JPH10107403A - 剛性をもつた回路および可撓性をもつた回路を製造する方法 - Google Patents
剛性をもつた回路および可撓性をもつた回路を製造する方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 31
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 23
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 3
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 2
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N butyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CO VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- HSYFJDYGOJKZCL-UHFFFAOYSA-L zinc;sulfite Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])=O HSYFJDYGOJKZCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
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Abstract
を製造する方法。 【解決手段】 (a)存在する穿孔部を含む支持材料を
接合剤を含有していることもできる伝導性重合体で被覆
し、(b)伝導体トラックの陰画の形で電気メッキ防止
剤を被覆し、(c)存在する穿孔部を含めて電気メッキ
防止剤が存在しない表面を伝導体トラックの陽画の形で
電着させることにより金属メッキし、(d)電気メッキ
防止剤を除去し、(e)金属メッキが行われていない区
域から伝導性重合体を除去するかまたは伝導性重合体を
非伝導性の形に変える工程ことにより、可撓性または剛
性をもった指示材料の上に電気的に互いに連結された伝
導体トラックから成る剛性または可撓性をもった回路を
製造することができる。
Description
た電気伝導体のトラック/回路を製造する方法またさら
に一緒に伝導性重合体を使用した三次元的に成形された
相互連結装置に関する。
の上に減法的、加法的および半加法的方法で剛性をもっ
たおよび可撓性を有する電気伝導体のトラック/回路を
製造する方法は一般的に公知であり、長年に亙り種々の
設計のものが当業界の技術として蓄積されて来た[Eu
gen G.Leuze Verlag1982年発行
のGuenther Herrmann著、プリント回
路技術ハンドブック(Handbuch eder L
eiterplattentechnik)D−883
48 Saulgau参照]。
の製造に重要な役割を演じるようになって来た。即ち伝
導性重合体、特にポリピロールを、電気メッキ法により
プリント回路および可撓性回路の穿孔部の金属メッキに
直接使用する方法はドイツ特許公開明細書3,806,
884号に記載されている。米国特許5,403,46
7号には、同じ目的、即ち電気メッキによるプリント回
路の直接貫通接触させるのにポリチオフェンを使用する
方法が特に記載されている。
体を使用することが提案されている。ヨーロッパ特許第
615,256号においては、伝導性トラックの製造に
ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェンを使用する
方法が記載されている。この方法においては、所望の形
をした伝導トラックの像が得られるような形に伝導性重
合体を被覆する。この方法は、伝導層を構成した後、基
質の上には互いに連結されているのではなく個別的な伝
導トラックが存在するに過ぎず、従って電気メッキ法に
よりトラックを個別的に接触させなければならないとい
う欠点をもっている。
なければならないというこのような欠点をもたない剛性
をもったおよび可撓性のある電子回路、および三次元的
に成形された相互連結装置を製造する方法に関する。
方法に従って電気伝導体トラックから回路を製造すれ
ば、高い均一性と満足すべきメッキ速度をもち回路の唯
一点だけで接触した伝導体トラック構造物を作り上げる
ことが出来る。
程中に電気的に互いに連結された伝導体トラックから剛
性または可撓性をもった回路を製造する方法は(a)存
在する穿孔部を含む支持材料を接合剤を含有しているこ
ともできる伝導性重合体で被覆し、(b)伝導体トラッ
クの陰画の形で電気メッキ防止剤を被覆し、(c)存在
する穿孔部を含めて電気メッキ防止剤が存在しない表面
を伝導体トラックの陽画の形で電着させることにより金
属メッキし、(d)電気メッキ防止剤を除去し、(e)
金属メッキが行われていない区域から伝導性重合体を除
去するかまたは伝導性重合体を非伝導性の形に変える工
程から成ることを特徴している。
た伝導体トラックが存在するような従来法と比較して、
本発明方法は露出した伝導体トラックの上の全伝導区域
が接触しているために、高い電流密度を、従って速いメ
ッキ速度を得ることができる。
よび可撓性の支持材料の両方の上に機械的に安定した伝
導体トラックをつくることができる。
支持材料は例えばポリカーボネート、ABS、ポリ塩化
ビニル、ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートおよびポリブチレンテ
レフタレート、ポリイミド、例えばDUPONT社製の
Kaptonフィルム、およびこれらの配合物のような
重合体のフィルムである。
は、例えばフェノール樹脂/紙、ガラス繊維充填エポキ
シ樹脂、例えばFR3およびFR4材料(前記プリント
回路技術ハンドブック参照)、エポキシド/イソシアネ
ート樹脂、ポリイミド樹脂のような有機熱硬化性樹脂、
および/またはポリカーボネート、ポリエステル、AB
S、ポリスチレン、ポリスルフォンおよびこれらの共重
合体または配合体のような熱可塑性重合体である。
としては、随時置換基を有するポリアニリン、ポリピロ
ールまたはポリチオフェンがある。随時置換基をもった
ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン、例えばヨ
ーロッパ特許339,340号および440,957号
記載のものが特に好適である。
ースになる単量体をプリント回路の基質の上で直接重合
させることにより行うことができる。適切な方法は公知
であり、例えばヨーロッパ特許339,340号に記載
されている。また伝導性重合体を製造するために、伝導
性重合体の溶液または懸濁液を用いて被覆を行うことが
できる。適切な重合体溶液または懸濁液は例えばヨーロ
ッパ特許440,957号に記載されている。表面抵抗
が500オーム/平方よりも低い伝導性被膜を得るため
の混合物はヨーロッパ特許668,662号に記載され
ている。伝導性重合体は例えば噴霧法、プリント法、ド
クターナイフの刃による塗布または注型法のような公知
方法により被覆することができる。伝導性重合体は水溶
液から被覆することが好ましい。 さらに水と混合し得る
溶媒、例えばメタノールおよびイソプロパノールのよう
なアルコール、例えばアセトンおよびメチルエチルケト
ンのようなケトン、例えばN,N−ジメチルアセトアミ
ドのようなような脂肪族アミド、またはこれらの混合物
を伝導性重合体の溶液に加えることができる。
ができる。適切な接合剤の例としては、脂肪族、芳香族
または脂肪/芳香族のポリイミド、ポリヒドラントイ
ン、ポリアミド−イミド、ポリウレタン、ポリアクリレ
ート、エポキシド樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリオレフィン、ポリエステルおよびこれら
の混合物または共重合体がある(単一層構造)。しかし
接合剤はプライマーとして溶液または分散液の形で伝導
性重合体とは別に第1の層として被覆し、次いで乾燥工
程を置いた後、伝導性重合体を被覆することもできる。
この場合も、伝導性重合体の溶液はプライマーとは同じ
または異なった接合剤を含んでいることができる。伝導
性重合体と接合剤との混合物を使用する場合には、これ
らは水性の溶液または分散液であることが好ましい。 こ
のような二層構造物を用いて本発明方法を実施する場合
には、プライマーはまた有機溶液から被覆することがで
きる。適当な有機溶媒としてはアルコール、例えばメタ
ノール、イソプロパノール、グリコールおよびグリセリ
ン、ケトン、例えばアセトンおよびメチルエチルケト
ン、脂肪族または脂環式の炭化水素、例えばヘキサンお
よびシクロヘキサン、芳香族炭化水素、例えばトルエン
およびキシレン、脂環式のアミド、例えばN−メチルピ
ロリドンおよびN−メチルカプロラクタム、および脂肪
族アミド、例えばN,N−ジメチルアセトアミドがあ
る。印刷および塗装技術において特に知られている物
質、例えばエステル、例えば酢酸ブチル、フタル酸ジオ
クチル、およびグリコル酸ブチル、グリコールエーテ
ル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
グライム、およびプロピレングリコールモノメチルエー
テル、グリコールエーテルのエステル、例えばエチレン
グリコールアセテートおよびプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、およびジアセトンアルコー
ルも使用することができる。勿論これらの溶媒の混合物
およびそれと他の溶媒との配合物も使用することができ
る。
属層の接着性を改善する有機または無機の充填剤を伝導
性重合体の溶液および/またはプライマーに加えること
ができる。適当な充填剤の例には、二酸化チタン、二酸
化珪素、分散シリカ、粘土鉱物、カーボンブラック、エ
ーロゾル、タルク、酸化鉄、珪藻土、バライタ、カオリ
ン、石英粉末、亜硫酸亜鉛、クロムイエロー、青銅、有
機顔料および白亜がある。伝導性重合体およびもし存在
するならば接合剤の全体に対して0〜100重量%、好
ましくは5〜50重量%の充填剤を加える。
わせたもの(2層構造)および随時接合剤を含む伝導性
重合体を組み合わせたもの(単層構造)の厚さは0.0
5〜100μm、好ましくは0.5〜20μmである。
合体層が乾燥した後、必要に応じ熱処理をした後に行
う。実施される乾燥および熱処理は使用した溶媒および
接合剤に依存する。温度は通常室温〜300℃である。
処理の長さは乾燥工程に対し数秒から数分の間である。
熱処理は最高数時間行うことができる。
気メッキ防止剤(フォトレジスト)を被覆する。電気メ
ッキ防止剤は例えばスクリーン印刷法またはグラビア・
オフセット法により構造をもった成形体に直接被覆する
ことができる。しかし表面全体に亙って電気メッキ防止
剤を被覆し、マスクを通して光に露出する通常の方法で
構造をつくり、次いで現像する(写真平板法)か、また
はレーザーにより切除(下方に存在する伝導性重合体の
層を取り去ることなく部分的または段階的にレーザーで
切除)する。適切な方法は前記のプリント回路技術ハン
ドブックに記載されている。乾燥した電気メッキ防止剤
のフィルムを使用することもできる。好適な方法におい
ては液体の電気メッキ防止剤を使用する。電気メッキ防
止剤の厚さは通常5〜100μmである。
を電着させる。電着は市販の金属メッキ浴中で行われ、
伝導性重合体層はカソードとして連結される。電着させ
得る金属の例は銅、ニッケル、金、銀、パラジウム、錫
および/またはこれらの合金である。適当な銅浴の例は
ドイツ、SolingenのBlasberg Obe
rflaechentechnik製のCuprost
ar LP 1 銅浴である。電着は0.1〜4アンペ
ア/dm2の範囲の電流密度で行われる。最初は低い電
流密度を使用し、電着の間に徐々に増加させることが好
ましい。 電着した金属層の厚さは0.1〜140μm、
好ましくは1〜50μmである。
いない場所にある電気メッキ防止剤および必要に応じ伝
導性重合体層を一工程で除去するか、または伝導性重合
体層を非伝導性の状態に変える。例えば溶媒で溶解する
ことによって除去を行うことができ、適当な溶媒は電気
メッキ防止剤または電気伝導性重合体の溶液を被覆する
際に用いた溶媒である。電気メッキ防止剤および伝導性
重合体を逐次的に除去する場合、伝導性重合体層を非伝
導性の絶縁体の形に変えるには次の方法が適している。
μmより短い紫外線を照射して非伝導性の重合体に変え
るか、または − ガス状または溶解した酸化剤、例えばオゾン、過マ
ンガン酸カリウム、過酸化水素で処理して伝導性重合体
を酸化的に分解する。
チオフェン/ポリスチレンスルフォネートの水溶液1
0.0g、3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシ
ラン0.15g、ソルビトールの30%水溶液2.0
g、N−メチルピロリドン1.0g、およびイソプロパ
ノール6.0gから成る溶液を、600rpmで回転被
覆機を用い、大きさ10×10cm2のガラス繊維含量
30重量%のポリアミドの板の上に回転被覆し、空気中
で乾燥する。次にこの板を30分間150℃で熱処理す
る。電気メッキ防止用のペイントとしてWepelan
被覆ペイントSD2154E(ドイツ、Kempenの
Lackwerke Peters社製)をスクリーン
印刷法により伝導性トラックの陰画の形でこの板に被覆
する。ペイント層を120℃で30分間乾燥する。次に
全区域に亙って被覆された伝導性重合体の相対する露出
した縁を接触させ、銅浴(Blasberg Ober
Flaechentechnik製のCuprosta
r LP1)中において露出した区域に銅を電着させ
る。
時間行った。水洗し乾燥した後、電気鍍金防止剤を塩化
メチレンで溶解し去る。これによって伝導性重合体層の
上に銅の伝導体トラックの所望の像が得られる。70g
/リットルの過マンガン酸カリウム水溶液に10分間浸
漬して伝導性重合体層を分解する。
506号記載の直鎖で僅かに分岐した脂肪族炭素鎖をも
ち−COO-および−SO3 -基を有する粒径が50〜4
50nmのポリウレタン40%水性分散物652重量
部、115重量部のTiO2、および230重量部のタ
ルクから成るプライマー調合物を、プライマーとして乾
燥した層の厚さが20μmになる割合でガラス繊維含量
30重量%の10×10cm2のポリアミドの板の上に
噴霧した。固体分含量1.3%のポリ−3,4−エチレ
ンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォンネート
溶液10.0g、グリシドオキシプロピルトリメトキシ
シラン0.15g、ソルビトールの30%水溶液2.0
g、N−メチルピロリドン2.0g、およびイソプロパ
ノール6.0gから成る水溶液を、600rpmで回転
被覆機を用いて被覆し、空気中で乾燥する。次いでこの
板を150℃で30分間熱処理する。
E(ドイツ、KempenのLackwerke Pe
ters社製)をスクリーン印刷法により伝導体トラッ
クの陰画の形でこの板に被覆する。ペイント層を120
℃で30分間乾燥する。次に全区域に亙って被覆された
伝導性重合体の相対する露出した縁を接触させ、銅浴
(Blasberg OberFlaechentec
hnik製のCuprostar LP1)中において
露出した区域に銅を電着させる。
時間行った。水洗し乾燥した後、電気鍍金防止剤を塩化
メチレンで溶解し去る。これによって伝導性重合体層の
上に銅の伝導体トラックの所望の像が得られる。70g
/リットルの過マンガン酸カリウム水溶液に10分間浸
漬して伝導性重合体層を分解する。この銅のトラックは
20N/インチの接着力を示した。
る。 1.(a)存在する穿孔部を含む支持材料を接合剤を含
有していることもできる伝導性重合体で被覆し、(b)
伝導体トラックの陰画の形で電気メッキ防止剤を被覆
し、(c)存在する穿孔部を含めて電気メッキ防止剤が
存在しない表面を伝導体トラックの陽画の形で電着させ
ることにより金属メッキし、(d)電気メッキ防止剤を
除去し、(e)金属メッキが行われていない区域から伝
導性重合体を除去するかまたは伝導性重合体を非伝導性
の形に変える工程から成る非伝導性の支持材料の上に製
造工程中に電気的に互いに連結された伝導体トラックか
ら剛性または可撓性をもった回路を製造する方法。
ン、ポリプロール、ポリチオフェンまたはそれらの誘導
体である上記第1項記載の方法。
エチレンジオキシチオフェンである上記第1項記載の方
法。
は表面抵抗が500オーム/平方である上記第1項記載
の方法。
材料に被覆する上記第1項記載の方法。
形で被覆し、次いで写真平板法により構造をもたせる上
記第1項記載の方法。
記第1項記載の方法。
記第1項記載の方法。
る上記第1項記載の方法。
Claims (1)
- 【請求項1】 (a)存在する穿孔部を含む支持材料を
接合剤を含有していることもできる伝導性重合体で被覆
し、 (b)伝導体トラックの陰画の形で電気メッキ防止剤を
被覆し、 (c)存在する穿孔部を含めて電気メッキ防止剤が存在
しない表面を伝導体トラックの陽画の形で電着させるこ
とにより金属メッキし、 (d)電気メッキ防止剤を除去し、 (e)金属メッキが行われていない区域から伝導性重合
体を除去するかまたは伝導性重合体を非伝導性の形に変
える工程から成ることを特徴とする非伝導性の支持材料
の上に製造工程中に電気的に互いに連結された伝導体ト
ラックから剛性または可撓性をもった回路を製造する方
法。
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| JP (1) | JP4285793B2 (ja) |
| KR (1) | KR100515535B1 (ja) |
| AT (1) | ATE385398T1 (ja) |
| CA (1) | CA2214874C (ja) |
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| TW361061B (en) | 1999-06-11 |
| DE19637018A1 (de) | 1998-03-19 |
| ATE385398T1 (de) | 2008-02-15 |
| CA2214874C (en) | 2006-07-25 |
| EP0830054B1 (de) | 2008-01-30 |
| KR100515535B1 (ko) | 2006-01-27 |
| DE59712914D1 (de) | 2008-03-20 |
| CA2214874A1 (en) | 1998-03-12 |
| KR19980024538A (ko) | 1998-07-06 |
| JP4285793B2 (ja) | 2009-06-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040326 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060725 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061013 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070404 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070409 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070705 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080227 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080401 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080923 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081009 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081015 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090127 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090317 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090324 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |