JPH11167203A - 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント - Google Patents

感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント

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JPH11167203A
JPH11167203A JP9347112A JP34711297A JPH11167203A JP H11167203 A JPH11167203 A JP H11167203A JP 9347112 A JP9347112 A JP 9347112A JP 34711297 A JP34711297 A JP 34711297A JP H11167203 A JPH11167203 A JP H11167203A
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JP
Japan
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meth
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photosensitive resin
acrylate
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Eiji Kosaka
英治 高坂
Shigeru Murakami
滋 村上
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NICHIGOO MOOTON KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度、密着性、解像度、耐メッキ性、テンテ
ィング性に非常に優れた感光性樹脂組成物及びそれを用
いた感光性エレメントを提供すること。 【解決手段】 カルボキシル基を含有するポリマー
(A)、分子内に少なくとも１個以上のエチレン性不飽和
基を有する化合物(B)、光重合開始剤(C)からなる感光性
樹脂組成物において、(B)成分として少なくとも１個以
上のエチレン性不飽和基を有するメタクリレート化合物
(B1)を(B)成分全体に対して60重量％以上含有し、か
つ、(C)成分が(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対し
て0.01〜20重量部であり、更に(C)成分として、ロフィ
ン二量体(C1)を(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対
して2〜5重量部、トリフェニルホスフィン(C2)を0.1〜
2.0重量部を含有してなる感光性樹脂組成物及びそれを
用いた感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びそれを用いた感光性エレメントに関し、更に詳しく
はプリント配線板の製造、金属の精密加工等に用いられ
るエッチングレジスト又はメッキレジストとして優れた
感度、密着性、解像性、耐メッキ性を有する感光性樹脂
組成物及びそれを用いた感光性エレメントに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板等の製造には感光性樹脂
組成物を用いたフォトレジスト法が用いられており、こ
のフォトレジスト法においては、例えば、まず透明なフ
ィルム等の支持体上に感光性樹脂組成物を塗布して感光
性樹脂組成物層を形成した後、この感光性樹脂組成物層
を所望のパターンを形成しようとする基板表面に積層
し、次いで該感光性樹脂組成物層に原画をパターンマス
クを介して露光した後、未露光部分を溶剤又はアルカリ
水溶液による現像処理により除去して、レジスト画像を
形成させ、形成されたレジスト画像を保護マスクとし、
公知のエッチング処理又はパターンメッキ処理を行った
後、レジスト剥離して印刷回路基板を製造する方法が通
常行われる。
【０００３】上記プリント配線板の製造においては、基
板の貫通孔の両側を硬化レジストで覆いエッチングする
テンティング法があり、硬化膜の強度が高いレジストが
要求されたり、メッキ法ではメッキ処理工程でのメッキ
もぐりが無いことや、プリント配線板の高密度化に伴う
基板とパターン形成された硬化部分との接触面積の減少
等のために優れた密着性が要求されたりする。更に、こ
のような製造工程において、生産性向上、時間短縮化の
ために高感度を有することや電子機器の小型、軽量化に
伴いプリント配線板の微細化、高密度化のために高解像
性を有することが必要になっている。
【０００４】これらの要求に対して、特開平３−６２０
２号公報では、２，４，５−トリアリールイミダゾリル
二量体及びｐ−アミノフェニルケトンを含有する光重合
性組成物がテンティング性や密着性に優れること、特開
平９−１０１６１９号公報では、２，４，５−トリアリ
ールイミダゾリル二量体及びｐ−ヒドロキシ安息香酸エ
ステルを含有する光硬化性樹脂組成物がテンティング性
や感度に優れることが提案されている。
【０００５】又、感度や密着性の向上を図る目的で、特
開平９−１７６２５３号公報ではヘキサアリールビイミ
ダゾールと芳香族ケトン（Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−
４、４′−ジアミノベンゾフェノン）及びアリールグリ
シン系化合物（Ｎ−フェニルグリシン）を光重合開始剤
として含有する感光性樹脂組成物が、特開平９−１５８
５６号公報ではイソシアヌル環含有モノマーを含有する
感光性樹脂組成物が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平３−６２０２号公報開示技術では、硬化膜の強度や
耐メッキもぐり性の向上は見られるものの、感度につい
ては低く、満足のいく感光性樹脂組成物ではない。又、
特開平９−１０１６１９号公報開示技術や特開平９−１
７６２５３号公報開示技術では、感度の向上を図ったも
のであるが、最近の技術の高度化、高精密化を考慮する
と感度においてまだまだ満足のいくものではない。更に
特開平９−１７６２５３号公報開示技術では、密着性は
改善されるものの、感度についてはまだ不充分であると
ことが判明した。
【０００７】そこで、本発明ではこのような背景下にお
いて、感度、解像力、密着性、テンティング性、耐メッ
キ性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性
エレメントを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】しかるに本発明者はかか
る課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、カルボキシ
ル基を含有するポリマー（Ａ）、分子内に少なくとも１
個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｂ）、光
