JPH10109976A

JPH10109976A - ピラゾール系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤

Info

Publication number: JPH10109976A
Application number: JP11038997A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Murai; 重夫村井; Koji Kikukawa; 弘司菊川; Hitoshi Nakayama; 仁志中山; Makiko Sano; 真喜子佐野; Akihiko Isogai; 章彦磯貝
Original assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Current assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date: 1996-04-26
Filing date: 1997-04-11
Publication date: 1998-04-28

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】除草剤の有効成分として有用な、新規化合物
を提供する。【解決手段】下記式（Ｉ）；（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｒ₂は水素原子、メ
チル基、−Ａ−Ｒ₃基、置換されてもよいフェニル基、
置換されてもよいピリジル基又はフェニル基で置換され
たアリル基であり、Ａは−ＳＯ₂−基、−ＣＯ−基など
であり、Ｒ₃は置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル
基、置換されてもよいアルコキシ基などであり、Ｘは水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基などであり、Ｚはアルキ
ル基であり、ｌは０〜５の整数であり、ｎは１〜５の整
数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは同一でも相異なって
もよく、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも相異なっても
よい）で表わされるピラゾール系化合物又はその塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、除草剤の有効成分
として有用な新規ピラゾール系化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】英国特許公開第２００２３７５号公報及
びＥＰ特許公開第２８２９４４号公報にはピラゾール環
の３位に種々の置換基を有するピラゾール誘導体が記載
されている。しかしながら、本発明のピラゾール系化合
物はピラゾール環の３位にシクロアルキル基が置換して
いる点において、それら誘導体と明瞭に区別される。ま
た、ＥＰ特許公開第６３８５５５号公報にはピラゾール
環の３位、４位などに種々の置換基を有するピラゾール
グリコール酸アミド誘導体が記載されている。しかしな
がら、本発明のピラゾール系化合物はピラゾール環の４
位に置換ベンゾイル基が置換している点において、それ
ら誘導体と明瞭に区別される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題とその手段】本願発明者
等は、優れた除草剤を見出すべくピラゾール系化合物に
注目して種々検討した結果、本発明を完成した。すなわ
ち本発明は、式（Ｉ）；

【０００４】

【化２５】

【０００５】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｒ₂は
水素原子、メチル基、−Ａ−Ｒ₃基、置換されてもよい
フェニル基、置換されてもよいピリジル基又はフェニル
基で置換されたアリル基であり、Ａは−ＳＯ₂−基、−
ＣＯ−基、−ＣＨ（Ｒ₆）−基又は−ＣＨ（Ｒ₇）ＣＯ
−基であり、Ｒ₃は置換されてもよいアルキル基、置換
されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニ
ル基、置換されてもよいアルコキシ基、シアノ基、ジア
ルキルアミノ基又は置換されてもよいフェニル基であ
り、Ｒ₆及びＲ₇は水素原子又はアルキル基であり、Ｘ
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィ
ニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシ
カルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ
（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）qＲ₁₂基又は
−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ
₁₂及びＲ₁₃はそれぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル
基であり、ｌは０〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数
であり、ｑは０〜２の整数であり、ｌが２以上の場合、
Ｚは同一でも相異なってもよく、ｎが２以上の場合、Ｘ
は同一でも相異なってもよい）で表わされる新規ピラゾ
ール系化合物又はその塩、それらの製造方法、それらを
含有する除草剤並びにそれらを製造するための新規中間
体化合物に関する。

【０００６】Ｒ₁及びＲ₃のアルキル基及びアルキル部
分としては炭素数が１〜１０、望ましくは１〜５の直鎖
状又は分枝状のものが挙げられ、Ｒ₆及びＲ₇のアルキ
ル基としては炭素数が１〜２のものが挙げられ、Ｒ₈、
Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｘ及びＺのアルキル基
及びアルキル部分としては炭素数が１〜４で直鎖状又は
分枝状のものが挙げられる。これらの具体例としてはメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert
−ブチル、ペンチル、オクチル、デシルなどが挙げられ
る。Ｒ₃のアルケニル基としては炭素数が２〜１０の直
鎖状又は分枝状のもの、例えばビニル、アリル、ブタジ
エニル、イソプロペニルなどが挙げられる。Ｒ₃のアル
キニル基としては炭素数が２〜１０の直鎖状又は分枝状
のもの、例えばエチニル、プロピニル、２−ペンテン−
４−イニルなどが挙げられる。

【０００７】Ｒ₂の置換されてもよいフェニル基及び置
換されてもよいピリジル基のその置換基としては、ハロ
ゲン、Ｃ１〜４ハロアルキル、ニトロなどが挙げられ
る。置換数は１又は２以上であってよく、２以上の場
合、これら置換基は同一でも相異なってもよい。

【０００８】Ｒ₃の置換されてもよいアルキル基、置換
されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニ
ル基及び置換されてもよいアルコキシ基のその置換基と
しては、ハロゲン、Ｃ１〜４アルコキシ、Ｃ１〜６アル
コキシカルボニル、シアノなどが挙げられる。置換数は
１又は２以上であってよく、２以上の場合、これら置換
基は同一でも相異なってもよい。

【０００９】Ｒ₃の置換されてもよいフェニル基のその
置換基としては、ハロゲン、Ｃ１〜４アルキル、Ｃ１〜
４ハロアルキル、Ｃ１〜４アルコキシ−Ｃ１〜４アルキ
ル、Ｃ１〜４アルコキシ、ニトロ、シアノなどが挙げら
れる。置換数は１又は２以上であってよく、２以上の場
合、これら置換基は同一でも相異なってもよい。

【００１０】Ｘのハロゲン原子並びにＲ₂、Ｒ₃及びＸ
に含まれる置換基としてのハロゲンとしては、弗素、塩
素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。置換基として
のハロゲンの数は１又は２以上であってよく、２以上の
場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。

【００１１】前記式（Ｉ）で表わされるピラゾール系化
合物のうち、特にＲ₂が水素原子である化合物は、塩を
形成することが可能である。その塩としては、農業上許
容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、
マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金
属塩、ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のような
アンモニウム塩などが挙げられる。

【００１２】前記式（Ｉ）で表わされるピラゾール系化
合物又はその塩（以下本発明化合物と略す）は、以下の
反応〔Ａ〕〜〔Ｅ〕並びに通常の塩の製造方法に従って
製造することができる。

【００１３】

【化２６】

【００１４】

【化２７】

【００１５】また、本発明化合物のうち一定の置換基を
有するものは以下の反応〔Ｆ〕〜〔Ｇ〕並びに通常の塩
の製造方法に従って製造することもできる。

【００１６】

【化２８】

【００１７】

【化２９】

【００１８】前記反応〔Ａ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ａ〕中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通
りであり、Ｙはハロゲン原子である。

【００１９】反応〔Ａ〕中の縮合反応は、必要に応じて
塩基の存在下で行なうことができるが、該塩基として
は、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのような炭酸
塩；重炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムのような重炭酸
塩；水素化カリウム、水素化ナトリウムのような金属水
素化物；モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチ
ルアミンのようなアミン類；ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジンのようなピリジン類などから１種又は２種
以上が適宜選択される。また、反応〔Ａ〕中の縮合反応
は、必要に応じて溶媒の存在下で行なうことができる
が、該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいず
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；四塩化
炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、塩化メチル、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような環状又は非環状脂肪族炭化水素類；ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのよう
なエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステ
ル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ピリジン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド
のような極性非プロトン性溶媒；アセトニトリル、プロ
ピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類；
アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類；水な
どから１種又は２種以上が適宜選択される。さらに、反
応〔Ａ〕中の縮合反応は、必要に応じて相間移動触媒の
存在下で行なうことができるが、該相間移動触媒として
は、例えばベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモ
ニウムブロマイドなどから１種又は２種以上が適宜選択
される。反応〔Ａ〕中の縮合反応の反応温度は、通常０
〜２５０℃、望ましくは１５〜１５０℃であり、反応時
間は、通常０．１〜４８時間、望ましくは０．１〜２４
時間である。尚、この反応〔Ａ〕中の縮合反応によって
製造することができる式（IV）で表わされる化合物は、
本発明化合物を製造するための有用かつ新規な中間体化
合物である。

【００２０】反応〔Ａ〕中の転位反応は、以下の２工
程、すなわち（１）転位反応工程と（２）ｐＨ調整反応
工程とから成る。転位反応工程は、通常塩基の存在下で
行なわれるが、該塩基としては、例えば炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムのような炭酸塩；水酸化カルシウムなど
から１種又は２種以上が適宜選択される。この塩基の使
用量は、通常式（IV）で表わされる化合物に対し０．５
〜５倍モル程度である。また、反応〔Ａ〕中の転位反応
の転位反応工程は、必要に応じて溶媒の存在下で行なう
ことができるが、該溶媒としては、反応に不活性な溶媒
であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水
素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルのようなエーテル類；ジメチルスルホキシド、スル
ホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミドのような極性非プロトン性溶媒な
どから１種又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ａ〕
中の転位反応の転位反応工程は、共沸脱水条件下で反応
を行なうと転位反応が効率的に進行する為有益であり、
このことは、本発明の１つの態様でもある。また、該転
位反応工程を行なうことによって、前記式（Ｉ）で表わ
される化合物の塩が製造されるが、このような塩の製造
方法も本発明の１つの態様である。さらに、この転位反
応工程により得られた前記式（Ｉ）で表される化合物の
塩或いは該塩を含有する反応混合物と、前記式（VII ）
で表される化合物とを、後述する反応〔Ｄ〕の反応条件
にしたがって反応させることにより、前述した式（Ｉ−
２）で表される化合物を製造することができるが、この
ことも本発明の一つの態様である。前記転位反応工程の
反応温度は、通常５０〜２５０℃、望ましくは５０〜１
５０℃であり、反応時間は、通常０．１〜４８時間、望
ましくは０．５〜２４時間である。反応〔Ａ〕中の転位
反応のｐＨ調整反応工程は、通常酸性物質及び水の存在
下で行なわれる、ｐＨ値を７以下に調整する反応である
が、該酸性物質としては、例えば塩酸、硫酸のような無
機酸；酢酸のような有機酸などから１種又は２種以上が
適宜選択される。反応〔Ａ〕中の転位反応のｐＨ調整反
応工程は、必要に応じて溶媒の存在下で行なうことがで
きるが、該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ば、いずれのものでもよく、例えば前段工程である転位
反応工程において例示されたものなどから１種又は２種
以上が適宜選択される。反応〔Ａ〕中の転位反応のｐＨ
調整反応工程は、前段工程である転位反応工程により得
られた反応生成物を、常法に基づいて単離してから行な
うこともあり、転位反応工程により得られた反応混合物
をそのまま用いてワンポットで行なうこともある。ワン
ポットで行なう際は、前段工程である転位反応工程で得
られた反応混合物に、酸性物質及び水を加えて反応させ
ることにより行なわれる。前記ｐＨ調整反応工程の反応
温度は、通常０〜１００℃、望ましくは０〜６０℃であ
る。

【００２１】前記反応〔Ｂ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｂ〕中、Ｒ₁、Ｚ、ｌ、ｎ及び（II）は前述
の通りであり、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルフィニル基又はアルキルスルホニル基
であり、ｎが２以上の場合、Ｘ’は同一でも相異なって
もよい。

【００２２】反応〔Ｂ〕中の縮合反応は、通常ルイス酸
の存在下で行なわれるが、該ルイス酸としては、例えば
無水塩化アルミニウム、無水臭化アルミニウムなどから
１種又は２種以上が適宜選択される。また、反応〔Ｂ〕
中の縮合反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行なうこ
とができるが、該溶媒としては、反応に不活性な溶媒で
あれば、いずれのものでもよく、例えば四塩化炭素、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、塩化メチル、ジクロロエ
タンのようなハロゲン化脂肪族炭化水素類などから１種
又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｂ〕中の縮合反
応の反応温度は、通常０〜８０℃であり、反応時間は、
通常０．１〜２４時間、望ましくは０．１〜１０時間で
ある。

【００２３】反応〔Ｂ〕中の加水分解反応は、通常酸性
物質の存在下で行なわれるが、該酸性物質としては、例
えば塩酸、硫酸のような無機酸などから１種又は２種以
上が適宜選択される。反応〔Ｂ〕中の加水分解反応は、
必要に応じて溶媒の存在下で行なうことができるが、該
溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのも
のでもよく、例えば前段反応である縮合反応において例
示されたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｂ〕中の加水分解反応は、前段反応である縮
合反応により得られた反応生成物を、常法に基づいて単
離してから行なうこともあり、縮合反応により得られた
反応混合物をそのまま用いてワンポットで行なうことも
ある。ワンポットで行なう際は、前段反応である縮合反
応で得られた反応混合物に対し、必要に応じてルイス酸
を除去する等の後処理を行ない、そこへ酸性物質及び水
を加えて反応させることにより行なわれる。反応〔Ｂ〕
中の加水分解反応の反応温度は、通常２０〜１００℃で
あり、反応時間は、通常０．１〜２４時間、望ましくは
０．１〜１０時間である。

【００２４】前記反応〔Ｃ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｃ〕中、Ｘ、ｎ、（II）及び（Ｉ−１）は前
述の通りである。

【００２５】反応〔Ｃ〕の縮合反応は、通常縮合剤及び
溶媒の存在下で行なわれるが、該縮合剤としては、Ｎ，
Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどが挙げら
れ、該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいず
れのものでもよく、例えばターシャリーブチルアルコー
ル、ターシャリーアミルアルコールのようなアルコール
類などから１種又は２種以上が適宜選択される。反応
〔Ｃ〕の縮合反応は、必要に応じて塩基の存在下で行な
うことができるが、該塩基としては、例えば炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムのような炭酸塩などから１種又は２
種以上が適宜選択される。反応〔Ｃ〕の縮合反応の反応
温度は、通常５０〜１００℃であり、反応時間は、通常
０．１〜２４時間、望ましくは０．５〜２０時間であ
る。

【００２６】前記反応〔Ｄ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｄ〕中、Ｘ、ｎ、（II）及び（Ｉ−１）は前
述の通りであり、Ｔは塩素原子、臭素原子又は沃素原子
である。

【００２７】反応〔Ｄ〕は、通常塩基及び金属触媒の存
在下で行なわれる。塩基としては、例えばナトリウム、
カリウムのようなアルカリ金属；ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、カリウム第３級ブチレート
のようなアルカリ金属のアルコレート；炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムのような炭酸塩；重炭酸カリウム、重炭
酸ナトリウムのような重炭酸塩；水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムのような金属水酸化物；水素化カリウム、
水素化ナトリウムのような金属水素化物；モノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミ
ン類；ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンのような
ピリジン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどから１種又
は２種以上が適宜選択される。金属触媒としては、パラ
ジウム、ロジウム、ルテニウム、白金等の遷移金属が挙
げられる。金属触媒の金属に対して用いられる配位子に
は特に制限はないが、トリフェニルホスフィン、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン等のオルガノホスフィン系化合物
が好ましい。反応〔Ｄ〕は必要に応じて溶媒の存在下で
行なうことができる。該溶媒としては、反応に不活性な
溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭
化水素類；四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、塩化メチル、ジクロロエタン、トリクロロエタン、
ヘキサン、シクロヘキサンのような環状又は非環状脂肪
族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルのようなエーテル類；酢酸メチル、酢酸エ
チルのようなエステル類；ジメチルスルホキシド、スル
ホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プ
ロトン性溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ア
クリロニトリルのようなニトリル類；アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類；モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類；メ
タノール、エタノール、プロパノール、tert−ブタノー
ルのようなアルコール類；酢酸、プロピオン酸のような
有機酸；アンモニア水；水などから１種又は２種以上が
適宜選択される。反応〔Ｄ〕の反応温度は通常３０〜３
００℃、望ましくは５０〜２００℃であり、反応時間は
通常０．１〜４８時間、望ましくは１〜２４時間であ
る。

【００２８】前記反応〔Ｅ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｅ〕中、Ｒ₁、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｌ、ｎ及び（Ｉ
−１）は前述の通りであり、Ｒ₂'はメチル基、−Ａ−Ｒ
₃基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよい
ピリジル基又はフェニル基で置換されたアリル基（Ａ及
びＲ₃前述の通りである）である。

【００２９】反応〔Ｅ〕の縮合反応は、必要に応じて塩
基の存在下で行うことができるが、該塩基としては、例
えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのような炭酸塩；重
炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムのような重炭酸塩；水
酸化カリウム、水酸化ナトリウムのような金属水酸化
物；水素化カリウム、水素化ナトリウムのような金属水
素化物；モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチ
ルアミンのようなアミン類；ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジンのようなピリジン類などから１種又は２種
以上が適宜選択される。反応〔Ｅ〕の縮合反応は、必要
に応じて溶媒の存在下で行なうことができるが、該溶媒
としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンのような芳香族炭化水素類；四塩化炭素、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、塩化メチル、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな環状又は非環状脂肪族炭化水素類；ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル
類；酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類；ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピ
リジン、ヘキサメチルホスホリックトリアミドのような
極性非プロトン性溶媒；アセトニトリル、プロピオニト
リル、アクリロニトリルのようなニトリル類；アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類；水などから
１種又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｅ〕の縮合
反応は、必要に応じて相間移動触媒及び／又はヨウ化カ
リウムの存在下で行なうことができるが、該相間移動触
媒としては、前記反応〔Ａ〕中の縮合反応において例示
されたものなどから１種又は２種以上が適宜選択され
る。反応〔Ｅ〕の縮合反応の反応温度は、通常０〜２０
０℃、望ましくは１５〜１５０℃であり、反応時間は、
通常０．１〜４８時間、望ましくは０．１〜２４時間で
ある。

【００３０】前記反応〔Ｆ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｆ〕中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通
りであり、Ｒ₅はアルキル基、望ましくは炭素数１〜４
のアルキル基であり、Ｘ''は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキル
スルフィニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、ア
ルコキシカルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−
Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q'Ｒ₁₂基又
は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基（Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及
びＲ₁₃は前述の通りである）であり、ｍは１又は２であ
り、ｑ' は１又は２である。

【００３１】反応〔Ｆ〕中の（IV−１）から（IV−２）
を製造する酸化反応及び（Ｉ−５）から（Ｉ−４）を製
造する酸化反応（以下単に酸化反応と略す）は、通常酸
化剤及び溶媒の存在下で行なわれる。酸化剤としては、
例えばメタクロロ過安息香酸、過酸化水素などから１種
又は２種以上が適宜選択される。溶媒としては、反応に
不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前
記反応〔Ｂ〕中の縮合反応において例示されたものなど
から１種又は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｆ〕中
の酸化反応の反応温度は、通常０〜８０℃であり、反応
時間は、通常０．１〜４８時間、望ましくは０．１〜２
４時間である。反応〔Ｆ〕中の転位反応は、前記反応
〔Ａ〕中の転位反応に準じて行なわれる。

【００３２】前記反応〔Ｇ〕について、以下に記述す
る。反応〔Ｇ〕中、Ｒ₁、Ｒ₂'、Ｒ₅、Ｘ、Ｘ''、Ｚ、
ｌ、ｍ及びｎは前述の通りである。

【００３３】反応〔Ｇ〕の酸化反応は、前記反応〔Ｆ〕
中の酸化反応に準じて行なわれる。

【００３４】前記反応〔Ａ〕、〔Ｂ〕、〔Ｃ〕及び
〔Ｄ〕中の式（II）で表わされる化合物は、本発明化合
物を製造するための有用かつ新規な中間体化合物であ
り、例えば反応〔Ｈ〕のような方法によって製造するこ
とができる。

【００３５】

【化３０】

【００３６】反応〔Ｈ〕について、以下に記述する。反
応〔Ｈ〕中、Ｒ₁、Ｙ、Ｚ及びｌは前述の通りであり、
Ｒ₄は炭素数１〜６のアルキル基である。

【００３７】反応〔Ｈ〕中の（VIII）から（II）を製造
する環化反応及び（VIII）から（IX）を製造する環化反
応（以下単に環化反応と略す）は、必要に応じて溶媒の
存在下で行なうことができるが、該溶媒としては、反応
に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのよう
な芳香族炭化水素類；四塩化炭素、クロロホルム、ジク
ロロメタン、塩化メチル、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような環状又は非
環状脂肪族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルのようなエーテル類；ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドのような極性非プ
ロトン性溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ア
クリロニトリルのようなニトリル類；水などから１種又
は２種以上が適宜選択される。反応〔Ｈ〕中の環化反応
は、必要に応じて共沸脱水条件下で行なうことができ
る。反応〔Ｈ〕中の環化反応の反応温度は、通常０〜２
００℃、望ましくは２０〜１５０℃であり、反応時間
は、通常０．１〜４８時間、望ましくは０．１〜２４時
間である。

【００３８】反応〔Ｈ〕中の縮合反応は、通常塩基及び
溶媒の存在下で行なわれる。塩基としては、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムのような炭酸塩；水素化カリウム、
水素化ナトリウムのような金属水素化物などから１種又
は２種以上が適宜選択されるが、特に炭酸カリウムが望
ましい。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいず
れのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類；ジメチル
スルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジ
ン、ヘキサメチルホスホリックトリアミドのような極性
非プロトン性溶媒などから１種又は２種以上が適宜選択
されるが、特にヘキサメチルホスホリックトリアミドが
望ましい。反応〔Ｈ〕中の縮合反応の反応温度は、通常
−２０〜＋１５０℃、望ましくは−１５〜＋６０℃であ
り、反応時間は、通常０．１〜２４時間、望ましくは
０．１〜１０時間である。尚、この反応〔Ｈ〕中の環化
反応によって製造することができる式（IX）で表わされ
る化合物は、本発明化合物を製造するための有用かつ新
規な中間体化合物である。

【００３９】本発明化合物及びそれを製造するための中
間体化合物には、以下のごとき異性体が存在するが、本
発明には、このような各種異性体（各異性体化合物及び
異性体混合物）も含まれる。

【００４０】（１）前記式（Ｉ）で表わされる本発明化
合物中のＲ₂が水素原子である化合物並びに前記式（I
I）及び（IX）で表わされる中間体化合物には、各々以
下に示すような互変異性体が存在する。

【００４１】

【化３１】

【００４２】（式中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の
通りである）

【００４３】（２）前記式（Ｉ）で表わされる本発明化
合物並びに前記式（II）、（IV）、（VIII）及び（IX）
で表わされる中間体化合物の中で、ｌが１以上である化
合物には、光学異性体が存在する。以下にその一例を記
載するが、本発明における光学異性体は、これらのみに
限定されるものではない。

【００４４】

【化３２】

【００４５】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₄、Ｘ、Ｚ及びｎ
は前述の通りである）尚、本願明細書においては、特に記載しない限り、この
光学異性体については、異性体混合物（ラセミ体）とし
て記載する。

【００４６】（３）前記式（Ｉ）で表わされる本発明化
合物中のＲ₂が−Ａ−Ｒ₃基であり、且つＲ₃が置換さ
れてもよいアルケニル基である化合物には、幾何異性体
（Ｅ体−Ｚ体）が存在する。

【００４７】本発明化合物は、除草剤の有効成分として
使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲
は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農
道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわた
り、適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。

【００４８】本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシ
バ、エノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバンモ
ロコシ、シバムギ、ビロードキビ、パラグラス、アゼガ
ヤ、イトアゼガヤなどのイネ科雑草、コゴメガヤツリ、
ハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツリ、タマガヤツリ、マ
ツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科雑草、ウリカ
ワ、オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科雑草、コ
ナギ、ミズアオイなどのミズアオイ科雑草、アゼナ、ア
ブノメなどのゴマノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミ
ソハギなどのミソハギ科雑草の他、イチビ、マルバアサ
ガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒユ、アオ
ビユ、アオゲイトウ、エビスグサ、イヌホウズキ、サナ
エタデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナ、ホトケノ
ザ、エノキグサなどの広葉雑草などの有害雑草を防除す
ることができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダ
イズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソル
ガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、
芝、ピーナッツ、アマなどの栽培において選択的に有害
雑草を防除する場合或は非選択的に有害雑草を防除する
場合において有効に使用される。特に本発明化合物は、
トウモロコシ、コムギ、イネなどの栽培、その中でもト
ウモロコシの栽培において選択的に有害雑草を防除する
場合において有効に使用される。

【００４９】本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と
を混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁
剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤など
の形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の
目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられてい
るあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用す
る補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、
タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、
カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナ
トリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担
体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオ
キサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケト
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、アルコールなどの溶剤；脂肪酸塩、安息香酸
塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハ
ク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、
アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジ
グリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル
塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン
酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチ
レンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキ
ルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰
イオン系の界面活性剤や展着剤；ソルビタン脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセラ
イド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセ
チレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアル
キレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポ
リオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポ
リオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系
の界面活性剤や展着剤；オリーブ油、カポック油、ひま
し油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ
油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜
麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油
などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸
脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選ん
で用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防
止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤な
ど通常使用される各種補助剤も使用することができる。
本発明化合物と各種補助剤との配合割合は０．１：９
９．９〜９５：５、望ましくは０．２：９９．８〜８
５：１５である。

【００５０】本発明化合物を含有する除草剤の施用量
は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、
施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般
に１ヘクタール当り本発明化合物が０．５〜５０００
ｇ、望ましくは１〜１０００ｇ、さらに望ましくは５〜
５００ｇとなるように施用する。本発明には、このよう
な除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。

【００５１】また、本発明化合物を含有する除草剤は、
他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用するこ
とができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すこ
とがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物
質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本
発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の１種又は２
種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用
草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方
向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他
の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを
散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使
用してもよい。本発明には、それらの混合除草性組成物
も含まれる。

【００５２】本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合
物との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形
態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定で
きないが、本発明化合物１重量部に対し、他の除草剤は
有効成分化合物を１種あたり０．００１〜１００００重
量部、望ましくは０．０１〜１０００重量部配合する。
また、施用適量は１ヘクタール当りの総有効成分化合物
量として０．１〜１００００ｇ、望ましくは０．２〜５
０００ｇである。本発明には、このような除草性組成物
の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。

【００５３】他の除草剤の有効成分化合物としては、下
記するもの（一般名）が例示できるが、特に記載がない
場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等
が存在する場合は、当然それらも含まれる。

【００５４】（１）２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、
ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）のような
フェノキシ系、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（ｄｉｃ
ａｍｂａ）、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、クロピ
ラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）のような芳香族カルボ
ン酸系、その他ベナゾリン（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ）、キ
ンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック
（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、ダイフルフェンゾピル（ｄｉ
ｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）などのように植物のオーキシ
ン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているも
の。

【００５５】（２）ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュ
ロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐ
ｒｏｔｕｒｏｎ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚ
ｕｒｏｎ）のような尿素系、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎ
ｅ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アトラトン
（ａｔｒａｔｏｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙ
ｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメ
トリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン
（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂ
ｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉ
ｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）のようなトリア
ジン系、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、レナシル
（ｌｅｎａｃｉｌ）のようなウラシル系、プロパニル
（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、シプロミッド（ｃｙｐｒｏｍｉ
ｄ）のようなアニリド系、スエップ（ｓｗｅｐ）、フェ
ンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）のような
カーバメート系、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉ
ｌ）、ブロモキシニル・オクタノエート（ｂｒｏｍｏｘ
ｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、アイオキシニル（ｉ
ｏｘｙｎｉｌ）のようなヒドロキシベンゾニトリル系、
その他ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、ベンタゾン
（ｂｅｎｔａｚｏｎ）などのように植物の光合成を阻害
することで除草効力を示すとされているもの。

【００５６】（３）それ自身が植物体中でフリーラジカ
ルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示
すとされているパラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジク
ワット（ｄｉｑｕａｔ）のような４級アンモニウム塩
系。

【００５７】（４）ニトロフェン（ｎｉｔｒｏｆｅ
ｎ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆ
ｅｎ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、アシフル
オルフェンナトリウム塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓ
ｏｄｉｕｍ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、
オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）のよ
うなジフェニルエーテル系、クロルフタリム（ｃｈｌｏ
ｒｐｈｔｈａｌｉｍ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉ
ｏｘａｄｉｎｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕ
ｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、メチル〔２−ク
ロロ−４−フルオロ−５−（５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−３−オキソ−１Ｈ，３Ｈ−〔１，３，４〕チアジ
アゾロ〔３，４−ａ〕ピリダジン−１−イリデンアミ
ノ）フェニルチオ〕アセテート（日本農薬学会第１９回
大会講演要旨集、６０頁に記載の化合物）のような環状
イミド系、その他オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏ
ｎ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎ
ｅ）、カーフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａ
ｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａ
ｚｉｍｉｎ）、エチル２−クロロ−５−（４−クロロ
−５−ジフルオロメトキシル−１−メチルピラゾール−
３−イル）−４−フルオロフェノキシアセテート（日本
農薬学会第２１回大会講演要旨集、７０〜７１頁に記載
の化合物）などのように植物のクロロフィル生合成を阻
害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させるこ
とで除草効力を示すとされているもの。

【００５８】（５）ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａ
ｚｏｎ）、メトフルラゾン（ｍｅｔｆｌｕｒａｚｏｎ）
のようなピリダジノン系、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏ
ｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅ
ｎ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）のよ
うなピラゾール系、その他フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏ
ｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフ
ルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、メトキシ
フェノン（ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｏｎｅ）、クロマゾ
ン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃ
ｏｔｒｉｏｎｅ）、２−（２´−ニトロ−４´−メチル
スルホニルベンゾイル）−１，３−シクロヘキサンジオ
ン（米国特許第５５０６１９５号に記載の化合物）、イ
ソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ジフ
ェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）などのように
カロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作
用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。

【００５９】（６）ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆ
ｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリフェノップナトリウム塩
（ｐｙｒｉｐｈｅｎｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、フルアジホ
ップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロ
キシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙ
ｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅ
ｔｈｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ
−ｂｕｔｙｌ）のようなアリールオキシフェノキシプロ
ピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩（ａｌｌｏｘｙ
ｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレソジム（ｃｌｅｔｈｏｄ
ｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、トラ
ルコキジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）のようなシクロ
ヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的に除
草効力が強く認められるもの。

