JPH10130868A - 金属薄板のエッチングにおける面出し方法 - Google Patents
金属薄板のエッチングにおける面出し方法Info
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- JPH10130868A JPH10130868A JP8301371A JP30137196A JPH10130868A JP H10130868 A JPH10130868 A JP H10130868A JP 8301371 A JP8301371 A JP 8301371A JP 30137196 A JP30137196 A JP 30137196A JP H10130868 A JPH10130868 A JP H10130868A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インバー材のようにニッケルを含有した素材
からなる金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液を用いて
面出し処理する場合に、金属薄板の主面への蓚酸ニッケ
ルの析出を抑制し、蓚酸ニッケルの析出に起因してレジ
スト膜に浮きが生じるのを無くし、エッチング不良を防
止できる方法を提供する。 【解決手段】 金属薄板１０が浸漬される面出し液１８
の液温を１０℃から２５℃までの範囲の温度とする。
からなる金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液を用いて
面出し処理する場合に、金属薄板の主面への蓚酸ニッケ
ルの析出を抑制し、蓚酸ニッケルの析出に起因してレジ
スト膜に浮きが生じるのを無くし、エッチング不良を防
止できる方法を提供する。 【解決手段】 金属薄板１０が浸漬される面出し液１８
の液温を１０℃から２５℃までの範囲の温度とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えばカラー受
像管用のシャドウマスク、トリニトロン（登録商標）管
用のアパーチャグリル、半導体素子用のリードフレーム
などのエッチング製品を、フォトエッチング法を用いて
製造する場合において、エッチング処理に先立ち、主面
に所定のパターンを有するレジスト膜が形成された金属
薄板、特にニッケルを含有した素材、例えばニッケルを
３６％含有する鉄−ニッケル合金であるインバー材から
なる金属薄板の被エッチング面に付着した酸化被膜やレ
ジスト残膜を被エッチング面から除去する面出し方法に
関する。
像管用のシャドウマスク、トリニトロン（登録商標）管
用のアパーチャグリル、半導体素子用のリードフレーム
などのエッチング製品を、フォトエッチング法を用いて
製造する場合において、エッチング処理に先立ち、主面
に所定のパターンを有するレジスト膜が形成された金属
薄板、特にニッケルを含有した素材、例えばニッケルを
３６％含有する鉄−ニッケル合金であるインバー材から
なる金属薄板の被エッチング面に付着した酸化被膜やレ
ジスト残膜を被エッチング面から除去する面出し方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー受像管用のシャドウマスクやアパ
ーチャグリル、半導体素子用のリードフレームなどのエ
ッチング製品は、フォトエッチング法を利用して低炭素
アルミキルド鋼などの帯状の金属薄板を加工することに
より製造される。このエッチング製品の一連の製造工程
のうち、エッチング工程では、特開昭５８−２１２０３
３号公報などに開示されているように、スプレイエッチ
ングを行う前に金属薄板の面出しが行われる。この面出
しは、現像・硬膜処理後に金属薄板の被エッチング面に
付着している酸化被膜や被エッチング面を被覆するよう
に極く薄く残っているレジスト残膜を被エッチング面か
ら除去する目的で行われる。面出しの方法としては、帯
状の金属薄板をその長手方向へ搬送させながら、金属薄
板を酸の希薄溶液である面出し液に浸漬させるようにす
る。面出し液は、清浄剤である硫酸および蓚酸とレジス
