JPH10102007A - 光ディスク基板貼り合わせ用接着剤及び光ディスクの製造方法 - Google Patents

光ディスク基板貼り合わせ用接着剤及び光ディスクの製造方法

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JPH10102007A
JPH10102007A JP8262168A JP26216896A JPH10102007A JP H10102007 A JPH10102007 A JP H10102007A JP 8262168 A JP8262168 A JP 8262168A JP 26216896 A JP26216896 A JP 26216896A JP H10102007 A JPH10102007 A JP H10102007A
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group
optical disk
substituted
adhesive
unsaturated compound
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Application number
JP8262168A
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English (en)
Inventor
Takeo Watanabe
岳男 渡辺
Shuichi Sugita
修一 杉田
Hirotoshi Kamata
博稔 鎌田
Kazuhiko Oga
一彦 大賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短時間に複雑な工程を必要とせずに光ディス
ク基板の変形、侵食がなく、かつ極めて強い接着力が得
られ長期にわたって優れた耐久性と信頼性を具備する光
ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物及び該接着剤に
よる光ディスクの製造方法を提供する。 【解決手段】 従来用いられてきた光ディスク基板貼り
合わせ用接着剤に用いられている紫外光重合開始剤に変
えて、より長波長領域に吸収を有する、特定の構造を有
する可視光重合開始剤を用いること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク基板貼
り合わせ用接着剤及び貼り合わせた光ディスクの製造方
法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、不透
明な2枚の光ディスク基板を光硬化を用いて短時間で貼
り合わせることができ、また貼り合わせた光ディスクは
長期にわたって十分な接着強度を有する、特にデジタル
ビデオディスク対応光ディスク(以下DVD)の製造方
法に好適な光ディスクの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】高密度、高精度の記録媒体として有用な
光ディスクは、基板上に光記録層を形成し、この光記録
層にレーザービーム等を照射して、情報の記録、再生を
行うものである。一般的にこの光ディスクはガラスやプ
ラスチックなどの基板に記録層を形成した光ディスク基
板に保護板を貼り合わせたり、またはこの光ディスク基
板を相互に張り合わせた構造が採用されている。
【0003】電子技術1996年8月号、p−52及び
日経サイエンス1996年9月号p−28によると、高
容量かつ高画質のデジタル画像の記録媒体として注目さ
れるDVDは、従来のコンパクトディスク(以下CD)
のトラックピッチ、最短ピット長を共に半分以下にし、
直径12cmの単板で4.7Gバイトの高容量を実現し
ている。2層両面のDVD用光ディスクでは、厚さ0.
6mmの単板を2枚貼り合わせるため記録容量は9.4
Gバイトになる。
【0004】電子技術1995年7月号によると、読み
取り方式によって次のSD(Super Densit
y Disc)規格があり、それぞれ片面読み取りのS
D−5、両面読み取りのSD−10、片面2層読み取り
のSD−9、両面2層読み取りのSD−18、追記録型
のSD−R、書き換え可能のSD−RAMである。
【0005】このうちSD−5に分類さるDVDは、前
記の記録層を形成した面にアルミニウム等の金属の反射
層を形成させ、その面に保護板を貼り合わせることによ
って製造できる。SD−9に分類されるDVDは Natio
nal Technical Report Vol.41 No.6 p-608-621 Dec.199
5によると、記録層面に各種金属あるいは誘電体材料に
よって形成された半透明層を有する基板と、記録面に反
射層が形成された基板とを両信号面を対向させて貼り合
わせることによって製造できる。SD−10に分類され
るDVDは、記録面に反射膜を形成させた基板を、反射
膜が共に内側になるように2枚貼り合わせることによっ
て製造できる。
【0006】従来この貼り合わせには、エポキシ系接着
剤等で貼り合わせる方法や、単板ディスク上にホットメ
ルト接着剤を塗布し、もう一枚のホットメルト接着剤を
塗布した単板ディスクを重ね合わせエアースプレー等で
貼り合わせる方法、両面粘着テープにより貼り合わせる
方法等が用いられている。
【0007】しかし、エポキシ系接着剤を用いる方法
は、2液ならば2液を評量、混合する操作が必要とな
り、複雑な工程となる上、ポットライフの問題があり、
また加熱硬化するとき部材固定用治具を長時間使用する
