JPH09237809A - Tape with adhesive for TAB, semiconductor connection substrate, and semiconductor device - Google Patents
Tape with adhesive for TAB, semiconductor connection substrate, and semiconductor deviceInfo
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- JPH09237809A JPH09237809A JP8348493A JP34849396A JPH09237809A JP H09237809 A JPH09237809 A JP H09237809A JP 8348493 A JP8348493 A JP 8348493A JP 34849396 A JP34849396 A JP 34849396A JP H09237809 A JPH09237809 A JP H09237809A
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 接着性および絶縁性に優れた新規なTAB用
接着剤付きテープを得、これを使用した半導体装置の信
頼性および経済性を向上させる。
【解決手段】 可撓性を有する絶縁性フィルム上に、接
着剤層および保護フィルム層を有する積層体より構成さ
れ、該接着剤層がポリアミド樹脂および複素環式芳香族
化合物を少なくとも1種以上含むことを特徴とするTA
B用接着剤付きテープおよび半導体接続基板並びに半導
体装置。PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a novel TAB adhesive tape excellent in adhesiveness and insulating properties, and to improve the reliability and economy of a semiconductor device using the same. A laminated body having an adhesive layer and a protective film layer on a flexible insulating film, and the adhesive layer contains at least one kind of a polyamide resin and a heterocyclic aromatic compound. TA characterized by
Tape with adhesive for B, semiconductor connection substrate, and semiconductor device.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の実
装方法であるテープオートメーテッドボンディング(T
AB)方式に用いられる接着剤付きテープ(以下、TA
B用テープと称する)および半導体接続基板並びに半導
体装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tape automated bonding (T)
Tape with adhesive used in the AB method (hereinafter, TA
B tape), a semiconductor connection substrate, and a semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】通常のTAB用テープは、ポリイミドフ
ィルム等の可撓性を有する有機絶縁性フィルム上に、接
着剤層および保護フィルム層として離型性を有するポリ
エステルフィルム等を積層した3層構造より構成されて
いる。2. Description of the Related Art An ordinary TAB tape has a three-layer structure in which a flexible organic insulating film such as a polyimide film is laminated with a releasing polyester film or the like as an adhesive layer and a protective film layer. It is composed of
【0003】TAB用テープは、(1) スプロケットおよ
びデバイス孔の穿孔、(2) 銅箔との熱ラミネート、(3)
パターン形成(レジスト塗布、エッチング、レジスト除
去)、(4) スズまたは金−メッキ処理などの加工工程を
経てTABテープ(パターンテープ)に加工される。図
1にパターンテープの形状を示す。図2に本発明の半導
体装置の一態様の断面図を示す。パターンテープのイン
ナーリード部6を、半導体集積回路8の金バンプ10に
熱圧着(インナーリードボンディング)し、半導体集積
回路を搭載する。次いで、封止樹脂9による樹脂封止工
程を経て半導体装置が作成される。また、インナーリー
ド部を有さず、パターンテープの導体と半導体集積回路
の金バンプとの間をワイヤーボンディングで接続する方
式も採用されている。このような半導体装置を一般にテ
ープキャリアパッケージ(TCP)型半導体装置と称す
る。TCP型半導体装置は、他の部品を搭載した回路基
板等とアウターリード7を介して接続(アウターリード
ボンディング)され、電子機器への実装がなされる。[0003] TAB tapes include (1) perforation of sprocket and device holes, (2) thermal lamination with copper foil, (3)
It is processed into a TAB tape (pattern tape) through patterning (resist coating, etching, resist removal), and (4) tin or gold-plating processing steps. FIG. 1 shows the shape of the pattern tape. FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of the semiconductor device of the present invention. The inner lead portion 6 of the pattern tape is thermocompression-bonded (inner lead bonding) to the gold bump 10 of the semiconductor integrated circuit 8 to mount the semiconductor integrated circuit. Next, a semiconductor device is created through a resin sealing process using the sealing resin 9. In addition, a method in which a conductor of a pattern tape and a gold bump of a semiconductor integrated circuit are connected by wire bonding without using an inner lead portion is also adopted. Such a semiconductor device is generally called a tape carrier package (TCP) type semiconductor device. The TCP type semiconductor device is connected (outer lead bonding) to a circuit board or the like on which other components are mounted via outer leads 7 and mounted on an electronic device.
