JPH10105914A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH10105914A JPH10105914A JP25638296A JP25638296A JPH10105914A JP H10105914 A JPH10105914 A JP H10105914A JP 25638296 A JP25638296 A JP 25638296A JP 25638296 A JP25638296 A JP 25638296A JP H10105914 A JPH10105914 A JP H10105914A
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- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透磁率等の磁気的性能が良好であって記録再
生特性が良好である磁気ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 磁気ヘッド1は、磁性体からなる一対の
磁気コア半体2A,2Bが非磁性体を介して突き合わさ
れ、磁気ギャップ4が形成されるとともに、上記磁気コ
ア半体2A,2Bにそれぞれトラック幅規制溝7A,7
Bが研削形成され、このトラック幅規制溝7A,7Bに
非磁性材料が充填されることにより上記磁気ギャップ4
のトラック幅が規制されてなり、上記トラック幅規制溝
7A,7Bのトラック幅方向における研削領域が上記磁
気コア半体2A,2Bの幅内にあり、上記磁気コア半体
2A,2Bの側面にトラック幅規制溝が露出していない
ことを特徴とする。
生特性が良好である磁気ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 磁気ヘッド1は、磁性体からなる一対の
磁気コア半体2A,2Bが非磁性体を介して突き合わさ
れ、磁気ギャップ4が形成されるとともに、上記磁気コ
ア半体2A,2Bにそれぞれトラック幅規制溝7A,7
Bが研削形成され、このトラック幅規制溝7A,7Bに
非磁性材料が充填されることにより上記磁気ギャップ4
のトラック幅が規制されてなり、上記トラック幅規制溝
7A,7Bのトラック幅方向における研削領域が上記磁
気コア半体2A,2Bの幅内にあり、上記磁気コア半体
2A,2Bの側面にトラック幅規制溝が露出していない
ことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ等の磁
気記録媒体の記録及び/又は再生に好適な磁気ヘッド及
びその製造方法に関する。
気記録媒体の記録及び/又は再生に好適な磁気ヘッド及
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気記録の分野において、磁気記
録媒体は、情報信号の高密度記録化が進められている。
これに伴い、磁気記録媒体では、磁気記録媒体上に記録
される信号の波長が短くなっている。そして、磁気ヘッ
ドは、この高密度記録化された磁気記録媒体を記録又は
再生するために、そのトラック幅も狭トラック化、高出
力化が進められている。
録媒体は、情報信号の高密度記録化が進められている。
これに伴い、磁気記録媒体では、磁気記録媒体上に記録
される信号の波長が短くなっている。そして、磁気ヘッ
ドは、この高密度記録化された磁気記録媒体を記録又は
再生するために、そのトラック幅も狭トラック化、高出
力化が進められている。
【0003】磁気ヘッド100は、図10に示すよう
に、閉磁路を構成する一対の磁気コア半体102A,1
02Bと、この一対の磁気コア半体102A,102B
の間に配される非磁性体からなるギャップ膜103と、
この一対の磁気コア半体102A,102Bの側面に埋
め込まれたガラス部104とから構成されている。ま
た、この磁気ヘッド100には、図示しないコイルが一
対の磁気コア半体102A,102Bにそれぞれ巻装さ
れている。
に、閉磁路を構成する一対の磁気コア半体102A,1
02Bと、この一対の磁気コア半体102A,102B
の間に配される非磁性体からなるギャップ膜103と、
この一対の磁気コア半体102A,102Bの側面に埋
め込まれたガラス部104とから構成されている。ま
た、この磁気ヘッド100には、図示しないコイルが一
対の磁気コア半体102A,102Bにそれぞれ巻装さ
れている。
【0004】一対の磁気コア半体102A,102B
は、強磁性酸化物からなり、ギャップ膜103を介して
接合されることにより閉磁路を形成する。そして、この
一対の磁気コア半体102A,102Bには、突き合わ
された状態でその突合せ面にトラック幅規制溝105が
設けられている。このトラック幅規制溝105は、磁気
ヘッド100のトラック幅を規制するものであり、磁気
ヘッド100の両側面に一対設けられている。
は、強磁性酸化物からなり、ギャップ膜103を介して
接合されることにより閉磁路を形成する。そして、この
一対の磁気コア半体102A,102Bには、突き合わ
された状態でその突合せ面にトラック幅規制溝105が
設けられている。このトラック幅規制溝105は、磁気
ヘッド100のトラック幅を規制するものであり、磁気
ヘッド100の両側面に一対設けられている。
【0005】またギャップ膜103は、一対の磁気コア
半体102A,102Bの間に配される。これよって、
ギャップ膜103は、一対の磁気コア半体102A,1
02Bにより形成される閉磁路を磁気的に遮断する磁気
ギャップを形成している。
半体102A,102Bの間に配される。これよって、
ギャップ膜103は、一対の磁気コア半体102A,1
02Bにより形成される閉磁路を磁気的に遮断する磁気
ギャップを形成している。
【0006】ガラス部104は、低融点ガラス材等から
なり、この低融点ガラス材が溶融した状態で一対の磁気
コア半体102A,102Bの両側面に設けられたトラ
ック幅規制溝105に充填され、この低融点ガラス材が
固化することにより形成される。これによって、ガラス
部104は、一対の磁気コア半体102A,102Bを
接合する。
なり、この低融点ガラス材が溶融した状態で一対の磁気
コア半体102A,102Bの両側面に設けられたトラ
ック幅規制溝105に充填され、この低融点ガラス材が
固化することにより形成される。これによって、ガラス
部104は、一対の磁気コア半体102A,102Bを
接合する。
【0007】また、この磁気ヘッド100には、図10
中Aで示す磁気記録媒体摺動面に、磁気記録媒体の進行
方向と平行に一対の当たり幅規制溝106が形成されて
いる。この当たり幅規制溝106は、磁気記録媒体と磁
気ヘッド100との当たり幅を規制するためのものであ
る。これにより、磁気ヘッド100は、磁気記録媒体に
対して良好な状態で当接することができる。
中Aで示す磁気記録媒体摺動面に、磁気記録媒体の進行
方向と平行に一対の当たり幅規制溝106が形成されて
いる。この当たり幅規制溝106は、磁気記録媒体と磁
気ヘッド100との当たり幅を規制するためのものであ
る。これにより、磁気ヘッド100は、磁気記録媒体に
対して良好な状態で当接することができる。
【0008】以上のように構成された従来の磁気ヘッド
100は、図11に示すように、複数個の磁気ヘッド1
00が同時に形成されれ。この場合、磁気ヘッド100
は、複数個の磁気ヘッド半体102A,102Bが基板
109A,109B上に形成され、これら基板109
A,109Bを接合することにより磁気ヘッドブロック
110を形成し、その後、個々の磁気ヘッド100に分
離されることにより形成される。このとき、磁気ヘッド
