度及び十分に高い官能基の置換と結び付く。更に高
い二重結合分(例4参照)では僅かなエトキシル化度に
相応して(高すぎるガラス遷移温度のため)不完全に硬
化された成形材が生じる。
【0032】例7〜例12 これらの例は、ステレオリソグラフィにより製造された
成形材の機械的特性が30%までの特殊なウレタンアク
リレートの添加により改善可能であることを示す。その
際収縮挙動及び加工特性に悪影響を及ぼすことはない。
機械的特性を求めるための検体はアルゴンイオンレーザ
を有するステレオリソグラフィ装置(波長351nm及
び364nm)でレーザ出力50mWで製造される。個
々の層の厚さは0.1mmとなる。レーザの処理速度、
線間隔は0.3mmの硬化深さ(cure depth
=樹脂の硬化の深さ)Cdを達成するように選択され
る。得られたグリーン部分はUVA蛍光管で24時間後
露光される。
成形材の機械的特性が30%までの特殊なウレタンアク
リレートの添加により改善可能であることを示す。その
際収縮挙動及び加工特性に悪影響を及ぼすことはない。
機械的特性を求めるための検体はアルゴンイオンレーザ
を有するステレオリソグラフィ装置(波長351nm及
び364nm)でレーザ出力50mWで製造される。個
々の層の厚さは0.1mmとなる。レーザの処理速度、
線間隔は0.3mmの硬化深さ(cure depth
=樹脂の硬化の深さ)Cdを達成するように選択され
る。得られたグリーン部分はUVA蛍光管で24時間後
露光される。
【0033】
【表 2】例 7 8 9 10 11 12 組成(質量部) エトキシル化ビスフェノール −A−ジメタクリレート (3.15モル/kg 二重結合) 89 86.5 85.1 76.5 71.5 66.5 三官能性ポリエステル ウレタンアクリレート (モル量:1200) 7.5 10 15 20 25 30ベンジルジメチルケタール 3.5 3.5 3.5 3.5 3.0 3.0 加工特性 Ec(mJ/cm2)5) 4.05 4.03 4.06 4.9 3.33 3.27 Dp(mm)5) 0.14 0.15 0.15 0.14 0.17 0.18 25℃での粘度 (mPa.s) 850 1020 1180 1490 2200 2800 成形特性 弾性率(N/mm2) 1681 1870 1536 1562 1315 1372 亀裂膨張(%) 5.0 5.7 8.7 8.7 10.7 10.9 引張り強さ(N/mm2) 43 44 39 39 36 35 衝撃靱性(kJ/m2) (Izod - ISO 180 ) 23 29 31 35 38 43 線収縮(x及びy方向)(%)3) 1.04 1.02 1.24 1.21 1.27 1.37 注3)及び5)については表1を参照のこと。
【0034】例13〜例18 以下に記載する混合物の成形材特性は多色性に面露光さ
れた検体で検出されたものである。そのため液状のフォ
トポリマー混合物を適当な形のアルミニウム型に鋳込
み、水銀中圧照射器で15J/cm2のUV線量で露光
した。
れた検体で検出されたものである。そのため液状のフォ
トポリマー混合物を適当な形のアルミニウム型に鋳込
み、水銀中圧照射器で15J/cm2のUV線量で露光
した。
【0035】
【表 3】例 13 14 15 16 17 18 組成(質量部) エトキシル化ビスフェノール −A−ジメタクリレート (メタクリレート含有量 3.15モル/kg) 96.5 86.5 86.5 76.5 76.5 86.5 三官能性ポリエステル ウレタンアクリレート (モル量1200) - 10 - 10 10 - 二官能性ポリエステル ウレタンアクリレート (モル量900) - - 10 - - - 二官能性脂肪族 ウレタンアクリレート (モル量1500) - - - - - 10 六官能性芳香族 ウレタンアクリレート (モル量1000) - - - 10 - - 六官能性脂肪族 ウレタンアクリレート (モル量800) - - - - 10 -ベンジルジメチルケタール 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5
【0036】
【表 4】例 13 14 15 16 17 18 加工特性 Ec(mJ/cm2)5) 4.6 4.03 4.0 4.0 4.3 5.1 Dp(mm)5) 0.15 0.15 0.17 0.17 0.18 0.16 25℃での粘度 (mPa.s) 640 1020 960 1390 1400 970 注5)については表1を参照のこと。 成形特性 ガラス遷移温度(℃)1) 104 65 95 104 91 103 弾性率(N/mm2) 2825 2745 2650 2900 2830 1948 亀裂膨張(%) 5.7 8.7 5.7 4.4 3.6 9.0 引張り強さ(N/mm2) 63 59 56 62 59 41.6 衝撃靱性(kJ/m2) (シャルピー、切欠きなしで DIN53453) 16 32 17 13 14 16 注1)については表1を参照のこと。
【0037】これらの例により純粋なエトキシル化ビス
フェノール−A−ジメタクリレート(例13参照)の機
械的特性が特に二及び三官能性の≧1000g/モルの
モル量のウレタンアクリレートにより決定的に改善可能
であることが判明し、一方それに対して更に高い官能性
のウレタンアクリレート(例16及び例17)並びに短
鎖のウレタンアクリレート(例15)は作用しないか、
又はむしろ劣化し、特に亀裂膨張を減少させる。
フェノール−A−ジメタクリレート(例13参照)の機
械的特性が特に二及び三官能性の≧1000g/モルの
モル量のウレタンアクリレートにより決定的に改善可能
であることが判明し、一方それに対して更に高い官能性
のウレタンアクリレート(例16及び例17)並びに短
鎖のウレタンアクリレート(例15)は作用しないか、
又はむしろ劣化し、特に亀裂膨張を減少させる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フオルカー ムーラー ドイツ連邦共和国 90768 フユルト フ レーベルシユトラーセ 24 (72)発明者 ハイナー バイヤー ドイツ連邦共和国 82140 オルビング ドナウシユトラーセ 4ハー (72)発明者 ワルター フイツシヤー ドイツ連邦共和国 83026 ローゼンハイ ム ハイリツヒ‐ガイスト‐シユトラーセ 54
Claims (5)
- 【請求項1】 特にステレオリソグラフィ用のメタクリ
レートベースのフォトポリマーにおいて、以下の組成:
構造式 【化1】 [式中n=3〜8を表す]のジメチルアクリレート60
〜95%、ラジカルを生成する少なくとも1つの光開始
剤1〜10%、モル量≧1000g/モルの二及び/又
は三官能性のウレタンアクリレート0〜30%、添加物
0〜10%、(その際個々の成分の分量は合わせて10
0質量%となる)を特徴とするメタクリレートベースの
フォトポリマー。 - 【請求項2】 ジメチルアクリレートが1.9〜3.2
モル/kgのメタクリレート含有量を有することを特徴
とする請求項1記載のフォトポリマー。 - 【請求項3】 ウレタンアクリレートのモル量が100
0〜5000g/モルであることを特徴とする請求項1
又は2記載のフォトポリマー。 - 【請求項4】 光開始剤が1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル酸化ホスフィ
ン又は2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1