【0004】一方、近年の電子機器の小型・軽量化に伴
い、半導体パッケージも高密度実装化を目的に、従来の
接続端子(アウターリード)をパッケージ側面に配列し
ていたQFP(クワッド・フラット・パッケージ)、S
OP(スモール・アウトライン・パッケージ)に代わ
り、パッケージの裏面に接続端子を配列するBGA(ボ
ール・グリッド・アレイ)、CSP(チップ・スケール
・パッケージ)、が一部用いられるようになってきた。
BGA、CSPがQFP、SOPと構造的に最も大きく
異なる点は、前者は、インターポーザーと称される基板
を必要とするのに対し、後者は金属製のリードフレーム
を用いることにより必ずしも基板を必要としない点にあ
る。ここでいうインターポーザーは、ガラスエポキシ基
板やポリイミド等の有機絶縁性フィルムに銅箔を貼り合
わせたものが、一般的に用いられる。したがって、これ
らBGA、CSPなどの半導体装置にも本発明のTAB
用接着剤付きテープを使用することができ、得られたB
GA、CSPも本発明の半導体装置に含まれる。図3お
よび図4に本発明の半導体装置(BGA、CSP)の一
態様の断面図を示す。On the other hand, as electronic devices have become smaller and lighter in recent years, a semiconductor package has a QFP (quad flat flat) in which conventional connection terminals (outer leads) are arranged on the side of the package for the purpose of high-density mounting. Package), S
In place of OP (small outline package), BGA (ball grid array) and CSP (chip scale package) in which connection terminals are arranged on the back surface of the package have been partially used.
The biggest structural difference between BGA and CSP from QFP and SOP is that the former requires a substrate called an interposer, while the latter requires a substrate by using a metal lead frame. There is a point that does not. As the interposer referred to here, one obtained by bonding a copper foil to an organic insulating film such as a glass epoxy substrate or polyimide is generally used. Therefore, the TAB of the present invention can be applied to semiconductor devices such as BGA and CSP.
A tape with an adhesive for use can be used, and the obtained B
GA and CSP are also included in the semiconductor device of the present invention. 3 and 4 are cross-sectional views of one embodiment of the semiconductor device (BGA, CSP) of the present invention.
【0005】上記のパッケージ形態では、いずれも最終
的にTAB用テープの接着剤層は、パッケージ内に残留
するため、絶縁性、耐熱性、接着性が要求される。近
年、電子機器の小型化、高密度実装化が進行するに伴
い、TAB方式における導体幅が非常に狭くなってきて
おり、高い絶縁信頼性を有する接着剤の必要性が高まっ
ている。最近は、特に絶縁信頼性の加速試験として、1
25℃〜150℃の高温で連続した電圧印加状態におけ
る絶縁の低下速度が重要視されるようになってきた。ま
た、パッケージの樹脂封止に、比較的温度と圧力の高
い、トランスファーモールドが使用される場合や、ワイ
ヤーボンディングによる接続がなされる場合は、耐熱変
形性が重要視される。In any of the above-mentioned package forms, the adhesive layer of the TAB tape finally remains in the package, so that the insulating property, heat resistance, and adhesive property are required. In recent years, with the progress of miniaturization and high-density mounting of electronic devices, the conductor width in the TAB method has become extremely narrow, and the need for an adhesive having high insulation reliability is increasing. Recently, especially as an accelerated test of insulation reliability,
At a high temperature of 25 ° C. to 150 ° C., the rate of decrease in insulation under continuous voltage application has become important. Further, when transfer molding, which has a relatively high temperature and pressure, is used for resin encapsulation of the package, or when connection is made by wire bonding, heat deformation resistance is important.
【0006】このような観点から、従来のTAB用テー
プの接着剤層には、エポキシ樹脂および/またはフェノ
ール樹脂とポリアミド樹脂の混合組成物が主として用い
られてきた(特開平2ー143447号公報、特開平3
ー217035号公報等)。さらに、耐薬品性および絶
縁性向上の目的で、ポリアミド樹脂/エポキシ樹脂の系
に無機粒子を添加した例もある(特公平7ー11422
1号公報)。From such a point of view, a mixed composition of an epoxy resin and / or a phenol resin and a polyamide resin has been mainly used for the adhesive layer of the conventional TAB tape (Japanese Patent Laid-Open No. 143447/1990). JP-A-3
-217035, etc.). Further, there is also an example in which inorganic particles are added to a polyamide resin / epoxy resin system for the purpose of improving chemical resistance and insulation (Japanese Patent Publication No. 7-11422).
No. 1).
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の接着性
および絶縁性において、従来のTAB用テープは必ずし
も十分とはいえない。たとえば、導体幅が細くなるに従
い、接着強度が低下し、ボンディング等の後工程で導体
の剥離を生じ、集積回路、回路基板と接続できないこと
がある。これは接着強度の絶対値の不足と、導体と接着
剤の間へのメッキ液の侵入による実効の接着面積の減少
が主な原因である。また、高温高湿での連続した電圧印
加状態における絶縁劣化が早いので、今後実装密度が増
加し、導体間距離が短くなると絶縁耐久性の点で不安が
ある。However, conventional TAB tapes are not always satisfactory in the above-mentioned adhesiveness and insulating properties. For example, as the conductor width becomes narrower, the adhesive strength decreases, the conductor may peel off in a later step such as bonding, and it may not be possible to connect to an integrated circuit or a circuit board. This is mainly due to a shortage of the absolute value of the adhesive strength and a decrease in the effective adhesive area due to the penetration of the plating solution between the conductor and the adhesive. In addition, since insulation degradation is rapid in a state of continuous voltage application at high temperature and high humidity, there is a concern about insulation durability if the mounting density increases and the distance between conductors becomes short in the future.
【0008】本発明はこのような問題点を解決し、接着
性および絶縁性に優れた新規なTAB用テープおよび半
導体接続基板並びに半導体装置を提供することを目的と
する。An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a novel TAB tape, a semiconductor connection substrate and a semiconductor device which are excellent in adhesiveness and insulation.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するためにTAB用テープの接着剤成分の化学
構造と金属に対する接着性および絶縁性との関係を鋭意
検討した結果、複素環式芳香族化合物とポリアミド樹脂
とを巧みに組み合わせることにより、接着性および絶縁
性に優れたTAB用テープが得られることを見い出し、
本発明に至ったものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above-mentioned object, the present inventors have made earnest studies on the relationship between the chemical structure of the adhesive component of the TAB tape and the adhesiveness and insulating property to metal. It has been found that a TAB tape having excellent adhesiveness and insulation can be obtained by skillfully combining a heterocyclic aromatic compound and a polyamide resin,
This has led to the present invention.
【0010】すなわち、本発明は可撓性を有する絶縁性
フィルム上に、接着剤層および保護フィルム層を有する
積層体より構成され、該接着剤層が、ポリアミド樹脂お
よび下記(1)〜(2)のいずれかの条件を満たす複素
環式芳香族化合物を少なくとも1種以上含むことを特徴
とするTAB用接着剤付きテープおよびそれを用いた半
導体装置である。That is, the present invention comprises a laminate having an adhesive layer and a protective film layer on a flexible insulating film, the adhesive layer comprising a polyamide resin and the following (1) to (2). (2) A tape with an adhesive for TAB, which comprises at least one heterocyclic aromatic compound satisfying any one of the conditions (1) and (2), and a semiconductor device using the same.
【0011】(1)複素環内に窒素原子を3個以上含む
5員環または6員環を分子内に有する。(1) It has a 5-membered ring or 6-membered ring containing 3 or more nitrogen atoms in the heterocycle in the molecule.
【0012】(2)複素環内に1個以上の窒素原子およ
び1個以上の酸素原子または硫黄原子を含む5員環また
は6員環を分子内に有する。(2) A 5-membered or 6-membered ring containing at least one nitrogen atom and at least one oxygen atom or sulfur atom in the heterocycle is present in the molecule.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明で使用される複素環式芳香
族化合物は前記(1)または(2)の条件を満たすもの
であれば特に限定されないが、例えば1,2,3−トリ
アゾール、1,2,4−トリアゾール、1,2,3−ベ
ンゾトリアゾールに代表されるトリアゾール化合物、テ
トラゾール化合物、トリアジン化合物、チアゾール化合
物、メルカプトチアゾール化合物、オキサゾリドン化合
物等が含まれる また、上記(1)〜(2)のいずれかの条件を満たす、
複素環式芳香族化合物の構造を主鎖あるいは側鎖に有す
るポリマも本発明の複素環式芳香族化合物の範囲に含ま
れる。このようなものとして、ポリ(ビニルー1,2,
3ーベンゾトリアゾール)が例示される。また、本発明
における複素環式芳香族化合物は上記の複素環式芳香族
化合物が1種以上含まれたものであってもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The heterocyclic aromatic compound used in the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above condition (1) or (2). For example, 1,2,3-triazole, Examples include triazole compounds represented by 1,2,4-triazole and 1,2,3-benzotriazole, tetrazole compounds, triazine compounds, thiazole compounds, mercaptothiazole compounds, oxazolidone compounds, and the like (1) to ( Either of the conditions of 2) is satisfied,
A polymer having the structure of a heterocyclic aromatic compound in its main chain or side chain is also included in the scope of the heterocyclic aromatic compound of the present invention. As such, poly (vinyl-1,2,
3-benzotriazole) is exemplified. Further, the heterocyclic aromatic compound in the present invention may contain one or more of the above heterocyclic aromatic compounds.