ト膜中のカゼインの分解剤である過酸化水素水とを含有
し、従来、面出し効率を高めるために、液温が３０℃程
度である面出し液を使用している。
ーチャグリル、半導体素子用のリードフレームなどのエ
ッチング製品は、フォトエッチング法を利用して低炭素
アルミキルド鋼などの帯状の金属薄板を加工することに
より製造される。このエッチング製品の一連の製造工程
のうち、エッチング工程では、特開昭５８−２１２０３
３号公報などに開示されているように、スプレイエッチ
ングを行う前に金属薄板の面出しが行われる。この面出
しは、現像・硬膜処理後に金属薄板の被エッチング面に
付着している酸化被膜や被エッチング面を被覆するよう
に極く薄く残っているレジスト残膜を被エッチング面か
ら除去する目的で行われる。面出しの方法としては、帯
状の金属薄板をその長手方向へ搬送させながら、金属薄
板を酸の希薄溶液である面出し液に浸漬させるようにす
る。面出し液は、清浄剤である硫酸および蓚酸とレジス
ト膜中のカゼインの分解剤である過酸化水素水とを含有
し、従来、面出し効率を高めるために、液温が３０℃程
度である面出し液を使用している。
【０００３】ところが、近年においてはカラー受像管が
大型化する傾向があり、これに伴ってドーミング現象と
呼ばれる熱変形（カラー受像管内の電子銃から放射され
て螢光体の方へ向かう電子ビームの多くが不要な方向の
電子ビームとしてシャドウマスクやアパーチャグリルに
衝突し吸収されて、シャドウマスクやアパーチャグリル
の温度が上昇し、その際の局所的な熱膨張によって生ず
る熱変形）の影響が大きく現れて、カラー受像管の表示
画面に色ずれを生じる、といった問題点がある。この問
題点を解決するために、最近では、シャドウマスクやア
パーチャグリルの素材として、従来から使用されてきた
アルミキルド鋼に代え、ニッケルを３６％含有する鉄−
ニッケル合金であり熱膨張率の低いインバー材が使用さ
れるようになってきた。
大型化する傾向があり、これに伴ってドーミング現象と
呼ばれる熱変形（カラー受像管内の電子銃から放射され
て螢光体の方へ向かう電子ビームの多くが不要な方向の
電子ビームとしてシャドウマスクやアパーチャグリルに
衝突し吸収されて、シャドウマスクやアパーチャグリル
の温度が上昇し、その際の局所的な熱膨張によって生ず
る熱変形）の影響が大きく現れて、カラー受像管の表示
画面に色ずれを生じる、といった問題点がある。この問
題点を解決するために、最近では、シャドウマスクやア
パーチャグリルの素材として、従来から使用されてきた
アルミキルド鋼に代え、ニッケルを３６％含有する鉄−
ニッケル合金であり熱膨張率の低いインバー材が使用さ
れるようになってきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インバ
ー材からなる金属薄板を、従来から行われている方法と
同様の方法により面出し処理すると、低炭素アルミキル
ド鋼からなる金属薄板の面出し処理では生じなかった以
下のような新たな問題が発生することになった。
ー材からなる金属薄板を、従来から行われている方法と
同様の方法により面出し処理すると、低炭素アルミキル
ド鋼からなる金属薄板の面出し処理では生じなかった以
下のような新たな問題が発生することになった。
【０００５】低炭素アルミキルド鋼の成分は、鉄がほぼ
１００％であり、アルミキルド鋼の鉄成分と面出し液中
の蓚酸との反応により蓚酸鉄（Ｆｅ（ＣＯＯ）2）が生
成するが、この蓚酸鉄は、水に対する溶解度が比較的大
きい（２２ｍｇ／１００ｇ−冷水）ため、面出し液中に
大部分が溶解してしまう。一方、インバー材の成分は、
鉄が６４％でニッケルが３６％であり、面出し液中の蓚
酸との反応により、上記した蓚酸鉄のほか、蓚酸ニッケ
ル（Ｎｉ（ＣＯＯ）2）が生成する。この蓚酸ニッケル
は、蓚酸鉄とは異なり難溶性（０．３ｍｇ／１００ｇ−
冷水）であるため、金属薄板の表面に析出する。
１００％であり、アルミキルド鋼の鉄成分と面出し液中
の蓚酸との反応により蓚酸鉄（Ｆｅ（ＣＯＯ）2）が生
成するが、この蓚酸鉄は、水に対する溶解度が比較的大
きい（２２ｍｇ／１００ｇ−冷水）ため、面出し液中に
大部分が溶解してしまう。一方、インバー材の成分は、
鉄が６４％でニッケルが３６％であり、面出し液中の蓚
酸との反応により、上記した蓚酸鉄のほか、蓚酸ニッケ
ル（Ｎｉ（ＣＯＯ）2）が生成する。この蓚酸ニッケル
は、蓚酸鉄とは異なり難溶性（０．３ｍｇ／１００ｇ−
冷水）であるため、金属薄板の表面に析出する。
【０００６】図２は、インバー材からなる金属薄板を面
出し処理したときの、金属薄板の表面部分の断面写真を
図面化したものであり、図３は、その一部を拡大した断
面写真を図面化したもの、図４は、図３とは異なる角度
の拡大断面写真を図面化したものである。この試験で
は、インバー材からなる厚さ０．１ｍｍの金属薄板（日
本鋼業（株）製）の表面に、常法によりパターン状のレ
ジスト膜を形成したものを、工場ライン装置により１分
間面出し処理し（面出し液の組成は、工業用水：４００
ｍｌ（９７．８０重量％）、９８％硫酸：１６０ｍｌ
（０．０６重量％）、蓚酸：８ｋｇ（１．９３重量
％）、３５％過酸化水素水：６ｋｇ（０．５１重量％）
であり、面出し液の温度は３０℃であった）、このサン
プルを樹脂でモールドし、モールド物を研磨して断面を
出し、その断面を集束イオンビーム走査装置（ＪＥＯＬ
ＪＩＢＬ−１００）によって走査撮影するようにし
た。図２ないし図４中、１が金属薄板、２がレジスト
膜、３がモールド樹脂、４が樹脂の収縮によつて生じた
割れであり、５が蓚酸ニッケルである。
出し処理したときの、金属薄板の表面部分の断面写真を
図面化したものであり、図３は、その一部を拡大した断
面写真を図面化したもの、図４は、図３とは異なる角度
の拡大断面写真を図面化したものである。この試験で
は、インバー材からなる厚さ０．１ｍｍの金属薄板（日
本鋼業（株）製）の表面に、常法によりパターン状のレ
ジスト膜を形成したものを、工場ライン装置により１分
間面出し処理し（面出し液の組成は、工業用水：４００
ｍｌ（９７．８０重量％）、９８％硫酸：１６０ｍｌ
（０．０６重量％）、蓚酸：８ｋｇ（１．９３重量
％）、３５％過酸化水素水：６ｋｇ（０．５１重量％）
であり、面出し液の温度は３０℃であった）、このサン
プルを樹脂でモールドし、モールド物を研磨して断面を
出し、その断面を集束イオンビーム走査装置（ＪＥＯＬ
ＪＩＢＬ−１００）によって走査撮影するようにし
た。図２ないし図４中、１が金属薄板、２がレジスト
膜、３がモールド樹脂、４が樹脂の収縮によつて生じた
割れであり、５が蓚酸ニッケルである。
【０００７】図２ないし図４から分かるように、面出し
処理により金属薄板１の被エッチング面が２〜３μｍ程
度エッチングされていて、その被エッチング面に蓚酸ニ
ッケル５が析出している。又、レジスト膜２のエッジ部
分の下部も僅かにエッチングされていて、その部分にも
蓚酸ニッケル５が析出している。そして、蓚酸ニッケル
５の盛り上がり部分によりレジスト膜２のエッジ部分が
下から押し上げられ、インバー材はアルミキルド鋼に比
べてレジスト膜との密着性が劣るために、図３および図
４に示すように、レジスト膜２のエッジ部分が浮き上が
って、レジスト膜２の下部と金属薄板１の表面との間に
隙間６が生じている。この結果、面出し後のエッチング
工程において、隙間６の部分にもエッチング液が浸透
し、本来エッチングされるべきでない、金属薄板１の表
面までエッチングされてしまい、シャドウマスクやアパ
ーチャグリルの電子ビーム通過部となる透孔が所望通り
の形状に形成されない、といったエッチング不良を生じ
ることとなる。
処理により金属薄板１の被エッチング面が２〜３μｍ程
度エッチングされていて、その被エッチング面に蓚酸ニ
ッケル５が析出している。又、レジスト膜２のエッジ部
分の下部も僅かにエッチングされていて、その部分にも
蓚酸ニッケル５が析出している。そして、蓚酸ニッケル
５の盛り上がり部分によりレジスト膜２のエッジ部分が
下から押し上げられ、インバー材はアルミキルド鋼に比
べてレジスト膜との密着性が劣るために、図３および図
４に示すように、レジスト膜２のエッジ部分が浮き上が
って、レジスト膜２の下部と金属薄板１の表面との間に
隙間６が生じている。この結果、面出し後のエッチング
工程において、隙間６の部分にもエッチング液が浸透
し、本来エッチングされるべきでない、金属薄板１の表
面までエッチングされてしまい、シャドウマスクやアパ
ーチャグリルの電子ビーム通過部となる透孔が所望通り
の形状に形成されない、といったエッチング不良を生じ
ることとなる。
【０００８】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、インバー材のようにニッケルを含有
した素材からなる金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液
を用いて面出し処理する場合に、金属薄板の主面への蓚
酸ニッケルの析出を抑制し、蓚酸ニッケルの析出に起因
してレジスト膜に浮きが生じるのを無くし、エッチング
不良を防止することができる面出し方法を提供すること
を目的とする。
されたものであり、インバー材のようにニッケルを含有
した素材からなる金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液
を用いて面出し処理する場合に、金属薄板の主面への蓚
酸ニッケルの析出を抑制し、蓚酸ニッケルの析出に起因
してレジスト膜に浮きが生じるのを無くし、エッチング
不良を防止することができる面出し方法を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
蓚酸を含有する酸の希薄溶液である面出し液の液温を１
０℃から２５℃までの範囲の温度とし、その液温の面出
し液に金属薄板を浸漬させて面出しすることを特徴とす
る。
蓚酸を含有する酸の希薄溶液である面出し液の液温を１
０℃から２５℃までの範囲の温度とし、その液温の面出
し液に金属薄板を浸漬させて面出しすることを特徴とす
る。
【００１０】請求項２に係る発明は、請求項１記載の面
出し方法において、面出し液に浸漬された後の金属薄板
の主面に洗浄液を供給して、金属薄板の主面に付着した
蓚酸ニッケルを除去することを特徴とする。
出し方法において、面出し液に浸漬された後の金属薄板
の主面に洗浄液を供給して、金属薄板の主面に付着した
蓚酸ニッケルを除去することを特徴とする。
【００１１】請求項１に係る発明の面出し方法では、面
出し液の液温が２５℃以下とされるので、 Ｎｉ→Ｎｉ2+＋２ｅ- Ｎｉ＋（ＣＯＯ）22-→Ｎｉ（ＣＯＯ）2 の反応の進行が抑えられて、金属薄板の主面への蓚酸ニ
ッケルの析出が抑制される。このため、蓚酸ニッケルの
析出によって起こるレジスト膜の浮きが防止され、エッ
チング不良を生じなくなる。
出し液の液温が２５℃以下とされるので、 Ｎｉ→Ｎｉ2+＋２ｅ- Ｎｉ＋（ＣＯＯ）22-→Ｎｉ（ＣＯＯ）2 の反応の進行が抑えられて、金属薄板の主面への蓚酸ニ
ッケルの析出が抑制される。このため、蓚酸ニッケルの
析出によって起こるレジスト膜の浮きが防止され、エッ
チング不良を生じなくなる。
【００１２】一方、面出し液の液温が１０℃以上とされ
るので、金属薄板の主面が十分に面出しされて、金属薄
板の被エッチング面に付着した酸化被膜やレジスト残膜
が被エッチング面から十分に除去される。
るので、金属薄板の主面が十分に面出しされて、金属薄
板の被エッチング面に付着した酸化被膜やレジスト残膜
が被エッチング面から十分に除去される。
【００１３】請求項２に係る発明の面出し方法では、面
出し処理中に金属薄板の主面に少量の蓚酸ニッケルが析
出して、面出し液中から引き上げられた金属薄板の主面
に蓚酸ニッケルが付着していたとしても、金属薄板の主
面に洗浄液が供給されることにより、蓚酸ニッケルは、
エッチング工程前に金属薄板の主面から洗い流され、金
属薄板の主面に蓚酸ニッケルが付着した状態のままで金
属薄板がエッチング処理されることが完全に無くなる。
出し処理中に金属薄板の主面に少量の蓚酸ニッケルが析
出して、面出し液中から引き上げられた金属薄板の主面
に蓚酸ニッケルが付着していたとしても、金属薄板の主