【００６０】（７）クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉ
ｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、スルホメツロンメチル（ｓ
ｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プリミスル
フロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈ
ｙｌ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏ
ｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓ
ｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、シノスルフロン（ｃｉ
ｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐ
ｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、アジムス
ルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフ
ロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン
（ｒｉｍｕｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ニコスルフロン（ｎｉ
ｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚ
ｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃ
ｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、プロスルフロン（ｐｒｏ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙ
ｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリスルフロンメチル（ｔｒｉ
ｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロスルフロンメ
チル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チ
フェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏ
ｎ−ｍｅｔｈｙｌ）のようなスルホニルウレア系、フル
メツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍ
ｅｔｏｓｕｌａｍ）のようなトリアゾロピリミジンスル
ホンアミド系、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマ
ゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマザキン（ｉ
ｍａｚａｑｕｉｎ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏ
ｘ）、イマザメス（ｉｍａｚａｍｅｔｈ）、イマザメタ
ベンズ（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ）のようなイミ
ダゾリノン系、ピリチオバックナトリウム塩（ｐｙｒｉ
ｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナト
リウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピ
リミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔ
ｈｙｌ）のようなピリミジニルサリチル酸系、その他グ
リホサートアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ａ
ｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートイソプロピルアミン塩
（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉ
ｎｅ）、グルホシネートアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓ
ｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、ビアラホス（ｂｉａ
ｌａｐｈｏｓ）などのように植物のアミノ酸生合成を阻
害することで除草効力を示すとされているもの。

【００６１】（８）トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａ
ｌｉｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、ニトラリ
ン（ｎｉｔｒａｌｉｎ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄ
ｉｍｅｔｈａｌｉｎ）のようなジニトロアニリン系、ア
ミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙ
ｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、アニロホス
（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈ
ｏｓ）のような有機リン系、クロルプロファム（ｃｈｌ
ｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、バーバン（ｂａｒｂａｎ）のよ
うなフェニルカーバメート系、ダイムロン（ｄａｉｍｕ
ｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ブロモ
ブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）のようなクミルアミ
ン系、その他アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、ジチオピル
（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）などのように植物の細胞有糸分
裂を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

【００６２】（９）ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌ
ａｔｅ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペ
レート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、エスプロカルブ
（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、チオベンカルブ（ｔｈｉｏｂ
ｅｎｃａｒｂ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃ
ａｒｂ）のようなチオカーバメート系、アラクロール
（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌ
ｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏ
ｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、テ
ニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ジメテナミ
ド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、アセトクロール（ａ
ｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃ
ｈｌｏｒ）のようなクロロアセトアミド系、その他エト
ベンザニド（ｅｔｈｏｂｅｎｚａｎｉｄｅ）、メフェナ
セット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、チアフルアミド（ｔｈ
ｉａｆｌｕａｍｉｄｅ）、トリディファン（ｔｒｉｄｉ
ｐｈａｎｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒ
ｏｌｅ）、４−（２−クロロフェニル）−Ｎ−シクロヘ
キシル−４，５−ジヒドロ−Ｎ−エチル−５−オキソ−
１Ｈ−テトラゾール−１−カルボキシアミド（特開平６
−３０６０６１号公報に記載の化合物）、オキサジクロ
メフォン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎ）、２−エチル
−２−〔２−（３−クロロフェニル）−２，３−エポキ
シプロピル〕−インダン−１，３−ジオン（特開平２−
３０４０４３号公報に記載の化合物）などのように植物
のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害すること
で除草効力を示すとされているもの。

【００６３】また本発明化合物は後記試験例１及び２に
見られるとおり、イネ、コムギ、トウモロコシなどの作
物に対し安全性を有し、且つ、雑草を良好に防除できる
選択性を示すものを含むが、本発明化合物を前記作物栽
培において使用する際、前記他の除草剤の有効成分化合
物の中、例えば次のごとき化合物１種又は２種以上と混
用或は併用すれば相乗効果が得られることもある。イネの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、ナプロ
アニリド、キンクロラック、シメトリン、プロメトリ
ン、ジメタメトリン、プロパニル、スエップ、ベンタゾ
ン、ニトロフェン、クロメトキシフェン、ビフェノック
ス、オキサジアゾン、ピラゾレート、ピラゾキシフェ
ン、ベンゾフェナップ、メトキシフェン、シハロホップ
ブチル、ベンスルフロンメチル、シノスルフロン、ピラ
ゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフ
ロン、シクロスルファムロン、ビスピリバックナトリウ
ム塩、ピリミノバックメチル、アニロホス、ピペロホ
ス、ダイムロン、クミルロン、ブロモブチド、ジチオピ
ル、モリネート、ジメピペレート、エスプロカルブ、チ
オベンカルブ、ピリブチカルブ、テニルクロール、プレ
チラクロール、ブタクロール、エトベンザニド、メフェ
ナセット、カフェンストロール、４−（２−クロロフェ
ニル）−Ｎ−シクロヘキシル−４，５−ジヒドロ−Ｎ−
エチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−カルボ
キシアミド、オキサジクロメフォン、２−エチル−２−
〔２−（３−クロロフェニル）−２，３−エポキシプロ
ピル〕−インダン−１，３−ジオントウモロコシの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ジカン
バ、クロピラリド、ベナゾリン、ダイフルフェンゾピ
ル、ジウロン、リニュロン、メトベンズロン、シマジ
ン、アトラジン、アトラトン、メトリブジン、テルブチ
ラジン、シアナジン、アメトリン、シプロミッド、ブロ
モキシニル、ブロモキシニル・オクタノエート、ピリデ
ート、ベンタゾン、パラコート、オキシフルオルフェ
ン、フルミクロラックペンチル、メチル〔２−クロロ
−４−フルオロ−５−（５，６，７，８−テトラヒドロ
−３−オキソ−１Ｈ，３Ｈ−〔１，３，４〕チアジアゾ
ロ〔３，４−ａ〕ピリダジン−１−イリデンアミノ）フ
ェニルチオ〕アセテート、フルリドン、スルコトリオ
ン、２−（２’−ニトロ−４’−メチルスルホニルベン
ゾイル）−１，３−シクロヘキサンジオン、イソキサフ
ルトール、カーフェントラゾンエチル、プリミスルフロ
ンメチル、リムスルフロン、ニコスルフロン、プロスル
フロン、ハロスルフロンメチル、チフェンスルフロンメ
チル、フルメツラム、メトスラム、イマゼタピル、グリ
ホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルア
ミン塩、グルホシネートアンモニウム塩、トリフルラリ
ン、ペンディメタリン、ＥＰＴＣ、ブチレート、アラク
ロール、メトラクロール、アセトクロール、プロパクロ
ール、ジメテナミド、トリディファンコムギの栽培；ＭＣＰＢ、キンメラック、リニュロン、
イソプロチュロン、プロメトリン、ブロモキシニル、ブ
ロモキシニル・オクタノエート、ピリデート、ビフェノ
ックス、カーフェントラゾンエチル、チジアジミン、エ
チル２−クロロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロ
メトキシル−１−メチルピラゾール−３−イル）−４−
フルオロフェノキシアセテート、フルルタモン、ジフル
フェニカン、スルコトリオン、ジクロホップメチル、ト
ラルコキジム、クロルスルフロン、メトスルフロンメチ
ル、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、フルメツ
ラム、メトスラム、ペンディメタリン、バーバン、イマ
ザメタベンズ

【００６４】以下に本発明の望ましい態様を記載する。（１）前記式（Ｉ）のピラゾール系化合物又はその塩。（２）前記式（Ｉ）が式（Ｉ’）；

【００６５】

【化３３】

【００６６】であり、Ｒ₁がアルキル基であり、Ｒ₂が
水素原子又は−Ａ−Ｒ₃基であり、Ａが−ＳＯ₂−基、
−ＣＯ−基、−ＣＨ₂−基又は−ＣＨ₂ＣＯ−基であ
り、Ｒ₃が置換されてもよいアルキル基、置換されても
よいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、シ
アノ基又は置換されてもよいフェニル基であり、Ｘ₁、
Ｘ₂及びＸ₃がそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
ニトロ基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）Ｓ
Ｏ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂
Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃
がそれぞれアルキル基であり、ｑが０〜２の整数であ
る、前記（１）のピラゾール系化合物又はその塩。（３）Ａが−ＳＯ₂−基、−ＣＨ₂−基又は−ＣＨ₂Ｃ
Ｏ−基であり、Ｘ₁、Ｘ₂及びＸ₃がそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、
アルキルスルホニル基又はニトロ基である、前記（２）
のピラゾール系化合物又はその塩。（４）Ｘ₁がアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基
又はアルキルスルホニル基であり、Ｘ₂及びＸ₃がそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキ
ル基又はニトロ基である、前記（３）のピラゾール系化
合物又はその塩。（５）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草
剤。（６）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の有効成分量を施用する有害雑
草の防除方法。（７）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の有効成分量を畑に施用する有
害雑草の防除方法。（８）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の有効成分量をトウモロコシ畑
に施用する有害雑草の防除方法。（９）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の有効成分量をコムギ畑に施用
する有害雑草の防除方法。（10）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の有効成分量を水田に施用する
有害雑草の防除方法。（11）前記（１）、（２）、（３）又は（４）のピラゾ
ール系化合物又はその塩の少なくとも１種と、他の除草
剤の有効成分化合物の少なくとも１種とを含有する混合
除草性組成物。（12）前記式（II）の化合物。（13）ｌが０である前記（12）の化合物。（14）前記式（IV）の化合物。（15）ｌが０である前記（14）の化合物。（16）前記式（IV）が式（IV’）；

【００６７】

【化３４】

【００６８】であり、Ｒ₁がアルキル基であり、Ｘ₁、
Ｘ₂及びＸ₃がそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
ニトロ基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）Ｓ
Ｏ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂
Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃
がそれぞれアルキル基であり、ｑが０〜２の整数であ
る、前記（14）の化合物。（17）Ｘ₁、Ｘ₂及びＸ₃がそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルス
ルホニル基又はニトロ基である、前記（16）の化合物。（18）Ｘ₁がアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基
又はアルキルスルホニル基であり、Ｘ₂及びＸ₃がそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキ
ル基又はニトロ基である、前記（17）の化合物。

【００６９】

【実施例】次に本発明の実施例を記載するが、本発明は
これらに限定されるものではない。まず本発明化合物の
合成例を記載する。

【００７０】合成例１３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−
２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−
１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ−１１）及
び３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル
−２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−メチル−５
−ピラゾリルパラトルエンスルホネート（後記化合物
Ｎｏ．ａ−１２）の合成（その１）

【００７１】１）３−シクロプロピル−３−オキソプ
ロピオン酸ターシャリーブチル５．５３ｇをテトラヒ
ドロフラン３０ｍｌに溶解させた溶液に、室温でメチル
ヒドラジン１．４ｇを加え、還流下で約２時間反応させ
た。反応終了後、減圧下でテトラヒドロフランを留去
し、粗製の３−シクロプロピル−５−ヒドロキシ−１−
メチルピラゾール（後記中間体Ｎｏ．１ａ−１）４．１
４ｇを得た。このものの融点は９５〜１２１℃を示し、
ＮＭＲスペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．７６〜０．８（ｍ，２Ｈ），０．９〜０．９９
（ｍ，２Ｈ），１．７４〜１．８１（ｍ，１Ｈ），３．
０６（ｓ），３．２６（ｓ，３Ｈ），４．６（ｂｓ）