−(4−モルホリノフェニル)−ブタノールであること
を特徴とする請求項1乃至3の1つに記載のフォトポリ
マー。 - 【請求項5】 ステレオリソグラフィによる成形材の製
造に使用することを特徴とする請求項1乃至4の1つに
記載のフォトポリマー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19638988 | 1996-09-23 | ||
| DE19638988.7 | 1996-09-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101754A true JPH10101754A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=7806611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27043997A Withdrawn JPH10101754A (ja) | 1996-09-23 | 1997-09-17 | フォトポリマー |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0831372A1 (ja) |
| JP (1) | JPH10101754A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008189782A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Cmet Inc | 面露光による光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP2008189783A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Cmet Inc | 面露光による光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP2010229366A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物とその硬化物 |
| JPWO2018105463A1 (ja) * | 2016-12-05 | 2020-05-28 | Dic株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
| JP2020147623A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | Dic株式会社 | 硬化物、立体造形物及び硬化物の製造方法 |
| EP4414393A1 (en) | 2023-02-10 | 2024-08-14 | Ricoh Company, Ltd. | Curable composition, cured product, method of producing cured product, and apparatus for producing cured product |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3654422B2 (ja) * | 2000-01-31 | 2005-06-02 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
| AU2002228454A1 (en) | 2001-01-12 | 2002-07-24 | Dsm N.V. | Urethane-acrylic coatings for optical fiber |
| US6872760B2 (en) | 2003-02-06 | 2005-03-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Radiation-curable composition for optical fiber coating materials |
| US7064154B2 (en) | 2003-02-06 | 2006-06-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Radiation-curable composition for optical fiber coating materials |
| DE102004050868A1 (de) * | 2004-10-18 | 2006-04-20 | Dreve Otoplastik Gmbh | Niedrigviskose, strahlungshärtbare Formulierung zur Herstellung von Ohrpassstücken |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS581142A (ja) * | 1981-06-25 | 1983-01-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 |
| JPS5888741A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 |
| EP0674225A1 (en) * | 1994-03-16 | 1995-09-27 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive film |
| EP0675411A1 (en) * | 1994-03-31 | 1995-10-04 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive film using the same |
| GB9504995D0 (en) * | 1995-03-11 | 1995-04-26 | Zeneca Ltd | Compositions |
-
1997
- 1997-09-11 EP EP97115839A patent/EP0831372A1/de not_active Withdrawn
- 1997-09-17 JP JP27043997A patent/JPH10101754A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008189782A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Cmet Inc | 面露光による光学的立体造形用樹脂組成物 |
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| EP4414393A1 (en) | 2023-02-10 | 2024-08-14 | Ricoh Company, Ltd. | Curable composition, cured product, method of producing cured product, and apparatus for producing cured product |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0831372A1 (de) | 1998-03-25 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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