面に洗浄液が供給されることにより、蓚酸ニッケルは、
エッチング工程前に金属薄板の主面から洗い流され、金
属薄板の主面に蓚酸ニッケルが付着した状態のままで金
属薄板がエッチング処理されることが完全に無くなる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図１を参照しながら説明する。
について図１を参照しながら説明する。
【００１５】図１は、この発明に係る面出し方法を実施
するのに使用される面出し装置の構成の１例を示す概略
図である。前工程で現像および硬膜処理を終えて主面に
所定パターンのレジスト膜が形成された金属薄板、例え
ばインバー材からなり板厚０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度
の長尺帯状の金属薄板１０は、例えば０．５ｍ／ｍｉｎ
〜３ｍ／ｍｉｎ程度で連続搬送され、面出し装置１１へ
搬入されてくる。そして、金属薄板１０は、搬送ローラ
１２、１４、１６により、面出し液１８が収容された面
出し槽２０内へ導かれた後、面出し槽２０から送り出さ
れて、図示しないエッチングチャンバへ搬送されるよう
になっている。
するのに使用される面出し装置の構成の１例を示す概略
図である。前工程で現像および硬膜処理を終えて主面に
所定パターンのレジスト膜が形成された金属薄板、例え
ばインバー材からなり板厚０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度
の長尺帯状の金属薄板１０は、例えば０．５ｍ／ｍｉｎ
〜３ｍ／ｍｉｎ程度で連続搬送され、面出し装置１１へ
搬入されてくる。そして、金属薄板１０は、搬送ローラ
１２、１４、１６により、面出し液１８が収容された面
出し槽２０内へ導かれた後、面出し槽２０から送り出さ
れて、図示しないエッチングチャンバへ搬送されるよう
になっている。
【００１６】面出し液１８としては、従来から使用され
ているものと同様の組成のものを使用すればよく、組成
の１例を示すと、蓚酸２重量％、３５％過酸化水素水
１．５重量％、９８％硫酸０．０７重量％および工業用
水９６．５重量％からなる水溶液である。そして、面出
し液の液温を１０℃から２５℃までの範囲の温度、好ま
しくは１８℃から２２℃までの範囲の温度に調節する。
ているものと同様の組成のものを使用すればよく、組成
の１例を示すと、蓚酸２重量％、３５％過酸化水素水
１．５重量％、９８％硫酸０．０７重量％および工業用
水９６．５重量％からなる水溶液である。そして、面出
し液の液温を１０℃から２５℃までの範囲の温度、好ま
しくは１８℃から２２℃までの範囲の温度に調節する。
【００１７】また、面出し槽２０内の、搬送ローラ１６
の搬送方向手前側には、一対のスポンジローラ２２が配
設されており、各スポンジローラ２２は、金属薄板１０
の搬送に従動して金属薄板１０の主面に転接するように
回転自在にそれぞれ支持されている。各スポンジローラ
２２の上方には、スポンジローラ２２の周面に向けて洗
浄水を滴下する水供給管２４がそれぞれ配設されてお
り、この各水供給管２４から各スポンジローラ２２にそ
れぞれ洗浄水が供給され、その各スポンジローラ２２を
介して金属薄板１０の両主面の全面にわたって均一にそ
れぞれ洗浄水が供給されるようになっている。また、ス
ポンジローラ２２の下方には、スポンジローラ２２から
垂れ落ちる液体を受けるための容器２６が配設されてい
る。
の搬送方向手前側には、一対のスポンジローラ２２が配
設されており、各スポンジローラ２２は、金属薄板１０
の搬送に従動して金属薄板１０の主面に転接するように
回転自在にそれぞれ支持されている。各スポンジローラ
２２の上方には、スポンジローラ２２の周面に向けて洗
浄水を滴下する水供給管２４がそれぞれ配設されてお
り、この各水供給管２４から各スポンジローラ２２にそ
れぞれ洗浄水が供給され、その各スポンジローラ２２を
介して金属薄板１０の両主面の全面にわたって均一にそ
れぞれ洗浄水が供給されるようになっている。また、ス
ポンジローラ２２の下方には、スポンジローラ２２から