重合開始剤（Ｃ）からなる感光性樹脂組成物において、
（Ｂ）成分として少なくとも１個以上のエチレン性不飽
和基を有するメタクリレート化合物（Ｂ１）を（Ｂ）成
分全体に対して６０重量％以上含有し、かつ、（Ｃ）成
分が（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対し
て０．０１〜２０重量部であり、更に（Ｃ）成分とし
て、ロフィン二量体（Ｃ１）を（Ａ）成分と（Ｂ）成分
の合計１００重量部に対して２〜５重量部、トリフェニ
ルホスフィン（Ｃ２）を０．１〜２．０重量部を含有し
てなる感光性樹脂組成物が上記目的に合致することを見
出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】本発明では、分子内に少なくとも１個以上
のエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｂ）として、下
記一般式（１）及び／又は一般式（２）で示されるビニ
ルウレタン化合物を含有してなるとき、特に本発明の効
果を顕著に発揮し、更に硬化膜強度に優れた効果を示
す。
【００１０】
【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、２つのＲは
同一でも異なっていてもよく、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を
示し、Ｙは−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−、−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−ＣＨ2−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、又は−
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を示し、Ｚは２価の炭化水素
基を示し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑはそれぞれ独立に１〜１２
の整数である。）
【００１１】
【化２】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、３つのＲは
同一でも異なっていてもよく、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を
示し、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ
3）−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、又は−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を示し、Ｚは２価の炭化水素基を
示し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に１〜１２の整数であ
る。）
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明で用いるカルボキシル基を含有するポリ
マー（Ａ）としては、（メタ）アクリル酸エステルを主
成分とし、これにエチレン性不飽和カルボン酸を共重合
したアクリル系共重合体が好適に用いられるが、更には
必要に応じ、他の共重合可能なモノマーを共重合したア
クリル系共重合体とすることも可能である。この場合の
各成分の含有量は（メタ）アクリル酸エステル成分が７
０〜８５重量％、好ましくは７５〜８２重量％、エチレ
ン性不飽和カルボン酸成分が１５〜３０重量％、好まし
くは１８〜２５重量％、他の共重合可能なモノマー成分
が０〜１５重量％とすることが多い。
【００１３】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート等が例示される。
【００１４】エチレン性不飽和カルボン酸としては、例
えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノ
カルボン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、
フマール酸、イタコン酸等のジカルボン酸、あるいはそ
れらの無水物やハーフエステルも用いることができる。
これらの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ま
しい。
【００１５】他の共重合可能なモノマーとしては、例え
ばテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメ
チルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）ア
クリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）
アクリレート、（メタ）アクリルアミド、２，２，３，
３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ジ
アセトンアクリルアミド、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、アルキルビニルエー
テル、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
【００１６】かくして得られるカルボキシル基を含有す
るポリマー（Ａ）は、上記以外に、ポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を
併用することもできる。又、該カルボキシル基を含有す
るポリマー（Ａ）は、その重量平均分子量が１００００
〜３０００００、好ましくは１００００〜１５０００
０、更に好ましくは３００００〜１０００００の範囲の
ものが好ましく、分子量が小さいとコールドフローを起
こし易く、耐現像液性も低下する傾向にあり、逆に大き
いと現像されにくく、解像度の低下を招いたり、レジス
ト剥離時の剥離性に劣ることとなる。又、カルボキシル
基を含有するポリマー（Ａ）の酸価は１０〜５００ｍｇ
ＫＯＨ／ｇであることが好ましく、より好ましくは１０
０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇである。該酸価が１０ｍｇＫ
ＯＨ／ｇ未満では 現像性や剥離性が著しく低下し、５
００ｍｇＫＯＨ／ｇを越えると モノマーとの相溶性に
劣るとともに耐現像液性が低下するため好ましくない。
【００１７】更に本発明では、カルボキシル基を含有す
るポリマー（Ａ）として、重量平均分子量が１００００
〜５００００、好ましくは１５０００〜３００００のス
チレン／（メタ）アクリル酸共重合体を含有することが
好ましく、本発明の効果を顕著に発揮する。かかる重量
平均分子量が１００００未満では密着性向上の効果が得
られず、５００００を越えると他のバインダーポリマー