など極めて生産性が悪く、また硬化方法が加熱であるた
め、基板が変形するおそれがある。
【0008】また、ホットメルト接着剤を用いた貼り合
わせ方法では、粘着剤を熱溶解しなければならず、溶融
温度が高いと基板が変形するおそれがあり、また溶融温
度を下げると高粘度になり扱いが困難になり、また塗布
厚が必要以上に厚くなる等の欠点があった。
【0009】さらに、両面テープを用いた貼り合わせ方
法では、基板の形状に両面テープを切断し、ついで片側
の離型紙を剥離して一方の基板に貼り、次いでテープの
もう一方の離型紙を剥離してから他方の基板を貼り付け
るという、非常に工程数が多くまた自動化が極めて困難
な方法である。
【0010】これらの問題点を解決するために、特開平
5−194928や特開平2−195541や特開平5
−67361に見られるように接着剤に光硬化性を付与
し、接着強度が大きく、貼り合わせ時の歪みが小さい紫
外線(UV)硬化接着剤の開発が進んでいる。この紫外
線硬化接着剤に用いることができる紫外光重合開始剤
は、カルボニル系、アゾ系、ジアゾ系、ハロゲン化物系
等、従来既知のものを単独、または複数の組み合わせが
ある。
【0011】しかし、一般に、アルミニウム蒸着膜等の
反射膜層を設けた不透明な光ディスク基板は、300n
m付近の光の透過率は極めて小さく、従来のこれらの紫
外光開始剤は反射膜層を介しては十分に分解できなかっ
た。それゆえ、いずれも充分な接着力がないため、長期
にわたりフォーカスエラーやトラックエラー等の誤作動
のない貼り合わせた光ディスクを得る事が不可能であっ
た。また、光ディスク基板であるポリカーボネート等の
プラスチック素材やアルミ蒸着層を侵食する重合開始剤
が多く、実用的に問題があった。
【0012】近年、特開平8−167172に透明基板
とハブとを光硬化性樹脂にて接着することにより光ディ
スクを製造する方法が公開されている。しかし、この方
法では片方の基板が透明であることが必須であり、光デ
ィスク基板のアルミニウム等の金属蒸着膜等が設けられ
た、不透明な光ディスク基板同士の張り合わせには適用
できない。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明はアルミニウム
蒸着膜等の反射膜層を設けた、不透明な2枚の光ディス
ク基板を貼り合わせて、片面2層光ディスクまたは両面
光ディスクを製造する場合の以上のような問題点を解決
するものである。
【0014】すなわち、本発明の目的は、短時間に複雑
な工程を必要とせずに光ディスク基板の変形、侵食がな
く、かつ極めて強い接着力が得られ長期にわたって優れ
た耐久性と信頼性を具備する光ディスク基板貼り合わせ
用接着剤組成物及び該接着剤による光ディスクの製造方
法を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記問題点
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、従来用いられてき
た光ディスク基板貼り合わせ用接着剤に用いられている
紫外光重合開始剤に変えて、より長波長領域に吸収を有
する、特定の構造を有する可視光重合開始剤を用いるこ
とによって上記問題が解決することを見い出し、本発明
を完成するに至った。
【0016】すなわち本発明によると、重合性不飽和化
合物と光重合開始剤である一般式(1)のビスアシルホ
スフィンオキサイド化合物及び/または一般式(2)の
アシルホスフィンオキサイド化合物を含有することを特
徴とする光ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物
【0017】一般式(1);
【化3】 (式中、R1 〜R3 はそれぞれ独立してアルキル基、ア
リール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール
基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル
基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す) 一般式(2);
【化4】 (式中、R4 〜R6 はそれぞれ独立してアルキル基、ア
リール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール
基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル
基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す)
【0018】及び、上記の接着剤組成物を、貼り合わせ
る2枚の光ディスク基板のうち一方または両方の面に対
し塗布した後に貼り合わせ、光重合開始剤の吸収波長を
含む光を一方の面、または両面に照射して接着硬化させ
ることを特徴とする光ディスク基板の貼り合わせによる
光ディスクの製造方法を開発することにより上記の目的
を解決した。
【0019】本発明の特徴としては、光ディスク基板貼
り合わせ用接着剤組成物の光重合開始剤として、一般式
(1)で表されるビスアシルホスフィンオキサイド化合
物及び/または一般式(2)のアシルホスフィンオキサ
イド化合物を使用することが挙げられる。
【0020】これらの開始剤は、従来の紫外光重合開始
剤よりも長波長領域(400nm以上の可視光領域)に
感光性があるため、光ディスク基板のアルミニウム蒸着
膜等の反射膜層を透過し得る照射光により、効率良く分