垂れ落ちる液体を受けるための容器２６が配設されてい
る。
【００１８】このような面出し装置１１を使用して金属
薄板１０の面出しを行ったとき、面出し液１８の液温が
従来より低くされているので、面出し処理中において金
属薄板１０の主面への蓚酸ニッケルの析出量が従来に比
べて少なく抑えられる。また、面出し処理中に金属薄板
１０の主面に少量の蓚酸ニッケルが析出して付着したと
しても、面出し液１８中から引き上げられた金属薄板１
０は、その両主面に付着した面出し液がスポンジローラ
２２を介して洗浄水と置換されるので、両主面に付着し
た蓚酸ニッケルが洗浄水によって洗い流される。そし
て、金属薄板１０は、主面に蓚酸ニッケルが全く付着し
ていない状態で面出し装置から次のエッチングチャンバ
へ搬送されることになる。
薄板１０の面出しを行ったとき、面出し液１８の液温が
従来より低くされているので、面出し処理中において金
属薄板１０の主面への蓚酸ニッケルの析出量が従来に比
べて少なく抑えられる。また、面出し処理中に金属薄板
１０の主面に少量の蓚酸ニッケルが析出して付着したと
しても、面出し液１８中から引き上げられた金属薄板１
０は、その両主面に付着した面出し液がスポンジローラ
２２を介して洗浄水と置換されるので、両主面に付着し
た蓚酸ニッケルが洗浄水によって洗い流される。そし
て、金属薄板１０は、主面に蓚酸ニッケルが全く付着し
ていない状態で面出し装置から次のエッチングチャンバ
へ搬送されることになる。
【００１９】
【発明の効果】請求項１に係る発明の面出し方法による
と、インバー材のようにニッケルを含有した素材からな
る金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液を用いて面出し
処理しても、金属薄板の主面への蓚酸ニッケルの析出が
抑制されるので、従来起こっていたような、蓚酸ニッケ
ルの析出に起因したレジスト膜の浮きが生じなくなっ
て、エッチング不良が防止される。
と、インバー材のようにニッケルを含有した素材からな
る金属薄板を、蓚酸を含有する面出し液を用いて面出し
処理しても、金属薄板の主面への蓚酸ニッケルの析出が
抑制されるので、従来起こっていたような、蓚酸ニッケ
ルの析出に起因したレジスト膜の浮きが生じなくなっ
て、エッチング不良が防止される。
【００２０】請求項２に係る発明の面出し方法では、面
出し処理中に金属薄板の主面に少量の蓚酸ニッケルが析
出して、面出し液中から引き上げられた金属薄板の主面
に蓚酸ニッケルが付着していても、その蓚酸ニッケルは
金属薄板の主面から洗い流されるので、金属薄板の主面
への蓚酸ニッケルの付着によるエッチング不良が防止さ
れる。
出し処理中に金属薄板の主面に少量の蓚酸ニッケルが析
出して、面出し液中から引き上げられた金属薄板の主面
に蓚酸ニッケルが付着していても、その蓚酸ニッケルは
金属薄板の主面から洗い流されるので、金属薄板の主面
への蓚酸ニッケルの付着によるエッチング不良が防止さ
れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る面出し方法を実施するのに使用
される面出し装置の構成の１例を示す概略図である。
される面出し装置の構成の１例を示す概略図である。
【図２】従来の面出し方法によりインバー材からなる金
属薄板を面出し処理したときの、金属薄板の表面部分の
断面写真を図面化した断面図である。
属薄板を面出し処理したときの、金属薄板の表面部分の
断面写真を図面化した断面図である。
【図３】図２の一部を拡大した断面写真を図面化した断
面図である。
面図である。
【図４】図３とは異なる角度の拡大断面写真を図面化し
た断面図である。
た断面図である。
１０ 金属薄板 １１ 面出し装置 １８ 面出し液 ２０ 面出し槽 ２２ スポンジローラ ２４ 水供給管
Claims (2)
- 【請求項１】 ニッケルを含有した素材からなり主面に
所定パターンを有するレジスト膜が形成された金属薄板
を、蓚酸を含有する酸の希薄溶液である面出し液に浸漬
させて、金属薄板の被エッチング面に付着した酸化被膜
