JPH1010431A - 反射屈折光学系 - Google Patents

反射屈折光学系

Info

Publication number
JPH1010431A
JPH1010431A JP8180013A JP18001396A JPH1010431A JP H1010431 A JPH1010431 A JP H1010431A JP 8180013 A JP8180013 A JP 8180013A JP 18001396 A JP18001396 A JP 18001396A JP H1010431 A JPH1010431 A JP H1010431A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
lens group
image
imaging optical
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8180013A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1010431A5 (ja
Inventor
Yasuhiro Omura
泰弘 大村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8180013A priority Critical patent/JPH1010431A/ja
Priority to KR1019970021294A priority patent/KR980005328A/ko
Priority to DE19726058A priority patent/DE19726058A1/de
Publication of JPH1010431A publication Critical patent/JPH1010431A/ja
Publication of JPH1010431A5 publication Critical patent/JPH1010431A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0892Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70275Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 像側において十分大きな開口数および作動距
離を有し、紫外線波長域でクオーターミクロン単位の解
像度を有する小型の反射屈折光学系。 【解決手段】 物体面からの光に基づいて物体面の中間
像を形成するための第1結像光学系S1と、中間像から
の光に基づいて物体面の縮小像を形成するための第2結
像光学系S2と、中間像が形成される位置の近傍に配置
され第1結像光学系S1を介した光を第2結像光学系S
2に向かって偏向するための第1光路偏向部材M1とを
備えている。第1結像光学系S1は凹面反射鏡CMを有
し、物体面からの光は凹面反射鏡CMで反射された後
に、第1結像光学系S1の光路中に中間像を形成し、条
件式(1)および(2)を満足する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は反射面と屈折面とを
有する反射屈折縮小光学系に関し、特に半導体素子や液
晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に
使用される投影露光装置の投影光学系に好適な、紫外線
波長域でクオーターミクロン単位の解像度を有する反射
屈折光学系に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子等を製造するためのフォトリ
ソグラフィ工程において、フォトマクスまたはレチクル
(以下、「マスク」という)のパターンを投影光学系を
介してフォトレジスト等が塗布されたウエハ(またはガ
ラスプレート等)上に転写する投影露光装置が使用され
ている。この種の投影露光装置では、半導体素子等の集
積度が向上するにつれて、投影光学系に要求される解像
力はますます高まっている。この解像力に関する要求を
満足するためには、照明光の波長を短くし且つ投影光学
系の像側の開口数(NA)を大きくする必要がある。し
かしながら、照明光の波長を短くすると、光の吸収が発
生するため、実用に耐え得る光学材料の種類は限られ
る。たとえば、300nm以下の波長を有する光の場
合、実用上使用可能な光学材料は石英および蛍石だけで
ある。
【0003】ところで、石英のアッベ数と蛍石のアッベ
数とは、色収差を補正するのに十分な程は離れていな
い。したがって、たとえば300nm以下の波長を有す
る光の場合、石英や蛍石からなる屈折系だけで投影光学
系を構成すると、色収差をはじめとする諸収差の補正が
困難となる。一方、反射系では、色収差が発生しない。
そこで、投影露光装置の投影光学系として、反射系と屈
折系とを組み合わせた、いわゆる反射屈折光学系が種々
提案されている。なお、光学系の光路中において中間像
を1回だけ形成するタイプとしては、特開昭63−16
3319号公報、特公平7−111512号公報、特公
平5−25170号公報、USP−4,799,966
号明細書等に開示の反射屈折光学系が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般に、軸上物点から
の光線を含む光束に基づいて物体像を形成する反射屈折
光学系では、光路偏向のための透過反射面を有するビー
ムスプリッターを使用する必要がある。しかしながら、
ビームスプリッターを用いた反射屈折光学系では、像面
に位置決めされたウエハからの反射光による内面反射が
発生したり、ビームスプリッターよりも像側に配置され
た光学系の屈折面での内面反射が発生したり、ビームス
プリッターの透過反射面等においてフレアーや照明ムラ
の原因となる迷光が発生し易い。また、光学系の像側の
開口数を大きくしようとすると大型のビームスプリッタ
ーが必要となり、ビームスプリッターにおける光量損失
に起因する露光時間の増大が半導体製造工程におけるス
ループットの低下を招く。なお、特開平6−30097
3号公報等に開示されているように、光量損失を回避す
るためにビームスプリッターとして偏光ビームスプリッ
ターを採用することができる。しかしながら、開口数に
応じた大型の偏光ビームスプリッターを製造することは
極めて難しく、透過反射膜の不均一性、角度特性、光の
吸収、位相変化などが結像特性を低下させる原因とな
る。
【0005】一方、軸上物点からの光線を用いることな
く物体像を形成する反射屈折光学系すなわちリング視野
光学系では、形成した中間像の近傍に平面反射鏡を配置
することにより、ビームスプリッターを用いることなく
光路偏向(光路分割)を実現することができる。たとえ
ば、投影光学系としてリング視野光学系を用いるステッ
プ・アンド・スキャン方式の投影露光装置では、マスク
とウエハとを投影光学系に対して同時に相対移動させる
ことによって、ウエハの各ショット領域にマスクパター
ンを走査露光する。なお、リング視野光学系において中
間像を複数回形成すると、光学系の光路長が長くなる。
また、投影露光装置に適用されたリング視野光学系にお
いて凹面反射鏡を複数枚使用すると、光路偏向のために
露光領域を光軸から大きく離す必要が生じ、光学系の大
型化は避けられない。以上より、1つの凹面反射鏡を有
し中間像を1回だけ形成するリング視野光学系が望まし
い。上述の公報および明細書のうち、特公平7−111
512号公報およびUSP−4,779,966号明細
書が、1つの凹面反射鏡を有し中間像を1回だけ形成す
るリング視野光学系を開示している。
【0006】まず、USP−4,779,966号明細
書に開示の反射屈折光学系では、中間像の形成位置より
も像面寄りの縮小側に凹面反射鏡を配置している。とこ
ろが、物体面側よりも縮小側の開口数が大きいため、縮
小側における光路偏向が困難となり、光学系の像側の開
口数NAを大きく確保することができない。その結果、
十分な解像度を確保することができず、凹面反射鏡の大
型化も避けられない。一方、特公平7−111512号
公報においては、中間像を形成するための第1結像光学
系が凹面反射鏡を含んで、完全対称型に構成されてい
る。また、第1結像光学系を介して形成される中間像
は、物体面の等倍像となっている。こうして、物体面の
等倍中間像を形成する構成により、第1結像光学系にお
ける収差の発生を軽減させている。その結果、反射屈折
光学系全体の倍率を第2結像光学系だけで担うこととな
り、第2結像光学系への倍率の負担が重くなりすぎる。
特に、光学系に大きな開口数NAが要求される場合、第
2結像光学系の大型化および複雑化は避けられない。さ
らに、中間像が物体面の付近に形成されるため、偏光ビ
ームスプリッター等の光路偏向部材を用いない限り、物
体側において十分な作動距離(ワーキングディスタン
ス)を確保することができない。
【0007】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、像側において十分大きな開口数および作動距
離を有し、紫外線波長域でクオーターミクロン単位の解
像度を有する小型の反射屈折光学系を提供することを目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、物体面からの光に基づいて前記
物体面の中間像を形成するための第1結像光学系S1
と、前記中間像からの光に基づいて前記物体面の縮小像
を形成するための第2結像光学系S2と、前記中間像が
形成される位置の近傍に配置され前記第1結像光学系S
1を介した光を前記第2結像光学系S2に向かって偏向
するための第1光路偏向部材M1とを備え、前記第1結
像光学系S1は凹面反射鏡CMを有し、前記物体面から
の光は前記凹面反射鏡CMで反射された後に、前記第1
結像光学系S1の光路中に前記中間像を形成し、前記第
1光路偏向部材M1は、前記第1結像光学系S1の光路
中に配置された平面反射鏡を有し、前記第1結像光学系
S1の結像倍率をβ1とし、前記第1結像光学系S1の
光軸と前記第2結像光学系S2の光軸との交点と前記物
体面との間の軸上距離をL1とし、前記物体面と前記凹
面反射鏡CMとの間の軸上距離をLMとしたとき、 0.75<|β1|<0.95 0.13<L1/LM<0.35 の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系を提
供する。
【0009】本発明の好ましい態様によれば、前記第1
結像光学系S1は、物体側から順に、第1レンズ群G1
と、第2レンズ群G2と、前記凹面反射鏡CMとを有
し、前記物体面からの光は、前記第1レンズ群G1およ
び前記第2レンズ群G2を介して前記凹面反射鏡CMで
反射された後に、前記第1レンズ群G1と前記第2レン
ズ群G2との間の光路中に前記中間像を形成する。この
場合、前記第2レンズ群G2は、少なくとも2つの互い
に異なる負屈折力を有する屈折素子と、少なくとも2つ
の互いに異なる正屈折力を有する屈折素子とを有するこ
とが好ましい。また、前記第1レンズ群G1は、少なく
とも3つの互いに異なる屈折力を有する屈折素子を有す
ることが好ましい。
【0010】また、本発明の好ましい態様によれば、前
記第2結像光学系S2は、物体側から順に、全体として
正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、該第3レンズ
群G3を介した光を偏向するための第2光路偏向部材M
2と、全体として正の屈折力を有する第4レンズ群G4
とを有し、前記中間像からの光は、前記第3レンズ群G
3、前記第2光路偏向部材M2、および前記第4レンズ
群G4を介して、前記物体面の縮小像を形成する。さら
に、前記反射屈折光学系を構成する屈折素子は、石英お
よび蛍石の少なくともいずれか一方の光学材料から形成
されていることが好ましい。また、前記第2レンズ群G
2は少なくとも1つの蛍石からなる正レンズを有し、前
記第2レンズ群G2中の蛍石からなる正レンズの屈折力
の総和をφcとし、前記凹面反射鏡CMの屈折力をφm
としたとき、 0.5<|φc/φm|<1.6 の条件を満足することが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明においては、第1結像光学
系S1が縮小の結像倍率を有するため、第2結像光学系
S2への屈折力の負担が軽減される。その結果、光学系
の像側の開口数NAを大きくすることが可能となるとと
もに、第2結像光学系S2の大型化および複雑化を回避
することもできる。換言すれば、本発明の反射屈折光学
系は、像側において十分大きな開口数を有する小型の光
学系であるにもかかわらず、紫外線波長域でクオーター
ミクロン単位の解像度を有する。
【0012】以下、本発明の各条件式について説明す
る。本発明においては、以下の条件式(1)および
(2)を満足する。 0.75<|β1|<0.95 (1) 0.13<L1/LM<0.35 (2) ここで、 β1:第1結像光学系S1の結像倍率 L1:第1結像光学系S1の光軸と第2結像光学系S2
の光軸との交点と物体面との間の軸上距離(光軸に沿っ
た幾何学的距離) LM:物体面と凹面反射鏡CMとの間の軸上距離
【0013】条件式(1)は、第1結像光学系S1の結
像倍率について適切な範囲を規定している。条件式
(1)の下限値を下回ると、中間像側の開口数NAが大
きくなり過ぎるため、第1光路偏向部材M1による光路
偏向が難しくなってしまう。一方、条件式(1)の上限
値を上回ると、第1結像光学系S1の結像倍率β1が等
倍に近づくので、第2結像光学系S2への屈折力の負担
が大きくなる。このため、光学系の像側の開口数NAを
大きくすることができなくなるとともに、第2結像光学
系S2の大型化および複雑化を回避することもできなく
なる。なお、条件式(1)下限値を0.8に、上限値を
0.9に設定することがさらに好ましい。
【0014】条件式(2)は、第2結像光学系S2と物
体面との適切な位置関係について規定している。条件式
(2)の下限値を下回ると、像側において十分な作動距
離を確保することができなくなってしまう。その結果、
ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置に対し
て、本発明の反射屈折光学系を適用することが不可能と
なる。一方、条件式(2)の上限値を上回ると、コマ収
差および歪曲収差を良好に補正することが困難となって
しまう。なお、条件式(2)の下限値を0.19に、上
限値を0.3に設定することがさらに好ましい。
【0015】また、第1結像光学系S1が、物体側から
順に、第1レンズ群G1と、第2レンズ群G2と、凹面
反射鏡CMとを有し、物体面からの光が、第1レンズ群
G1および第2レンズ群G2を介して凹面反射鏡CMで
反射された後に、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2
との間の光路中に中間像を形成することが好ましい。こ
の場合、中間像が形成される位置の近傍に第1光路偏向
部材M1を配置して光路偏向を行うことが容易になると
ともに、光学系の大型化を回避することもできる。
【0016】また、第2レンズ群G2は、少なくとも2
つの互いに異なる負屈折力を有する屈折素子と、少なく
とも2つの互いに異なる正屈折力を有する屈折素子とを
有することが好ましい。負レンズのような屈折素子は、
コマ収差、球面収差、像面湾曲等の補正に欠くことがで
きない。一方、正レンズのような屈折素子は、光学系を
大型化することなく、大きな開口数NAおよび大きな露
光領域を確保するために必要となる。さらに、第2結像
光学系S2の収差を補償して第2結像光学系S2への収
差補正の負担を軽くするためには、少なくとも2つの互
いに異なる負屈折力を有する負レンズと少なくとも2つ
の互いに異なる負屈折力を有する正レンズとが必要とな
る。
【0017】また、第1レンズ群G1は、少なくとも3
つの互いに異なる屈折力を有する屈折素子を有すること
が好ましい。近時、光学系に対して解像力の向上が求め
られるにつれて、歪曲収差の補正や像面湾曲の補正に対
しても厳しい仕様(スペック)が要求されている。この
ような厳しい仕様を達成するためには、製造時における
光学系の収差調整が必要となる。一般に、光学系の収差
調整用レンズとして、物体面の近傍に配置されたレンズ
を用いることが有効である。特に、本発明では、物体面
からの光が第2レンズ群G2中の光路を往復するので、
収差調整用のレンズとして第2レンズ群G2を用いるの
は適当でない。
【0018】そこで、少なくとも3つの互いに異なる屈
折力を有する屈折素子で第1レンズ群G1を構成し、第
1レンズ群G1を収差調整用レンズとして用いることに
より、製造時において歪曲収差や像面歪曲の調整が可能
となる。また、少なくとも3つの互いに異なる屈折力を
有する屈折素子で第1レンズ群G1を構成することによ
り、物体側での作動距離を大きく確保することが可能と
なり、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置
に本発明の反射屈折光学系を適用することができる。
【0019】また、第2結像光学系S2が、物体側から
順に、正屈折力の第3レンズ群G3と、第2光路偏向部
材M2と、正屈折力の第4レンズ群G4とを有し、中間
像からの光が、第3レンズ群G3、第2光路偏向部材M
2および第4レンズ群G4を介して、物体面の縮小像を
形成することが好ましい。ここで、第3レンズ群G3
は、フィールドレンズの役割を果たす。また、第2光路
偏向部材M2は、第1光路偏向部材M1との協働によ
り、物体面と像面とを平行に保つ役割を果たす。さら
に、第4レンズ群G4は、主として球面収差やコマ収差
を補正し、光学系の像側の開口数NAを大きく確保する
ための重要な役割を果たす。
【0020】なお、第4レンズ群G4の光路中に可変絞
り(開口部の径が可変の開口絞り)を設けることによ
り、いわゆるコヒーレンスファクタ(σ値)を調整する
ことができる。例えば特公昭62−50811号公報に
