JPH10104423A - 複屈折平面板構造及びｄｕｖ四分の一波長板 - Google Patents
複屈折平面板構造及びｄｕｖ四分の一波長板Info
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- JPH10104423A JPH10104423A JP9248488A JP24848897A JPH10104423A JP H10104423 A JPH10104423 A JP H10104423A JP 9248488 A JP9248488 A JP 9248488A JP 24848897 A JP24848897 A JP 24848897A JP H10104423 A JPH10104423 A JP H10104423A
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003351 stiffener Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
- G02B5/3091—Birefringent or phase retarding elements for use in the UV
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 相当に大きな寸法を有し、応力複屈折を発生
し、マイクロリソグラフィ用投影露光装置のＤＵＶ四分
の一波長板として使用できる薄い平面板を構成する構造
を提供すること。 【解決手段】 ＤＵＶ適合四分の一波長板又はそれに類
似する板を応力複屈折の下にある平面板として構成す
る。高品質の石英ガラスから成る平面板（１）に、複数
の平行な引張り装置（３，７）を有する適切な構造によ
って、ねじれなく均一に、あるいは、目的に応じて局所
的に調整して、引張り荷重を与える。
し、マイクロリソグラフィ用投影露光装置のＤＵＶ四分
の一波長板として使用できる薄い平面板を構成する構造
を提供すること。 【解決手段】 ＤＵＶ適合四分の一波長板又はそれに類
似する板を応力複屈折の下にある平面板として構成す
る。高品質の石英ガラスから成る平面板（１）に、複数
の平行な引張り装置（３，７）を有する適切な構造によ
って、ねじれなく均一に、あるいは、目的に応じて局所
的に調整して、引張り荷重を与える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、応力の複屈折を伴
う複屈折平面板構造及びそれに対応するＤＵＶ適応四分
の一波長板に関する。
う複屈折平面板構造及びそれに対応するＤＵＶ適応四分
の一波長板に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、可視スペクトル範囲に対応する位
相遅延板は、およそ３００mmまでの直径で、ラムダ／４
の±５％というすぐれた遅延許容差をもって、非常に高
い光学透過率を示すように製造できる。この目的のため
に、光学板の間に薄くのばしたポリビニルアルコール箔
を接着する。ＤＵＶ光、たとえば、１９３nmの波長の光
を使用する投影マイクロリソグラフィの場合、残念なが
ら接着剤も、箔も放射負荷に耐えられないので、このよ
うな箔を適用することはできない。
相遅延板は、およそ３００mmまでの直径で、ラムダ／４
の±５％というすぐれた遅延許容差をもって、非常に高
い光学透過率を示すように製造できる。この目的のため
に、光学板の間に薄くのばしたポリビニルアルコール箔
を接着する。ＤＵＶ光、たとえば、１９３nmの波長の光
を使用する投影マイクロリソグラフィの場合、残念なが
ら接着剤も、箔も放射負荷に耐えられないので、このよ
うな箔を適用することはできない。
【０００３】問題となる複屈折結晶材料はＳｉＯ2及び
ＭｇＦ2である。直径約２００mmのラムダ四分の一波長
板が必要であるならば、ＳｉＯ2 では、適切な材料を得
られるとは考えられない。理想的なのは、一重の厚さの
遅延板である。この場合、厚さは式：ｄ＝（ｋ・ラム
ダ）：Δｎに従って計算される。この式によって得られ
る板の厚さはＳｉＯ2 とＭｇＦ2 についてほぼ同じであ
る。石英結晶の場合、１９３nmでは、屈折率の差Δｎは
０．０１３５であるので、板の厚さはｄ＝３．５７μｍ
となる。これではやはり薄すぎる。石英は非常にすすめ
られる材料であるが、１０μｍである程度の機械的安定
性を得るためには、少なくとも３倍の厚さにすべきであ
ろう。ところが、この厚さは対物レンズを光学的に妨害
するので許容されない。
ＭｇＦ2である。直径約２００mmのラムダ四分の一波長
板が必要であるならば、ＳｉＯ2 では、適切な材料を得
られるとは考えられない。理想的なのは、一重の厚さの
遅延板である。この場合、厚さは式：ｄ＝（ｋ・ラム
ダ）：Δｎに従って計算される。この式によって得られ
る板の厚さはＳｉＯ2 とＭｇＦ2 についてほぼ同じであ
る。石英結晶の場合、１９３nmでは、屈折率の差Δｎは
０．０１３５であるので、板の厚さはｄ＝３．５７μｍ
となる。これではやはり薄すぎる。石英は非常にすすめ
られる材料であるが、１０μｍである程度の機械的安定
性を得るためには、少なくとも３倍の厚さにすべきであ
ろう。ところが、この厚さは対物レンズを光学的に妨害
するので許容されない。
【０００４】直径１５０mm、厚さ約１６μｍの石英から
成る、６３３nmの波長に対応する四分の一波長板は、既
に、Ｃａｒｌ Ｚｅｉｓｓ Ｏｂｅｒｋｏｃｈｅｎで製
造されている。本質的な問題は、ＳｉＯ2 を必要な大き
さで利用できるか否かというところにある。合成結晶は
板として大きさの点では満足できるが、結晶軸は板の平
面に対し垂直に位置しており、板の平面にあるという必