解できる。さらに、光照射により開裂してアシルラジカ
ルとホスフィノイルラジカルを発生するので、従来の紫
外光重合開始剤よりも重合開始効率が高いとされてい
る。
【0021】(ビス)アシルホスフィン化合物を光重合
開始剤として用いた例としては、特開昭61−1302
96号、特開平2−1401等、特開平4−18091
1号特開平8−167172号等が挙げられる。しか
し、いずれも歯科材料用組成物あるいはレンズ、プリズ
ム等の光硬化に応用しているにすぎず、光ディスク基板
の貼り合わせに関しても一方が透明基板にのみ適用され
ているにすぎなかった。
【0022】本発明で用いられる一般式(1)のビスア
シルホスフィンオキサイド化合物の具体例としては、ビ
ス(2,6−ジクロルベンゾイル)−フェニルホスフィ
ンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−
2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス
(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−エトキシフェニ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベン
ゾイル)−4−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビ
ス(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−プロピルフェ
ニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベ
ンゾイル)−2−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス
(2,6−ジクロルベンゾイル)−1−ナフチルホスフ
ィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)
−4−クロルフェニルホスフィンオキサイド、ビス
(2,6−ジクロルベンゾイル)−2,4−ジメトキシ
フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロ
ルベンゾイル)−デシルホスフィンオキサイド、ビス
(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−オクチルフェニ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベン
ゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサ
イド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−フェニル
ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチル
ベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオ
キサイド、ビス(2,6−ジクロル−3,4,5−トリ
メトキシベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホス
フィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロル−3,4,
5−トリメトキシベンゾイル)−4−エトキシフェニル
ホスフィンオキサイド、ビス(2−メチル−1−ナフト
イル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−2,5−フ
ェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メチル−1−
ナフトイル)−4−ビフェニリルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−4−エトキ
シフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メチル−
1−ナフトイル)−2−ナフチルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−4−プロピ
ルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メトキシ
−1−ナフトイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフ
ィンオキサイド、ビス(2−メトキシ−1−ナフトイ
ル)−4−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビ
ス(2−メトキシ−1−ナフトイル)−4−ビフェニリ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2−クロル−1−ナフ
トイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサ
イド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,
4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を
挙げることができる。
【0023】また、一般式(2)のアシルホスフィンオ