ブロック110では、磁気ヘッド100の磁気記録媒体
摺動面Aとなる側面Bに円筒加工が施される。
100は、図11に示すように、複数個の磁気ヘッド1
00が同時に形成されれ。この場合、磁気ヘッド100
は、複数個の磁気ヘッド半体102A,102Bが基板
109A,109B上に形成され、これら基板109
A,109Bを接合することにより磁気ヘッドブロック
110を形成し、その後、個々の磁気ヘッド100に分
離されることにより形成される。このとき、磁気ヘッド
ブロック110では、磁気ヘッド100の磁気記録媒体
摺動面Aとなる側面Bに円筒加工が施される。
【0009】その後、この磁気ヘッドブロック110で
は、各磁気ヘッド100の当たり幅規制溝106に対応
する位置、すなわち、図11中実線C1−C1線と点線
D1−D1線との間及び図11中実線C2−C2線と点
線D2−D2線との間に研削加工が施される。これによ
り、磁気ヘッドブロック110には、各磁気ヘッド10
0の当たり幅規制溝106となる段差が形成されること
となる。
は、各磁気ヘッド100の当たり幅規制溝106に対応
する位置、すなわち、図11中実線C1−C1線と点線
D1−D1線との間及び図11中実線C2−C2線と点
線D2−D2線との間に研削加工が施される。これによ
り、磁気ヘッドブロック110には、各磁気ヘッド10
0の当たり幅規制溝106となる段差が形成されること
となる。
【0010】その後、磁気ヘッドブロック110では、
図11中実線C1−C1線及び実線C2−C2線に切削
加工が施される。これにより、磁気ヘッドブロック11
0からは、個々の磁気ヘッド100が分離されることに
なる。
図11中実線C1−C1線及び実線C2−C2線に切削
加工が施される。これにより、磁気ヘッドブロック11
0からは、個々の磁気ヘッド100が分離されることに
なる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の磁気ヘッド100では、一対の磁気コア
半体102A,102Bを構成する強磁性酸化物の透磁
率が低下していた。つまり、磁気ヘッド100は、一対
の磁気コア半体102A,102Bの透磁率が低下する
ために、電磁変換特性が劣化したものとなる。
たような従来の磁気ヘッド100では、一対の磁気コア
半体102A,102Bを構成する強磁性酸化物の透磁
率が低下していた。つまり、磁気ヘッド100は、一対
の磁気コア半体102A,102Bの透磁率が低下する
ために、電磁変換特性が劣化したものとなる。
【0012】したがって、従来の磁気ヘッド100で
は、磁気記録媒体に対する記録再生特性が劣化してしま
うといった問題点があった。
は、磁気記録媒体に対する記録再生特性が劣化してしま
うといった問題点があった。
【0013】そこで、本発明は、このような従来の磁気
ヘッド及びその製造方法の問題点を解決し、透磁率等の
磁気的性能が良好であって記録再生特性が良好である磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
ヘッド及びその製造方法の問題点を解決し、透磁率等の
磁気的性能が良好であって記録再生特性が良好である磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、上
述の目的を達成せんものと鋭意検討した結果、一対の磁
気コア半体の透磁率の劣化は、磁性体に歪みが生じたた
めであることを見い出した。そして、本発明者は、磁性
体に歪みを発生させないことこそが一対の磁気コア半体
の透磁率を向上させることになるという結論に達した。
述の目的を達成せんものと鋭意検討した結果、一対の磁
気コア半体の透磁率の劣化は、磁性体に歪みが生じたた
めであることを見い出した。そして、本発明者は、磁性
体に歪みを発生させないことこそが一対の磁気コア半体
の透磁率を向上させることになるという結論に達した。
【0015】また、本発明者は、磁性体に歪みを発生さ
せる原因が、磁性体と比較して研削レートの低い部材を
研削することによりこの部材に歪みが発生し、この歪み
が磁性体に影響することにあると着想するに至った。
せる原因が、磁性体と比較して研削レートの低い部材を
研削することによりこの部材に歪みが発生し、この歪み
が磁性体に影響することにあると着想するに至った。
【0016】すなわち、上述した目的を達成した本発明
にかかる磁気ヘッドは、磁性体からなる一対の磁気コア
半体が非磁性体を介して突き合わされ、磁気ギャップが
形成されるとともに、上記磁気コア半体にそれぞれトラ
ック幅規制溝が研削形成され、このトラック幅規制溝に
非磁性材料が充填されることにより上記磁気ギャップの
トラック幅が規制されてなり、上記トラック幅規制溝の
トラック幅方向における研削領域が上記磁気コア半体の
幅内にあり、上記磁気コア半体の側面にトラック幅規制
溝が露出していないことを特徴とする。
にかかる磁気ヘッドは、磁性体からなる一対の磁気コア
半体が非磁性体を介して突き合わされ、磁気ギャップが
形成されるとともに、上記磁気コア半体にそれぞれトラ
ック幅規制溝が研削形成され、このトラック幅規制溝に
非磁性材料が充填されることにより上記磁気ギャップの
トラック幅が規制されてなり、上記トラック幅規制溝の
トラック幅方向における研削領域が上記磁気コア半体の
幅内にあり、上記磁気コア半体の側面にトラック幅規制
溝が露出していないことを特徴とする。
【0017】以上のように構成された本発明にかかる磁
気ヘッドでは、トラック幅規制溝は、磁気記録媒体と当
接する面に対して略直交する面に露出することなく形成
される。このため、この磁気ヘッドでは、その側面が均
一の材料からなるため、切削加工等により切削される際
の側面における切削レートが均一とされる。すなわち、
この磁気ヘッドでは、トラック幅規制溝に充填される非
磁性材料を切削する必要がない。したがって、この磁気
ヘッドは、切削加工等により磁気コアを構成する磁性体
に歪みが発生することなく形成される。これによって、
この磁気ヘッドは、磁性体内の歪みが小とされるため、
良好な透磁率を有するものとなる。
気ヘッドでは、トラック幅規制溝は、磁気記録媒体と当
接する面に対して略直交する面に露出することなく形成
される。このため、この磁気ヘッドでは、その側面が均
一の材料からなるため、切削加工等により切削される際
の側面における切削レートが均一とされる。すなわち、
この磁気ヘッドでは、トラック幅規制溝に充填される非
磁性材料を切削する必要がない。したがって、この磁気
ヘッドは、切削加工等により磁気コアを構成する磁性体
に歪みが発生することなく形成される。これによって、
この磁気ヘッドは、磁性体内の歪みが小とされるため、
良好な透磁率を有するものとなる。
【0018】また、本発明にかかる磁気ヘッドは、上記
磁気コア半体に磁気記録媒体に対する当たり幅を規制す
る当たり幅規制溝が形成され、上記トラック幅規制溝の
外側端部は、上記当たり幅規制溝の側縁部と一致又はこ
れを越えた位置とされているような構成であってもよ
い。
磁気コア半体に磁気記録媒体に対する当たり幅を規制す
る当たり幅規制溝が形成され、上記トラック幅規制溝の
外側端部は、上記当たり幅規制溝の側縁部と一致又はこ
れを越えた位置とされているような構成であってもよ
い。
【0019】このように構成された本発明にかかる磁気
ヘッドでは、当たり幅規制溝を形成する際の研削加工に
おいて、トラック幅規制溝に充填された非磁性材料の研
削量を小とすることができる。すなわち、この磁気ヘッ
ドは、ほぼ磁性体のみを研削することで磁気記録媒体と
の当たり幅を規制することができるような構成とされ