【００７２】２）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾール１ｇをトル
エン３０ｍｌに溶解させた溶液に、炭酸ナトリウム０．
４１ｇを水３０ｍｌに溶解させた溶液を加え５分間撹拌
した。この中へ、あらかじめ４−トリフルオロメチル−
２−メチルチオ安息香酸１．５２ｇ、塩化チオニル５ｍ
ｌ及び触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを混合
し、還流下１時間反応させた後過剰の塩化チオニル等を
留去して合成した４−トリフルオロメチル−２−メチル
チオベンゾイルクロライドを加え５０℃で１時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を冷却して水中に投入
し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒
を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、油状の３−シクロプロピル
−１−メチル−５−ピラゾリル４−トリフルオロメチ
ル−２−メチルチオベンゾエート（後記中間体Ｎｏ．２
ａ−１６）０．８ｇを得た。このもののＮＭＲスペクト
ルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．６９〜０．７３（ｍ，２Ｈ），０．８６〜０．
９１（ｍ，２Ｈ），１．８５〜１．９２（ｍ，１Ｈ），
２．５３（ｓ，３Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），５．９
４（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｄ，１Ｈ），７．５３
（ｓ，１Ｈ），８．２４（ｄ，１Ｈ）

【００７３】３）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−１−メチル−５−ピラゾリル４−トリフルオロメ
チル−２−メチルチオベンゾエート０．７５ｇを塩化メ
チレン３０ｍｌに溶解させた溶液に、室温でメタクロロ
過安息香酸０．９１ｇを分割投入し、室温から４０℃の
範囲内で１時間反応させた。反応終了後、反応混合物を
水中に投入し、塩化メチレンで抽出した。得られた塩化
メチレン層を希アルカリで洗浄し、次いで水洗した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、融点９９〜１０２℃の３−シクロプロピル
−１−メチル−５−ピラゾリル４−トリフルオロメチ
ル−２−メチルスルホニルベンゾエート（後記中間体Ｎ
ｏ．２ａ−５）０．７５ｇを得た。このもののＮＭＲス
ペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．７３〜０．７７（ｍ，２Ｈ），０．８６〜０．
９４（ｍ，２Ｈ），１．８７〜１．９３（ｍ，１Ｈ），
２．０５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），５．９
５（ｓ，１Ｈ），８．０（ｄ，１Ｈ），８．０６（ｄ，
１Ｈ），８．４７（ｓ，１Ｈ）

【００７４】４）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−１−メチル−５−ピラゾリル４−トリフルオロメ
チル−２−メチルスルホニルベンゾエート０．７ｇ、無
水炭酸カリウム０．３ｇ、トルエン２５ｍｌ及びＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド５ｍｌの混合物をディーンスタ
ーク共沸脱水装置を用いた共沸脱水条件下で１時間反応
させた。反応終了後、反応混合物を冷却して水中投入
し、酢酸エチルで水層を洗浄した。該水層を濃塩酸を用
いて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後減圧下で酢酸エチルを留去して粗生成物である
アメ状の目的物、３−シクロプロピル−４−（４−トリ
フルオロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−
５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎ
ｏ．ａ−１１）０．６５ｇを得た。このもののＮＭＲス
ペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．４２〜０．４５（ｍ，２Ｈ），０．７２〜０．
８１（ｍ，２Ｈ），０．９５〜１．０５（ｍ，１Ｈ），
３．３４（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），７．７
３（ｄ，１Ｈ），８．０（ｄ，１Ｈ），８．４（ｓ，１
Ｈ）尚、前記した粗生成物であるアメ状の３−シクロプロピ
ル−４−（４−トリフルオロメチル−２−メチルスルホ
ニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾ
ールの融点は、８３〜９３℃であった。

【００７５】５）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−４−（４−トリフルオロメチル−２−メチルスルホ
ニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾ
ール０．３ｇ、無水炭酸カリウム０．１１８ｇ、テトラ
エチルアンモニウムブロマイド０．００２ｇ、トルエン
２０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌの混
合物中にパラトルエンスルホニルクロライド０．１５５
ｇを加え、４０〜５０℃の範囲内で撹拌下約１時間反応
させた。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、酢酸
エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を水洗し、さ
らに飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下で酢酸エチルを留去した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、アメ
状の目的物、３−シクロプロピル−４−（４−トリフル
オロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−
メチル−５−ピラゾリルパラトルエンスルホネート
（後記化合物Ｎｏ．ａ−１２）０．３ｇを得た。このも
ののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．５２〜０．５６（ｍ，２Ｈ），０．８〜０．８
４（ｍ，２Ｈ），１．４８〜１．５５（ｍ，１Ｈ），
２．４７（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．６
５（ｓ，３Ｈ），７．３７（ｄ，２Ｈ），７．５８
（ｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，２Ｈ），７．８９（ｄ，
１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ）尚、前記したアメ状の３−シクロプロピル−４−（４−
トリフルオロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイ
ル）−１−メチル−５−ピラゾリルパラトルエンスル
ホネートの融点は、６７〜７０℃であった。

【００７６】合成例２３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−
２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−
１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ−１１）及
び３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル
−２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−メチル−５
−ピラゾリルパラトルエンスルホネート（後記化合物
Ｎｏ．ａ−１２）の合成（その２）

【００７７】１）３−シクロプロピル−１−メチル−
５−ピラゾリル４−トリフルオロメチル−２−メチル
スルホニルベンゾエート（後記中間体Ｎｏ．２ａ−５）
３．８８ｇ、無水炭酸カリウム１．５２ｇ、トルエン１
００ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌの
混合物をディーンスターク共沸脱水装置を用いた共沸脱
水条件下で１時間反応させた。反応終了後、反応混合物
を冷却して水中投入し、分液した。得られた水層を濃塩
酸を用いて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。得られた
酢酸エチル層を水洗、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下で酢酸エチルを留去
して粗生成物であるアメ状の３−シクロプロピル−４−
（４−トリフルオロメチル−２−メチルスルホニルベン
ゾイル）−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾール３．
８８ｇを得た。このものを放置することによって溶媒を
十分に取り除き、融点１５３〜１５７℃である目的物、
３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−
２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−
１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ−１１）の
結晶を得た。

【００７８】２）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−４−（４−トリフルオロメチル−２−メチルスルホ
ニルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾ
ールの結晶０．７ｇ、無水炭酸カリウム０．２７ｇ、テ
トラエチルアンモニウムブロマイド０．００５ｇ、トル
エン２０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌ
の混合物中にパラトルエンスルホニルクロライド０．３
６ｇを加え、４０〜５０℃の範囲内で攪拌下約１．５時
間反応させた。反応終了後、反応混合物を水中に投入
し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、
減圧下で酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、融点１３５
〜１３８℃である目的物、３−シクロプロピル−４−
（４−トリフルオロメチル−２−メチルスルホニルベン
ゾイル）−１−メチル−５−ピラゾリルパラトルエン
スルホネート（後記化合物Ｎｏ．ａ−１２）の結晶０．
７ｇを得た。

【００７９】合成例３３−シクロプロピル−４−（２，４−ジクロロ−３−メ
チルベンゾイル）−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾ
ール（後記化合物Ｎｏ．ａ−８）の合成

【００８０】１）３−シクロプロピル−５−ヒドロキ
シ−１−メチルピラゾール（後記中間体Ｎｏ．１ａ−
１）２．７６ｇ及び２，６−ジクロロトルエン３．９ｇ
を、１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ中に仕込み撹拌下
この中へ５０℃以下で無水塩化アルミニウム６．７ｇを
分割投入した。投入後３５〜４０℃の範囲内で１０〜１
５分間撹拌した後、四塩化炭素４．０ｇを１，２−ジク
ロロエタン４ｍｌに溶解させた溶液を同温度で滴下し、
滴下終了後４０〜４５℃で１．５時間反応させた。反応
終了後、反応混合物を氷水１５０ｍｌ中に投入し、１，
２−ジクロロエタン層を分液した。

【００８１】２）ここへ水０．５ｍｌを投入し、５０
℃まで昇温して濃硫酸３．５ｍｌを徐々に滴下し、滴下
終了後還流条件下で１．５時間反応させた。反応終了
後、反応混合物を放冷し、この中へ水１５０ｍｌを加え
て分液した。得られた１，２−ジクロロエタン層を水洗
した後、３．５ｇの水酸化ナトリウムを１００ｍｌの水
に溶解させたアルカリ水で抽出した。次いでこの中へ５
０％硫酸を加えて弱酸性とし、塩化メチレンで抽出し
た。得られた塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下で塩化メチレンを留去して融点１１２〜１
１５℃の目的物３．５ｇを得た。このもののＮＭＲスペ
クトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．６６〜０．７１（ｍ，２Ｈ），０．９３〜０．
９９（ｍ，２Ｈ），１．１５〜１．２２（ｍ，１Ｈ），
２．７２ (ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），７．３
４（ｄ，１Ｈ），７．５７（ｄ，１Ｈ）

【００８２】合成例４４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−３−シクロプロ
ピル−１−エチル−５−ヒドロキシピラゾール（後記化
合物Ｎｏ．ａ−１８）の合成

【００８３】１）３−シクロプロピル−３−オキソプ
ロピオン酸ターシャリーブチル５ｇを無水テトラヒド
ロフラン３０ｍｌに溶解させた溶液に、無水ヒドラジン
０．８７ｇを無水テトラヒドロフラン５ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、還流下で１時間反応させた。反応終了
後、減圧下でテトラヒドロフラン等を留去し、融点２１
３〜２１７℃の３−シクロプロピル−５−ヒドロキシピ
ラゾール（後記中間体Ｎｏ．３−１）３．３ｇを得た。
このもののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りであ
る。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；重ＤＭＳ
Ｏ〕０．５７〜０．６１（ｍ，２Ｈ），０．８１〜０．
８６（ｍ，２Ｈ），１．７０〜１．７７（ｍ，１Ｈ），
５．１（ｓ，１Ｈ），１０．１６（ｂｓ，１Ｈ）