やレジスト残膜を被エッチング面から除去する、金属薄
板のエッチングにおける面出し方法において、 前記面出し液の液温を１０℃から２５℃までの範囲の温
度とすることを特徴とする、金属薄板のエッチングにお
ける面出し方法。 - 【請求項２】 面出し液に浸漬させた後の金属薄板の主
面に洗浄液を供給して、金属薄板の主面に付着した蓚酸
ニッケルを除去する請求項１記載の、金属薄板のエッチ
ングにおける面出し方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8301371A JPH10130868A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 金属薄板のエッチングにおける面出し方法 |
| KR1019970042240A KR19980032326A (ko) | 1996-10-24 | 1997-08-28 | 금속박판(金屬薄板)의 프리 에칭(Pre-etching) 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8301371A JPH10130868A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 金属薄板のエッチングにおける面出し方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10130868A true JPH10130868A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=17896071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8301371A Pending JPH10130868A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 金属薄板のエッチングにおける面出し方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10130868A (ja) |
| KR (1) | KR19980032326A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046830A1 (fr) * | 1999-02-08 | 2000-08-10 | Daiwa Tecthno Systems Co., Ltd. | Plaque diaphragme et son procede de traitement |
| KR100524156B1 (ko) * | 1998-12-17 | 2006-01-12 | 엘지마이크론 주식회사 | 금속시트재의 프리에칭 방법 및 그 장치_ |
-
1996
- 1996-10-24 JP JP8301371A patent/JPH10130868A/ja active Pending
-
1997
- 1997-08-28 KR KR1019970042240A patent/KR19980032326A/ko not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100524156B1 (ko) * | 1998-12-17 | 2006-01-12 | 엘지마이크론 주식회사 | 금속시트재의 프리에칭 방법 및 그 장치_ |
| WO2000046830A1 (fr) * | 1999-02-08 | 2000-08-10 | Daiwa Tecthno Systems Co., Ltd. | Plaque diaphragme et son procede de traitement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980032326A (ko) | 1998-07-25 |
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