は、焦点深度を深くし且つ解像力を向上させる手法とし
て、マスクパターン中の所定部分の位相を他の部分の位
相からシフトさせる位相シフト法が提案されている。本
発明においては、コヒーレンスファクタ(σ値)を調整
することが可能であるため、この位相シフト法の効果を
さらに向上させることができるという利点がある。
【0021】また、本発明の反射屈折光学系を構成する
屈折素子は、石英および蛍石の少なくともいずれか一方
の光学材料から形成されていることが好ましい。すなわ
ち、光学系を構成するレンズが石英および蛍石のいずれ
か一方からなるか、あるいは石英および蛍石の双方から
なる構成により、たとえば300nm以下の紫外線波長
域の光を照明光として使用することができる。
【0022】また、本発明においては、第2レンズ群G
2が少なくとも1つの蛍石からなる正レンズを有し、以
下の条件式(3)を満足することが望ましい。 0.5<|φc/φm|<1.6 (3) ここで、 φc:第2レンズ群G2中の蛍石からなる正レンズの屈
折力の総和 φm:凹面反射鏡CMの屈折力
【0023】第2レンズ群G2が少なくとも1つの蛍石
からなる正レンズを有することにより、凹面反射鏡CM
に入射する光束の色収差を補正するとともに、光学系全
体の色収差を良好に補正することも可能となる。条件式
(3)は、第2レンズ群G2中の蛍石からなる正レンズ
の屈折力の総和と凹面反射鏡CMの屈折力との比につい
て適切な範囲を規定している。条件式(3)の上限値お
よび下限値で規定される範囲を逸脱すると、像高に対し
て奇数次の色収差を良好に補正することが困難となる。
【0024】
【実施例】以下、本発明の各実施例を、添付図面に基づ
いて説明する。本発明の各実施例にかかる反射屈折光学
系は、物体面からの光に基づいて物体面の中間像を形成
するための第1結像光学系S1と、中間像からの光に基
づいて物体面の縮小像を形成するための第2結像光学系
S2と、中間像が形成される位置の近傍に配置され第1
結像光学系S1を介した光を第2結像光学系S2に向か
って偏向するための第1光路偏向部材M1とを備えてい
る。
【0025】なお、第1光路偏向部材M1は、第1結像
光学系S1の光路中に配置された平面反射鏡を有する。
また、第1結像光学系S1は、物体側から順に、第1レ
ンズ群G1と、第2レンズ群G2と、凹面反射鏡CMと
を有する。そして、物体面からの光は、第1レンズ群G
1および第2レンズ群G2を介して凹面反射鏡CMで反
射された後に、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2と
の間の光路中に中間像を形成する。さらに、第2結像光
学系S2は、物体側から順に、正屈折力の第3レンズ群
G3と、第2光路偏向部材M2と、正屈折力の第4レン
ズ群G4とを有する。そして、中間像からの光は、第3
レンズ群G3、第2光路偏向部材M2、および第4レン
ズ群G4を介して、物体面の縮小像を形成する。
【0026】〔第1実施例〕図1は、本発明の第1実施
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図1において、第1結像光学系S1の第1レ
ンズ群G1は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズ、両凸レンズ、両凹レンズ、および
物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズから構成され
ている。また、第1結像光学系S1の第2レンズ群G2
は、物体側から順に、両凸レンズ、物体側に凹面を向け
た負メニスカスレンズ、両凸レンズ、物体側に凸面を向
けた負メニスカスレンズ、両凹レンズ、両凸レンズ、物
体側に凸面を向けた正メニスカスレンズ、両凸レンズ、
物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズ、両凹レン
ズ、および凹面反射鏡CMから構成されている。なお、
第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との間の光路中に
は、第1レンズ群G1からの光に対して平行平面板とし
て機能し、第2レンズ群G2からの光に対して平面反射
鏡として機能する第1光路偏向部材M1が設けられてい
る。
【0027】一方、第2結像光学系S2の第3レンズ群
G3は、物体側から順に、両凸レンズ、および物体側に
凸面を向けた負メニスカスレンズから構成されている。
また、第2結像光学系S2の第4レンズ群G4は、物体
側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレン
ズ、両凸レンズ、開口絞りAS、両凸レンズ、物体側に
凸面を向けた正メニスカスレンズ、両凹レンズ、物体側
に凸面を向けた正メニスカスレンズ、物体側に凸面を向
けた負メニスカスレンズ、および両凸レンズから構成さ
れている。なお、第3レンズ群G3と第4レンズ群G4
との間の光路中には、平面反射鏡からなる第2光路偏向
部材M2が設けられている。
【0028】次の表(1)に、本発明の第1実施例の諸
元の値を掲げる。表(1)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。なお、各面の曲率
半径rの符号は、物体面と凹面反射鏡CMとの間では物
体側に凸面を向ける場合を正とし、第1光路偏向部材M
1と第2光路偏向部材M2との間では第1光路偏向部材
M1側(物体側)に凸面を向ける場合を正とし、第2光
路偏向部材M2と像面との間では像側に凸面を向ける場
合を正としている。また、面間隔dの符号は、凹面反射
鏡CMから第1光路偏向部材M1までの光路中では負と
し、第2光路偏向部材M2から像面までの光路中では負
とし、その他の光路中では正としている。さらに、表
(1)において、nは基準波長λ=193.4nm(A
rFエキシマレーザの波長)に対する屈折率を表してい
る。第1実施例では、光学材料として、石英(n=1.