【００８４】２）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−５−ヒドロキシピラゾール１．６１ｇと無水炭酸カ
リウム１．８９ｇをヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド２０ｍｌに溶解させた溶液とを混合したものを０〜２
℃の範囲内に冷却し、この中へ０〜５℃の範囲内でヨー
ドエタンを約１５分間かけて滴下した。その後、同温度
で１時間反応させ、次いで室温〜４０℃の範囲内で１時
間さらに反応させた。

【００８５】３）ここへ室温で２，４−ジクロロベン
ゾイルクロライド２．７２ｇを投入し、同温度で０．５
時間反応させ、次いで４０℃で０．５時間さらに反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、トルエ
ンで抽出した。得られたトルエン層を十分水洗し、飽和
食塩水で洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。そ
の後、減圧下でトルエンを留去し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、融点６１
〜６３℃の３−シクロプロピル−１−エチル−５−ピラ
ゾリル２，４−ジクロロベンゾエート（後記中間体Ｎ
ｏ．２ａ−７）１．２ｇを得た。このもののＮＭＲスペ
クトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．６９〜０．７３（ｍ，２Ｈ），０．８７〜０．
９（ｍ，２Ｈ），１．４（ｔ，３Ｈ），１．８５〜１．
９２（ｍ，１Ｈ），４．０２〜４．０８（ｑ，２Ｈ），
５．９２（ｓ，１Ｈ），７．３９（ｄ，１Ｈ），７．５
５（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｄ，１Ｈ）４）前工程で得られた３−シクロプロピル−１−エチ
ル−５−ピラゾリル２，４−ジクロロベンゾエート
１．１ｇを用い、前記合成例１の工程４）に準じて融点
７４〜７７℃の目的物０．８４３ｇを得た。

【００８６】合成例５３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−
２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−メチル−５−
ピラゾリルベンゼンスルホネート（後記化合物Ｎｏ．
ａ−２７）の合成

【００８７】１）３−シクロプロピル−１−メチル−
５−ピラゾリル４−トリフルオロメチル−２−メチル
スルホニルベンゾエート（後記中間体Ｎｏ．２ａ−５）
０．５７ｇ、トルエン２０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１ｍｌをナスフラスコに仕込み、そこへ炭酸
カリウム０．１１ｇを添加し、共沸脱水条件下で１５時
間反応させて、３−シクロプロピル−４−（４−トリフ
ルオロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−５
−ヒドロキシ−１−メチルピラゾールのカリウム塩を含
む反応混合物を得た。

【００８８】２）前工程で得られた反応混合物を放冷
し、系内にテトラエチルアンモニウムクロライド０．１
ｇ及びヨウ化カリウム０．１ｇ、次いでベンゼンスルホ
ニルクロライド０．２７ｇを添加し、５５℃にて５．５
時間撹拌下に反応させた。反応終了後、反応混合物を水
中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。得られ
た有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで濃縮し
た後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
て融点１７５〜１７８℃の目的物０．４９ｇを得た。こ
のもののＮＭＲスペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．４６〜０．５０（ｍ，２Ｈ），０．７３〜０．
８１（ｍ，２Ｈ），１．３３〜１．４１（ｍ，１Ｈ），
３．２７（ｓ，３Ｈ），３．６３（ｓ，３Ｈ），７．５
３〜７．５８（ｍ，３Ｈ），７．７（ｔ，１Ｈ），７．
８５（ｄ，１Ｈ），７．９６（ｄ，２Ｈ），８．２７
（ｓ，１Ｈ）

【００８９】合成例６３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−
２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−メチル−５−
ピラゾリルｎ−プロパンスルホネート（後記化合物Ｎ
ｏ．ａ−８９）の合成

【００９０】３−シクロプロピル−４−（４−トリフル
オロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−
ヒドロキシ−１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．
ａ−１１）０．４ｇ、トルエン２０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブ
ロマイド５ｍｇ及びｎ−プロパンスルホニルクロライド
０．１６ｇの混合物を４０℃にて約１２時間攪拌下に反
応させた。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、酢
酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
で酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製して融点１２８〜１３
１℃の目的物０．３４ｇを得た。このもののＮＭＲスペ
クトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．４３〜０．５１（ｍ，２Ｈ），０．７８〜０．
８２（ｍ，２Ｈ），１．１２（ｔ，３Ｈ），１．１〜
１．２（ｍ，１Ｈ），２．０〜２．１（ｍ，２Ｈ），
３．３３（ｓ，３Ｈ），３．５３（ｔ，２Ｈ），３．８
２（ｓ，３Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），７．９６
（ｄ，１Ｈ），８．３８（ｓ，１Ｈ）

【００９１】合成例７５−ベンジルオキシ−３−シクロプロピル−４−（４−
トリフルオロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイ
ル）−１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ−９
４）の合成

【００９２】３−シクロプロピル−４−（４−トリフル
オロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−
ヒドロキシ−１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．
ａ−１１）０．４ｇ、無水炭酸カリウム０．１６ｇ、ベ
ンジルトリエチルアンモニウムクロライド５ｍｇ、ヨウ
化カリウム５ｍｇ、トルエン２０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５ｍｌの混合物中にベンジルクロライ
ド０．１４ｇを加え、５０〜７０℃の範囲内で２４時間
攪拌下に反応させた。反応終了後、反応混合物を水中に
投入し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層
を水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で酢
酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製して融点１５４〜１５７℃
の目的物０．２５ｇを得た。このもののＮＭＲスペクト
ルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．６８〜０．７１（ｍ，２Ｈ），０．８５〜０．
８８（ｍ，２Ｈ），１．８〜２．０（ｍ，１Ｈ），３．
３５（ｓ，３Ｈ），３．４２（ｓ，３Ｈ），５．００
（ｓ，２Ｈ），７．１１〜７．１２（ｍ，２Ｈ），７．
２６〜７．３０（ｍ，３Ｈ），７．５８〜７．６０
（ｄ，１Ｈ），７．５８〜７．８８（ｄ，１Ｈ），８．
３４（ｓ，１Ｈ）

【００９３】合成例８５−（２−クロロ−２−プロペニルオキシ）−３−シク
ロプロピル−４−（４−トリフルオロメチル−２−メチ
ルスルホニルベンゾイル）−１−メチルピラゾール（後
記化合物Ｎｏ．ａ−２１３）の合成

【００９４】３−シクロプロピル−４−（４−トリフル
オロメチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−５−
ヒドロキシ−１−メチルピラゾール（後記化合物Ｎｏ．
ａ−１１）０．７７６ｇ、トルエン３０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド４ｍｌ、テトラエチルアンモニウ
ムブロマイド５ｍｇ及び２，３−ジクロロプロペン０．
２４５ｇの混合物を室温にて１時間、次いで６０〜８０
℃にて４時間攪拌下に反応させた。反応終了後、反応混
合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した。得られた
酢酸エチル層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下で酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して融点１
０８〜１１１℃の目的物０．６５ｇを得た。このものの
ＮＭＲスペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．５９〜０．６１（ｍ，２Ｈ），０．８４〜０．
８６（ｍ，２Ｈ），１．６〜１．７（ｍ，１Ｈ），３．
３８（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），４．６８
（ｓ，２Ｈ），５．３７〜５．４（ｄ，２Ｈ），７．６
２（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｄ，１Ｈ），８．３８
（ｓ，１Ｈ）

【００９５】合成例９３−シクロプロピル−１−メチル−４−（２−メチルチ
オ−４−トリフルオロメチルベンゾイル）−５−ヒドロ
キシピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ−８２）、３−シ
クロプロピル−１−メチル−４−（２−メチルチオ−４
−トリフルオロメチルベンゾイル）−５−ピラゾリル
パラトルエンスルホネート（後記化合物Ｎｏ．ａ−７
２）及び３−シクロプロピル−４−（４−トリフルオロ
メチル−２−メチルスルホニルベンゾイル）−１−メチ
ル−５−ピラゾリルパラトルエンスルホネート（後記
化合物Ｎｏ．ａ−１２）の合成

【００９６】１）２００ｍｌのオートクレーブに、後
記合成例１０に準じて合成した４−ヨード−３−メチル
チオベンゾトリフルオライド１．５９ｇ、３−シクロプ
ロピル−５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾール（後記
中間体Ｎｏ．１ａ−１）１．３８ｇ、トリエチルアミン
０．５ｇ、炭酸カリウム３．１ｇ、二塩化ビス（トリフ
ェニルフォスフィン）パラジウム（II）０．２２ｇ及び
ジオキサン４０ｍｌを入れて密封し、オートクレーブ内
を一酸化炭素（圧力：６５ｋｇ／ｃｍ²）で置換した
後、１４０℃で８時間反応させた。反応終了後、溶媒を
留去し、残渣を水に溶解させた後、不溶物を濾別し、濾
液をジクロロメタンで洗浄した。このものを濃塩酸で酸
性（ｐＨ＝１）にし、ジクロロメタンで抽出した。得ら
れた抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
して赤褐色固体の３−シクロプロピル−１−メチル−４
−（２−メチルチオ−４−トリフルオロメチルベンゾイ
ル）−５−ヒドロキシピラゾール（後記化合物Ｎｏ．ａ
−８２）１．５９ｇを得た。

【００９７】２）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−１−メチル−４−（２−メチルチオ−４−トリフル
オロメチルベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾール
１．５９ｇを精製することなく、トルエン２０ｍｌ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌ、パラトルエンス
ルホニルクロライド０．９４ｇ及び炭酸カリウム０．３
４ｇと混合し、６０℃で３時間反応させた。反応終了
後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）で精製し
て３−シクロプロピル−１−メチル−４−（２−メチル
チオ−４−トリフルオロメチルベンゾイル）−５−ピラ
ゾリルパラトルエンスルホネート（後記化合物Ｎｏ．
ａ−７２）０．５３ｇを得た。このもののＮＭＲスペク
トルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕０．７９（ｍ，２Ｈ），０．９０（ｍ，２Ｈ），
１．９７（ｍ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．４
７（ｓ，３Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），７．３２
（ｄ，１Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，
１Ｈ），７．５３（ｄ，２Ｈ）

【００９８】３）前工程で得られた３−シクロプロピ
ル−１−メチル−４−（２−メチルチオ−４−トリフル
オロメチルベンゾイル）−５−ピラゾリルパラトルエ
ンスルホネート０．４６ｇをジクロロメタン１０ｍｌに
溶解させ、そこへ氷冷下で８５％メタクロロ過安息香酸
０．４７ｇを加えた後、室温にもどし攪拌下一晩反応さ
せた。反応終了後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。抽出層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）で精製して３−シクロ
プロピル−４−（４−トリフルオロメチル−２−メチル
スルホニルベンゾイル）−１−メチル−５−ピラゾリル
パラトルエンスルホネート（後記化合物Ｎｏ．ａ−１
２）０．４９ｇを得た。

【００９９】合成例１０４−ヨード−３−メチルチオベンゾトリフルオライドの
合成

【０１００】１）４−クロロ−３−ニトロベンゾトリ
フルオライド４２．２３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド２００ｍｌに溶解させた溶液に、ヨウ化ナトリウム
１２３．８５ｇを加え、１４０℃で１７時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、エーテル
で抽出した。エーテル層を水洗した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、エーテルを留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して４−ヨー
ド−３−ニトロベンゾトリフルオライド４４．１５ｇを
得た。このもののＮＭＲスペクトルデータは以下の通り
である。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕７．５２（ｄｄ，１Ｈ），８．１１（ｓ，１Ｈ），
８．２２（ｄ，１Ｈ）

【０１０１】２）前工程で得られた４−ヨード−３−
ニトロベンゾトリフルオライド３０ｇを酢酸３００ｍｌ
に溶解させた溶液を加熱し、８５〜９５℃で還元鉄２
６．４３ｇを１５分間かけて投入しつつ反応させ、その
後同温度でさらに５分間反応させた。反応終了後、反応
混合物を氷冷し、不溶物をセライトを用いて濾過した。
濾過ケーキを酢酸エチルで十分洗浄し、洗液と濾液を混
合した後、水洗を５回行なった。得られた酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製して油状の３−アミノ−４−ヨードベンゾト
リフルオライド２５．５２ｇを得た。このもののＮＭＲ
スペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕６．７０（ｄｄ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ），
７．７３（ｄ，１Ｈ）

【０１０２】３）前工程で得られた３−アミノ−４−
ヨードベンゾトリフルオライドの一部（５．１ｇ）、ジ
メチルジスルフィド１６．７５ｇ及びクロロホルム８０
ｍｌの溶液に、前工程で得られた３−アミノ−４−ヨー
ドベンゾトリフルオライドの残り（２０．４２ｇ）をク
ロロホルム２０ｍｌに溶解させた溶液と、tert−ブチル
ナイトライト１１．９２ｇとを、２５〜３０℃で同時に
滴下した。滴下終了後室温で１６時間反応させた。反応
終了後、反応混合物に塩化メチレン２００ｍｌを投入
し、ｐＨ１〜２の塩酸水溶液で洗浄した。その後塩化メ
チレン層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、
塩化メチレン及びクロロホルムを減圧留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て油状の目的物１９．８９ｇを得た。このもののＮＭＲ
スペクトルデータは以下の通りである。¹ Ｈ−ＮＭＲ δｐｐｍ〔Ｓｏｌｖｅｎｔ；ＣＤＣｌ
₃〕２．５１（ｓ，３Ｈ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ），
７．２６（ｄ，１Ｈ），７．９０（ｄｄ，１Ｈ）

【０１０３】次に、前記合成例或は前記した本発明化合
物の種々の製造方法に基づいて合成される前記式（II）
で表わされる中間体化合物の代表例を第１表に、前記式
（IV）で表わされる中間体化合物の代表例を第２ａ及び
２ｂ表に、前記式（IX）で表わされる中間体化合物の代
表例を第３表に、そして前記式（Ｉ）で表わされる本発
明化合物の代表例を第４ａ及び４ｂ表に各々挙げる。

【０１０４】

【表１】

【０１０５】

【表２】

【０１０６】

【表３】

【０１０７】

【表４】

【０１０８】

【表５】

【０１０９】

【表６】

【０１１０】

【表７】

【０１１１】

【表８】

【０１１２】

【表９】

【０１１３】

【表１０】

【０１１４】

【表１１】

【０１１５】

【表１２】

【０１１６】

【表１３】

【０１１７】

【表１４】

【０１１８】

【表１５】

【０１１９】

【表１６】

【０１２０】

【表１７】

【０１２１】

【表１８】

【０１２２】

【表１９】

【０１２３】

【表２０】

【０１２４】

【表２１】

【０１２５】

【表２２】

【０１２６】

【表２３】

【０１２７】

【表２４】

【０１２８】

【表２５】

【０１２９】

【表２６】

【０１３０】

【表２７】

【０１３１】

【表２８】

【０１３２】

【表２９】

【０１３３】

【表３０】

【０１３４】

【表３１】

【０１３５】

【表３２】

【０１３６】

【表３３】

【０１３７】

【表３４】

【０１３８】

【表３５】

【０１３９】

【表３６】

【０１４０】

【表３７】

【０１４１】

【表３８】

【０１４２】

【表３９】

【０１４３】

【表４０】

【０１４４】

【表４１】

【０１４５】次に本発明の試験例を記載する。試験例１１／１５０，０００ヘクタールポットに畑作土壌をつ
め、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の
葉令（（１）ノビエ１．３〜２．６葉期、（２）メヒシ
バ１．２〜２．５葉期、（３）アオゲイトウ０．１〜
１．２葉期、（４）アメリカキンゴジカ０．１〜１．２
葉期、（５）マルバアサガオ０．３〜１．３葉期、
（６）オナモミ０．１〜１．８葉期、（７）イネ１．０
〜２．５葉期、（８）コムギ２．２〜２．９葉期、
（９）トウモロコシ１．８〜３．５葉期、（１０）ダイ
ズ初生葉〜０．３葉期）に達したとき、本発明化合物を
通常の製剤方法に準じて調製した水和剤を所定有効成分
量となるように秤量し、１ヘクタール当り５００リット
ルの水に希釈した。更にその希釈液に対して農業用展着
剤を０．１容量％加え、小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後１８〜３０日目に各種植物の生育状態を肉眼
観察し、０ (無処理区と同等）〜１００ (完全枯殺）の
抑草率（％）で除草効果を評価し、第５表の結果を得
た。尚、第５表中の化合物Ｎｏ．は、前記第４ａ及び４
ｂ表における化合物Ｎｏ．と対応する。

【０１４６】

【表４２】

【０１４７】

【表４３】

【０１４８】

【表４４】

【０１４９】

【表４５】

【０１５０】

【表４６】

【０１５１】

【表４７】

【０１５２】

【表４８】

【０１５３】

【表４９】

【０１５４】

【表５０】

【０１５５】試験例２１／１，０００，０００ヘクタールポットに水田土壌を
詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽
く覆土した。その後湛水深０．５〜１ｃｍの状態で温室
内に静置し、２日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。そ
の後湛水深を３〜４ｃｍに保ち、ノビエ及びホタルイが
０．５葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発
明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤の水
希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一
に滴下処理した。また１／１，０００，０００ヘクター
ルポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を３
〜４ｃｍとし、１日後に２葉期のイネ（品種：日本晴）
を移植深３ｃｍに移植した。移植後４日目に本発明化合
物を前述と同様に処理した。薬剤処理後１４日目にノビ
エ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後２
１日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、０ (無処理
区と同等）〜１００(完全枯殺）の抑草率（％）で除草
効果を評価し、第６表の結果を得た。尚、第６表中の化
合物Ｎｏ．は、前記第４ａ及び４ｂ表における化合物Ｎ
ｏ．と対応する。また、第６表中の化合物Ｎｏ．ａ−１
０１以降の化合物（但し、ａ−１３１、ａ−１３２、ａ
−１４５、ａ−１４６及びｂ−１は除く）のイネに対す
る抑草率は、２連制の平均値である。

【０１５６】

【表５１】

【０１５７】

【表５２】

【０１５８】

【表５３】

【０１５９】

【表５４】

【０１６０】

【表５５】

【０１６１】

【表５６】

【０１６２】

【表５７】

【０１６３】

【表５８】

【０１６４】

【表５９】

【０１６５】

【表６０】

【０１６６】次に、本発明の製剤例を記載する。尚、製
剤例中の化合物Ｎｏ．は前記第４ａ及び４ｂ表における
化合物Ｎｏ．と対応する。

【０１６７】製剤例１（１）化合物Ｎｏ．ａ−１２７５重量部（２）ゲロポンＴ−７７１４．５重量部（商品名；ローヌ・プーラン社製）（３）ＮａＣｌ１０重量部（４）デキストリン０．５重量部以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２
０％の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。

【０１６８】製剤例２（１）カオリン７８重量部（２）ラベリンＦＡＮ２重量部（商品名；第一工業製薬（株）製）（３）ソルポール５０３９５重量部（商品名；東邦化学工業（株）製）（４）カープレックス１５重量部（商品名；塩野義製薬（株）製）以上、（１）〜（４）の成分の混合物と化合物Ｎｏ．ａ
−６とを９：１の重量割合で混合して水和剤が得られ
る。

【０１６９】製剤例３（１）ハイフィラーＮｏ．１０３３重量部（商品名；松村産業（株）製）（２）ソルポール５０５０３重量部（商品名；東邦化学工業（株）製）（３）ソルポール５０７３４重量部（商品名；東邦化学工業（株）製）（４）化合物Ｎｏ．ａ−４２６０重量部以上の（１）〜（４）の各成分を混合して水和剤が得ら
れる。

【０１７０】製剤例４（１）化合物Ｎｏ．ａ−２７４重量部（２）ベントナイト３０重量部（３）炭酸カルシウム６１．５重量部（４）トキサノンＧＲ−３１Ａ３重量部（商品名；三洋化成工業（株）製）（５）リグニンスルホン酸カルシウム塩１．５重量部予め粉砕した（１）と、（２）及び（３）とを混合し、
そこへ（４）、（５）及び水を加えて混合し、押出し造
粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。

【０１７１】製剤例５（１）化合物Ｎｏ．ａ−２２３０重量部（２）ジークライト６０重量部（商品名；ジークライト（株）製）（３）ニューカルゲンＷＧ−１５重量部（商品名；竹本油脂（株）製）（４）ニューカルゲンＦＳ−７５重量部（商品名；竹本油脂（株）製）（１）、（２）及び（３）を混合し、粉砕機を通した
後、（４）を加えて混練後、押出し造粒する。その後、
乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。