キサイド化合物の具体例としては、2,4,6−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、p−
トルイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、4−t−
ブチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1
−メチルシクロヘキサノイル−ジフェニルホスフィンオ
キサイド等が挙げられる。中でも、ビス(2,6−ジメ
トキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチル
ホスフィンオキサイドと、2,4,6−トリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが好ましく、ビ
ス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ト
リメチルペンチルホスフィンオキサイドが最も好まし
い。
【0024】これらの開始剤は、重合性不飽和化合物総
量100重量部に対して0.01〜50.0重量部の比
率で添加される。好ましくは0.1〜20.0重量部、
さらに好ましくは1.0〜10.0重量部である。これ
らの開始剤の添加量が、重合性不飽和化合物総量100
重量部に対して0.01重量部より少ない場合には、硬
化が十分に進行せず、接着強度が不足するおそれがあ
る。また、これらの開始剤の添加量が重合性不飽和化合
物総量100重量部に対して50.0重量部より多い場
合は、ラジカル発生量が極めて多くなりすぎ、接着層の
樹脂の分子量が小さくなり、接着強度が不足するおそれ
がある。
【0025】また、これらの重合開始剤は、一種のみ単
独でも、二種以上混合して用いてもかまわない。
【0026】(ビス)アシルホスフィンオキサイド化合
物の合成法は、特開昭61−130296、特開昭55
−13794号等に開示されている。さらに詳細に関し
ては、特公昭60−8047号、特開昭61−1302
96号、特開平6ー298818号、特開平7−620
10号等に記載されている。
【0027】本発明に用いられる重合性不飽和化合物
は、ラジカル重合性の不飽和基を有する化合物であり、
(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基等を有するモ
ノマー、オリゴマー、樹脂類であれば特に制限はない
が、硬化後の基板への接着性を高めるため、硬化時の体
積収縮率が小さい化合物を用いることが好ましい。具体
的には、重合性不飽和化合物全体の硬化時の体積収縮率
が15%以下、より好ましくは10%以下である。な
お、この硬化時の体積収縮率に関しては、「熱硬化性高
分子の精密化(株式会社CMC出版 1986年発
行)」のp−1〜41に記載がある。
【0028】硬化時の体積収縮率が小さい化合物として
は、分子内にかさ高い環状置換基を有する不飽和化合物
が挙げられる。該環状置換基としては、フェニル、ナフ
チル、ピリジル等の芳香族置換基、シクロヘキシル、イ
ソボルニル、ジシクロペンタジエニル基等の脂環式置換
基等が挙げられるが、中でも脂環式置換基を有する不飽
和化合物が特に好ましい。
【0029】具体的にはジメチロールジシクロペンタジ
エニレンジ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプ
ロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0030】また、上記低収縮性不飽和化合物以外の重
合性不飽和モノマーとしては、スチレン、α−メチルス
チレン、p−メチルスチレン、クロロスチレン等の芳香
族モノマー、メチルメタクリレート、イソブチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート等の(メ
タ)アクリレートモノマー、N,N−ジメチルアクリル
アミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−アクリ
ロイルモルホリン等のN−置換アクリルアミド等が挙げ
られる。また本発明で用いられる重合性不飽和オリゴマ
ー、樹脂類としては、不飽和ポリエステル樹脂、ビニル
エステル樹脂、硬化性(メタ)アクリル樹脂等が挙げら
れる。
【0031】不飽和ポリエステルとしては、一般に知ら
れている、酸またはその無水物と、アルコールを公知の
方法で反応させて得られる物等が使用される。
【0032】また、ビニルエステル樹脂としては、公知
の方法により製造されるもので、エポキシ樹脂に(メ
タ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)
アクリレート、あるいは飽和ジカルボン酸及び/または
不飽和ジカルボン酸と多価アルコールから得られる末端
カルボキシル基のポリエステルにα,β−不飽和カルボ
ン酸エステル基を含有するエポキシ化合物を反応させて
得られるポリエステル(メタ)アクリレート等が挙げら
れる。
【0033】また、硬化性(メタ)アクリル樹脂は、具
体的には、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等の(メタ)アクリレートやヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレートとイソシアネート基を有する
化合物との反応でできるウレタンアクリレート等が挙げ
られる。