56019)および蛍石(n=1.50138)を使用
している。
【0029】
【表1】 β=−0.25 NAi =0.6 d0=49.998 面番号 r d n 1 369.115 18.000 1.56019 2 245.893 0.500 3 227.674 33.705 1.50138 4 -373.082 18.803 5 -324.258 20.532 1.56019 6 332.817 1.674 7 340.581 20.389 1.56019 8 604.750 27.395 9 ∞ 35.000 1.56019 (第1光路偏向部材M1:透過面) 10 ∞ 16.943 11 391.176 30.000 1.50138 12 -982.727 6.592 13 -417.793 20.000 1.56019 14 -1216.731 261.353 15 478.547 40.000 1.50138 16 -908.632 11.323 17 325.213 20.000 1.56019 18 208.331 48.917 19 -196.257 20.000 1.56019 20 1370.871 0.500 21 430.209 42.793 1.50138 22 -366.694 61.625 23 247.465 25.000 1.56019 24 286.274 68.753 25 508.228 40.000 1.56019 26 -930.828 27.931 27 -313.824 25.000 1.56019 28 -1017.267 19.454 29 -276.064 25.000 1.56019 30 1335.454 32.821 31 -360.416 -32.821 (凹面反射鏡CM) 32 1335.454 -25.000 1.56019 33 -276.064 -19.454 34 -1017.267 -25.000 1.56019 35 -313.824 -27.931 36 -930.828 -40.000 1.56019 37 508.228 -68.753 38 286.274 -25.000 1.56019 39 247.465 -61.625 40 -366.694 -42.793 1.50138 41 430.209 -0.500 42 1370.871 -20.000 1.56019 43 -196.257 -48.917 44 208.331 -20.000 1.56019 45 325.213 -11.323 46 -908.632 -40.000 1.50138 47 478.547 -261.353 48 -1216.731 -20.000 1.56019 49 -417.793 -6.592 50 -982.727 -30.000 1.50138 51 391.176 -1.943 52 ∞ 236.637 (第1光路偏向部材M1:反射面) 53 471.443 36.090 1.50138 54 -1089.261 3.979 55 306.858 20.000 1.56019 56 247.195 150.000 57 ∞ -162.806 (第2光路偏向部材M2) 58 -812.165 -25.000 1.56019 59 -2628.418 -290.508 60 -1094.809 -30.000 1.56019 61 1598.936 -30.114 62 ∞ -81.437 (開口絞りAS) 63 -266.544 -45.218 1.50138 64 2115.935 -0.550 65 -213.134 -30.096 1.56019 66 -642.205 -15.142 67 1328.716 -30.000 1.56019 68 -654.044 -1.236 69 -210.004 -45.167 1.56019 70 -304.557 -19.703 71 -166.497 -45.000 1.56019 72 -72.336 -6.218 73 -71.786 -66.262 1.56019 74 2042.086 -17.000 (条件対応値) β1=−0.877207 L1=241 LM=1070 φc=0.005850 φm=0.005549 (1)|β1| =0.877207 (2)L1/LM =0.225 (3)|φc/φm|=1.054228
【0030】図2は、第1実施例の横収差図であって、
(a)は最大像高Y=18.6における横収差図であ
り、(b)は中間像高Y=5.0における横収差図であ
る。なお、各横収差図において、実線は基準波長λ=1
93.4nmに対する収差曲線を、二点鎖線は波長λ=
193.0nmに対する収差曲線を、破線は波長λ=1
93.2nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長λ=
193.6nmに対する収差曲線を、点線は波長λ=1
93.8nmに対する収差曲線をそれぞれ表している。
図2の各横収差図を参照すると、第1実施例では、光学
系の像側において大きな開口数および作動距離を確保し
ているにもかかわらず、良好に収差補正されていること
がわかる。特に、193.4±0.4nmにおいて色収
差が良好に補正され、優れた結像性能を有することがわ
かる。
【0031】〔第2実施例〕図3は、本発明の第2実施
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図3において、第1結像光学系S1の第1レ
ンズ群G1は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズ、両凸レンズ、両凹レンズ、および
物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズから構成され
ている。また、第1結像光学系S1の第2レンズ群G2
は、物体側から順に、両凸レンズ、物体側に凹面を向け
た負メニスカスレンズ、両凸レンズ、物体側に凸面を向
けた負メニスカスレンズ、両凹レンズ、両凸レンズ、物
体側に凸面を向けた正メニスカスレンズ、両凸レンズ、
物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズ、物体側に凹
面を向けた負メニスカスレンズ、および凹面反射鏡CM
から構成されている。なお、第1レンズ群G1と第2レ
ンズ群G2との間の光路中には、第1レンズ群G1から
の光に対して平行平面板として機能し、第2レンズ群G
2からの光に対して平面反射鏡として機能する第1光路
偏向部材M1が設けられている。
【0032】一方、第2結像光学系S2の第3レンズ群
G3は、物体側から順に、両凸レンズ、および物体側に
凸面を向けた負メニスカスレンズから構成されている。
また、第2結像光学系S2の第4レンズ群G4は、物体
側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレン
ズ、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズ、開口絞
りAS、両凸レンズ、物体側に凸面を向けた正メニスカ
スレンズ、両凹レンズ、物体側に凸面を向けた正メニス
カスレンズ、物体側に凸面を向けた負メニスカスレン
ズ、および両凸レンズから構成されている。なお、第3
レンズ群G3と第4レンズ群G4との間の光路中には、
平面反射鏡からなる第2光路偏向部材M2が設けられて
いる。
【0033】次の表(2)に、本発明の第2実施例の諸
元の値を掲げる。表(2)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。なお、各面の曲率
半径rの符号は、物体面と凹面反射鏡CMとの間では物
体側に凸面を向ける場合を正とし、第1光路偏向部材M
1と第2光路偏向部材M2との間では第1光路偏向部材
M1側(物体側)に凸面を向ける場合を正とし、第2光
路偏向部材M2と像面との間では像側に凸面を向ける場
合を正としている。また、面間隔dの符号は、凹面反射
鏡CMから第1光路偏向部材M1までの光路中では負と
し、第2光路偏向部材M2から像面までの光路中では負
とし、その他の光路中では正としている。さらに、表
(2)において、nは基準波長λ=193.4nm(A
rFエキシマレーザの波長)に対する屈折率を表してい
る。第1実施例では、光学材料として、石英(n=1.
56019)および蛍石(n=1.50138)を使用
している。
【0034】第2実施例において、非球面は、頂点から
の光軸垂直方向に沿った高さをy、高さyにおける頂点
からの光軸方向の変位量(サグ量)をS(y)、基準の
曲率半径(頂点の曲率半径)をr、円錐係数をκ、n次
の非球面係数をCn としたとき、以下の数式(a)で表
される。
【数1】 S(y)=(y2 /r)/〔1+{1−(1+κ)・y2 /r2 1/2 〕 +C4 ・y4 +C6 ・y6 +C8 ・y8 +C10・y10+C12・y12 (a)
【0035】
【表2】 β=−0.25 NAi =0.6 d0=45.000 面番号 r d n 1 281.775 18.000 1.56019 2 195.859 1.598 3 196.715 40.418 1.50138 4 -480.361 14.536 5 -548.718 20.000 1.56019 6 204.428 5.448 7 203.274 20.000 1.56019 8 401.273 25.000 9 ∞ 35.000 1.56019 (第1光路偏向部材M1:透過面) 10 ∞ 15.500 11 303.555 30.000 1.50138 12 -1740.057 5.924 13 -425.354 20.000 1.56019 14 -2761.815 171.793 15 300.937 40.000 1.50138 16 -2581.928 1.849 17 288.864 20.000 1.56019 18 177.975 57.224 19 -175.888 20.000 1.56019 20 764.840 0.500 21 342.881 36.406 1.50138 22 -329.279 48.341 23 270.936 25.000 1.56019 24 328.277 66.732 25 778.307 40.000 1.56019 26 -518.576 15.753 27 -223.579 25.000 1.56019 28 -658.513 42.435 29 -229.025 25.000 1.56019 30 -1514.955 17.542 31 -332.936 -17.542 (凹面反射鏡CM:非球面) 32 -1514.955 -25.000 1.56019 33 -229.025 -42.435 34 -658.513 -25.000 1.56019 35 -223.579 -15.753 36 -518.576 -40.000 1.56019 37 778.307 -66.732 38 328.277 -25.000 1.56019 39 270.936 -48.341 40 -329.279 -36.406 1.50138 41 342.881 -0.500 42 764.840 -20.000 1.56019 43 -175.888 -57.224 44 177.975 -20.000 1.56019 45 288.864 -1.849 46 -2581.928 -40.000 1.50138 47 300.937 -171.793 48 -2761.815 -20.000 1.56019 49 -425.354 -5.924 50 -1740.057 -30.000 1.50138 51 303.555 -0.500 52 ∞ 233.000 (第1光路偏向部材M1:反射面) 53 415.207 31.117 1.50138 54 -631.341 0.500 55 306.049 20.000 1.56019 56 218.635 150.000 57 ∞ -165.240 (第2光路偏向部材M2) 58 -711.482 -25.000 1.56019 59 -2123.013 -302.795 60 3482.765 -30.000 1.56019 61 654.764 -15.000 62 ∞ -59.904 (開口絞りAS) 63 -230.331 -70.000 1.50138 (非球面) 64 1603.607 -0.500 65 -204.918 -28.538 1.56019 66 -602.518 -14.615 67 1240.449 -30.000 1.56019 68 -510.567 -0.500 69 -308.492 -70.000 1.56019 70 -714.386 -0.500 71 -170.397 -45.000 1.56019 72 -62.983 -4.156 73 -63.147 -62.343 1.56019 74 766.887 -17.000 (非球面データ) κ C4 6 31面 0.0000 0.815186 ×10-9 0.106110 ×10-13 8 1012 0.216157 ×10-18 -0.473987 ×10-23 0.490366 ×10-27 κ C4 6 63面 0.0000 0.371510 ×10-8 0.507303 ×10-13 8 1012 0.416256 ×10-18 0.261764 ×10-22 -0.397276 ×10-27 (条件対応値) β1=−0.854038 L1=240 LM=950 φc=0.006712 φm=0.006006 (1)|β1| =0.854038 (2)L1/LM =0.253 (3)|φc/φm|=1.117626
【0036】図4は、第2実施例の横収差図であって、
(a)は最大像高Y=18.6における横収差図であ
り、(b)は中間像高Y=5.0における横収差図であ
る。なお、各横収差図において、実線は基準波長λ=1
93.4nmに対する収差曲線を、二点鎖線は波長λ=
193.0nmに対する収差曲線を、破線は波長λ=1
93.2nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長λ=
193.6nmに対する収差曲線を、点線は波長λ=1
93.8nmに対する収差曲線をそれぞれ表している。
図4の各横収差図を参照すると、第2実施例では、光学
系の像側において大きな開口数および作動距離を確保し
ているにもかかわらず、良好に収差補正されていること
がわかる。特に、193.4±0.4nmにおいて色収
差が良好に補正され、優れた結像性能を有することがわ
かる。
【0037】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、像側に
おいて十分大きな開口数および作動距離を有し、紫外線
波長域でクオーターミクロン単位の解像度を有する小型
の反射屈折光学系を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例にかかる反射屈折光学系の