【0014】本発明で使用されるポリアミド樹脂は、公
知の種々のものが使用できる。特に、接着剤層に可撓性
を持たせ、かつ低吸水率のため絶縁性にすぐれる、炭素
数が36であるジカルボン酸(いわゆるダイマー酸)を
必須構成成分として含むものが好適である。ダイマー酸
を含むポリアミド樹脂は、常法によるダイマー酸とジア
ミンの重縮合により得られるが、この際にダイマー酸以
外のアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等のジカル
ボン酸を共重合成分として含有してもよい。ジアミンは
エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジ
ン、等の公知のものが使用でき、吸湿性、溶解性の点か
ら2種以上の混合でもよい。As the polyamide resin used in the present invention, various known ones can be used. In particular, it is preferable to use a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms (so-called dimer acid) as an essential constituent component, which has flexibility in the adhesive layer and is excellent in insulation due to low water absorption. Polyamide resin containing dimer acid is obtained by polycondensation of dimer acid and diamine by a conventional method, at this time adipic acid other than dimer acid, azelaic acid, containing dicarboxylic acid such as sebacic acid as a copolymerization component. Good. As the diamine, known ones such as ethylenediamine, hexamethylenediamine and piperazine can be used, and two or more kinds thereof may be mixed in view of hygroscopicity and solubility.
【0015】上記の複素環式芳香族化合物とポリアミド
樹脂との配合割合は、通常ポリアミド樹脂100重量部
に対して複素環式芳香族化合物0.05〜20.0重量
部、好ましくは0.5〜10.0重量部である。複素環
式芳香族化合物が0.05重量部未満では接着性および
絶縁性が十分でない。また、20.0重量部を越えると
絶縁性が低下するので好ましくない。The compounding ratio of the above heterocyclic aromatic compound and the polyamide resin is usually 0.05 to 20.0 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight of the polyamide resin. ˜10.0 parts by weight. If the amount of the heterocyclic aromatic compound is less than 0.05 parts by weight, the adhesiveness and insulating property will be insufficient. Further, if it exceeds 20.0 parts by weight, the insulating property is deteriorated, which is not preferable.
【0016】本発明において、接着剤層に公知のエポキ
シ樹脂を添加することにより、一層接着性および絶縁性
を向上させることができる。エポキシ樹脂は1分子内に
2個以上のエポキシ基を有するものであれば特に制限さ
れないが、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビス
フェノールS、ジヒドロキシナフタレン等のジグリシジ
ルエーテル、エポキシ化フェノールノボラック、エポキ
シ化クレゾールノボラック、エポキシ化トリスフェニロ
ールメタン、エポキシ化テトラフェニロールエタン、エ
ポキシ化メタキシレンジアミン、等が挙げられる。エポ
キシ樹脂の添加量はポリアミド樹脂100重量部に対し
て5〜100重量部、好ましくは20〜70重量部であ
る。In the present invention, by adding a known epoxy resin to the adhesive layer, the adhesiveness and insulating property can be further improved. The epoxy resin is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule, but diglycidyl ethers such as bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, and dihydroxynaphthalene, epoxidized phenol novolac, epoxidized cresol novolac. , Epoxidized trisphenylol methane, epoxidized tetraphenylol ethane, epoxidized meta-xylene diamine, and the like. The addition amount of the epoxy resin is 5 to 100 parts by weight, preferably 20 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyamide resin.
【0017】さらに、接着剤層にノボラック型フェノー
ル樹脂、レゾール型フェノール樹脂等の公知のフェノー
ル樹脂を含有してもよく、絶縁性および熱変形等の耐熱
性の向上に効果がある。フェノール樹脂の添加量はポリ
アミド樹脂100重量部に対して5〜100重量部であ
ると好ましい。Further, the adhesive layer may contain a known phenol resin such as a novolac type phenol resin or a resol type phenol resin, which is effective in improving the insulating property and heat resistance such as thermal deformation. The added amount of the phenol resin is preferably 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.