要な条件は満たされない。結晶培養中の成長速度は明ら
かに異なり、特に結晶軸の方向で最も遅くなる。結晶軸
の方向の寸法が１００mmを越える合成物は、このように
互いに関連し合う理由により知られていない。
成る、６３３nmの波長に対応する四分の一波長板は、既
に、Ｃａｒｌ Ｚｅｉｓｓ Ｏｂｅｒｋｏｃｈｅｎで製
造されている。本質的な問題は、ＳｉＯ2 を必要な大き
さで利用できるか否かというところにある。合成結晶は
板として大きさの点では満足できるが、結晶軸は板の平
面に対し垂直に位置しており、板の平面にあるという必
要な条件は満たされない。結晶培養中の成長速度は明ら
かに異なり、特に結晶軸の方向で最も遅くなる。結晶軸
の方向の寸法が１００mmを越える合成物は、このように
互いに関連し合う理由により知られていない。
【０００５】天然の石英結晶は個々のケースでは所要の
大きさで得られるのであるが、既知の天然の鉱床は全て
採掘され尽くしているので、確実な生産は不可能であ
る。石英に代わるものとしては合成ＭｇＦ2 がある。と
ころが、この場合にも、そのように大きな部分を成長さ
せるときに、ＭｇＦ2 が結晶中の様々な方向に様々に異
なる熱膨張率を示すことによって問題が生じる。大きな
結晶は、温度の面で、破裂しないように非常に慎重に成
長されなければならない。さらに、ＭｇＦ2を細かく砕
くことは不可能である。そのため、加工時には接着剤を
使用して加工しなければならないであろう。後には、２
枚の石英ガラス板の間で数マイクロメートルの厚さの板
を液浸によって光学的接触状態に保持しなければならな
いであろう。
大きさで得られるのであるが、既知の天然の鉱床は全て
採掘され尽くしているので、確実な生産は不可能であ
る。石英に代わるものとしては合成ＭｇＦ2 がある。と
ころが、この場合にも、そのように大きな部分を成長さ
せるときに、ＭｇＦ2 が結晶中の様々な方向に様々に異
なる熱膨張率を示すことによって問題が生じる。大きな
結晶は、温度の面で、破裂しないように非常に慎重に成
長されなければならない。さらに、ＭｇＦ2を細かく砕
くことは不可能である。そのため、加工時には接着剤を
使用して加工しなければならないであろう。後には、２
枚の石英ガラス板の間で数マイクロメートルの厚さの板
を液浸によって光学的接触状態に保持しなければならな
いであろう。
【０００６】１９３nmでＭｇＦ2 のΔｎが０．０１３６
に等しいとき、ＭｇＦ2 の一重板の厚さは３．５４μｍ
である。光学的位相遅延は、最初に等方性である材料を
圧縮又は延伸し、その結果として応力複屈折を発生させ
ることによっても得られる。そこで考えられるのは、特
に１９３nmのＤＵＶに対してのみ透過性を有し且つ必要
な直径で利用できる材料である。直径が大きいことに起
因する放射負荷が減少するので、石英ガラスを適用する
こともできる。
に等しいとき、ＭｇＦ2 の一重板の厚さは３．５４μｍ
である。光学的位相遅延は、最初に等方性である材料を
圧縮又は延伸し、その結果として応力複屈折を発生させ
ることによっても得られる。そこで考えられるのは、特
に１９３nmのＤＵＶに対してのみ透過性を有し且つ必要
な直径で利用できる材料である。直径が大きいことに起
因する放射負荷が減少するので、石英ガラスを適用する
こともできる。
【０００７】圧縮か、引張りのいずれをとるかというこ
とになると、引張りのほうが好都合である。圧縮する
と、板が湾曲してしまう場合があり、そのようになった
板は投影対物レンズでは全く使用できなくなってしま
う。引張りを採用すれば、平面性が改善され、それに伴
って光学的透過も改善される。
とになると、引張りのほうが好都合である。圧縮する
と、板が湾曲してしまう場合があり、そのようになった
板は投影対物レンズでは全く使用できなくなってしま
う。引張りを採用すれば、平面性が改善され、それに伴
って光学的透過も改善される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、相当
に大きな寸法を有し、応力複屈折を発生し、マイクロリ
ソグラフィ用投影露光装置のＤＵＶ四分の一波長板とし
て使用できる薄い平面板を構成する構造を提供すること
である。さらに、広い面にわたって平面板に均一な引張
り応力を与えるべきである。
に大きな寸法を有し、応力複屈折を発生し、マイクロリ
ソグラフィ用投影露光装置のＤＵＶ四分の一波長板とし
て使用できる薄い平面板を構成する構造を提供すること
である。さらに、広い面にわたって平面板に均一な引張
り応力を与えるべきである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題は、平面板の２
つの対向する側に複数の平行な引張り装置が作用する複
屈折平面板構造により解決する。また、本発明は、２５
０nm未満の深紫外線を透過し、常に一様な引張り応力を
受けているガラスの平面板から成る四分の一波長板であ
る。以下、図面を参照して本発明をさらに詳細に説明す
る。
つの対向する側に複数の平行な引張り装置が作用する複
屈折平面板構造により解決する。また、本発明は、２５
０nm未満の深紫外線を透過し、常に一様な引張り応力を
受けているガラスの平面板から成る四分の一波長板であ
る。以下、図面を参照して本発明をさらに詳細に説明す
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１の構造は、まず、第１の構成
要素として、典型的には２２０×２８０×１０mm3 （幅
×高さ×厚さ）の寸法を有し、紫外線に対し高い耐久性
を示す高品質の石英ガラスから成る平面板１を有する。
直径が約２００から２１０mmの円形クロスカット部１０