レンズ構成を概略的に示す図である。
【図2】第1実施例の横収差図であって、(a)は最大
像高Y=18.6における横収差図であり、(b)は中
間像高Y=5.0における横収差図である。
【図3】本発明の第2実施例にかかる反射屈折光学系の
レンズ構成を概略的に示す図である。
【図4】第2実施例の横収差図であって、(a)は最大
像高Y=18.6における横収差図であり、(b)は中
間像高Y=5.0における横収差図である。
【符号の説明】
G1 第1レンズ群 G2 第2レンズ群 G3 第3レンズ群 G4 第4レンズ群 S1 第1結像光学系 S2 第2結像光学系 M1 第1光路偏向部材 M2 第2光路偏向部材 AS 開口絞り CM 凹面反射鏡

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物体面からの光に基づいて前記物体面の
    中間像を形成するための第1結像光学系S1と、前記中
    間像からの光に基づいて前記物体面の縮小像を形成する
    ための第2結像光学系S2と、前記中間像が形成される
    位置の近傍に配置され前記第1結像光学系S1を介した
    光を前記第2結像光学系S2に向かって偏向するための
    第1光路偏向部材M1とを備え、 前記第1結像光学系S1は凹面反射鏡CMを有し、前記
    物体面からの光は前記凹面反射鏡CMで反射された後
    に、前記第1結像光学系S1の光路中に前記中間像を形
    成し、 前記第1光路偏向部材M1は、前記第1結像光学系S1
    の光路中に配置された平面反射鏡を有し、 前記第1結像光学系S1の結像倍率をβ1とし、前記第
    1結像光学系S1の光軸と前記第2結像光学系S2の光
    軸との交点と前記物体面との間の軸上距離をL1とし、
    前記物体面と前記凹面反射鏡CMとの間の軸上距離をL
    Mとしたとき、 0.75<|β1|<0.95 0.13<L1/LM<0.35 の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系。
  2. 【請求項2】 前記第1結像光学系S1は、物体側から
    順に、第1レンズ群G1と、第2レンズ群G2と、前記
    凹面反射鏡CMとを有し、前記物体面からの光は、前記
    第1レンズ群G1および前記第2レンズ群G2を介して
    前記凹面反射鏡CMで反射された後に、前記第1レンズ
    群G1と前記第2レンズ群G2との間の光路中に前記中
    間像を形成することを特徴とする請求項1に記載の反射
    屈折光学系。
  3. 【請求項3】 前記第2レンズ群G2は、少なくとも2
    つの互いに異なる負屈折力を有する屈折素子と、少なく
    とも2つの互いに異なる正屈折力を有する屈折素子とを
    有することを特徴とする請求項2に記載の反射屈折光学
    系。
  4. 【請求項4】 前記第1レンズ群G1は、少なくとも3
    つの互いに異なる屈折力を有する屈折素子を有すること
    を特徴とする請求項2または3に記載の反射屈折光学
    系。
  5. 【請求項5】 前記第2結像光学系S2は、物体側から
    順に、全体として正の屈折力を有する第3レンズ群G3
    と、該第3レンズ群G3を介した光を偏向するための第
    2光路偏向部材M2と、全体として正の屈折力を有する
    第4レンズ群G4とを有し、 前記中間像からの光は、前記第3レンズ群G3、前記第
    2光路偏向部材M2、および前記第4レンズ群G4を介
    して、前記物体面の縮小像を形成することを特徴とする
    請求項2乃至4のいずれか1項に記載の反射屈折光学
    系。
  6. 【請求項6】 前記反射屈折光学系を構成する屈折素子
    は、石英および蛍石の少なくともいずれか一方の光学材
    料から形成されていることを特徴とする請求項1乃至5
    のいずれか1項に記載の反射屈折光学系。
  7. 【請求項7】 前記第2レンズ群G2は少なくとも1つ
    の蛍石からなる正レンズを有し、 前記第2レンズ群G2中の蛍石からなる正レンズの屈折
    力の総和をφcとし、前記凹面反射鏡CMの屈折力をφ
    mとしたとき、 0.5<|φc/φm|<1.6 の条件を満足することを特徴とする請求項2乃至6のい
    ずれか1項に記載の反射屈折光学系。
JP8180013A 1996-06-20 1996-06-20 反射屈折光学系 Pending JPH1010431A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8180013A JPH1010431A (ja) 1996-06-20 1996-06-20 反射屈折光学系
KR1019970021294A KR980005328A (ko) 1996-06-20 1997-05-28 반사굴절 광학계
DE19726058A DE19726058A1 (de) 1996-06-20 1997-06-19 Katadioptrisches System zur Photolithographie

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8180013A JPH1010431A (ja) 1996-06-20 1996-06-20 反射屈折光学系

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1010431A true JPH1010431A (ja) 1998-01-16
JPH1010431A5 JPH1010431A5 (ja) 2004-11-04

Family

ID=16075939

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8180013A Pending JPH1010431A (ja) 1996-06-20 1996-06-20 反射屈折光学系

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPH1010431A (ja)
KR (1) KR980005328A (ja)
DE (1) DE19726058A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999052004A1 (en) * 1998-04-07 1999-10-14 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, and reflection refraction optical system
US6195213B1 (en) 1998-06-08 2001-02-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
JP2001237165A (ja) * 2000-02-23 2001-08-31 Canon Inc 露光装置
JP2011047951A (ja) * 1999-07-07 2011-03-10 Kla-Tencor Corp 試料を検査するための装置および対物光学系

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JP3395801B2 (ja) 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