【0018】本発明の接着剤層にエポキシ樹脂およびフ
ェノール樹脂の硬化剤および硬化促進剤を添加すること
は何等制限されない。たとえば、芳香族ポリアミン、三
フッ化ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素
のアミン錯体、2−アルキル−4−メチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−アルキルイミダゾール等のイミ
ダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸等
の有機酸、ジシアンジアミド、トリフェニルフォスフィ
ン等公知のものが使用できる。添加量はポリアミド樹脂
100重量部に対して0.1〜10重量部であると好ま
しい。Addition of a curing agent and a curing accelerator for epoxy resin and phenol resin to the adhesive layer of the present invention is not limited in any way. For example, aromatic polyamines, amine complexes of boron trifluoride such as boron trifluoride triethylamine complex, imidazole derivatives such as 2-alkyl-4-methylimidazole and 2-phenyl-4-alkylimidazole, phthalic anhydride, trianhydride Organic acids such as melitic acid, dicyandiamide, and known compounds such as triphenylphosphine can be used. The addition amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.
【0019】以上の成分以外に、接着剤の特性を損なわ
ない範囲で酸化防止剤、イオン捕捉剤などの有機、無機
成分を添加することは何ら制限されるものではない。In addition to the above components, addition of organic and inorganic components such as an antioxidant and an ion scavenger is not limited as long as the properties of the adhesive are not impaired.
【0020】本発明でいう可撓性を有する絶縁性フィル
ムとはポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスル
フィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテル
ケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、等のプラスチックあるいはエポキシ樹脂含浸ガラス
クロス等の複合材料からなる厚さ25〜125μmのフ
ィルムであり、これらから選ばれる複数のフィルムを積
層して用いても良い。また必要に応じて、加水分解、コ
ロナ放電、低温プラズマ、物理的粗面化、易接着コーテ
ィング処理等の表面処理を施すことができる。The flexible insulating film referred to in the present invention is a plastic such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, or epoxy resin impregnated glass cloth. A film having a thickness of 25 to 125 μm, which is made of the above composite material, and a plurality of films selected from these may be laminated and used. If necessary, a surface treatment such as hydrolysis, corona discharge, low-temperature plasma, physical surface roughening, and easy adhesion coating treatment can be performed.
【0021】本発明でいう保護フィルム層とは、銅箔を
熱ラミネートする前に接着剤面からTAB用テープの形
態を損なうことなく剥離できれば特に限定されないが、
たとえばシリコーンあるいはフッ素化合物のコーティン
グ処理を施したポリエステルフィルム、ポリオレフィン
フィルム、およびこれらをラミネートした紙が挙げられ
る。The protective film layer referred to in the present invention is not particularly limited as long as it can be peeled from the adhesive surface without damaging the form of the TAB tape before heat-laminating the copper foil,
For example, a polyester film or a polyolefin film coated with a silicone or fluorine compound, and a paper obtained by laminating the same.
【0022】次にTAB用接着剤付きテープの製造方法
について説明する。Next, a method of manufacturing the adhesive tape for TAB will be described.
【0023】可撓性を有する絶縁性フィルムに、上記接
着剤組成物を溶剤に溶解した塗料を塗布、乾燥する。接
着剤層の膜厚は10〜25μmとなるように塗布するこ
とが好ましい。乾燥条件は、100〜200℃、1〜5
分である。溶剤は特に限定されないが、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン等の芳香族系とメタノール、エタ
ノール、プロパノール等のアルコール系の混合が好適で
ある。このようにして得られたフィルムに保護フィルム
をラミネートし、最後に35〜158mm程度の幅にス
リットする。A coating having the adhesive composition dissolved in a solvent is applied to a flexible insulating film and dried. It is preferable to apply the adhesive layer so that the film thickness is 10 to 25 μm. Drying conditions are 100-200 ° C, 1-5
Minutes. The solvent is not particularly limited, but a mixture of an aromatic solvent such as toluene, xylene and chlorobenzene and an alcohol solvent such as methanol, ethanol and propanol is preferable. A protective film is laminated on the film thus obtained, and finally slit into a width of about 35 to 158 mm.
【0024】[0024]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実
施例の説明に入る前に評価方法について述べる。The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. The evaluation method will be described before the description of the examples.
【0025】評価方法 (1)評価用サンプル作成方法 TAB用接着剤付きテープサンプルに18μmの電解銅
箔を、140℃、0.1MPaの条件でラミネートし
た。続いてエアオーブン中で、80℃、3時間、100
℃、5時間、150℃、5時間の順次加熱処理を行な
い、銅箔付きTAB用テープを作成した。得られた銅箔
付きTAB用テープの銅箔面に常法によりフォトレジス
ト膜形成、エッチング、レジスト剥離を行ない、接着強
度および絶縁性の評価用サンプルをそれぞれ作成した。Evaluation Method (1) Evaluation Sample Preparation Method An 18 μm electrolytic copper foil was laminated on a tape sample with an adhesive for TAB under the conditions of 140 ° C. and 0.1 MPa. Then, in an air oven at 80 ° C for 3 hours, 100
C., 5 hours, 150.degree. C., 5 hours in order to prepare a TAB tape with copper foil. Photoresist film formation, etching, and resist peeling were performed on the copper foil surface of the obtained TAB tape with copper foil by a conventional method, and samples for evaluation of adhesive strength and insulating property were prepared.