を通って、特に波長が２５０nm以下のエキシマレーザ
ー、たとえば、１９３nmのＡｒＦレーザーの紫外線光が
平面板１を通過する。この構造は、たとえば、マイクロ
リソグラフィ用投影露光装置の投影対物レンズに適用さ
れる。特に、たとえば、ドイツ特許第１９６１６９２
２．４号及びそこで引用されている文献のような分割器
立方体を有するカタジオプトリック光学系でこのような
装置が必要である。
要素として、典型的には２２０×２８０×１０mm3 （幅
×高さ×厚さ）の寸法を有し、紫外線に対し高い耐久性
を示す高品質の石英ガラスから成る平面板１を有する。
直径が約２００から２１０mmの円形クロスカット部１０
を通って、特に波長が２５０nm以下のエキシマレーザ
ー、たとえば、１９３nmのＡｒＦレーザーの紫外線光が
平面板１を通過する。この構造は、たとえば、マイクロ
リソグラフィ用投影露光装置の投影対物レンズに適用さ
れる。特に、たとえば、ドイツ特許第１９６１６９２
２．４号及びそこで引用されている文献のような分割器
立方体を有するカタジオプトリック光学系でこのような
装置が必要である。
【００１１】平面板１は精密光学方法により平面となる
ように研磨されており、この板には反射防止層が設けら
れている。引張り応力が１．３６Ｎ／mm（平面板１の厚
さが５mmのときは２．７２Ｎ／mm）のとき、この平面板
１は応力の複屈折によって四分の一波長板を形成する。
クロスカット部１０の全体に必要な作用を一様に妨害な
く実現するように、この引張り応力は引張り装置３，７
により高い均一性をもって、平面板１に曲げモーメント
を発生させることなく導入されなければならない。
ように研磨されており、この板には反射防止層が設けら
れている。引張り応力が１．３６Ｎ／mm（平面板１の厚
さが５mmのときは２．７２Ｎ／mm）のとき、この平面板
１は応力の複屈折によって四分の一波長板を形成する。
クロスカット部１０の全体に必要な作用を一様に妨害な
く実現するように、この引張り応力は引張り装置３，７
により高い均一性をもって、平面板１に曲げモーメント
を発生させることなく導入されなければならない。
【００１２】図１の上部にある引張り装置３と、下部に
ある引張り装置７は、そのような一様な引張り応力をど
のようにして剛性引張りフレーム２から平面板１へ導入
できるかという例を示している。有効クロスカット部１
０と、上下の延長領域１１ａ及び１１ｂとの間には、同
じ石英ガラスから成り、たとえば、２２０×３０×１５
mm3 （幅×高さ×厚さ）の寸法を有する横ビーム１２ａ
〜１２ｄがそれぞれ装着又は接合されている。これらの
補強部材は、引張り装置３，７の多数の、分離した装着
点から平面板１の、横ビーム１２ａ〜１２ｄの間の領域
へ引張り応力を均一に配分する（「カーテン」効果を回
避する）働きをする。
ある引張り装置７は、そのような一様な引張り応力をど
のようにして剛性引張りフレーム２から平面板１へ導入
できるかという例を示している。有効クロスカット部１
０と、上下の延長領域１１ａ及び１１ｂとの間には、同
じ石英ガラスから成り、たとえば、２２０×３０×１５
mm3 （幅×高さ×厚さ）の寸法を有する横ビーム１２ａ
〜１２ｄがそれぞれ装着又は接合されている。これらの
補強部材は、引張り装置３，７の多数の、分離した装着
点から平面板１の、横ビーム１２ａ〜１２ｄの間の領域
へ引張り応力を均一に配分する（「カーテン」効果を回
避する）働きをする。
【００１３】上部引張り装置３は、平面板１に正面側孔
１３ｉ（たとえば、直径５mm，深さ１０mm，間隔１０m
m）を有する。これらの孔の中に、熱膨張に関して石英
ガラスに特に良く適合する材料であるインバーから成る
ピン３ｉが紫外線に耐える接着剤によって接合されてい
る。あるいは、たとえば、真空蒸着又は電気分解により
石英ガラスをあらかじめメタライズするなどの方法で、
はんだ付けすることも可能である。散乱して固着部分３
２ｉ，１３ｉに小さな破損部分を形成してしまうのが避
けられない強い作用を及ぼす紫外線光に対して接合部を
保護するために、たとえば、吸収剤としてススを接着剤
と混合しておくことができる。
１３ｉ（たとえば、直径５mm，深さ１０mm，間隔１０m
m）を有する。これらの孔の中に、熱膨張に関して石英
ガラスに特に良く適合する材料であるインバーから成る
ピン３ｉが紫外線に耐える接着剤によって接合されてい
る。あるいは、たとえば、真空蒸着又は電気分解により
石英ガラスをあらかじめメタライズするなどの方法で、
はんだ付けすることも可能である。散乱して固着部分３
２ｉ，１３ｉに小さな破損部分を形成してしまうのが避
けられない強い作用を及ぼす紫外線光に対して接合部を
保護するために、たとえば、吸収剤としてススを接着剤
と混合しておくことができる。
【００１４】ピン３ｉの自由端部には鳩目穴があり、そ
れらの穴に引張りコイルばね４ｉが掛けられている。ば
ね４ｉの第２の端部は、引張りフレーム２に固定支承さ
れた長手方向に調整自在の軸受台３２ｉに係合してい
る。長手方向に調整自在の軸受台３２ｉを調整すること
によって、平面板１に均一な応力が設定される。このた
めに、石英ガラスの応力を干渉計測定により評価する。
この引張り装置３を平面板１と引張りフレーム２との間
で両側で配置できることは言うまでもない。
れらの穴に引張りコイルばね４ｉが掛けられている。ば
ね４ｉの第２の端部は、引張りフレーム２に固定支承さ
れた長手方向に調整自在の軸受台３２ｉに係合してい
る。長手方向に調整自在の軸受台３２ｉを調整すること
によって、平面板１に均一な応力が設定される。このた
めに、石英ガラスの応力を干渉計測定により評価する。
この引張り装置３を平面板１と引張りフレーム２との間
で両側で配置できることは言うまでもない。
【００１５】そこで、１例として、下側に引張り装置の
変形例７が示されている。図２は、平面板１にねじれな
く、また、遊びなく力を導入する構造を明瞭に示す横断
面図である。この場合、平面板には多数の横穴１５ｊが
等間隔で設けられている（たとえば、直径１０mm，間隔
１０mm）。横穴１５ｊを製造するときには、穴の縁部が
すり減らないように注意しなければならない。従って、
穴ぐりの際には、穴ぐり箇所の上下、すなわち、板１の
両側に、破壊される補助部材を接着する。これにより、
構造の確実性をそこなう不必要な亀裂や、きのこ形破損
を回避する。その後、平坦な面を精密光学方法により加
工する。さらに、亀裂を腐食除去するために、部品をフ
ッ化水素酸の中で腐食させると有利である。また、焼き
もどしによって、亀裂に対する感度は向上する。
変形例７が示されている。図２は、平面板１にねじれな
く、また、遊びなく力を導入する構造を明瞭に示す横断
面図である。この場合、平面板には多数の横穴１５ｊが
等間隔で設けられている（たとえば、直径１０mm，間隔
１０mm）。横穴１５ｊを製造するときには、穴の縁部が
すり減らないように注意しなければならない。従って、
穴ぐりの際には、穴ぐり箇所の上下、すなわち、板１の
両側に、破壊される補助部材を接着する。これにより、
構造の確実性をそこなう不必要な亀裂や、きのこ形破損
を回避する。その後、平坦な面を精密光学方法により加
工する。さらに、亀裂を腐食除去するために、部品をフ
ッ化水素酸の中で腐食させると有利である。また、焼き
もどしによって、亀裂に対する感度は向上する。
【００１６】穴１５ｊの中には、たとえば、硬化鋼又は
インバーから球状に形成されたボルト６ｊが差し込まれ
ている。たとえば、銅又は亜鉛などの延性のある柔軟な
材料から成る薄いスリーブ６１ｊを間に挟むのが好まし
い。これにより、平面板１をボルト６ｊと遊隙なく、ね
じりもなく結合することができ、過剰に大きな局所荷重
はスリーブ６１ｊによって回避される。
インバーから球状に形成されたボルト６ｊが差し込まれ
ている。たとえば、銅又は亜鉛などの延性のある柔軟な
材料から成る薄いスリーブ６１ｊを間に挟むのが好まし
い。これにより、平面板１をボルト６ｊと遊隙なく、ね
じりもなく結合することができ、過剰に大きな局所荷重
はスリーブ６１ｊによって回避される。
【００１７】これらのボルト６ｊに引張り装置７が係合
している。係合時には、まず、ボルト６ｊの両側につな
ぎ部材７１ｊを取り付ける。つなぎ部材７１ｊはばね継
手７１２ｊを介してつり合いビーム７２ｋに結合してい
る。多数の平行に、また、直列に接続されたつり合いビ
ーム７２ｋ，７３ｌ，７４はばね継手７２３，７３４，
７４２と共に、つり合いレバー伝動装置を形成する。こ
の伝動装置は全てのボルト６ｊに引張り荷重を一様に与
える働きをする。ばね継手７１２ｊ，７２３，７２４，
７４２は図１の図示平面でねじれ及び湾曲に対して柔軟
であり且つそれに対し垂直に構成されているので、曲げ
モーメントは平面板１には伝達されない。引張り装置７
はばね継手７４２を介して引張りフレーム２と結合され
ている。つり合いレバー伝動装置を図示した形態で製造
するときには、たとえば、放電加工，水流切断又はレー
ザー加工を利用する。穴１５ｊの数、従って、レバー及
び継手の数が実際には図１及び図２の概略図に示すより
多い（１０1から１０2個）のは言うまでもない。
している。係合時には、まず、ボルト６ｊの両側につな
ぎ部材７１ｊを取り付ける。つなぎ部材７１ｊはばね継
手７１２ｊを介してつり合いビーム７２ｋに結合してい
る。多数の平行に、また、直列に接続されたつり合いビ
ーム７２ｋ，７３ｌ，７４はばね継手７２３，７３４，
７４２と共に、つり合いレバー伝動装置を形成する。こ
の伝動装置は全てのボルト６ｊに引張り荷重を一様に与
える働きをする。ばね継手７１２ｊ，７２３，７２４，
７４２は図１の図示平面でねじれ及び湾曲に対して柔軟
であり且つそれに対し垂直に構成されているので、曲げ
モーメントは平面板１には伝達されない。引張り装置７
はばね継手７４２を介して引張りフレーム２と結合され
ている。つり合いレバー伝動装置を図示した形態で製造
するときには、たとえば、放電加工，水流切断又はレー
ザー加工を利用する。穴１５ｊの数、従って、レバー及
び継手の数が実際には図１及び図２の概略図に示すより
多い（１０1から１０2個）のは言うまでもない。
【００１８】図示したばね継手の代わりに、玉継手又は
複数の部分から成るばね継手構造を使用しても良い。調
整時には、つり合いビーム７２ｋ，７３ｌ，７４及びば
ね継手７２３，７３４，７４２の剛性を、たとえば、レ
ーザーによって材料の削り取り量を目的に合わせて加減
することにより変化させることができる。
複数の部分から成るばね継手構造を使用しても良い。調
整時には、つり合いビーム７２ｋ，７３ｌ，７４及びば
ね継手７２３，７３４，７４２の剛性を、たとえば、レ
ーザーによって材料の削り取り量を目的に合わせて加減
することにより変化させることができる。
【００１９】この引張り装置も両側に設けることができ
るが、例えば、引張り装置３の引張りばね又は接着され
たピンと組合わせることも可能である。同様に、引張り
装置３のばねをつなぎ部材及びボルトを介して平面板１
の横穴に係合することもできる。石英板を引張り装置の
金属部品に結合するための別の方法として、さねつぎ、
特にあり溝状のさねつぎを利用することができ、その場
合には、金属部分を、好ましくはばね継手を使用して、
多数の互いに移動自在である部材に分割することにな
る。もろい材料に凹凸傷がつくのを避けるために、石英
ガラスの形状については、常に十分な丸みをつけるよう
に考慮する。
るが、例えば、引張り装置３の引張りばね又は接着され
たピンと組合わせることも可能である。同様に、引張り
装置３のばねをつなぎ部材及びボルトを介して平面板１
の横穴に係合することもできる。石英板を引張り装置の
金属部品に結合するための別の方法として、さねつぎ、
特にあり溝状のさねつぎを利用することができ、その場
合には、金属部分を、好ましくはばね継手を使用して、
多数の互いに移動自在である部材に分割することにな
る。もろい材料に凹凸傷がつくのを避けるために、石英
ガラスの形状については、常に十分な丸みをつけるよう
に考慮する。
【００２０】また、ぴったりとしたはめ合い結合を厚さ
方向に配置される複数のバー又は幅方向に延出するバー
によって、あり溝さねつぎ部として構成することもでき
る。楔締めも可能である。同様に金属部品を多数の部分
から構成して、適応状態を改善し且つねじれのない一様
な引張り荷重を確保している。荷重を分散し且つ摩擦を
減少させるために、石英ガラスと金属との間の境界面並
びに相対的に移動自在である金属部品の境界面の全てを
柔軟な金属又はＰＴＦＥから成る層又はスペーサによっ
て最適化することができる。
方向に配置される複数のバー又は幅方向に延出するバー
によって、あり溝さねつぎ部として構成することもでき
る。楔締めも可能である。同様に金属部品を多数の部分
から構成して、適応状態を改善し且つねじれのない一様
な引張り荷重を確保している。荷重を分散し且つ摩擦を
減少させるために、石英ガラスと金属との間の境界面並
びに相対的に移動自在である金属部品の境界面の全てを
柔軟な金属又はＰＴＦＥから成る層又はスペーサによっ
て最適化することができる。
【００２１】局所引張り応力を適切に調整するのであれ
ば、特定の目的に合わせて平面板における応力分布を均
一状態からわずかにずらし、特に横方向プロファイルを
もたせることも可能である。これにより、たとえば、カ
タジオプトリック対物レンズの極分割器立方体の残留誤
差によって起こる透過光束の偏光の不均一を均衡させる
ことができる。
ば、特定の目的に合わせて平面板における応力分布を均
一状態からわずかにずらし、特に横方向プロファイルを
もたせることも可能である。これにより、たとえば、カ
タジオプトリック対物レンズの極分割器立方体の残留誤
差によって起こる透過光束の偏光の不均一を均衡させる
ことができる。
【００２２】引張り応力に加えて、それに対し横方向に
圧力を与えることにより、石英ガラスの荷重限界を越え
ずに応力複屈折を向上させることができる。この場合、
優勢である引張り応力によって、加圧下のたわみは回避
される。平面板の理想の形態からのずれ（これには、円
柱レンズ作用を発生させる引張り下の横方向収縮や、水
平に設置した場合の重力によるメニスカス状のたわみが
含まれる）は、製造時に適切に湾曲させた面を当てがう
ことにより補正できる。重力作用によるたわみについて
は、光学的に利用されるクロスカット部１０の外側で適
切な支えを設けることにより、たわみを減少できる。
圧力を与えることにより、石英ガラスの荷重限界を越え
ずに応力複屈折を向上させることができる。この場合、
優勢である引張り応力によって、加圧下のたわみは回避
される。平面板の理想の形態からのずれ（これには、円
柱レンズ作用を発生させる引張り下の横方向収縮や、水
平に設置した場合の重力によるメニスカス状のたわみが
含まれる）は、製造時に適切に湾曲させた面を当てがう
ことにより補正できる。重力作用によるたわみについて
は、光学的に利用されるクロスカット部１０の外側で適
切な支えを設けることにより、たわみを減少できる。
【図１】 本発明による平面板構造の概略全体図。
【図２】 はめ合いによる平面板への力の導入を示す部
分図。
分図。
１…平面板、３，７…引張り装置、３ｉ…引張りコイル
ばね、６ｊ…ボルト、１０…クロスカット部、１１ａ，
１１ｂ…延長領域、１２ａ〜１２ｄ…横ビーム、７１ｊ
…つなぎ部材、７２ｋ，７３１，７４…つり合いビー
ム、７２３，７３４，７４２…ばね継手。
ばね、６ｊ…ボルト、１０…クロスカット部、１１ａ，
１１ｂ…延長領域、１２ａ〜１２ｄ…横ビーム、７１ｊ
…つなぎ部材、７２ｋ，７３１，７４…つり合いビー
ム、７２３，７３４，７４２…ばね継手。
Claims (16)
- 【請求項１】 応力複屈折を伴う複屈折平面構造におい
て、平面板（１）の２つの対向する側に複数の平行な引
張り装置（３，７）が作用することを特徴とする複屈折
平面板構造。 - 【請求項２】 光学的に利用可能な中央領域（１０）
と、引張り装置（３，７）が作用する２つの結合領域
（１１ａ，１１ｂ）とを有する複屈折平面板構造におい
て、光学的に利用可能な中央領域（１０）と２つの結合
領域（１１ａ，１１ｂ）との間で、それぞれ、横ビーム
（１２ａ〜１２ｄ）が力の損失なく平面板（１）と結合
されていることを特徴とする請求項１記載の複屈折平面
板構造。 - 【請求項３】 引張り装置（３）は引張りばね（３ｉ）
を含むことを特徴とする請求項１又は２記載の複屈折平
面板構造。 - 【請求項４】 引張り装置（７）はつり合いレバー伝動
装置（７１，７３，７４）により結合されていることを
特徴とする請求項１，２又は３記載の複屈折平面板構
造。 - 【請求項５】 引張り装置（７）は接着剤なしで平面板
（１）と結合されていることを特徴とする請求項１から
４の少なくとも１項に記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項６】 両側に複数の平行な横穴（１５ｊ）を有
し、それらの横穴に、つなぎ部材（７１ｊ）に支承され
た球形のボルト（６ｊ）が係合し、つなぎ部材も平面板
（１）の平面で、同様にねじれなく荷重を受けるように
支承されている複屈折平面板構造（１）。 - 【請求項７】 ボルト（６ｊ）は硬質の芯と、塑性変形
自在のスリーブ（６１ｊ）とを有することを特徴とする
請求項６記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項８】 横ビーム（１２ａ〜１２ｄ）が掛け渡さ
れていることを特徴とする請求項２記載の複屈折平面板
構造。 - 【請求項９】 光学的に利用可能な中央領域（１０）の
直径は１８０mmより大きいことを特徴とする請求項１か
ら８の少なくとも１項に記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項１０】 平面板の厚さは約５〜１５mmであるこ
とを特徴とする請求項１から９の少なくとも１項に記載
の複屈折平面板構造。 - 【請求項１１】 つり合いレバー伝動装置（７２，７
３，７４）はばね継手（７２３，７３４，７４３）を伴
って構成されていることを特徴とする請求項４記載の複
屈折平面板構造。 - 【請求項１２】 つり合いレバー伝動装置（７２，７
３，７４）は一方の側に一体構造として構成されている
ことを特徴とする請求項１１記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項１３】 引張り応力が加えられたとき、平面板
（１）は紫外線の動作波長に対して四分の一波長板であ
ることを特徴とする請求項１から１２の少なくとも１項
に記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項１４】 平面板（１）はガラス、特に石英ガラ
スから製造されていることを特徴とする請求項１から１
３の少なくとも１項に記載の複屈折平面板構造。 - 【請求項１５】 平面板（１）は２５０nm未満の遠紫外
線、特に２００nmから１５０nmの範囲の紫外線を透過し
且つ放射に対して安定していることを特徴とする請求項
１から１４の少なくとも１項に記載の複屈折平面板構
造。 - 【請求項１６】 ガラスの平面板（１）から成り、２５
０nm未満の遠紫外線を透過し、常に一様な引張り応力を
受けている四分の一波長板。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19637563.0 | 1996-09-14 | ||
| DE19637563A DE19637563A1 (de) | 1996-09-14 | 1996-09-14 | Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10104423A true JPH10104423A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=7805681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9248488A Pending JPH10104423A (ja) | 1996-09-14 | 1997-09-12 | 複屈折平面板構造及びｄｕｖ四分の一波長板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6084708A (ja) |
| EP (1) | EP0834753B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10104423A (ja) |
| DE (2) | DE19637563A1 (ja) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19704936A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Zeiss Carl Fa | Optisches Glied und Herstellverfahren |
| DE19807120A1 (de) | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Zeiss Carl Fa | Optisches System mit Polarisationskompensator |
| JP3985346B2 (ja) | 1998-06-12 | 2007-10-03 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、投影露光装置の調整方法、及び投影露光方法 |
| DE19829612A1 (de) | 1998-07-02 | 2000-01-05 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem der Mikrolithographie mit Depolarisator |
| DE19851749A1 (de) * | 1998-11-10 | 2000-05-11 | Zeiss Carl Fa | Polarisationsoptisch kompensiertes Objektiv |
| DE19859634A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie |
| US6324003B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-11-27 | Silicon Valley Group, Inc. | Calcium fluoride (CaF2) stress plate and method of making the same |
| US6437916B1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-08-20 | Jds Uniphase Corporation | Strain-stabilized birefringent crystal |
| US6937394B2 (en) | 2001-04-10 | 2005-08-30 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Device and method for changing the stress-induced birefringence and/or the thickness of an optical component |
| KR20040015251A (ko) | 2001-05-15 | 2004-02-18 | 칼 짜이스 에스엠티 아게 | 불화물 결정 렌즈들을 포함하는 렌즈 시스템 |
| DE10123725A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
| US7239447B2 (en) | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
| US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
| EP1780570A3 (en) * | 2001-06-01 | 2008-01-02 | ASML Netherlands B.V. | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
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| US7453641B2 (en) | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
| US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
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| JPWO2003054590A1 (ja) * | 2001-12-10 | 2005-04-28 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー装置に用いられる光学素子用のフッ化物結晶材料及びその製造方法 |
| DE10162796B4 (de) * | 2001-12-20 | 2007-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren |
| US20050094268A1 (en) * | 2002-03-14 | 2005-05-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical system with birefringent optical elements |
| DE10220045A1 (de) * | 2002-05-04 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Verfahren zur Herstellung eines optischen Elementes aus Quarzsubstrat |
| US6816326B2 (en) | 2002-07-12 | 2004-11-09 | Schott Glas | Optical system with compensated spatial dispersion |
| EP1380896A1 (de) * | 2002-07-12 | 2004-01-14 | Schott Glas | Optisches System mit kompensierter Spatial Dispersion |
| US6958864B2 (en) * | 2002-08-22 | 2005-10-25 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems |
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| WO2005017622A1 (de) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur lagerung eines optischen elementes, insbesondere einer linse in einem objektiv |
| ATE396428T1 (de) * | 2003-09-26 | 2008-06-15 | Zeiss Carl Smt Ag | Belichtungsverfahren sowie projektions- belichtungssystem zur ausführung des verfahrens |
| US7408616B2 (en) * | 2003-09-26 | 2008-08-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method |
| DE102005039517A1 (de) * | 2005-08-20 | 2007-02-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Phasenverzögerungselement und Verfahren zur Herstellung eines Phasenverzögerungselementes |