EP0989434B1 (en) * 1998-07-29 2006-11-15 Carl Zeiss SMT AG Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same
US6995930B2 (en) 1999-12-29 2006-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with geometric beam splitting
TW538256B (en) 2000-01-14 2003-06-21 Zeiss Stiftung Microlithographic reduction projection catadioptric objective
US7301605B2 (en) * 2000-03-03 2007-11-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices
JP2004514943A (ja) 2000-11-28 2004-05-20 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー 157nmリソグラフィ用の反射屈折投影系
DE10127227A1 (de) 2001-05-22 2002-12-05 Zeiss Carl Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
US7046459B1 (en) 2001-12-18 2006-05-16 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reductions lens
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101213831B1 (ko) 2004-05-17 2012-12-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
DE102005033564A1 (de) * 2005-07-19 2007-02-01 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder eines digitalen Projektionssystems

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999052004A1 (en) * 1998-04-07 1999-10-14 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, and reflection refraction optical system
US6707616B1 (en) 1998-04-07 2004-03-16 Nikon Corporation Projection exposure apparatus, projection exposure method and catadioptric optical system
US6195213B1 (en) 1998-06-08 2001-02-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6512641B2 (en) 1998-06-08 2003-01-28 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6639732B2 (en) 1998-06-08 2003-10-28 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
JP2011047951A (ja) * 1999-07-07 2011-03-10 Kla-Tencor Corp 試料を検査するための装置および対物光学系
JP2001237165A (ja) * 2000-02-23 2001-08-31 Canon Inc 露光装置
US6707532B2 (en) 2000-02-23 2004-03-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US7038761B2 (en) 2000-02-23 2006-05-02 Canon Kk Projection exposure apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR980005328A (ko) 1998-03-30
DE19726058A1 (de) 1998-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6995918B2 (en) Projection optical system and projection exposure apparatus
JP3395801B2 (ja) 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
JP3747951B2 (ja) 反射屈折光学系
US5668672A (en) Catadioptric system and exposure apparatus having the same
JP4717974B2 (ja) 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US6157498A (en) Dual-imaging optical system
EP0736789B1 (en) Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same
JPH1010431A (ja) 反射屈折光学系
JPH103039A (ja) 反射屈折光学系
US6118596A (en) Catadioptric reduction projection optical system and method
US6829099B2 (en) Projection optical system and projection exposure apparatus
JPH0588089A (ja) 反射屈折縮小投影光学系
JPH103041A (ja) 反射屈折縮小光学系
US6081382A (en) Catadioptric reduction projection optical system
JPH08179216A (ja) 反射屈折光学系
EP0902329A1 (en) Catadioptric reduction optical system
JP3812051B2 (ja) 反射屈折投影光学系
JPH103040A (ja) 反射屈折光学系
JPH11109244A (ja) 反射屈折光学系
JP3781044B2 (ja) 反射屈折光学系および投影露光装置
JPH1010429A (ja) 2回結像光学系
JPH10284365A (ja) 反射屈折光学系
JP2003241099A (ja) 反射屈折投影光学系、並びに投影露光方法及び装置
JPH07218839A (ja) 反射屈折光学系

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050311

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051003