【0034】また本発明の重合性不飽和化合物として、
アルミ蒸着面との付着性を上げるために、リン酸基含有
不飽和化合物を少量存在させることが好ましい。具体例
としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
のリン酸エステル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレートのカプロラクトン変性物のリン酸エステル等が
挙げられ、市販品が容易に入手可能である。添加量は
0.01〜10重量部の範囲、好ましくは0.1〜5重
量部の範囲である。リン酸基含有不飽和化合物の添加量
が0.01重量部以下では、その効果が認められず、ま
た10重量部以上では、基板あるいはアルミ蒸着面を侵
食するおそれがある。
【0035】さらに、本発明の組成物には硬化反応を効
率よく進行させる目的や、光照射終了後の後硬化で目的
の接着強度を得るために、各種重合促進剤等を配合して
もよい。重合促進剤としては他の光重合開始剤、熱重合
開始剤、レドックス重合開始剤等が挙げられる。
【0036】また本発明の組成物に熱重合開始剤も添加
可能であり、具体的にはt−ブチルパーオキシピバレー
ト、ラウロイルパーオキサイド等の各種過酸化物、アゾ
ビスイソブチロニトリル等の親油性アゾビス化合物等が
挙げられる。
【0037】更に本発明の組成物には、一般に塗料用添
加剤として用いられているレベリング剤、可塑剤、消泡
剤、増粘剤、重合禁止剤、酸化防止剤等を必要に応じ
て、貼り合わせた2枚の光ディスク基板の接着強度を損
なわない程度に添加することができる。
【0038】また、本発明の接着剤組成物は溶剤等で希
釈し粘度を低下して使用することもできる。溶剤は一般
に市販されているものでかまわないが、反射膜や光ディ
スク基板を腐食、白化するものは使用できない。
【0039】本発明の2枚の光ディスク基板の光硬化に
よる貼り合わせ方法は、一般に次のような手順で行われ
る。SD−5に分類されるDVDでは、まず、一方の光
ディスク基板を金属蒸着面を上側にして回転テーブルに
真空吸着させて固定し、低速で回転しながら本発明の接
着剤組成物を滴下する。次に、保護板となる基板を重ね
合わせ、高速回転させることにより接着剤組成物を広げ
る。SD−9に分類されるDVDは半透明層を上側にし
て回転テーブルに真空吸着させて固定し、低速で回転し
ながら本発明の接着剤組成物を滴下する。次に記録面に
反射層が形成された基板とを両信号面を対向させて重ね
合わせ、高速回転させることにより接着剤組成物を広げ
る。SD−10に分類されるDVDは、一方の光ディス
ク基板を金属蒸着面を上側にして回転テーブルに真空吸
着させて固定し、低速で回転しながら本発明の接着剤組
成物を滴下する。次に、もう一方の光ディスク基板の金
属蒸着面信号面を下側にして上から重ね合わせ、高速回
転させることにより接着剤組成物を広げる。
【0040】このように高速回転させた時、余分な接着
剤組成物は基板外周端から吐出され必要量の接着剤だけ
が貼り合わされる2枚の光ディスク基板に狭持される。
この後、2枚の光ディスク基板の位置ずれが生じないよ
うに治具に固定しベルトコンベアー等の装置上で少なく
とも一方の面から表面に、本発明で用いている(ビス)
アシルホスフィンオキサイド化合物及び添加した他の光
重合開始剤の吸収波長を含む光を照射することにより重
合性不飽和化合物を硬化せしめ中間層を形成し、貼り合
わされた光ディスクが得られる。
【0041】また別の方法として、貼り合わせる光ディ
スク基板の一方を回転テーブルに真空吸着させて固定
し、回転していない状態もしくは低速で回転しながら本
発明の接着剤組成物を滴下する。次に、高速回転させる
ことにより接着剤を広げ、余分な接着剤組成物を基板外
周端から除去し、もう一方の光ディスク基板を上から重
ね合わせる。この後、前記方法と同様の光照射による硬
化工程を経て貼り合わせた光ディスクが得られる。
【0042】接着剤組成物の塗布方法は上記方法に限定
されるものではなく、手、ヘラ、ロールコート、スプレ
ー等の公知の手段を用いて任意の厚さの接着中間層とし
てもよい。
【0043】光照射は、組成物中の開始剤の感光波長領
域に分光分布を有しかつ光反応を生起し得る強度の光照
射が出来る光源であればよく、例えばハロゲンランプ、
キセノンランプ、水銀ランプ、メタルハライドランプ、
太陽光等が使用される。光開始剤の感光波長に適合させ
るために、2種以上の光源を併用することも出来る。本
発明の貼り合わせた光ディスクの製造方法に必要な光強
度は開始剤の感光性(光感度)、重合性化合物の硬化
性、量、などにより異なるが、一般には10mJ/cm
2 以上、好ましくは100mJ/cm2 以上の光強度で
ある。光強度が低すぎると光反応が十分に進行せず、接
着強度が不十分であるおそれがある。また過度の光強度
では光ディスクの反り等の変形が生じ好ましくない。
【0044】光の波長に関しては、400nmより短い
波長の光のみでは安全性に問題があり、また深さ方向の
硬化が不均一になるおそれがある。
【0045】また重合反応を促進するために、光ディス
ク基板を反り等の変形がしない程度に加温して接着工程
を行うことも出来る。一般にハロゲンランプ等、赤外領
域に分光を有する光を照射すると熱線の作用により被照
射物の品温が上昇し、硬化反応を促進するので好まし
い。
【0046】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明する。た
だし、本発明が以下の実施例に限定されるものではな