との相溶性が低下し好ましくない。該スチレン／（メ
タ）アクリル酸共重合体の含有量はカルボキシル基を含
有するポリマー（Ａ）成分全体に対して１０〜４０重量
％、好ましくは１５〜３０重量％であることが好まし
い。
【００１８】分子内に少なくとも１個以上のエチレン性
不飽和基を有する化合物（Ｂ）としては、上記の一般式
（１）及び／又は一般式（２）で示されるビニルウレタ
ン化合物、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルア
クリレート、フェノキシテトラエチレングリコ−ルアク
リレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−（アクリロ
イルオキシ）プロピルフタレート、γ−クロロ−β−ヒ
ドロキシプロピル−β′−（メタクリロイルオキシ）エ
チル−ｏ−フタレート、ヒドロキシエチル−（アクリロ
イルオキシ）エチルフタレート、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−テ
トラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４
−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、オク
タプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリ
セロール（メタ）アクリレート、２−ジ（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）プロパンジ（メタ）アクリレート、グリセ
ロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アク
リレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチルトリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、ジ
アリルフタレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ビス（ポリエチレングリコール（メタ）ア
クリレート）ポリプロピレングリコール、４−ノルマル
オクチルフェノキシペンタプロピレングリコールアクリ
レート、ビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ
グリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、２，２−
ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキポリエトキ
シフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）
アクリロイルオキシプロピルアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、１，６−ヘキサメチルジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレー
ト、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレ
ート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェ
ノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルア
シッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）
アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド
等が挙げられ、上記のような多官能モノマーや単官能モ
ノマーを単独又は適当量併用して用いられる。特に本発
明ではテンティング膜の柔軟性や強度の点で、一般式
（１）、一般式（２）で示されるビニルウレタン化合物
を含有することが好ましい。
【００１９】本発明では、上記エチレン性不飽和基を有
する化合物（Ｂ）において、少なくとも１個以上のエチ
レン性不飽和基を有するメタクリレート化合物（Ｂ１）
を（Ｂ）成分全体に対して６０重量％以上、好ましくは
７０〜９０重量％含有することが必要であり、かかるメ
タクリレート化合物（Ｂ１）の含有量が６０重量％未満
では充分な光感度が得られず本発明の効果を発揮しな
い。
【００２０】上記エチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）の配合割合は、カルボキシル基を含有するポリマ
ー（Ａ）及びエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｂ）
の総重量に対して１０〜９０重量％、好ましくは２０〜
８０重量％、特に好ましくは４０〜６０重量％の範囲か
ら選ぶことが望ましい。エチレン性不飽和基を有する化
合物（Ｂ）の過少は、硬化不良、可塑性の低下、現像速
度の遅延を招き、エチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）の過多は、粘着性の増大、コールドフロー、硬化
レジストの剥離速度低下が招き好ましくない。
【００２１】光重合開始剤（Ｃ）としては、ロフィン二
量体（ｃ１）及びトリフェニルホスフィン（Ｃ２）が少
なくとも含有される。ロフィン二量体（Ｃ１）として
は、例えばトリフェニルビイミダール類、特に２，４，
５−トリフェニルイミダゾール二量体として、例えば、
２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′,
５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−
ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′,５，５′テト
ラキス（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｐ−カルボキシフェニル）−４，４′,
５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−
ビス（ｐ−クロロフェニル）−４，４′,５，５′−テ
トラキス（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、
２，２′−ジ−ｏ−トリル−４，４′,５，５′−テト
ラフェニルビイミダゾール、２，２′−ジ−ｐ−トリル
−４，４′−ジ−ｏ−トリル−５，５′−ジフェニルビ
イミダゾール等が挙げられ、これらは単独又は２種以上
を組み合わせて使用される。
【００２２】該ロフィン二量体（Ｃ１）の配合量は、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００量部に対して２〜
５重量部、好ましくは２．５〜４重量部であり、２重量