る。このため、この磁気ヘッドでは、当たり幅規制溝を
形成する際の研削加工により磁性体に歪みを発生するこ
とがない。したがって、この磁気ヘッドは、磁性体内の
歪みが小とされるため、さらに良好な透磁率を有するも
のとなる。
ヘッドでは、当たり幅規制溝を形成する際の研削加工に
おいて、トラック幅規制溝に充填された非磁性材料の研
削量を小とすることができる。すなわち、この磁気ヘッ
ドは、ほぼ磁性体のみを研削することで磁気記録媒体と
の当たり幅を規制することができるような構成とされ
る。このため、この磁気ヘッドでは、当たり幅規制溝を
形成する際の研削加工により磁性体に歪みを発生するこ
とがない。したがって、この磁気ヘッドは、磁性体内の
歪みが小とされるため、さらに良好な透磁率を有するも
のとなる。
【0020】一方、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法は、磁性体からなる一対の磁気コア半体に、所定の間
隔を有するトラック幅規制溝を研削形成する工程と、一
対の磁気コア半体を非磁性体を介して突き合わせて磁気
ギャップを形成し、トラック幅規制溝に非磁性材料を充
填することにより一対の磁気コア半体を接合する工程と
を備える。この磁気ヘッドの製造方法は、上記トラック
幅規制溝のトラック幅方向における研削領域を上記磁気
コア半体の幅内とし、上記トラック幅規制溝を上記磁気
コア半体の側面に露出させないことを特徴とする。
法は、磁性体からなる一対の磁気コア半体に、所定の間
隔を有するトラック幅規制溝を研削形成する工程と、一
対の磁気コア半体を非磁性体を介して突き合わせて磁気
ギャップを形成し、トラック幅規制溝に非磁性材料を充
填することにより一対の磁気コア半体を接合する工程と
を備える。この磁気ヘッドの製造方法は、上記トラック
幅規制溝のトラック幅方向における研削領域を上記磁気
コア半体の幅内とし、上記トラック幅規制溝を上記磁気
コア半体の側面に露出させないことを特徴とする。
【0021】以上のように構成された本発明にかかる磁
気ヘッドの製造方法では、トラック幅規制溝は、磁気記
録媒体と当接する面に対して略直交する面に露出するこ
となく形成される。このため、この磁気ヘッドの製造方
法では、その側面が切削加工等により切削される際の側
面における切削レートが均一とされる。すなわち、この
磁気ヘッドの製造方法では、トラック幅規制溝に充填さ
れる非磁性材料を切削する必要がない。したがって、こ
の磁気ヘッドの製造方法は、切削加工等により磁性体に
歪みが発生することなく磁気コアを形成することができ
る。これによって、この磁気ヘッドの製造方法は、製造
される磁気ヘッドの磁性体内の歪みが小とされるため、
良好な透磁率を有する磁気ヘッドを製造することができ
る。
気ヘッドの製造方法では、トラック幅規制溝は、磁気記
録媒体と当接する面に対して略直交する面に露出するこ
となく形成される。このため、この磁気ヘッドの製造方
法では、その側面が切削加工等により切削される際の側
面における切削レートが均一とされる。すなわち、この
磁気ヘッドの製造方法では、トラック幅規制溝に充填さ
れる非磁性材料を切削する必要がない。したがって、こ
の磁気ヘッドの製造方法は、切削加工等により磁性体に
歪みが発生することなく磁気コアを形成することができ
る。これによって、この磁気ヘッドの製造方法は、製造
される磁気ヘッドの磁性体内の歪みが小とされるため、
良好な透磁率を有する磁気ヘッドを製造することができ
る。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
磁気ヘッド及びその製造方法を図面を参照しながら詳細
に説明する。
磁気ヘッド及びその製造方法を図面を参照しながら詳細
に説明する。
【0023】先ず、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、
図1に示すように、磁気記録媒体等に対して用いられる
磁気ヘッド1である。この磁気ヘッド1は、閉磁路を構
成する一対の磁気コア半体2A,2Bと、この一対の磁
気コア半体2A,2Bの間に配されるギャップ膜4と、
このギャップ膜4の両脇に配されるガラス部5とから構
成されている。また、この磁気ヘッド1には、図示しな
いがコイルが巻装されている。
図1に示すように、磁気記録媒体等に対して用いられる
磁気ヘッド1である。この磁気ヘッド1は、閉磁路を構
成する一対の磁気コア半体2A,2Bと、この一対の磁
気コア半体2A,2Bの間に配されるギャップ膜4と、
このギャップ膜4の両脇に配されるガラス部5とから構
成されている。また、この磁気ヘッド1には、図示しな
いがコイルが巻装されている。
【0024】この磁気ヘッド1は、図1中Aで示す面が
磁気記録媒体と当接する面となり、この媒体当接面Aの
幅寸法を規制する当たり幅規制溝6を有する。この当た
り幅規制溝6は、ギャップ膜4を挟み、磁気記録媒体が
摺動する方向に対して平行に設けられている。また、こ
の磁気ヘッド1において、媒体摺動面Aは、円筒上に加
工されており、ギャップ膜4が露出する部分が最も高い
位置となるように形成されている。
磁気記録媒体と当接する面となり、この媒体当接面Aの
幅寸法を規制する当たり幅規制溝6を有する。この当た
り幅規制溝6は、ギャップ膜4を挟み、磁気記録媒体が
摺動する方向に対して平行に設けられている。また、こ
の磁気ヘッド1において、媒体摺動面Aは、円筒上に加
工されており、ギャップ膜4が露出する部分が最も高い
位置となるように形成されている。
【0025】この磁気ヘッド1は、一対の磁気コア半体
2A,2Bが突き合わされることにより閉磁路を形成す
るように構成される。この磁気コア半体2A,2Bは、
断面略コ字状を呈し、Mn−Znフェライト、Ni−Z
nフェライト等の酸化物軟磁性体から形成されている。
磁気ヘッド1には、磁気コア半体2A,2Bの突合せ面
に一対のトラック幅規制溝7A,7Bが形成されてい
る。このトラック幅規制溝7A,7Bには、後述するガ
ラス部5が形成される。また、磁気コア半体2A,2B
には、このトラック幅規制溝7A,7Bが形成されるこ
とによって、後述するギャップ膜4の幅寸法を規制して
いる。
2A,2Bが突き合わされることにより閉磁路を形成す
るように構成される。この磁気コア半体2A,2Bは、
断面略コ字状を呈し、Mn−Znフェライト、Ni−Z
nフェライト等の酸化物軟磁性体から形成されている。
磁気ヘッド1には、磁気コア半体2A,2Bの突合せ面
に一対のトラック幅規制溝7A,7Bが形成されてい
る。このトラック幅規制溝7A,7Bには、後述するガ
ラス部5が形成される。また、磁気コア半体2A,2B
には、このトラック幅規制溝7A,7Bが形成されるこ
とによって、後述するギャップ膜4の幅寸法を規制して
いる。
【0026】この一対の磁気コア半体2A,2Bは、突
き合わされた際にコイルを巻装するための開口部を形成
するギャップデプス規制溝8を有している。このギャッ
プデプス規制溝8は、磁気コア半体2A,2Bの突合せ
面に溝状に形成される。そして、ギャップデプス規制溝
8は、媒体摺動面Aからのギャップ膜4の深さ寸法、す
なわちギャップデプスを規制している。
き合わされた際にコイルを巻装するための開口部を形成
するギャップデプス規制溝8を有している。このギャッ
プデプス規制溝8は、磁気コア半体2A,2Bの突合せ
面に溝状に形成される。そして、ギャップデプス規制溝
8は、媒体摺動面Aからのギャップ膜4の深さ寸法、す
なわちギャップデプスを規制している。
【0027】ギャップ膜4は、磁気ヘッド1において磁
気ギャップとなるものであり、非磁性体、例えばTa2
O5からなる。そして、ギャップ膜4では、上述したト
ラック幅規制溝7A,7Bにより幅寸法が規制されてい
る。したがって、この磁気ヘッド1では、一対のトラッ
ク幅規制溝7A,7Bにより挟持される幅寸法がトラッ
ク幅となる。
気ギャップとなるものであり、非磁性体、例えばTa2
O5からなる。そして、ギャップ膜4では、上述したト
ラック幅規制溝7A,7Bにより幅寸法が規制されてい
る。したがって、この磁気ヘッド1では、一対のトラッ
ク幅規制溝7A,7Bにより挟持される幅寸法がトラッ
ク幅となる。
【0028】トラック幅規制溝7A,7Bは、一対の磁
気コア半体2A,2Bが突き合わされることによりそれ
ぞれ形成される。すなわち、トラック幅規制溝7A,7
Bは、磁気コア半体2A,2Bの突合せ面にそれぞれ形
成された一対の溝が突き合わされるように構成されてい
る。この磁気ヘッド1において、トラック幅規制溝7
A,7Bは、媒体摺動面Aに露出しており、磁気ヘッド
1の側面から露出することがないように形成されてい
る。
気コア半体2A,2Bが突き合わされることによりそれ
ぞれ形成される。すなわち、トラック幅規制溝7A,7
Bは、磁気コア半体2A,2Bの突合せ面にそれぞれ形
成された一対の溝が突き合わされるように構成されてい
る。この磁気ヘッド1において、トラック幅規制溝7
A,7Bは、媒体摺動面Aに露出しており、磁気ヘッド
1の側面から露出することがないように形成されてい
る。
【0029】そして、この一対のトラック幅規制溝7
A,7Bには、後述するガラス部5が形成されている。
したがって、磁気ヘッド1では、媒体摺動面Aに対して
略直交する面にガラス部5が露出することはない。ま
た、磁気ヘッド1では、当たり幅規制溝6内にガラス部
5がほぼ露出しないように構成される。
A,7Bには、後述するガラス部5が形成されている。
したがって、磁気ヘッド1では、媒体摺動面Aに対して
略直交する面にガラス部5が露出することはない。ま
た、磁気ヘッド1では、当たり幅規制溝6内にガラス部
5がほぼ露出しないように構成される。
【0030】この磁気ヘッド1において、一対のトラッ
ク幅規制溝7A,7Bの外側端部は、上述した一対の当
たり幅規制溝6の側縁部と一致する位置に形成されるこ
とが好ましい。すなわち、一対のトラック幅規制溝7
A,7Bは、一対の当たり幅規制溝6により形成される
凸部にのみ露出することが好ましい。このとき、磁気ヘ
ッド1では、トラック幅規制溝7A,7Bに充填される
ガラス部5が当たり幅規制溝6に露出しないように構成
されることとなる。
ク幅規制溝7A,7Bの外側端部は、上述した一対の当
たり幅規制溝6の側縁部と一致する位置に形成されるこ
とが好ましい。すなわち、一対のトラック幅規制溝7
A,7Bは、一対の当たり幅規制溝6により形成される
凸部にのみ露出することが好ましい。このとき、磁気ヘ
ッド1では、トラック幅規制溝7A,7Bに充填される
ガラス部5が当たり幅規制溝6に露出しないように構成
されることとなる。
【0031】このガラス部5は、非磁性絶縁体、例えば
低融点ガラス材からなる。そしてこのガラス部5は、詳
細は後述するが、例えば溶融した低融点ガラス材がトラ
ック幅規制溝7A,7Bに充填され、固化されることに
より形成される。
低融点ガラス材からなる。そしてこのガラス部5は、詳
細は後述するが、例えば溶融した低融点ガラス材がトラ
ック幅規制溝7A,7Bに充填され、固化されることに
より形成される。
【0032】以上のように構成された磁気ヘッド1は、
磁気記録媒体からの信号磁界を検出し、磁気記録媒体に
信号磁界を印加する。このとき、磁気ヘッド1では、一
対の磁気コア半体2A、2Bがギャップ膜4を介して突
き合わされることによって、閉磁路を形成する。
磁気記録媒体からの信号磁界を検出し、磁気記録媒体に
信号磁界を印加する。このとき、磁気ヘッド1では、一
対の磁気コア半体2A、2Bがギャップ膜4を介して突
き合わされることによって、閉磁路を形成する。
【0033】そして、この磁気ヘッド1では、図示しな
いコイルから発生する磁界がギャップ膜4で漏れ磁界と
なる。そして、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印加する
ことによって、信号磁界を記録することができる。ま
た、磁気ヘッド1では、磁気記録媒体からの信号磁界が
ギャップ膜4付近に印加されることによって、信号磁界
を検出する。
いコイルから発生する磁界がギャップ膜4で漏れ磁界と
なる。そして、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印加する
ことによって、信号磁界を記録することができる。ま
た、磁気ヘッド1では、磁気記録媒体からの信号磁界が
ギャップ膜4付近に印加されることによって、信号磁界
を検出する。
【0034】次に、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
について、図面を参照しながら詳細に説明する。このと
き、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の実施の形態
として、上述した磁気ヘッド1を製造する際の製造方法
を示す。
について、図面を参照しながら詳細に説明する。このと
き、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の実施の形態
として、上述した磁気ヘッド1を製造する際の製造方法
を示す。
【0035】上述した磁気ヘッド1を製造する際には、
先ず、図2に示すように、平板状のフェライト基板10
を用意する。このフェライト基板10は、Mn−Znフ
ェライトやNi−Znフェライト等の酸化物軟磁性材料
からなる。そして、このフェライト基板10は、その長
さ寸法が約30mmとされ、その幅寸法が約2.5mm
とされる。そして、このフェライト基板10には、後述
するように、複数個の磁気コア半体2Aが並列して形成
される。その後、一対のフェライト基板10を突き合わ
せることによって、複数個の磁気ヘッド1が並列して形
成されることとなる。その後、並列して形成された複数
個の磁気ヘッド1を切削して個々の磁気ヘッド1に分離
する。
先ず、図2に示すように、平板状のフェライト基板10
を用意する。このフェライト基板10は、Mn−Znフ
ェライトやNi−Znフェライト等の酸化物軟磁性材料
からなる。そして、このフェライト基板10は、その長
さ寸法が約30mmとされ、その幅寸法が約2.5mm
とされる。そして、このフェライト基板10には、後述
するように、複数個の磁気コア半体2Aが並列して形成
される。その後、一対のフェライト基板10を突き合わ
せることによって、複数個の磁気ヘッド1が並列して形
成されることとなる。その後、並列して形成された複数
個の磁気ヘッド1を切削して個々の磁気ヘッド1に分離
する。
【0036】次に、図3に示すように、フェライト基板
10の一方主面10Aに、フェライト基板10の幅方向
に対して平行な方向に複数のトラック幅規制溝7A,7
Bを一定のピッチで形成する。このトラック幅規制溝7
A,7Bは、その深さ寸法が約160μmとされてい
る。また、このトラック幅規制溝7A,7Bは、その一
方側面が傾斜面とされ、その傾斜角(図3中βで示
す。)が8度から45度とされている。
10の一方主面10Aに、フェライト基板10の幅方向
に対して平行な方向に複数のトラック幅規制溝7A,7
Bを一定のピッチで形成する。このトラック幅規制溝7
A,7Bは、その深さ寸法が約160μmとされてい
る。また、このトラック幅規制溝7A,7Bは、その一
方側面が傾斜面とされ、その傾斜角(図3中βで示