【０１７２】製剤例６（１）化合物Ｎｏ．ａ−１３２８重量部（２）ソプロポールＦＬ２重量部（商品名；ローヌ・プーラン社製）（３）ソルポール３５５１重量部（商品名；東邦化学工業（株）製）（４）ＩＰソルベント１６２０３２重量部 (商品名；出光石油化学（株）製）（５）エチレングリコール６重量部（６）水３１重量部以上の（１）〜（６）の成分を混合し、湿式粉砕機（ダ
イノーミル）を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐野真喜子滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号石原産業株式会社中央研究所内 (72)発明者磯貝章彦滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号石原産業株式会社中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（Ｉ）；【化１】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｒ₂は水素原子、メ
チル基、−Ａ−Ｒ₃基、置換されてもよいフェニル基、
置換されてもよいピリジル基又はフェニル基で置換され
たアリル基であり、Ａは−ＳＯ₂−基、−ＣＯ−基、−
ＣＨ（Ｒ₆）−基又は−ＣＨ（Ｒ₇）ＣＯ−基であり、
Ｒ₃は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよい
アルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換さ
れてもよいアルコキシ基、シアノ基、ジアルキルアミノ
基又は置換されてもよいフェニル基であり、Ｒ₆及びＲ
₇は水素原子又はアルキル基であり、Ｘは水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、
−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ
₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）qＲ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基
であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれ
ぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル基であり、ｌは０
〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数であり、ｑは０〜
２の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは同一でも相異
なってもよく、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも相異な
ってもよい）で表わされるピラゾール系化合物又はその
塩。
【請求項２】式（Ｉ）が式（Ｉ’）；【化２】であり、Ｒ₁がアルキル基であり、Ｒ₂が水素原子又は
−Ａ−Ｒ₃基であり、Ａが−ＳＯ₂−基、−ＣＯ−基、
−ＣＨ₂−基又は−ＣＨ₂ＣＯ−基であり、Ｒ₃が置換
されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル
基、置換されてもよいアルキニル基、シアノ基又は置換
されてもよいフェニル基であり、Ｘ₁、Ｘ₂及びＸ₃が
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルス
ルフィニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、−Ｓ
Ｏ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−
ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、
Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃がそれぞれアル
キル基であり、ｑが０〜２の整数である、請求項１のピ
ラゾール系化合物又はその塩。
【請求項３】Ａが−ＳＯ₂−基、−ＣＨ₂−基又は−
ＣＨ₂ＣＯ−基であり、Ｘ₁、Ｘ₂及びＸ₃がそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィ
ニル基、アルキルスルホニル基又はニトロ基である、請
求項２のピラゾール系化合物又はその塩。
【請求項４】Ｘ₁がアルキルチオ基、アルキルスルフ
ィニル基又はアルキルスルホニル基であり、Ｘ₂及びＸ
₃がそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロアルキル基又はニトロ基である、請求項３のピラゾー
ル系化合物又はその塩。
【請求項５】式（II）；【化３】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｚはアルキル基であ
り、ｌは０〜５の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは
同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物と、式
（III)；【化４】（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキ
ルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、
アルコキシカルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、
−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基
又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれぞれアルキル基であり、Ｙは
ハロゲン原子であり、ｎは１〜５の整数であり、ｑは０
〜２の整数であり、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも相
異なってもよい）で表わされる化合物とを反応させて式
（IV）；【化５】（式中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りである）
で表わされる化合物を得、このものを用いて転位反応を
行なうことを特徴とする式（Ｉ−１）；【化６】（式中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りである）
で表わされるピラゾール系化合物又はその塩の製造方
法。
【請求項６】式（II）；【化７】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｚはアルキル基であ
り、ｌは０〜５の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは
同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物と、式
（Ｖ）；【化８】（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルスルフィニル基又はアルキルスルホニル基であり、
ｎは１〜５の整数であり、ｎが２以上の場合、Ｘ’は同
一でも相異なってもよい）で表わされる化合物と、四塩
化炭素とを反応させ、次いで加水分解反応を行なうこと
を特徴とする式（Ｉ−１’）；【化９】（式中、Ｒ₁、Ｘ’、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りであ
る）で表わされるピラゾール系化合物又はその塩の製造
方法。
【請求項７】式（II）；【化１０】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｚはアルキル基であ
り、ｌは０〜５の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは
同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物と、式
（VI）；【化１１】（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキ
ルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、
アルコキシカルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、
−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基
又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれぞれアルキル基であり、ｎは
１〜５の整数であり、ｑは０〜２の整数であり、ｎが２
以上の場合、Ｘは同一でも相異なってもよい）で表わさ
れる化合物とを反応させることを特徴とする式（Ｉ−
１）；【化１２】（式中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りである）
で表わされるピラゾール系化合物又はその塩の製造方
法。
【請求項８】式（II）；【化１３】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｚはアルキル基であ
り、ｌは０〜５の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは
同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物と、式
（Ｘ）；【化１４】（式中、Ｔは塩素原子、臭素原子又は沃素原子であり、
Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキ
ル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキ
シカルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ
₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−Ｏ
ＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及
びＲ₁₃はそれぞれアルキル基であり、ｎは１〜５の整数
であり、ｑは０〜２の整数であり、ｎが２以上の場合、
Ｘは同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物
と、一酸化炭素とを反応させることを特徴とする式（Ｉ
−１）；【化１５】（式中、Ｒ₁、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りである）
で表わされるピラゾール系化合物又はその塩の製造方
法。
【請求項９】式（Ｉ−１）；【化１６】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｘは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、
−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ
₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基
であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれ
ぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル基であり、ｌは０
〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数であり、ｑは０〜
２の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは同一でも相異
なってもよく、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも相異な
ってもよい）で表わされる化合物と、式（VII)；Ｙ−Ｒ₂' …（VII) （式中、Ｒ₂'はメチル基、−Ａ−Ｒ₃基、置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいピリジル基又はフェ
ニル基で置換されたアリル基であり、Ａは−ＳＯ₂−
基、−ＣＯ−基、−ＣＨ（Ｒ₆）−基又は−ＣＨ
（Ｒ₇）ＣＯ−基であり、Ｒ₃は置換されてもよいアル
キル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されても
よいアルキニル基、置換されてもよいアルコキシ基、シ
アノ基、ジアルキルアミノ基又は置換されてもよいフェ
ニル基であり、Ｒ₆及びＲ₇は水素原子又はアルキル基
であり、Ｙはハロゲン原子である）で表わされる化合物
とを反応させることを特徴とする式（Ｉ−２）；【化１７】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂'、Ｘ、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りで
ある）で表わされるピラゾール系化合物又はその塩の製
造方法。
【請求項１０】式（IV−１）；【化１８】（式中、Ｒ₁及びＲ₅はそれぞれアルキル基であり、Ｘ
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィ
ニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシ
カルボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ
（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は
−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ
₁₂及びＲ₁₃はそれぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル
基であり、ｌは０〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数
であり、ｑは０〜２の整数であり、ｌが２以上の場合、
Ｚは同一でも相異なってもよく、ｎが３以上の場合、Ｘ
は同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物を酸
化させて式（IV−２）；【化１９】（式中、Ｒ₁、Ｒ₅、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通りであ
り、Ｘ''は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロ
アルキル基、アルコキシ基、アルキルスルフィニル基、
アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカルボニ
ル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂
Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q'Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃
基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそ
れぞれアルキル基であり、ｍは１又は２であり、ｑ' は
１又は２である）で表わされる化合物を得、このものを
用いて転位反応を行なうことを特徴とする式（Ｉ−
４）；【化２０】（式中、Ｒ₁、Ｒ₅、Ｘ''、Ｚ、ｌ、ｍ及びｎは前述の
通りである）で表わされるピラゾール系化合物又はその
塩の製造方法。
【請求項１１】式（Ｉ−６）；【化２１】（式中、Ｒ₁及びＲ₅はそれぞれアルキル基であり、Ｒ
₂'はメチル基、−Ａ−Ｒ₃基、置換されてもよいフェニ
ル基、置換されてもよいピリジル基又はフェニル基で置
換されたアリル基であり、Ａは−ＳＯ₂−基、−ＣＯ−
基、−ＣＨ（Ｒ₆）−基又は−ＣＨ（Ｒ₇）ＣＯ−基で
あり、Ｒ₃は置換されてもよいアルキル基、置換されて
もよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、
置換されてもよいアルコキシ基、シアノ基、ジアルキル
アミノ基又は置換されてもよいフェニル基であり、Ｒ₆
及びＲ₇は水素原子又はアルキル基であり、Ｘは水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、
アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカルボニ
ル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂
Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃
基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそ
れぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル基であり、ｌは
０〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数であり、ｑは０
〜２の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは同一でも相
異なってもよく、ｎが３以上の場合、Ｘは同一でも相異
なってもよい）で表わされる化合物を酸化させることを
特徴とする式（Ｉ−７）；【化２２】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂'、Ｒ₅、Ｚ、ｌ及びｎは前述の通り
であり、Ｘ''は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）Ｓ
Ｏ₂Ｒ₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q'Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂
Ｒ₁₃基であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃
はそれぞれアルキル基であり、ｍは１又は２であり、
ｑ' は１又は２である）で表わされるピラゾール系化合
物又はその塩の製造方法。
【請求項１２】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩を有効成分として含有する除草剤。
【請求項１３】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の有効成分量を施用する有害雑草の防除方法。
【請求項１４】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の有効成分量を畑に施用する有害雑草の防除方法。
【請求項１５】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の有効成分量をトウモロコシ畑に施用する有害雑草
の防除方法。
【請求項１６】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の有効成分量をコムギ畑に施用する有害雑草の防除
方法。
【請求項１７】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の有効成分量を水田に施用する有害雑草の防除方
法。
【請求項１８】請求項１のピラゾール系化合物又はそ
の塩の少なくとも１種と、他の除草剤の有効成分化合物
の少なくとも１種とを含有する混合除草性組成物。
【請求項１９】式（II）；【化２３】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｚはアルキル基であ
り、ｌは０〜５の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは
同一でも相異なってもよい）で表わされる化合物。
【請求項２０】式（IV）；【化２４】（式中、Ｒ₁はアルキル基であり、Ｘは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、
−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₈）Ｒ₉基、−Ｎ（Ｒ₁₀）ＳＯ₂Ｒ
₁₁基、−ＣＨ₂Ｓ（Ｏ）q Ｒ₁₂基又は−ＯＳＯ₂Ｒ₁₃基
であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれ
ぞれアルキル基であり、Ｚはアルキル基であり、ｌは０
〜５の整数であり、ｎは１〜５の整数であり、ｑは０〜
２の整数であり、ｌが２以上の場合、Ｚは同一でも相異
なってもよく、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも相異な
ってもよい）で表わされる化合物。