い。また以下の説明で断りのない場合は、『部』は重量
部をあらわす。
【0047】(実施例1)直径120mm、厚さ1.2
mmのDVD用ポリカーボネート基板のアルミニウム蒸
着面側に下記組成1(体積収縮率6.5%)からなる接
着剤組成物を均一に塗布し、もう一方の光ディスク基板
のアルミニウム蒸着面を貼り合わせ、2kg/cm2
圧力をかけて接合した。コンベア式メタルハライドラン
プ(照射エネルギー1J/cm2 )を照射高さ10c
m、1.4m/分のスピードで照射し、2枚のDVD間
の接着層を形成せしめ、貼り合わせた両面DVDを得
た。 組成1 ライトアクリレートDCP−A※ 100部 ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4 −トリメチルペンチルホスフィンオキサイド 3部 ※ライトアクリレートDCP−Aは、共栄社化学社製ジメチロールジシクロペ ンタジエニレンジアクリレートの商品名である。 このようにしてできた接合面を80℃、90%相対湿度
の恒温恒湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部に
も剥離が見られず、充分な接着がされていることがわか
った。
【0048】(実施例2)実施例1の組成1の代わりに
下記組成2の接着剤組成物(体積収縮率7%)を用いる
以外は全く同様にして試験を行った。 組成2 ライトアクリレートDCP−A 100部 カヤマーPM2※ 0.5部 ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4 −トリメチルペンチルホスフィンオキサイド 3部 ※カヤマーPM2は、日本化薬社製のリン酸基含有の重合性不飽和化合物の商 品名である。 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0049】(実施例3)実施例1の組成1の代わりに
下記組成3の接着剤組成物(体積収縮率6.5%)を用
いる以外は全く同様にして試験を行った。 組成3 ライトアクリレートDCP−A 100部 2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド 3部 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0050】(実施例4)実施例1の組成1の代わりに
下記組成4の接着剤組成物(体積収縮率7%)を用いる
以外は全く同様にして試験を行った。 組成4 ライトアクリレートDCP−A 100部 カヤマーPM2 0.5部 2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド 3部 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0051】(実施例5)実施例1の組成1の代わりに
下記組成5の接着剤組成物(体積収縮率9%)を用いる
以外は全く同様にして試験を行った。 組成5 ライトアクリレートDCP−A 50部 EB−810※ 50部 カヤマーPM2 0.5部 ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4 −トリメチルペンチルホスフィンオキサイド 3部 ※EB−810はダイセル・UCB社製ポリエステルアクリレート 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0052】(実施例6)実施例1の組成1の代わりに
下記組成6の接着剤組成物(体積収縮率8%)を用いる
以外は全く同様にして試験を行った。 組成6 ライトアクリレートDCP−A 50部 EB−3701※ 50部 カヤマーPM2 0.5部 2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド 3部 ※EB−3701はダイセル・UCB社製エポキシアクリレートの商品名であ る。 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0053】(実施例7)実施例1の組成1の代わりに
下記組成7の接着剤組成物(体積収縮率7%)を用いる
以外は全く同様にして試験を行った。 組成7 ライトアクリレートDCP−A 100部 カヤマーPM2 0.5部 ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4 −トリメチルペンチルホスフィンオキサイド 2部 2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド 2部 同様にできた接合面を80℃、90%相対湿度の恒温恒
湿槽に7日間入れた後観察したところ、端部にも剥離が
見られず、充分な接着がされていることがわかった。
【0054】(比較例1)直径120mm、厚さ1.2
mmのDVD用ポリカーボネート基板のアルミニウム蒸
着面側にセメダインHM408(セメダイン(株)製、
光ディスク用ホットメルト接着剤)を均一に塗布し、も
う一方の光ディスク基板にも同様に塗布し、接着面同士
を張り合わせ、2kg/cm2 の圧力をかけて接合し
た。このようにしてできた接合面を80℃、90%相対
湿度の恒温恒湿槽に7日間入れた後観察したところ、端
部から剥離を生じていた。
【0055】(比較例2)実施例1の組成1の代わりに
下記組成8の接着剤組成物を用いる以外は全く同様にし
て試験を行った。 組成8 ライトアクリレートDCP−A 100部 イルガキュアー500 (チバガイギー社製) 3部 このようにしてできた接着層は半硬化状であり、接着面
は簡単に剥離してしまい、強度が全く不足していた。
【0056】(比較例3)実施例1の組成1の代わりに
下記組成9の接着剤組成物を用いる以外は全く同様にし
て試験を行った。 組成9 ライトアクリレートDCP−A 100部 カヤマーPM2 0.5部 イルガキュアー500 3部 このようにしてできた接着層は半硬化状であり、接着面
は簡単に剥離してしまい、強度が全く不足していた。
【0057】(比較例4)実施例1の組成1の代わりに
下記組成10の接着剤組成物を用いる以外は全く同様に
して試験を行った。 組成10 ライトアクリレートDCP−A 100部 ダロキュア1173 (チバガイギー社製) 3部 このようにしてできた接着層は半硬化状であり、接着面
は簡単に剥離してしまい、強度が全く不足していた。
【0058】(比較例5)実施例1の組成1の代わりに
下記組成11の接着剤組成物を用いる以外は全く同様に
して試験を行った。 組成11 ライトアクリレートDCP−A 100部 カヤマーPM2 0.5部 ダロキュア1173 3部 このようにしてできた接着層は半硬化状であり、接着面
は簡単に剥離してしまい、強度が全く不足していた。
【0059】
【発明の効果】本発明により、低収縮性の重合性不飽和
化合物を含む重合性化合物及び特定の光重合開始剤とか
らなる光ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物を用い
て、短時間に、複雑な工程を必要とせずに、光ディスク
基板が変形がなく、かつ極めて強い接着力が得られ長期
にわたって優れた耐久性と信頼性を具備する貼り合わせ
た光ディスク製造のための接着剤組成物及びその製造方
法が提供された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大賀 一彦 千葉県千葉市緑区大野台1丁目1番1号 昭和電工株式会社総合研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重合性不飽和化合物及び光重合開始剤で
    ある一般式(1)で表されるビスアシルホスフィンオキ
    サイド化合物及び/または一般式(2)で表されるアシ
    ルホスフィンオキサイド化合物を含有することを特徴と
    する、光ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物。 一般式(1); 【化1】 (式中、R1 〜R3 はそれぞれ独立してアルキル基、ア
    リール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
    ルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール
    基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル
    基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す) 一般式(2); 【化2】 (式中、R4 〜R6 はそれぞれ独立してアルキル基、ア
    リール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
    ルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール
    基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル
    基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す)
  2. 【請求項2】 重合性不飽和化合物、光重合開始剤であ
    る一般式(1)で表されるビスアシルホスフィンオキサ
    イド化合物及び/または一般式(2)で表されるアシル
    ホスフィンオキサイド化合物、及びリン酸基含有不飽和
    化合物を含有することを特徴とする、請求項1記載の光
    ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物。
  3. 【請求項3】 重合性不飽和化合物の体積収縮率が10
    %未満である請求項1又は2記載の光ディスク基板貼り
    合わせ用接着剤組成物。
  4. 【請求項4】 リン酸基含有不飽和化合物の含有量が、
    組成物全体の0.01〜10重量%である、請求項2記
    載の光ディスク基板貼り合わせ用接着剤組成物。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4記載の接着剤組成物を、貼
    り合わせる2枚の光ディスク基板の少なくとも一方に塗
    布し、重ね合わせた後に光重合開始剤の吸収波長を含む
    光を光ディスク基板の一方、または両面から照射して接
    着硬化することを特徴とする光ディスクの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2015045758A1 (ja) * 2013-09-26 2015-04-02 富士フイルム株式会社 粘着剤組成物、粘着シート、タッチパネル用積層体および静電容量式タッチパネル

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