【0026】(2)スズメッキ処理 上記(1)の方法で得られたサンプルを、ホウフッ酸系
の無電解スズメッキ液に70℃、5分浸漬処理し、0.
5μm厚のメッキを施した。(2) Tin Plating Treatment The sample obtained by the above method (1) was immersed in a borofluoric acid-based electroless tin plating solution at 70 ° C. for 5 minutes, and then subjected to a 0.1.
5 μm thick plating was applied.
【0027】(3)剥離強度 上記(1)および(2)の方法で得た導体幅50μmの
評価用サンプルを用いて、導体を90°方向に50mm
/min の速度で剥離し、その際の剥離力を測定した。(3) Peel strength Using the evaluation sample having a conductor width of 50 μm obtained by the above methods (1) and (2), the conductor was 50 mm in the 90 ° direction.
/ Min, and the peeling force at that time was measured.
【0028】(4)高温高湿絶縁性 上記(1)および(2)の方法で得た導体幅200μ
m、導体間距離50μmのくし型形状の評価用サンプル
を用いて、不飽和型プレッシャ−クッカ−内で130
℃,85%RH,100Vの電圧を連続的に印加した状
態において、抵抗値が初期値の1/10以下となる時間
を測定した。(4) High-temperature, high-humidity insulation property Conductor width 200 μ obtained by the above method (1) and (2)
m in the unsaturated pressure cooker using a comb-shaped evaluation sample having a distance between conductors of 50 μm.
The time at which the resistance value was 1/10 or less of the initial value was measured in the state where the voltage of 85 ° C., 85% RH, and 100 V was continuously applied.
【0029】(5)高温絶縁性 上記(4)と同様のサンプルを用いて、エア−オ−ブン
中で150℃,100Vの電圧を連続的に印加した状態
において、抵抗値が初期値の1/10以下となる時間を
測定した。(5) High Temperature Insulation Property Using the same sample as the above (4), the resistance value was 1 of the initial value in a state where a voltage of 150 V and 100 V was continuously applied in an air oven. The time to be / 10 or less was measured.
【0030】(6)保存寿命 30℃の温調室に保存したラミネ−ト前のTAB用接着
剤付きテープサンプルを経時的に抜粋し、上記(1)と
同様の条件で銅箔付きTAB用テープを作成後、上記
(3)に従って剥離強度を測定した。保存前のTAB用
接着剤付きテープサンプルから銅箔付きTAB用テープ
を作成した時の剥離強度と比べて、接着力保持率が90
%以下に低下した時をそれまでの保存寿命とした。(6) Storage life A tape sample with adhesive for TAB before lamination, which was stored in a temperature control room at 30 ° C., was extracted with time, and for TAB with copper foil under the same conditions as in (1) above. After making the tape, the peel strength was measured according to the above (3). The adhesive strength retention rate is 90 compared to the peel strength when the TAB tape with copper foil is prepared from the tape sample with adhesive for TAB before storage.
The storage life up to that point was defined as the time when the content fell below%.
【0031】参考例(ポリアミド樹脂の合成) 酸/アミン比を1.1〜0.9の範囲で表1に示すよう
に変えて、酸/アミン反応物、消泡剤および1%以下の
リン酸触媒を加え、反応体を調製した。この反応体を、
140℃,1時間撹拌加熱後、205℃まで昇温し、約
1.5時間撹拌した。約15mmHgの真空下で、0.
5時間保持し、温度を低下させた。最後に、酸化防止剤
を添加し、ポリアミド樹脂を取り出した。Reference Example (Synthesis of Polyamide Resin) The acid / amine ratio was changed in the range of 1.1 to 0.9 as shown in Table 1, and the acid / amine reaction product, antifoaming agent and phosphorus of 1% or less were used. An acid catalyst was added to prepare a reactant. This reactant
After stirring and heating at 140 ° C. for 1 hour, the temperature was raised to 205 ° C. and the mixture was stirred for about 1.5 hours. Under vacuum of about 15 mmHg,
Hold for 5 hours to reduce temperature. Finally, an antioxidant was added and the polyamide resin was taken out.
【0032】実施例1 参考例で得た表1に示したポリアミド樹脂A(アミン価
5.7)、エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)
製、“エピコート”828、エポキシ当量186)、フ
ェノール樹脂(昭和高分子(株)製、CKM128
2)、表2に示した複素環式芳香族化合物Aをそれぞれ
表3の組成比となるように配合し、濃度20重量%とな
るようにメタノール/モノクロルベンゼン混合溶媒に3
0℃で撹拌、混合して接着剤溶液を作成した。この接着
剤をバーコータで、厚さ25μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム(東レ(株)製”ルミラー”)に約1
8μmの乾燥厚さとなるように塗布し,100℃、1分
および160℃で5分間の乾燥を行ない、接着剤シート
を作成した。さらに、得られた接着剤シートを厚さ75
μmのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製“ユーピ
レックス”75S)に120℃、0.1MPaの条件で
ラミネートしてTAB用接着剤付きテープを作成した。
特性を表3に示す。Example 1 Polyamide resin A (amine value: 5.7) shown in Table 1 obtained in Reference Example, epoxy resin (Yukaka Shell Epoxy Co., Ltd.)
"Epicoat" 828, epoxy equivalent 186), phenol resin (Showa Polymer Co., Ltd., CKM128)
2) and the heterocyclic aromatic compound A shown in Table 2 were blended so as to have the composition ratios shown in Table 3, respectively, and mixed in a methanol / monochlorobenzene mixed solvent at a concentration of 20% by weight.
The mixture was stirred and mixed at 0 ° C. to prepare an adhesive solution. Using a bar coater, apply this adhesive to a polyethylene terephthalate film (“Lumirror” manufactured by Toray Industries, Inc.) with a thickness of 25 μm.
It was applied so as to have a dry thickness of 8 μm, and dried at 100 ° C. for 1 minute and 160 ° C. for 5 minutes to prepare an adhesive sheet. Further, the obtained adhesive sheet is made to have a thickness of 75
A tape with an adhesive for TAB was prepared by laminating a polyimide film of μm (“UPILEX” 75S manufactured by Ube Industries, Ltd.) under the conditions of 120 ° C. and 0.1 MPa.
Table 3 shows the characteristics.
【0033】上記の手順で得られたTAB用接着剤付き
テープを用いて、前述の評価方法(1)および(2)と
同一の方法で半導体集積回路接続用の導体回路を形成
し、図1に示すパターンテープを得た。Using the adhesive tape for TAB obtained by the above procedure, a conductor circuit for connecting a semiconductor integrated circuit was formed by the same method as the above-described evaluation methods (1) and (2), and FIG. The pattern tape shown in was obtained.
【0034】さらにこのパターンテープを用いて、45
0℃,1分の条件でインナーリードボンディングを行な
い、半導体集積回路を接続した。しかるのちに、エポキ
シ系液状封止剤(北陸塗料(株)製“チップコート”1
320−617)で樹脂封止を行ない、半導体装置を得
た。図2、3、4は得られた半導体装置の断面を示した
ものである。Further, using this pattern tape, 45
Inner lead bonding was performed at 0 ° C. for 1 minute to connect a semiconductor integrated circuit. After that, an epoxy-based liquid sealant ("Hitariku Paint Co., Ltd." Chipcoat "1
320-617), resin sealing was performed to obtain a semiconductor device. 2, 3 and 4 are sectional views of the obtained semiconductor device.
【0035】実施例2〜4および比較例1、2 実施例1と同様の方法で、それぞれ表1〜3に示した原
料および組成比で調合した接着剤を用いてTAB用接着
剤付きテープを得た。特性を表3に示す。Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 Tapes with an adhesive for TAB were prepared in the same manner as in Example 1 using the adhesives prepared with the raw materials and the composition ratios shown in Tables 1 to 3, respectively. Obtained. Table 3 shows the characteristics.
【0036】[0036]
【表1】 [Table 1]
【0037】[0037]
【表2】 [Table 2]
【0038】[0038]
【表3】 [Table 3]
【0039】表3の実施例および比較例から本発明によ
り得られるTAB用接着剤付きテープは、接着性および
絶縁性に優れることがわかる。From the examples and comparative examples in Table 3, it is understood that the adhesive tape for TAB obtained by the present invention is excellent in adhesiveness and insulation.
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明は接着性および絶縁性に優れた新
規なTAB用接着剤付きテープおよびそれを用いた半導
体装置を工業的に提供するものであり、本発明のTAB
用接着剤付きテープによって高密度実装用の半導体装置
の信頼性および経済性を向上させることができる。The present invention is to industrially provide a novel TAB adhesive tape having excellent adhesiveness and insulating properties and a semiconductor device using the same.
The reliability and economy of the semiconductor device for high-density mounting can be improved by the adhesive tape.
【図1】本発明のTAB用接着剤付きテープを加工して
得られた、半導体集積回路搭載前のパターンテープの一
態様の斜視図。FIG. 1 is a perspective view of one embodiment of a pattern tape before mounting a semiconductor integrated circuit, obtained by processing a tape with an adhesive for TAB of the present invention.
【図2】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置の一態様の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB of the present invention.
【図3】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(BGA)の一態様の断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (BGA) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.
【図4】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(CSP)の一態様の断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (CSP) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.
1,12,20 可撓性を有する絶縁性フィルム 2,13,21 接着剤 3 スプロケット孔 4 デバイス孔 5,14,22 半導体集積回路接続用の導体 6 インナーリード部 7 アウターリード部 8,15,23 半導体集積回路 9,16,24 封止樹脂 10,17,25 金バンプ 11 保護膜 18,26 ハンダボール 19 補強板 27 ソルダーレジスト 1,12,20 Insulating film having flexibility 2,13,21 Adhesive 3 Sprocket hole 4 Device hole 5,14,22 Conductor for connecting semiconductor integrated circuit 6 Inner lead portion 7 Outer lead portion 8,15, Reference Signs List 23 semiconductor integrated circuit 9, 16, 24 sealing resin 10, 17, 25 gold bump 11 protective film 18, 26 solder ball 19 reinforcing plate 27 solder resist
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JKD C09J 7/02 JKD JKK JKK JLE JLE 177/06 JGA 177/06 JGA ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display location C09J 7/02 JKD C09J 7/02 JKD JKK JKK JLE JLE 177/06 JGA 177/06 JGA
Claims (7)
接着剤層および保護フィルム層を有する積層体より構成
され、該接着剤層が、ポリアミド樹脂および下記(1)
〜(2)のいずれかの条件を満たす複素環式芳香族化合
物を少なくとも1種以上含むことを特徴とするTAB用
接着剤付きテープ。 (1)複素環内に窒素原子を3個以上含む5員環または
6員環を分子内に有する。 (2)複素環内に1個以上の窒素原子および1個以上の
酸素原子または硫黄原子を含む5員環または6員環を分
子内に有する。1. An organic insulating film having flexibility,
It is composed of a laminate having an adhesive layer and a protective film layer, and the adhesive layer comprises a polyamide resin and the following (1):
An adhesive tape for TAB, comprising at least one heterocyclic aromatic compound satisfying any one of the conditions (2) to (2). (1) The molecule has a 5-membered ring or 6-membered ring containing three or more nitrogen atoms in the heterocycle. (2) It has in the molecule a 5-membered ring or 6-membered ring containing at least one nitrogen atom and at least one oxygen atom or sulfur atom in the heterocycle.
特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテープ。2. The adhesive tape for TAB according to claim 1, wherein the adhesive layer contains an epoxy resin.
ミド樹脂100重量部に対し、0.05〜20重量部で
あることを特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付
きテープ。3. The adhesive tape for TAB according to claim 1, wherein the content of the heterocyclic aromatic compound is 0.05 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin.
酸を必須構成成分として含むことを特徴とする請求項1
記載のTAB用接着剤付きテープ。4. The polyamide resin contains a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms as an essential constituent component.
The adhesive tape for TAB according to the above.
を特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテー
プ。5. The adhesive tape for TAB according to claim 1, wherein the adhesive layer contains a phenol resin.
ープを用いた半導体接続基板。6. A semiconductor connection board using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
ープを用いた半導体装置。7. A semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8348493A JPH09237809A (en) | 1995-12-26 | 1996-12-26 | Tape with adhesive for TAB, semiconductor connection substrate, and semiconductor device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33867495 | 1995-12-26 | ||
| JP7-338674 | 1995-12-26 | ||
| JP8348493A JPH09237809A (en) | 1995-12-26 | 1996-12-26 | Tape with adhesive for TAB, semiconductor connection substrate, and semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09237809A true JPH09237809A (en) | 1997-09-09 |
Family
ID=26576169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8348493A Pending JPH09237809A (en) | 1995-12-26 | 1996-12-26 | Tape with adhesive for TAB, semiconductor connection substrate, and semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09237809A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037579A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Adhesive-coated copper foil, and copper-clad laminate and printed circuit board both obtained with the same |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP8348493A patent/JPH09237809A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037579A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Adhesive-coated copper foil, and copper-clad laminate and printed circuit board both obtained with the same |
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