部未満では感度が不充分であり、５重量部を越えると現
像後の基板上に赤焼けが生じる原因となる。
【００２３】又、トリフェニルホスフィン（Ｃ２）の配
合量は（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００量部に対し
て０．１〜２．０重量部、好ましくは０．３〜１．０重
量部である。かかる配合量が０．１重量部未満では感度
向上の効果が得られず、２．０重量部を越えるとそれ以
上の添加効果は得られず、逆に感光性樹脂組成物溶液の
保存安定性が劣ることとなる。
【００２４】本発明では、上記光重合開始剤（Ｃ）とし
て、ロフィン二量体（Ｃ１）及びトリフェニルホスフィ
ン（Ｃ２）以外に、その他の開始剤を併用することも好
ましく採用される。その他の開始剤としては、芳香族ケ
トン類（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン［ミヒラーケト
ン］、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベン
ゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、
ナフトキノン、フェナントレンキノン等）、ベンゾイン
類（ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等）、ベ
ンジル誘導体（ジベンジル、ベンジルジフェニルジスル
フィド、ベンジルジメチルケタール等）、アクリジン誘
導体（９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−ア
クリジニル）ヘプタン等）、チオキサントン類（２−ク
ロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，
４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン等）、アセ
トフェノン類（１，１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−
ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシア
セトフェノン等）等が挙げられる。
【００２５】又、ジアセチル、ピバロインエチルエーテ
ル、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソブ
チルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロ
パノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモフェ
ニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、ｐ
−ジメチル安息香酸、ｐ−ジエチル安息香、ｐ−ジイソ
プロピル安息香酸及びこれらのエステル化物等も挙げら
れる。
【００２６】これらの光重合開始剤（Ｃ）は単独又は２
種以上を組み合わせて使用される。光重合開始剤（Ｃ）
の配合量については、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１
００重量部に対して、０．０１〜２０重量部、好ましく
は０．１〜１５重量部であることが必要で、かかる配合
量が０．０１未満では実用的な光硬化速度が得られず、
２０重量部を越えると 露光の際に組成物の表面の吸収
が増大して内部の光硬化が不充分となる。
【００２７】かくして本発明の感光性樹脂組成物が得ら
れるが、必要に応じてその他の添加剤として、熱重合禁
止剤、可塑剤、染料（色素、変色剤）、密着付与剤、酸
化防止剤、溶剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動
剤、消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添加することが
できる。
【００２８】例えば、熱重合禁止剤は感光性樹脂組成物
の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加す
るもので、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ
−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナ
フチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、ピクリン酸、ｐ−トルイジン、２，２′−メチレン
ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）等が挙げられる。
【００２９】可塑剤は膜物性をコントロールするために
添加するもので、例えばジブチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレ
ート等のフタル酸エステル類；ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール等のグリコール類；トリ
エチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリ
コールジアセテート、ジプロピレングリコールジベンゾ
エート等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフ
ェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル
類；ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイ
ソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチル
セバレート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート
等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、
クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリエチル、ア
セチルクエン酸トリ−ｎ−プロピル、アセチルクエン酸
トリ−ｎ−ブチル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポ
キシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチ
ル、グリセリントリアセチルエステル等が挙げられる。
【００３０】色素としては例えば、トリス（４−ジメチ
ルアミノフェニル）メタン［ロイコクリスタルバイオレ
ット］、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェ
ニル）メタン、ロイコマラカイトグリーン、ロイコアニ