す。)が8度から45度とされている。
【0037】このとき、トラック幅規制溝7Aとトラッ
ク幅規制溝7Bとの間には、所定の幅寸法を有する凸部
11が形成される。この凸部11の幅寸法は、磁気ヘッ
ド1のトラック幅の幅寸法となる。また、トラック幅規
制溝7A,7Bは、1つの磁気ヘッド1に対応する凸部
11を形成し、隣接して形成される磁気ヘッドのトラッ
ク幅規制溝7A,7Bとは十分に離間して形成されてい
る。なお、ここで、トラック幅規制溝7A,7Bは、溝
の断面形状に限定されるものではなく、磁気ヘッド1に
おけるトラック幅を規定するような形状であればよい。
しかしながら、トラック幅規制溝7A,7Bは、一方主
面10Aに対して平行な面を有さない方が好ましい。こ
れは、磁気ヘッド1において、一方主面10Aと平行な
面が疑似ギャップを形成してしまう虞れがあるからであ
る。
ク幅規制溝7Bとの間には、所定の幅寸法を有する凸部
11が形成される。この凸部11の幅寸法は、磁気ヘッ
ド1のトラック幅の幅寸法となる。また、トラック幅規
制溝7A,7Bは、1つの磁気ヘッド1に対応する凸部
11を形成し、隣接して形成される磁気ヘッドのトラッ
ク幅規制溝7A,7Bとは十分に離間して形成されてい
る。なお、ここで、トラック幅規制溝7A,7Bは、溝
の断面形状に限定されるものではなく、磁気ヘッド1に
おけるトラック幅を規定するような形状であればよい。
しかしながら、トラック幅規制溝7A,7Bは、一方主
面10Aに対して平行な面を有さない方が好ましい。こ
れは、磁気ヘッド1において、一方主面10Aと平行な
面が疑似ギャップを形成してしまう虞れがあるからであ
る。
【0038】そして、このようにフェライト基板10に
トラック幅規制溝7A,7Bが形成された後、一方主面
10Aを平坦化するために一方主面10Aに対して研磨
加工を施す。このとき、一方主面10Aは、その表面粗
度(Ra)が200〜1000オングストローム程度と
なるように研磨される。
トラック幅規制溝7A,7Bが形成された後、一方主面
10Aを平坦化するために一方主面10Aに対して研磨
加工を施す。このとき、一方主面10Aは、その表面粗
度(Ra)が200〜1000オングストローム程度と
なるように研磨される。
【0039】次に、図4に示すように、フェライト基板
10の一方主面10Aに、上述したトラック幅規制溝7
A,7Bに対して垂直な方向にギャップデプス規制溝1
2を形成する。このギャップデプス規制溝12は、ギャ
ップデプスの大きさを規制するとともにコイルを巻装す
るためのものである。そして、フェライト基板10の一
方主面10Aをいわゆる逆スパッタリングを施し、一方
主面10Aの表面粗さを少なくする。このように、複数
個の磁気コア半体が形成されたフェライト基板10を磁
気コア半体ブロック13とする。
10の一方主面10Aに、上述したトラック幅規制溝7
A,7Bに対して垂直な方向にギャップデプス規制溝1
2を形成する。このギャップデプス規制溝12は、ギャ
ップデプスの大きさを規制するとともにコイルを巻装す
るためのものである。そして、フェライト基板10の一
方主面10Aをいわゆる逆スパッタリングを施し、一方
主面10Aの表面粗さを少なくする。このように、複数
個の磁気コア半体が形成されたフェライト基板10を磁
気コア半体ブロック13とする。
【0040】次に、磁気コア半体ブロック13の一方主
面10A上に、スパッタ法を用いて非磁性体、例えばT
a2O5膜を成膜する。このTa2O5膜は、その膜厚が約
850オングストロームとされ、上述したように磁気ヘ
ッド1におけるギャップ膜4となるものである。
面10A上に、スパッタ法を用いて非磁性体、例えばT
a2O5膜を成膜する。このTa2O5膜は、その膜厚が約
850オングストロームとされ、上述したように磁気ヘ
ッド1におけるギャップ膜4となるものである。
【0041】次に、図5に示すように、一対の磁気コア
半体ブロック13を、それぞれTa2O5膜が成膜された
面が対向するように突き合わされる。このとき、一対の
磁気コア半体ブロック13は、上述したように形成され
たトラック幅規制溝7A,7Bが正確に位置合わせさ
れ、各磁気コア半体ブロック10に形成された凸部11
が対向するように突き合わされる。
半体ブロック13を、それぞれTa2O5膜が成膜された
面が対向するように突き合わされる。このとき、一対の
磁気コア半体ブロック13は、上述したように形成され
たトラック幅規制溝7A,7Bが正確に位置合わせさ
れ、各磁気コア半体ブロック10に形成された凸部11
が対向するように突き合わされる。
【0042】このとき、一対の磁気コア半体ブロック1
3を接合するために、低融点ガラス材等の非磁性絶縁材
料をトラック幅規制溝7A,7Bに充填する。この低融
点ガラス材としては、線径が0.1mmとされる略円柱
状のガラスロット14が用いられる。このガラスロット
14は、ギャップデプス規制溝12の磁気ギャップ側の
端部に、ギャップデプス規制溝14と平行に配される。
この状態で、低融点ガラス材の粘度が0.48〜0.6
(Pa・s)となるように加熱し、約1時間その温度を
保持することによって、図6に示すように、トラック幅
規制溝7A,7Bに低融点ガラス材を充填する。その
後、低融点ガラス材が充填された一対のコア半体ブロッ
ク13を冷却することによって、低融点ガラス材が固化
してガラス部5となり一対のコア半体ブロック13を融
着する。
3を接合するために、低融点ガラス材等の非磁性絶縁材
料をトラック幅規制溝7A,7Bに充填する。この低融
点ガラス材としては、線径が0.1mmとされる略円柱
状のガラスロット14が用いられる。このガラスロット
14は、ギャップデプス規制溝12の磁気ギャップ側の
端部に、ギャップデプス規制溝14と平行に配される。
この状態で、低融点ガラス材の粘度が0.48〜0.6
(Pa・s)となるように加熱し、約1時間その温度を
保持することによって、図6に示すように、トラック幅
規制溝7A,7Bに低融点ガラス材を充填する。その
後、低融点ガラス材が充填された一対のコア半体ブロッ
ク13を冷却することによって、低融点ガラス材が固化
してガラス部5となり一対のコア半体ブロック13を融
着する。
【0043】次に、低融点ガラス材により融着された一
対の磁気コア半体ブロック13の一側面Dに対して円筒
加工を施す。この一側面Dとは、磁気ヘッド1における
媒体摺動面Aとなる面であり、ギャップ膜4が露出した
面である。そして、この一側面Dは、円筒加工により、
ギャップ膜4が露出している部分が最も高い位置となる
ように加工される。
対の磁気コア半体ブロック13の一側面Dに対して円筒
加工を施す。この一側面Dとは、磁気ヘッド1における
媒体摺動面Aとなる面であり、ギャップ膜4が露出した
面である。そして、この一側面Dは、円筒加工により、
ギャップ膜4が露出している部分が最も高い位置となる
ように加工される。
【0044】次に、融着された一対の磁気コア半体ブロ
ック13の一側面Dに対して研削加工を施す。これによ
り、磁気ヘッド1における当たり幅規制溝を形成する。
このとき、研削加工は、図6中、実線L1−L1線と点
線S1−S1線とで挟まれる部分及び実線L2−L2線
と点線S2−S2線とで挟まれる部分に対して行われ
る。
ック13の一側面Dに対して研削加工を施す。これによ
り、磁気ヘッド1における当たり幅規制溝を形成する。
このとき、研削加工は、図6中、実線L1−L1線と点
線S1−S1線とで挟まれる部分及び実線L2−L2線
と点線S2−S2線とで挟まれる部分に対して行われ
る。
【0045】このとき、融着された一対の磁気コア半体