| DE102007007907A1 (de) * | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements, nach einem derartigen Verfahren hergestelltes diffraktives optisches Element, Beleuchtungsoptik mit einem derartigen diffratkiven optischen Element, Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Verfahren zum Herstellen eines mikroelektronischen Bauelements unter Verwendung einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie mit einem solchen Verfahren hergestelltes Bauelement |
| DE102007014587A1 (de) | 2007-03-23 | 2008-09-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Doppelbrechende Verzögerungsplattenanordnung |
| DE102008054818A1 (de) | 2008-01-29 | 2009-07-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Manipulieren eines optischen Systems, sowie optisches System |
| KR20180098698A (ko) | 2013-08-26 | 2018-09-04 | 후지필름 가부시키가이샤 | 휘도 향상 필름, 광학 시트 부재 및 액정 표시 장치 |
| WO2015122479A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 輝度向上フィルム、光学シート部材および液晶表示装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| GB620137A (en) * | 1945-03-01 | 1949-03-21 | Scophony Ltd | Colour television receiving apparatus |
| US2823491A (en) * | 1950-10-18 | 1958-02-18 | Cie Reunies Glaces Et Verres | Production of birefringent glass |
| FR1485083A (fr) * | 1965-07-08 | 1967-06-16 | Ibm | Lames à retard de phase variable |
| FR2211667A2 (en) * | 1972-12-22 | 1974-07-19 | Anvar | Transparent plastic chip for birefringent device - is preformed semi-cylindrical shape to stabilize stresses |
| US3957375A (en) * | 1973-02-28 | 1976-05-18 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Variable thickness double-refracting plate |
-
1996
- 1996-09-14 DE DE19637563A patent/DE19637563A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-08-27 DE DE59712009T patent/DE59712009D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-27 EP EP97114837A patent/EP0834753B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-12 JP JP9248488A patent/JPH10104423A/ja active Pending
- 1997-09-15 US US08/929,913 patent/US6084708A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6084708A (en) | 2000-07-04 |
| EP0834753B1 (de) | 2004-10-13 |
| EP0834753A1 (de) | 1998-04-08 |
| DE19637563A1 (de) | 1998-03-19 |
| DE59712009D1 (de) | 2004-11-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040819 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040913 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080401 |