JPH0222974B2 - - Google Patents
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- JPH0222974B2 JPH0222974B2 JP56190538A JP19053881A JPH0222974B2 JP H0222974 B2 JPH0222974 B2 JP H0222974B2 JP 56190538 A JP56190538 A JP 56190538A JP 19053881 A JP19053881 A JP 19053881A JP H0222974 B2 JPH0222974 B2 JP H0222974B2
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- shadow mask
- predetermined
- resist film
- nickel plating
- blackening
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- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/01—Generalised techniques
- H01J2209/012—Coating
- H01J2209/015—Machines therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明のカラー受像管に装着されるシヤドウマ
スクの製造方法に係り、特に高品質であり、より
安価なシヤドウマスクを得ることが可能なシヤド
ウマスクの製造方法に関するものである。
スクの製造方法に係り、特に高品質であり、より
安価なシヤドウマスクを得ることが可能なシヤド
ウマスクの製造方法に関するものである。
発明の技術的背景
カラー受像管に装着されるシヤドウマスクの製
造方法は通常次のようにして製造されている。
造方法は通常次のようにして製造されている。
即ち、軟鉄からなる長尺のシヤドウマスク素材
の両面にレジスト膜を被着形成する。次にこのレ
ジスト膜の被着形成されたシヤドウマスク素材の
両面に所定のパターンのネガ原板を密着、露光
し、ネガ原板の透光部に対応するレジスト膜を光
硬化する。次にレジスト膜の未硬化部を現像除去
後光硬化部の耐エツチング処理を行なつた後、両
面よりスプレイ法などによりエツチング液をかけ
レジスト膜の除去された部分をエツチング除去
し、矩形状のドツト状の電子ビーム通過孔部を穿
設する。次に光硬化部のレジスト膜を除去し、水
洗乾燥工程を経てシヤドウマスク素材にフラツト
マスク及びピツクオフ線を設ける。次にこのピツ
クオフ線によりシヤドウマスク素材からフラツト
マスクをピツクオフする。次にフラツトマスクを
所定球面にプレス成形、黒化、スタビ炉通しなど
の諸工程を経てシヤドウマスクを完成する。
の両面にレジスト膜を被着形成する。次にこのレ
ジスト膜の被着形成されたシヤドウマスク素材の
両面に所定のパターンのネガ原板を密着、露光
し、ネガ原板の透光部に対応するレジスト膜を光
硬化する。次にレジスト膜の未硬化部を現像除去
後光硬化部の耐エツチング処理を行なつた後、両
面よりスプレイ法などによりエツチング液をかけ
レジスト膜の除去された部分をエツチング除去
し、矩形状のドツト状の電子ビーム通過孔部を穿
設する。次に光硬化部のレジスト膜を除去し、水
洗乾燥工程を経てシヤドウマスク素材にフラツト
マスク及びピツクオフ線を設ける。次にこのピツ
クオフ線によりシヤドウマスク素材からフラツト
マスクをピツクオフする。次にフラツトマスクを
所定球面にプレス成形、黒化、スタビ炉通しなど
の諸工程を経てシヤドウマスクを完成する。
この様なシヤドウマスクの製造方法により形成
されたシヤドウマスクは前述したように黒化、ス
タビ炉通しなどをプレス成形後行なうため設備や
工程が煩雑になるし、黒化膜は絶縁物であるた
め、マスクフレームなどに溶接することがなかな
かむずかしく、かつこの溶接時にスプラツシユが
発生するなどの問題点がある。
されたシヤドウマスクは前述したように黒化、ス
タビ炉通しなどをプレス成形後行なうため設備や
工程が煩雑になるし、黒化膜は絶縁物であるた
め、マスクフレームなどに溶接することがなかな
かむずかしく、かつこの溶接時にスプラツシユが
発生するなどの問題点がある。
この改良として発明者らはシヤドウマスクとマ
スクフレームとからなるフレームマスク系に予め
ニツケルめつきを0.5〜3.0μ施し、次いで黒化処
理を行ない所定の形状に組立てる方法や製造コス
トの低減化のためにプレス成形後に行なう黒化処
理をプレス成形前の焼鈍時に同時に行なう方法を
先に出願した。
スクフレームとからなるフレームマスク系に予め
ニツケルめつきを0.5〜3.0μ施し、次いで黒化処
理を行ない所定の形状に組立てる方法や製造コス
トの低減化のためにプレス成形後に行なう黒化処
理をプレス成形前の焼鈍時に同時に行なう方法を
先に出願した。
背景技術の問題点
しかしながらシヤドウマスクに限定すればニツ
ケルめつきの前処理のうちの弱酸洗浄により電子
ビーム通過孔部が大きくなるため、この広がり分
を差し引いた電子ビーム通過孔部を形成し、ニツ
ケルめつき処理を行なう必要がある。その結果電
子ビーム通過孔部寸法のばらつきがやや大きくな
るという問題点がある。また黒化と焼鈍との同時
処理はそれなりに省エネルギー効果を有するもの
の熱処理のためのフラツトマスクの積重ね作業や
入炉や出炉作業などのわずらわしい工程がある
し、また積重ねのために黒化膜厚のばらつきが大
きく、一部は再黒化しなければならない問題点が
ある。
ケルめつきの前処理のうちの弱酸洗浄により電子
ビーム通過孔部が大きくなるため、この広がり分
を差し引いた電子ビーム通過孔部を形成し、ニツ
ケルめつき処理を行なう必要がある。その結果電
子ビーム通過孔部寸法のばらつきがやや大きくな
るという問題点がある。また黒化と焼鈍との同時
処理はそれなりに省エネルギー効果を有するもの
の熱処理のためのフラツトマスクの積重ね作業や
入炉や出炉作業などのわずらわしい工程がある
し、また積重ねのために黒化膜厚のばらつきが大
きく、一部は再黒化しなければならない問題点が
ある。
発明の目的
本発明は前述し諸問題点に鑑みなされたもので
あり、れら諸問題点を解消すると共に、より高品
質なシヤドウマスクを低コストで提供することが
可能なシヤドウマスクの製造方法を提供すること
を目的としている。
あり、れら諸問題点を解消すると共に、より高品
質なシヤドウマスクを低コストで提供することが
可能なシヤドウマスクの製造方法を提供すること
を目的としている。
発明の概要
即ち、本発明は露光工程、現像工程を経て、両
主面の所定位置にレジスト膜が被着された長尺の
シヤドウマスク素材をエツチング、水洗する工程
と、レジスト膜を除去水洗する工程と、所定厚の
ニツケルめつきを施すニツケルめつき工程及び水
洗工程と、水蒸気またはCO2ガスを含む雰囲気中
で焼鈍と黒化処理を同時に行なう熱処理工程とを
所定の移動速度で通過させるようにしたことを特
徴としている。
主面の所定位置にレジスト膜が被着された長尺の
シヤドウマスク素材をエツチング、水洗する工程
と、レジスト膜を除去水洗する工程と、所定厚の
ニツケルめつきを施すニツケルめつき工程及び水
洗工程と、水蒸気またはCO2ガスを含む雰囲気中
で焼鈍と黒化処理を同時に行なう熱処理工程とを
所定の移動速度で通過させるようにしたことを特
徴としている。
本発明の実施例
次に本発明のシヤドウマスクの製造方法の一実
施例を図により説明する。
施例を図により説明する。
即ち、両主面にレジスト膜を被着形成し、露光
工程、現像工程を経て両主面の所定位置にレジス
ト膜が被着された長尺のシヤドウマスク素材１を
リール２よりそれぞれ１対のローラ３1，３2，３
３，３4，３5で所定の移動速度により移動させる
が、この場合ローラ３1，３2間にはエツチング装
置４と第１の水洗装置５が設けられシヤドウマス
ク素材１に長方形状または円形状の電子ビーム通
過孔部を穿設するようになつている。またローラ
３2，３3間にはレジスト膜を除去するレジスト膜
除去装置６と第２の水洗装置７が設けられ、レジ
スト膜を除去するようになつている。またローラ
３3，３4間には複数個の案内用ローラ８によりニ
ツケルめつき液９中に導びかれた電子ビーム通過
孔部の穿設されたシヤドウマスク素材１の両主面
に対設するように陽極板１０が設けられ、シヤド
ウマスク素材１の両主面に所定厚さ、例えば0.5
〜3.0μのニツケルめつきを施すニツケルめつき装
置１１と第３の水洗装置１２が設けられている、
攻にローラ３4，３5には矢印１３方法からCO2ガ
スまたは水蒸気を導入し、ニツケルめつきされた
シヤドウマスク素材を焼鈍と黒化処理を行なう黒
化熱処理装置１４が設けられている。これらを通
過したフラツトマスクの形成されたシヤドウマス
ク素材１はピツクオフ工程を経て、フラツトマス
クが抜き取られこのフラツトマスクはプレス成形
されシヤドウマスクが完成する。
工程、現像工程を経て両主面の所定位置にレジス
ト膜が被着された長尺のシヤドウマスク素材１を
リール２よりそれぞれ１対のローラ３1，３2，３
３，３4，３5で所定の移動速度により移動させる
が、この場合ローラ３1，３2間にはエツチング装
置４と第１の水洗装置５が設けられシヤドウマス
ク素材１に長方形状または円形状の電子ビーム通
過孔部を穿設するようになつている。またローラ
３2，３3間にはレジスト膜を除去するレジスト膜
除去装置６と第２の水洗装置７が設けられ、レジ
スト膜を除去するようになつている。またローラ
３3，３4間には複数個の案内用ローラ８によりニ
ツケルめつき液９中に導びかれた電子ビーム通過
孔部の穿設されたシヤドウマスク素材１の両主面
に対設するように陽極板１０が設けられ、シヤド
ウマスク素材１の両主面に所定厚さ、例えば0.5
〜3.0μのニツケルめつきを施すニツケルめつき装
置１１と第３の水洗装置１２が設けられている、
攻にローラ３4，３5には矢印１３方法からCO2ガ
スまたは水蒸気を導入し、ニツケルめつきされた
シヤドウマスク素材を焼鈍と黒化処理を行なう黒
化熱処理装置１４が設けられている。これらを通
過したフラツトマスクの形成されたシヤドウマス
ク素材１はピツクオフ工程を経て、フラツトマス
クが抜き取られこのフラツトマスクはプレス成形
されシヤドウマスクが完成する。
このようにシヤドウマスク素材のエツチング工
程、レジスト膜除去工程に続いてニツケルめつき
工程、熱処理工程を一貫して行なうことにより従
来のシヤドウマスク素材のニツケルめつき工程で
必要であつたローデイング、アンローデイング、
電解脱脂、水洗、弱酸処理、水洗、乾燥、などの
諸工程が全く不要となるばかりでなく、電子ビー
ム通過孔部の寸法の変化がなくなるため、最終的
にシヤドウマスクの品質向上、歩留向上をもたら
した。また従来の黒化兼用焼鈍で必要であつたフ
ラツトマスクのローデイング、アンローデイン
グ、積重ねなどの作業が不要となり、更に炉に入
れるフラツトマスクも積重ねてないため黒化膜厚
の不均一が非常に小さくなつた。
程、レジスト膜除去工程に続いてニツケルめつき
工程、熱処理工程を一貫して行なうことにより従
来のシヤドウマスク素材のニツケルめつき工程で
必要であつたローデイング、アンローデイング、
電解脱脂、水洗、弱酸処理、水洗、乾燥、などの
諸工程が全く不要となるばかりでなく、電子ビー
ム通過孔部の寸法の変化がなくなるため、最終的
にシヤドウマスクの品質向上、歩留向上をもたら
した。また従来の黒化兼用焼鈍で必要であつたフ
ラツトマスクのローデイング、アンローデイン
グ、積重ねなどの作業が不要となり、更に炉に入
れるフラツトマスクも積重ねてないため黒化膜厚
の不均一が非常に小さくなつた。
この熱処理炉内の雰囲気ガスの組成はシヤドウ
マスク素材の焼鈍特性に合わせて選定した温度域
により適当に選べばよいし、また予めニツケルめ
つきを施してあるため、黒化膜厚が薄くてもカラ
ー受像管の製造工程中の加熱工程においても錆の
発生がないため追加の黒化処理を必要とせず、完
全な黒化兼焼鈍が可能となつた。
マスク素材の焼鈍特性に合わせて選定した温度域
により適当に選べばよいし、また予めニツケルめ
つきを施してあるため、黒化膜厚が薄くてもカラ
ー受像管の製造工程中の加熱工程においても錆の
発生がないため追加の黒化処理を必要とせず、完
全な黒化兼焼鈍が可能となつた。
発明の効果
上述のように本発明のシヤドウマスクの製造方
法によればカラー受像管に装着されるシヤドウマ
スクの製造コストを低減化させるだけでなく、電
子ビーム通過孔部の寸法精度の向上、黒化膜厚の
均一化が得られるのでシヤドウマスクのみなら
ず、カラー受像管の画面の品位を向上させること
が可能となつた。
法によればカラー受像管に装着されるシヤドウマ
スクの製造コストを低減化させるだけでなく、電
子ビーム通過孔部の寸法精度の向上、黒化膜厚の
均一化が得られるのでシヤドウマスクのみなら
ず、カラー受像管の画面の品位を向上させること
が可能となつた。
図は本発明のシヤドウマスクの製造方法の一実
施例に用いられる一連の処理装置を示す説明用簡
略断面図である。 １……シヤドウマスク素材、４……エツチング
装置、５，７，１２……水洗装置、６……レジス
ト膜除去装置、１１……ニツケルめつき装置、１
４……黒化、熱処理装置。
施例に用いられる一連の処理装置を示す説明用簡
略断面図である。 １……シヤドウマスク素材、４……エツチング
装置、５，７，１２……水洗装置、６……レジス
ト膜除去装置、１１……ニツケルめつき装置、１
４……黒化、熱処理装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 両主面にレジスト膜を被着形成し、露光工
程、現像工程を経て前記両主面の所定位置にレジ
スト膜が形成された長尺のシヤドウマスク素材を
エツチング装置及び第１の水洗装置により所定の
電子ビーム通過孔部を穿設する工程と、レジスト
除去装置及び第２の水洗装置により残存するレジ
スト膜を除去する工程と、ニツケルめつき装置及
び第３の水洗装置により前記両主面に所定厚のニ
ツケルめつき層を形成する工程と、所定雰囲気を
有する黒化、熱処理装置により焼鈍、黒化する工
程とを順次所定の速度で通過させることを特徴と
するシヤドウマスクの製造方法。 ２ 所定厚のニツケルめつき層が0.5〜3.0μであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
シヤドウマスクの製造方法。 ３ 所定雰囲気が水蒸気またはCO2ガスを含む雰
囲気であることを特徴とする特許請求の範囲第１
項または第２項記載のシヤドウマスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56190538A JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56190538A JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5893145A JPS5893145A (ja) | 1983-06-02 |
| JPH0222974B2 true JPH0222974B2 (ja) | 1990-05-22 |
Family
ID=16259745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56190538A Granted JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5893145A (ja) |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP56190538A patent/JPS5893145A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5893145A (ja) | 1983-06-02 |
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