リン、ロイコメチルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、フタロシアニングリーン、エオシン、エチルバイオ
レット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、ダイヤモン
ドグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフク
シン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリ
アジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メ
チルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベン
ガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、
キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジIV、ジ
フェニルチオカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセ
イン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプル
プリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブルーＡ、ナ
イルブルー２Ｂ、フェナセタリン、メチルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン、パラフクシン、ベイシックブ
ルー２０、オイルブルー＃６０３、ビクトリアブルー、
ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、スピロンブルーＧＮ、
ローダミン６Ｇ、オーラミン塩基、カルコキシドグリー
ンＳ、パラマジェンダ等が挙げられる。中でも、ロイコ
クリスタルバイオレット等のロイコ染料、マラカイトグ
リーン、ブリリアントグリーンを０．０１〜０．５重量
％、好ましくは０．０１〜０．２重量％含有することが
好ましい。
【００３１】変色剤は、露光により可視像を与えること
ができるように感光性樹脂組成物中に添加され、具体例
として前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、
４、４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン、
等が挙げられる。
【００３２】密着促進剤としては、例えばベンズイミダ
ゾール、ベンズトリアゾール、ベンズチアゾール、ベン
ズオキソゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズイミダゾール、４−ベンゾトリアゾ
ールカルボン酸、５−ベンゾトリアゾールカルボン酸、
ビス（Ｎ，Ｎ−２−エチルヘキシルアミノメチル）−
１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ，Ｎ−２−
エチルヘキシルアミノメチル）１，２，３−トリルトリ
アゾール、ビス（Ｎ，Ｎ−２−ヒドロキシエチルアミノ
メチル）−１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−フェ
ニルテトラゾール、５ーフェニルテトラゾール、５−ア
ミノテトラゾール、５−アミノ−１−メチルテトラゾー
ル、５−アミノ−２−フェニルテトラゾール、５−メル
カプト−１−フェニルテトラゾール、５−メルカプト−
１−メチルテトラゾール等が挙げられる。
【００３３】その他、上記の色素に有機ハロゲン化合物
を併用することも好ましく、臭化アミル、臭化イソアミ
ル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニル
メチル、臭化ベンジル、臭化メチレン、トリブロモメチ
ルフェニルスルホン、四臭化炭素、トリス（２，３−ジ
ブロモプロピル）ホスフェート、トリスクロロアセトア
ミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１−
トリクロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフェニル）エタ
ンヘキサクロロエタン等が挙げられる。
【００３４】次に本発明の感光性樹脂組成物を用いた感
光性エレメントの製造及びそれを用いた印刷配線板の製
造について説明する。 （成層方法）本発明の感光性樹脂組成物は、前記の各成
分を溶解する溶剤、例えばトルエン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレ
ン、メチルアルコール、エチルアルコール等に溶解、混
合させることにより、均一な溶液とすることができ、こ
れを支持体フィルム上に塗布して乾燥することにより感
光性エレメントが得られる。
【００３５】該支持体フィルムとしては、活性光を通過
する透明なフィルムであれば特に限定されず、例えば、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアル
コールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル
共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化
ビニリデン共重合体フィルム、ポリメタクリル酸メチル
フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリ
ルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフ
ィルム、セルロース誘導体フィルム等が挙げられ、これ
らは必要に応じて延伸されたものでもよい。中でも透明
性等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが特
に好ましい。支持体フィルムの膜厚は、１０〜３０μ
ｍ、好ましくは１２〜２５μｍ、更に好ましくは１６〜
２３μｍであり、３０μｍを越えると解像度が低下した
り、コストアップとなる。１０μｍ未満ではフィルムが
柔軟過ぎて取り扱いに不便である。
【００３６】又、プリント配線板の回路の微細化に伴
い、レジストパターンも細線化され、これに対して感光
性フィルムの高解像度化が要求される状況下では、露光
時の光拡散の影響を抑えるためヘイズ値が１．５％未満
のポリエチレンテレフタレートフィルムを使用すること
が好ましい。更に、必要に応じて、フォトレジストフィ
ルムをロール状にして用いる場合に、粘着性を有する感
光性樹脂組成物層が支持体フィルムに転着したり、感光
性樹脂組成物層に壁などが付着するのを防止する目的
で、感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルムを積層す
ることもできる。かかる保護フィルムとしては、ポリエ
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニル
アルコールフィルム等が用いられる。該保護フィルムの
厚さについては特に限定はなく、通常１０〜５０μｍ、
なかんずく１０〜３０μｍであればよい。
【００３７】（露光）本発明の感光性エレメントを用い
てフォトレジスト画像を形成させるには、支持体フィル
ムと感光性樹脂組成物層との接着力及び保護フィルムと
感光性樹脂組成物層との接着力を比較し、接着力の低い
方のフィルムを剥離してから感光性樹脂組成物層の側を
銅張基板のなどの金属面に貼り付けた後、他方のフィル
ム上にパターンマスクを密着させて露光する。感光性樹
脂組成物が粘着性を有しないときは、前記他方のフィル
ムを剥離してからパターンマスクを感光性樹脂組成物層
に直接接触させて露光することもできる。露光は通常紫
外線照射により行い、その際の光源としては、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メ
タルハライドランプ、ケミカルランプ等が用いられる。
紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬化の完全
を図ることもできる。
【００３８】（現像）露光後は、レジスト上のフィルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム、又はカリウム
の水酸化物）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム、
又はカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩）、アルカリ金属リ
ン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アル
カリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリ
ン酸カリウム等）等を用いて行う。特に好ましいのは炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ０．３〜２重
量％程度の稀薄水溶液を用いて行うことである。該現像
に用いるアルカリ水溶液のｐＨは９〜１１で、該アルカ
リ水溶液の温度は適宜選択されるが、特に２５〜３０℃
程度が好ましい。該アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させてもよい。又、基板とレジストとの密着性を
より完全にするために現像終了後に更に活性光線を照射
したり、遠赤外線により金属基板上のレジストを熱処理
する等の方法も採用され得る。
【００３９】（エッチング、メッキ）エッチングは、通
常塩化第二銅−塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸水溶液等
の酸性エッチング液を用いて常法に従ってエッチングを
行う。希にアンモニア系のアルカリエッチング液も用い
られる。メッキ法は、脱脂剤、ソフトエッチング剤等の
メッキ前処理剤を用いて前処理を行った後、メッキ液を
用いてメッキを行う。メッキ液としては、銅メッキ液、
ニッケルメッキ液、鉄メッキ液、銀メッキ液、金メッキ
液、錫メッキ液、コバルトメッキ液、亜鉛メッキ液、ニ
ッケルコバルトメッキ液、はんだメッキ液等が挙げられ
る。
【００４０】（硬化レジストの剥離除去）エッチング又
はメッキ工程後、残っている硬化レジストの剥離を行
う。硬化レジストの剥離除去は、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の０．５〜５重量％程度の濃度のアルカ
リ水溶液からなるアルカリ剥離液を用いて行う。
【００４１】本発明の感光性樹脂組成物及びその感光性
エレメントは、印刷配線板の製造、金属の精密加工、リ
ードフレーム製造等に用いられるエッチングレジスト又
はメッキレジストとして非常に有用であり、該感光性樹
脂組成物が、カルボキシル基を含有するポリマー
（Ａ）、分子内に少なくとも１個以上のエチレン性不飽
和基を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）からな
り、（Ｂ）成分として少なくとも１個以上のエチレン性
不飽和基を有するメタクリレート化合物（Ｂ１）を
（Ｂ）成分全体に対して６０重量％以上含有し、かつ、
（Ｃ）成分が（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量
部に対して０．０１〜２０重量部であり、更に（Ｃ）成
分として、ロフィン二量体（Ｃ１）を（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して２〜５重量部、
トリフェニルホスフィン（Ｃ２）を０．１〜２．０重量
部を含有してなるため、感度、密着性、解像度、テンテ
ィング性、耐メッキ性に優れた効果を示すものである。
【００４２】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述す
る。尚、ことわりのない限り「％」及び「部」は重量基
準である。 ［感光性樹脂組成物の調製］表１に示す如きカルボキシ
ル基を含有するポリマー（Ａ）及びエチレン性不飽和基
を有する化合物（Ｂ）を用い、表２に示す如き添加剤を
用いて感光性樹脂組成物（Ｄ−１）〜（Ｄ−１０）のド
ープを調製した。（溶剤：メチルエチルケトン／トルエ
ン／メチルアルコール＝８６／１５／７の混合溶剤であ
る）
【００４３】
【表１】 感光性樹脂 (Ａ) (Ｂ) (Ｂ)中のメタクリ 組成物 P-1 P-2 M-1 M-2 M-3 M-4 M-5 M-6 レート化合物の (部) (部) (部) (部) (部) (部) (部) (部) 割合(％) Ｄ−１ 53.0 ---- 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7 Ｄ−２ 53.0 ---- 20.0 5.0 7.0 6.7 ---- ---- 64.6 Ｄ−３ 53.0 ---- 20.0 ---- ---- 6.7 12.0 ---- 82.7 Ｄ−４ 53.0 ---- 20.0 ---- ---- 6.7 ---- 12.0 82.7Ｄ−５ 40.0 13.0 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7 Ｄ−６ 53.0 ---- 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7 Ｄ−７ 53.0 ---- 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7 Ｄ−８ 53.0 ---- 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7 Ｄ−９ 53.0 ---- 20.0 12.0 ---- 6.7 ---- ---- 82.7Ｄ−10 53.0 ---- 20.0 ---- 12.0 6.7 ---- ---- 51.7
【００４４】注）表中の数値は固形分の重量部である。 Ｐ−１：メチルメタクリレート／n-ブチルアクリレート
／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸
＝５６／１５／６／２３（重量比） 重量平均分子量＝８５０００ Ｐ−２：スチレン／アクリル酸＝７０／３０（重量比） 重量平均分子量＝２００００ Ｍ−１：ビスフェノールＡデカオキシエチレングリコー
ルジメタクリレート Ｍ−２：ノナエチレングリコールジメタクリレート Ｍ−３：ノナエチレングリコールジアクリレート Ｍ−４：ヒドロキシエチル−（アクリロイルオキシエチ
ル）エチルフタレート Ｍ−５：一般式（I）で、Ｒ＝−ＣＨ3、Ｘ＝−ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ−、Ｙ＝−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、ｍ＝ｎ＝
１、ｐ＝ｑ＝９、Ｚ＝−（ＣＨ2）6−である化合物 Ｍ−６：一般式（II）で、Ｒ＝−ＣＨ3、Ｘ＝−ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ−、Ｙ＝−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、ｍ＝１、ｐ
＝９、Ｚ＝−（ＣＨ2）6−である化合物
【００４５】
【表２】 感光性樹脂 （Ｃ） その他の添加剤 組成物 (I-1) (I-2) (I-3) (I-4) (I-5) LCV MG PTSA PA (部) (部) (部) (部) (部) (部) (部) (部) (部) Ｄ−１ 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−２ 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−３ 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−４ 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05Ｄ−５ 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−６ 1.5 0.4 2.0 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−７ 6.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−８ 3.5 0.05 0.35 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05 Ｄ−９ 3.5 3.5 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05Ｄ−10 3.5 0.4 --- 0.1 0.08 0.4 0.05 3.5 0.05
【００４６】注）表中の数値は固形分の重量部である。 Ｉ−１：２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
５，４′，５′−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾ
ール（Ｃ１） Ｉ−２：トリフェニルホスフィン（Ｃ２） Ｉ−３：ベンゾフェノン Ｉ−４：Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノ
ベンゾフェノン Ｉ−５：９−フェニルアクリジン ＬＣＶ：ロイコクリスタルバイオレット ＭＧ ：マラカイトグリーン（保土ケ谷社製） ＰＴＳＡ：ｐ−トルエンスルホンアミド ＰＡ ：ｏ−フタル酸 ここで、（Ｄ−６）〜（Ｄ−１０）は本発明で規定する
感光性樹脂組成物ではない。
【００４７】実施例１〜５、比較例１〜５ 上記感光性樹脂組成物のドープをギャップ８ミルのアプ
リケーターを用いて、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムからなる支持体フィルム（厚み２０μｍ）上に塗工
し、室温で１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃、１
０５℃のオーブンでそれぞれ２分間乾燥して、レジスト
厚４０μｍの感光性エレメントを作製した。上記感光性
エレメントを、オーブンで６０℃に予熱した銅張基板上
に、ラミネートロール温度１０５℃、同ロール圧３ｋｇ
／ｃｍ2、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎにてラミネ
ートした。尚、ここで用いた銅張基板は厚さ１．６ｍｍ
であり、ガラス繊維エポキシ基材の両面に３５μｍの銅
箔を張り合わせた巾２００ｍｍ、長さ２５０ｍｍの基板
である。ラミネート前に研磨機により研磨して水洗し、
空気流で乾燥したものを用いた。
【００４８】次いで得られた基板に、３ｋＷ高圧水銀灯
（散乱光）（オーク（株）社製、ＨＭＷ−２０１Ｂ）で
露光を行った。この際、光感度を評価できるように光透
過量が段階的に少なくなるように作られたネガフィルム
（ストーファー２１段ステップタブレット）を用いた。
露光後１５分経過してからポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥離し、３０℃で１％炭酸ナトリウム水溶液
をブレークポイント（未露光部分の完全溶解する時間）
の２倍の現像時間でスプレーすることにより未露光部分
を溶解除去して硬化樹脂画像を得た。
【００４９】本発明において以下の項目を下記の如く評
価した。 （感度）感光性樹脂組成物の光感度は基材に形成された
光硬化膜のステップタブレットの段数が８となるときの
露光量を測定することにより評価した。
【００５０】（密着性）基板へのラミネート後、ライン
／スペース＝３０／４００〜２５０／４００（μｍ）の
パターンマスクを用いて、ステップタブレットの段数が
８となる露光量で露光を行い、上記と同様に現像して、
現像後剥離せずに残存したレジストのライン幅（μｍ）
を調べることにより評価した。
【００５１】（解像性）ライン／スペース＝１／１（３
０、３５、４０、４５、５０、５５、６０μｍ）のパタ
ーンマスクを用いて上記と同様に露光し、現像した後、
画像が形成される最小ライン幅（μｍ）により評価し
た。
【００５２】（耐メッキ性）上記のようにラミネート
し、ライン／スペースが１００／１００の配線パターン
を有するパターンマスクを用い、所定の露光量（残存ス
テップ段数が８．０となる露光量）により露光を行い、
次いで、上記条件にて現像後、脱脂（ＦＲ（アトテック
社製）１５重量％）に３分間浸漬し、水洗、ソフトエッ
チ（過硫酸アンモニウム１５０ｇ／ｌ）２分間浸漬、水
洗、１０重量％硫酸１分間浸漬の順に前処理を行い、硫
酸銅メッキ浴（硫酸銅７５ｇ／ｌ、硫酸１９０ｇ／ｌ、
塩化物イオン５０ｐｐｍ、カパーグリームＰＣＭ（メル
テックス社製）５ｍｌ／ｌ）に入れ、硫酸銅メッキを２
５℃、３Ａ／ｄｍ2で３０分間行った。その後、水洗し
て、１０重量％ホウフッ化水素酸に１分間浸漬し、はん
だメッキ浴（４５重量％ホウフッ化スズ６４ｍｌ／ｌ、
４５重量％ホウフッ化鉛２２ｍｌ／ｌ、４２重量％ホウ
フッ化水素酸２００ｍｌ／ｌ、プルティンＬＡコンダク
ティビティーソルト（メルテックス社製）２０ｇ／ｌ、
プルティンＬＡスターター（メルテックス社製）４１ｍ
ｌ／ｌ）に入れ、はんだメッキを２０℃、１．５Ａ／ｄ
ｍ2で１２分間行った。
【００５３】水洗、乾燥後、耐メッキ性を調べるため
に、直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥
がして（９０°ピ−ルオフ試験）、レジストの剥がれの
有無を観察した。又、レジスト剥離後、上方から光学顕
微鏡で、はんだメッキのもぐりの有無を観察した。はん
だメッキのもぐりを生じた場合、透明なレジストを介し
て、その下部にメッキにより析出したはんだが観察され
る。
【００５４】（テンティング性）上記方法により得られ
た感光性エレメントを長径７ｍｍ、短径３．５ｍｍの楕
円状スルーホール１００穴を有する基板の両面にラミネ
ートし、残存ステップ段数が８．０となる露光量により
露光を行い、テンティング膜が破れるまで現像を繰り返
した。破れが発生しない限界の現像回数で判断した。回
数が多いほど、テンティング性が良好である。実施例及
び比較例の評価結果を表３に示す。
【００５５】
【表３】 感光性樹脂 感度 密着性 解像性 耐メッキ性 テンティン 組成物 （mj/cm2）（μｍ）（μｍ） 剥がれ もぐり ク゛性 実施例１ Ｄ−１ ４０ ３５ ４０ 無し 無し ２回 〃 ２ Ｄ−２ ４５ ３５ ４５ 無し 無し ２回 〃 ３ Ｄ−３ ４５ ３５ ４０ 無し 無し ３回 〃 ４ Ｄ−４ ４５ ３５ ４０ 無し 無し ３回 〃 ５ Ｄ−５ ４０ ４０ ４０ 無し 無し ２回 比較例１ Ｄ−６ ６５ ６０ ５０ 有り 有り ２回 〃 ２ Ｄ−７ ４５ ４０ ４０ (*1) (*1) １回 〃 ３ Ｄ−８ ７５ ５０ ４０ 無し 無し ２回 〃 ４ Ｄ−９(*2) ４５ ４０ ４０ 無し 無し ２回 〃 ５ Ｄ−10 ７０ ５０ ５０ 無し 有り ２回
【００５６】注）(＊１)現像後の基板に赤焼けが生じ、
めっき前処理を施したにも拘わらず、めっきのつきまわ
り性に著しく劣っており、正当な評価ができなかった。 (＊２)感光性樹脂組成物溶液の保存安定性に劣り、経時
により、色素が脱色し、ゲル化してしまうため、実際に
は使用できない。
【００５７】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、感度が高
く、密着性、解像性に非常に優れ、更に耐メッキ性やテ
ンティング性に優れているため、印刷配線板の製造、リ
ードフレームの製造、金属の精密加工等に用いられる感
光性エレメントとして非常に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ // Ｃ０８Ｌ 33/02 Ｃ０８Ｌ 33/02

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 カルボキシル基を含有するポリマー
    （Ａ）、分子内に少なくとも１個以上のエチレン性不飽
    和基を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）からな
    る感光性樹脂組成物において、（Ｂ）成分として少なく
    とも１個以上のエチレン性不飽和基を有するメタクリレ
    ート化合物（Ｂ１）を（Ｂ）成分全体に対して６０重量
    ％以上含有し、かつ、（Ｃ）成分が（Ａ）成分と（Ｂ）
    成分の合計１００重量部に対して０．０１〜２０重量部
    であり、更に（Ｃ）成分として、ロフィン二量体（Ｃ
    １）を（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対
    して２〜５重量部、トリフェニルホスフィン（Ｃ２）を
    ０．１〜２．０重量部含有してなることを特徴とする感
    光性樹脂組成物。
  2. 【請求項２】 分子内に少なくとも１個以上のエチレン
    性不飽和基を有する化合物（Ｂ）として、下記一般式
    （１）及び／又は一般式（２）で示されるビニルウレタ
    ン化合物を含有してなることを特徴とする請求項１記載
    の感光性樹脂組成物。 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、２つのＲは
    同一でも異なっていてもよく、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を
    示し、Ｙは−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−、−ＣＨ（Ｃ
    Ｈ3）−ＣＨ2−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、又は−
    ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を示し、Ｚは２価の炭化水素
    基を示し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑはそれぞれ独立に１〜１２
    の整数である。） 【化２】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、３つのＲは
    同一でも異なっていてもよく、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を
    示し、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ
    3）−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、又は−ＣＨ2
    ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を示し、Ｚは２価の炭化水素基を
    示し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に１〜１２の整数であ
    る。）
  3. 【請求項３】 カルボキシル基を含有するポリマー
    （Ａ）として、重量平均分子量１００００〜５００００
    のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体を含有してな
    ることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性樹脂組
    成物。
  4. 【請求項４】 請求項１〜３いずれか記載の感光性樹脂
    組成物を支持体フィルムに積層してなることを特徴とす
    る感光性エレメント。
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