ブロック13は、図7に示すように、一側面Dに凸部1
1が形成されることとなる。この凸部11は、磁気ヘッ
ド1における媒体摺動面Aとなる部分である。そして、
この手法では、当たり幅規制溝6を形成する際、トラッ
ク幅規制溝7A,7Bに充填されたガラス部5をほぼ研
削することがない。
ブロック13は、図7に示すように、一側面Dに凸部1
1が形成されることとなる。この凸部11は、磁気ヘッ
ド1における媒体摺動面Aとなる部分である。そして、
この手法では、当たり幅規制溝6を形成する際、トラッ
ク幅規制溝7A,7Bに充填されたガラス部5をほぼ研
削することがない。
【0046】次に、融着された一対のコア半体ブロック
13は、図6中実線L1−L1線及び実線L2−L2線
で示す位置で切断される。これにより、融着された一対
の磁気コア半体ブロック13は、個々の磁気ヘッド1に
分離される。
13は、図6中実線L1−L1線及び実線L2−L2線
で示す位置で切断される。これにより、融着された一対
の磁気コア半体ブロック13は、個々の磁気ヘッド1に
分離される。
【0047】以上のように製造された磁気ヘッド1の記
録再生特性を従来の磁気ヘッドと比較した。このときの
結果を表1に示す。
録再生特性を従来の磁気ヘッドと比較した。このときの
結果を表1に示す。
【0048】
【表1】
【0049】この表1からも明らかなように、本発明に
かかる磁気ヘッドは、従来のものと比較して出力の向上
が達成されている。なお、このとき、本発明にかかる磁
気1ヘッドは、縦方向の長さ寸法が1.9mmとされ、
横方向の長さ寸法が1.5mmとされ、トラック幅の幅
寸法が15μmとされてなるものが用いられた。また、
この磁気ヘッド1では、トラック幅規制溝7A,7Bの
傾斜面の角度βが30゜とされ、アジマス角度が20゜
とされる。
かかる磁気ヘッドは、従来のものと比較して出力の向上
が達成されている。なお、このとき、本発明にかかる磁
気1ヘッドは、縦方向の長さ寸法が1.9mmとされ、
横方向の長さ寸法が1.5mmとされ、トラック幅の幅
寸法が15μmとされてなるものが用いられた。また、
この磁気ヘッド1では、トラック幅規制溝7A,7Bの
傾斜面の角度βが30゜とされ、アジマス角度が20゜
とされる。
【0050】上述したように本発明にかかる磁気ヘッド
及びその製造方法では、トラック幅規制溝7A,7Bが
磁気ヘッド1のコア幅よりも内側に位置する。このた
め、この手法では、磁気コア半体ブロックを図6中実線
L1−L1線及び実線L2−L2線で示す位置で切断す
る際、トラック幅規制溝7A,7Bに充填されたガラス
部5を切断することがない。すなわち、この手法では、
個々の磁気ヘッド1を分離する際に磁気コアを構成する
磁性体のみを切断すればよい。
及びその製造方法では、トラック幅規制溝7A,7Bが
磁気ヘッド1のコア幅よりも内側に位置する。このた
め、この手法では、磁気コア半体ブロックを図6中実線
L1−L1線及び実線L2−L2線で示す位置で切断す
る際、トラック幅規制溝7A,7Bに充填されたガラス
部5を切断することがない。すなわち、この手法では、
個々の磁気ヘッド1を分離する際に磁気コアを構成する
磁性体のみを切断すればよい。
【0051】このように、本発明にかかる磁気ヘッドの
製造方法では、切削加工において、低融点ガラス材と比
較して切削レートの低い磁性体のみを切削するため、磁
性体に歪みを生じることがない。このため、本発明にか
かる磁気ヘッド及びその製造方法では、磁気コアを構成
する磁性体が良好な磁気的性能を有するようなものとな
る。したがって、この磁気ヘッドは、磁気コアを構成す
る磁性体が高度な透磁率を有する磁気ヘッドとなり、記
録再生特性の向上が図られたものとなる。
製造方法では、切削加工において、低融点ガラス材と比
較して切削レートの低い磁性体のみを切削するため、磁
性体に歪みを生じることがない。このため、本発明にか
かる磁気ヘッド及びその製造方法では、磁気コアを構成
する磁性体が良好な磁気的性能を有するようなものとな
る。したがって、この磁気ヘッドは、磁気コアを構成す
る磁性体が高度な透磁率を有する磁気ヘッドとなり、記
録再生特性の向上が図られたものとなる。
【0052】また、上述した本発明にかかる磁気ヘッド
及びその製造方法では、好ましくはトラック幅規制溝7
A,7Bが当たり幅規制溝6により規制される媒体摺動
面Aにのみ露出される。このとき、この手法では、研削
加工により当たり幅規制溝6を形成する際、トラック幅
規制溝7A,7Bに充填されたガラス部5を研削する必
要がない。すなわち、この場合、研削加工は、磁気コア
を構成する磁性体に対してのみ行われることとなる。
及びその製造方法では、好ましくはトラック幅規制溝7
A,7Bが当たり幅規制溝6により規制される媒体摺動
面Aにのみ露出される。このとき、この手法では、研削
加工により当たり幅規制溝6を形成する際、トラック幅
規制溝7A,7Bに充填されたガラス部5を研削する必
要がない。すなわち、この場合、研削加工は、磁気コア
を構成する磁性体に対してのみ行われることとなる。
【0053】このように、本発明にかかる磁気ヘッド及
びその製造方法では、研削加工において、ガラス材と比
較して研削レートの低い磁性体のみを研削するため、磁
性体に歪みを生じることはない。このため、この場合、
この磁気ヘッド及びその製造方法では、磁気コアを構成
する磁性体がさらに良好な磁気的性能を有するようなも
のとなる。したがって、この磁気ヘッドは、磁気コアを
構成する磁性体がさらに高度な透磁率を有する磁気ヘッ
ドとなり、記録再生特性の向上がさらに図られたものと
なる。
びその製造方法では、研削加工において、ガラス材と比
較して研削レートの低い磁性体のみを研削するため、磁
性体に歪みを生じることはない。このため、この場合、
この磁気ヘッド及びその製造方法では、磁気コアを構成
する磁性体がさらに良好な磁気的性能を有するようなも
のとなる。したがって、この磁気ヘッドは、磁気コアを
構成する磁性体がさらに高度な透磁率を有する磁気ヘッ
ドとなり、記録再生特性の向上がさらに図られたものと
なる。
【0054】ここで、上述したような研削加工又は切削
加工により磁性体に歪みが生じないことを実証するため
に、以下のような実験を行った。
加工により磁性体に歪みが生じないことを実証するため
に、以下のような実験を行った。
【0055】この実験では、先ず、35mm×2.5m
m×1mmのフェライト基板上にTa2O5を850オン
グストロームの膜厚で成膜し、その上にスパッタリング
により低融点ガラス材を成膜する。
m×1mmのフェライト基板上にTa2O5を850オン
グストロームの膜厚で成膜し、その上にスパッタリング
により低融点ガラス材を成膜する。
【0056】このとき、フェライト基板の上面に対して
低融点ガラス材が全面に成膜されるようにしたものを試
料1とする。また、比較のために、フェライト基板の上
面にマスク処理を施し、フェライト基板の上面に対して
低融点ガラスが200μm間隔で成膜されるようににし
たものを試料2とする。そして、これら試料1及び試料
2に対して、融着工程と同条件の530℃、1時間の熱
処理を行う。
低融点ガラス材が全面に成膜されるようにしたものを試
料1とする。また、比較のために、フェライト基板の上
面にマスク処理を施し、フェライト基板の上面に対して
低融点ガラスが200μm間隔で成膜されるようににし
たものを試料2とする。そして、これら試料1及び試料
2に対して、融着工程と同条件の530℃、1時間の熱
処理を行う。
【0057】以上のように形成された試料1及び試料2
に対して幅寸法が200μmの砥石(砥粒:人工ダイ
ヤ、粒径:3〜8μm)を用いて研削加工を施した。こ
の研削加工は、各試料の表面に200μmの間隔で60
μmの深さ寸法を有する60本の溝を研削することによ
り行われた。
に対して幅寸法が200μmの砥石(砥粒:人工ダイ
ヤ、粒径:3〜8μm)を用いて研削加工を施した。こ
の研削加工は、各試料の表面に200μmの間隔で60
μmの深さ寸法を有する60本の溝を研削することによ
り行われた。
【0058】すなわち、この研削加工により、試料1で
は、フェライト基板と低融点ガラス材とが同時に研削さ
れることとなる。これに対して、試料2では、ほぼフェ
ライト基板のみが研削されることとなる。
は、フェライト基板と低融点ガラス材とが同時に研削さ
れることとなる。これに対して、試料2では、ほぼフェ
ライト基板のみが研削されることとなる。
【0059】このときの実験結果を図8及び図9に示
す。この図8は、各試料における研削加工を施す前の反
りを表す特性図である。(A)は、試料1の反りを表
し、(B)は、試料2の反りを表す。そして、図9は、
各試料における研削加工を施した後の反りを表す特性図
である。(A)は試料1の反りを表し、(B)は、試料
2の反りを表す。これら図8及び図9から明かなよう
に、試料1では、反りが大きいことが判る。これに対し
て、試料2では、殆ど反りが発生していないことが判
る。
す。この図8は、各試料における研削加工を施す前の反
りを表す特性図である。(A)は、試料1の反りを表
し、(B)は、試料2の反りを表す。そして、図9は、
各試料における研削加工を施した後の反りを表す特性図
である。(A)は試料1の反りを表し、(B)は、試料
2の反りを表す。これら図8及び図9から明かなよう
に、試料1では、反りが大きいことが判る。これに対し
て、試料2では、殆ど反りが発生していないことが判
る。
【0060】すなわち、フェライト基板と低融点ガラス
材とに対して同時に研削加工を施した場合には、基板全
体に大きな反りが発生している。これに対して、ほぼフ
ェライト基板のみに対して研削加工を施した場合には、
殆ど反りが発生していない。
材とに対して同時に研削加工を施した場合には、基板全
体に大きな反りが発生している。これに対して、ほぼフ
ェライト基板のみに対して研削加工を施した場合には、
殆ど反りが発生していない。
【0061】この試料1に発生した反りとは、研削加工
で生じるフェライト内部の歪みを解放する結果としての
現象である。すなわち、この試料1では、研削レートの
高い低融点ガラス材からなる部分に発生する歪みがフェ
ライトからなる部分に加わり、その結果、フェライト基
板に歪みが伝わる。そして、フェライト基板では、伝達
された歪みを解放するために、図9に示すように、反り
が発生している。
で生じるフェライト内部の歪みを解放する結果としての
現象である。すなわち、この試料1では、研削レートの
高い低融点ガラス材からなる部分に発生する歪みがフェ
ライトからなる部分に加わり、その結果、フェライト基
板に歪みが伝わる。そして、フェライト基板では、伝達
された歪みを解放するために、図9に示すように、反り
が発生している。
【0062】このような実験結果から、磁気ヘッド1で
は、研削加工及び切削加工による歪みが発生するような
ことはない。
は、研削加工及び切削加工による歪みが発生するような
ことはない。
【0063】さらに、上述した本発明にかかる磁気ヘッ
ドの製造方法によれば、上述したように、トラック幅規
制溝7A,7Bの形状が小とされてなる。これにより、
この手法では、トラック幅規制溝7A,7Bに充填され
る低融点ガラス材の量を従来と比較して削減することが
できる。したがって、この手法では、低融点ガラス材等
のガラス部に要するコストを削減することが可能とな
る。
ドの製造方法によれば、上述したように、トラック幅規
制溝7A,7Bの形状が小とされてなる。これにより、
この手法では、トラック幅規制溝7A,7Bに充填され
る低融点ガラス材の量を従来と比較して削減することが
できる。したがって、この手法では、低融点ガラス材等
のガラス部に要するコストを削減することが可能とな
る。
【0064】さらにまた、上述した本発明にかかる磁気
ヘッドでは、その媒体摺動面及び磁気コアの接合方法が
従来の磁気ヘッドの場合と比較して同じとされる。した
がって、本発明にかかる磁気ヘッドでは、その摺動特性
及び接合強度が従来のものと比較して低下することはな
い。
ヘッドでは、その媒体摺動面及び磁気コアの接合方法が
従来の磁気ヘッドの場合と比較して同じとされる。した
がって、本発明にかかる磁気ヘッドでは、その摺動特性
及び接合強度が従来のものと比較して低下することはな
い。
【0065】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る磁気ヘッド及びその製造方法によれば、トラック幅
規制溝に充填されたガラス部に対して研削加工及び切削
加工を施す必要がない。すなわち、研削加工及び切削加
工は、磁気コアを構成する磁性体にのみ施されればよい
こととなる。これにより、この磁気ヘッド及びその製造
方法では、磁気コアを構成する磁性体に歪みが生じるこ
とがない。したがって、この磁気ヘッド及びその製造方
法では、磁性体の磁気的性能が高度に維持される。そし
て、この磁気ヘッド及びその製造方法では、特に、磁性
体の透磁率が良好であるために、記録再生特性の向上が
図られる。
係る磁気ヘッド及びその製造方法によれば、トラック幅
規制溝に充填されたガラス部に対して研削加工及び切削
加工を施す必要がない。すなわち、研削加工及び切削加
工は、磁気コアを構成する磁性体にのみ施されればよい
こととなる。これにより、この磁気ヘッド及びその製造
方法では、磁気コアを構成する磁性体に歪みが生じるこ
とがない。したがって、この磁気ヘッド及びその製造方
法では、磁性体の磁気的性能が高度に維持される。そし
て、この磁気ヘッド及びその製造方法では、特に、磁性
体の透磁率が良好であるために、記録再生特性の向上が
図られる。
【図1】本発明にかかる磁気ヘッドの要部斜視図であ
る。
る。
【図2】。本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明
するためのフェライト基板の斜視図である。
するためのフェライト基板の斜視図である。
【図3】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明す
るためのフェライト基板の斜視図である。
るためのフェライト基板の斜視図である。
【図4】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明す
るためのフェライト基板の斜視図である。
るためのフェライト基板の斜視図である。
【図5】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための一対のフェライト基板の斜視図である。
るための一対のフェライト基板の斜視図である。
【図6】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための一対のフェライト基板の斜視図である。
るための一対のフェライト基板の斜視図である。
【図7】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための一対のフェライト基板の要部平面図である。
るための一対のフェライト基板の要部平面図である。
【図8】研削加工が施される前のフェライト基板に発生
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
【図9】研削加工が施された後のフェライト基板に発生
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図でありる。
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図でありる。
【図10】従来の磁気ヘッドの要部斜視図である。
【図11】従来の磁気ヘッドの製造方法を説明するため
の一対のフェライト基板の斜視図である。
の一対のフェライト基板の斜視図である。
1 磁気ヘッド、2 磁気コア半体、4 ギャップ膜、
5 ガラス部、6 当たり幅規制溝、7 トラック幅規
制溝、8 ギャップデプス規制溝、10 フェライト基
板、11 凸部、12 ギャップデプス規制溝、13
コア半体ブロック
5 ガラス部、6 当たり幅規制溝、7 トラック幅規
制溝、8 ギャップデプス規制溝、10 フェライト基
板、11 凸部、12 ギャップデプス規制溝、13
コア半体ブロック
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年12月9日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0059
【補正方法】変更
【補正内容】
【0059】このときの実験結果を図8及び図9に示
す。この図9は、各試料における研削加工を施す前の反
りを表す特性図である。(A)は、試料1の反りを表
し、(B)は、試料2の反りを表す。そして、図8は、
各試料における研削加工を施した後の反りを表す特性図
である。(A)は試料1の反りを表し、(B)は、試料
2の反りを表す。これら図8及び図9から明かなよう
に、試料1では、反りが大きいことが判る。これに対し
て、試料2では、殆ど反りが発生していないことが判
る。
す。この図9は、各試料における研削加工を施す前の反
りを表す特性図である。(A)は、試料1の反りを表
し、(B)は、試料2の反りを表す。そして、図8は、
各試料における研削加工を施した後の反りを表す特性図
である。(A)は試料1の反りを表し、(B)は、試料
2の反りを表す。これら図8及び図9から明かなよう
に、試料1では、反りが大きいことが判る。これに対し
て、試料2では、殆ど反りが発生していないことが判
る。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0061
【補正方法】変更
【補正内容】
【0061】この試料1に発生した反りとは、研削加工
で生じるフェライト内部の歪みを解放する結果としての
現象である。すなわち、この試料1では、研削レートの
高い低融点ガラス材からなる部分に発生する歪みがフェ
ライトからなる部分に加わり、その結果、フェライト基
板に歪みが伝わる。そして、フェライト基板では、伝達
された歪みを解放するために、図8に示すように、反り
が発生している
で生じるフェライト内部の歪みを解放する結果としての
現象である。すなわち、この試料1では、研削レートの
高い低融点ガラス材からなる部分に発生する歪みがフェ
ライトからなる部分に加わり、その結果、フェライト基
板に歪みが伝わる。そして、フェライト基板では、伝達
された歪みを解放するために、図8に示すように、反り
が発生している
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図8
【補正方法】変更
【補正内容】
【図8】研削加工が施された後のフェライト基板に発生
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図9
【補正方法】変更
【補正内容】
【図9】研削加工が施される前のフェライト基板に発生
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
する反りを示す特性図であり、(A)は全面に低融点ガ
ラス材が成膜されたフェライト基板の場合の特性図であ
り、(B)は200μm間隔で低融点ガラス材が成膜さ
れたフェライト基板の場合の特性図である。
【手続補正5】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図8
【補正方法】変更
【補正内容】
【図8】
【手続補正6】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図9
【補正方法】変更
【補正内容】
【図9】
Claims (4)
- 【請求項1】 磁性体からなる一対の磁気コア半体が非
磁性体を介して突き合わされ、磁気ギャップが形成され
るとともに、 上記磁気コア半体にそれぞれトラック幅規制溝が研削形
成され、このトラック幅規制溝に非磁性材料が充填され
ることにより上記磁気ギャップのトラック幅が規制され
てなり、 上記トラック幅規制溝のトラック幅方向における研削領
域が上記磁気コア半体の幅内にあり、上記磁気コア半体
の側面にトラック幅規制溝が露出していないことを特徴
とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 上記磁気コア半体に磁気記録媒体に対す
る当たり幅を規制する当たり幅規制溝が形成され、 上記トラック幅規制溝の外側端部は、上記当たり幅規制
溝の側縁部と一致又はこれを越えた位置とされているこ
とを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。 - 【請求項3】 磁性体からなる一対の磁気コア半体に、
所定の間隔を有するトラック幅規制溝を研削形成する工
程と、 一対の磁気コア半体を非磁性体を介して突き合わせて磁
気ギャップを形成し、トラック幅規制溝に非磁性材料を
充填することにより一対の磁気コア半体を接合する工程
とを備え、 上記トラック幅規制溝のトラック幅方向における研削領
域を上記磁気コア半体の幅内とし、上記トラック幅規制
溝を上記磁気コア半体の側面に露出させないことを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項4】 上記磁気コア半体が接合された後、上記
磁気コア半体に磁気記録媒体に対する当たり幅を規制す
る当たり幅規制溝を形成する工程を備え、 上記トラック幅規制溝の外側端部を上記当たり幅規制溝
の側縁部と一致又はこれを越えた位置とすることを特徴
とする請求項3記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25638296A JPH10105914A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25638296A JPH10105914A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10105914A true JPH10105914A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=17291911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25638296A Withdrawn JPH10105914A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10105914A (ja) |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP25638296A patent/JPH10105914A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |