JPH10135106A

JPH10135106A - 周辺露光装置

Info

Publication number: JPH10135106A
Application number: JP8285233A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Akiyama; 一也秋山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-10-28
Filing date: 1996-10-28
Publication date: 1998-05-22
Anticipated expiration: 2016-10-28
Also published as: JP3439932B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上の素子領域の外形に沿って階段状に高
精度で周辺露光を行うことができる周辺露光装置を提供
する。【解決手段】基板回転部１０に保持した基板１の上方
にＣＣＤカメラ５１を配置し、基板１上の素子領域の少
なくとも１つのスクライブラインの交点近傍の画像を入
力し、交点の位置を算出する。また、ＣＣＤラインセン
サ４０により基板１の端縁位置を検出し、端縁位置とス
クライブラインの交点位置とから素子領域の外形寸法を
算出し、さらに素子領域の外形に沿った階段状の周辺露
光領域の位置座標を算出する。光照射部２０は、周辺露
光領域の位置座標に基づいて基板１の周辺領域を露光す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板の表面に塗布された感光膜の周縁部（周辺部）を露
光する周辺露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ等の基板上にレジスト液を回転塗布し、所定のパ
ターンに現像してレジストマスクを形成した後、このレ
ジストマスクを用いて薄膜パターンを形成することが行
われている。

【０００３】レジスト液が回転塗布された基板は、その
周縁部を把持されて種々の基板装置間を搬送される。レ
ジスト液は回転塗布によって基板の周縁部にまで塗り広
げられている。したがって、基板の周縁部を把持する
と、周縁部のレジストが剥離して飛散し、基板中央部の
レジスト膜表面を汚染したり、他の基板の表面を汚染し
たりして基板処理の歩留りを低下させてしまう場合があ
る。

【０００４】このために、ポジ型のレジストの場合に
は、周辺露光装置を用いて予め基板の周縁部のレジスト
を露光しておき、レジストパターンの現像時に同時に基
板周縁部の不要なレジストを除去する処理が行われてい
る。

【０００５】従来の周辺露光装置では、基板の外縁から
一定幅の領域を環状に露光する方法が行われている。こ
のような露光方法は、例えば、特開平２−２８８２２１
号公報あるいは特公平６−１２７５６号公報に開示され
ている。前者の周辺露光装置では、基板の外周縁に接触
させたカムを用いて機械的に基板のオリエンテーション
フラット（以下、オリフラと称す）またはノッチの位置
を検出し、これを基準として基板の周縁部に一定幅の周
辺露光領域を環状に形成している。

【０００６】また、後者の周辺露光装置では、ラインセ
ンサを用いて光学的に基板のオリフラやノッチの位置を
検出し、これを基準として一定幅の周辺露光領域を環状
に形成している。

【０００７】ところが、近年では、レジストから発生す
るパーティクルによる汚染を確実に防止するために、基
板周縁部の不要なレジストをより完全に除去する要望が
高まってきた。

【０００８】基板上には矩形の素子が複数形成されるた
め、整列した複数の素子（素子領域）の外形は階段状に
形成されている。一方、基板はほぼ円形であるため、基
板の外周縁から一定幅の周辺露光領域を形成すると、階
段状の素子領域の外形部分との間に不要なレジストが残
存する領域が生じる。

【０００９】そこで、最近では、階段状の素子領域の外
形に沿って周辺露光を行うことが可能な周辺露光装置が
提案されている。このような周辺露光装置は、例えば特
開平３−２４２９２２号公報に開示されている。図９
は、階段状周辺露光が可能な周辺露光装置の露光動作の
説明図である。図９において、基板１上には複数の素子
２が配列されており、素子間には各素子２を切断するた
めの切断線（スクライブライン）３が形成されている。

【００１０】この周辺露光装置では、基板１の周縁部に
形成すべき階段状の周辺露光領域５の寸法データが予め
記憶されている。そして、周辺露光処理では、まずフォ
トセンサ４５を用いて基板１のオリフラ部１ａを検出
し、オリフラ部１ａの位置に基づいて周辺露光の基準位
置を設定し、この基準位置から予め記憶した周辺露光領
域５の寸法データに従って基板１上のレジストの周辺露
光が行われる。図９中の点線４ａは素子領域の外形線７
から一定距離隔てた位置に形成されるべき正規の周辺露
光領域５との境界線を示している。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところが、各素子２は
基板１に形成されたアライメントマーク（図示省略）を
基準に形成されており、基板１の外周縁あるいはオリフ
ラ部１ａを基準に形成されているものではない。このた
め、基板１の外周縁位置、例えばオリフラ部１ａの位置
を基準に上記の周辺露光を行うと、基板１の外周縁に対
する素子２の相対的な位置関係が基板ごとにばらつきを
生じ、図９中で実線４ｂで示すように、周辺露光領域５
の端縁位置が正規の位置（点線４ａ）からずれる場合が
生じる。この場合には、素子２上の必要なレジストの部
分までが露光されたり、あるいは本来周辺露光により除
去すべき部分が残存したりして周辺露光の不良が発生す
るという問題があった。また、周辺露光領域５の寸法デ
ータを予め記憶させておく作業は煩雑であり、操作者の
負担が大きいものであった。

【００１２】本発明の目的は、基板上の素子領域の外形
に沿って階段状に高精度で周辺露光を行うことができる
周辺露光装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る周辺露光装置は、基板上に塗布された感光膜
のうち、基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を素
子領域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置で
あって、基板を水平に保持する基板保持手段と、基板お
よび素子領域の形状情報を入力する形状入力手段と、素
子領域内のスクライブラインの交点近傍の形状を画像デ
ータとして入力する画像入力手段と、画像入力手段から
入力された画像データからスクライブラインの交点位置
を検出し、交点位置および形状入力手段から入力された
基板および素子領域の形状情報に基づいて素子領域の外
形位置を算出し、素子領域の外形位置に基づいて素子領
域の外形に沿った周辺露光領域の位置を算出する露光領
域算出手段と、感光膜に光を照射する光照射手段と、露
光領域算出手段によって算出された周辺露光領域の位置
に基づいて感光膜の周辺露光領域が露光されるように光
照射手段を制御する制御手段とを備えたものである。

【００１４】第２の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、基板保持手段
が、基板を回転させる基板回転部を有しており、制御手
段が、基板が所定角度ずつ回転された位置毎に周辺露光
領域が分割して露光されるように光照射手段を制御する
ものである。

【００１５】第３の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、光照射手段
が、光を照射する光照射部と光照射部を基板の全面に亘
って移動させる移動部とを備えたものである。

【００１６】第１〜第３の発明に係る周辺露光装置にお
いては、画像入力手段から入力したスクライブラインの
交点近傍の画像と形状入力手段から入力された基板およ
び素子領域の形状情報とによって基板の素子領域が算出
され、さらに周辺露光領域の位置が算出される。このた
めに、素子領域の外形に沿った階段状の複雑な形状を有
する周辺露光領域に対して、操作者が位置座標を入力す
ることなく周辺露光が可能となり、周辺露光装置の操作
性が向上する。

【００１７】また、画像入力範囲が小さい画像入力手段
であっても、少なくとも１つのスクライブラインの交点
近傍の画像を入力できうる程度の入力範囲を有するもの
であれば周辺露光領域の算出が可能となる。このため、
小型の画像入力手段を用いることができる。しかも、基
板保持手段に保持された基板の画像を直接入力すること
により、周辺露光領域の位置算出を高精度に行うことが
できる。

【００１８】特に、第２の発明に係る周辺露光装置にお
いては、基板を所定角度ずつ回転させながら基板を分割
した所定領域毎に周辺露光処理を行うことが可能とな
り、これによって光照射手段の移動範囲に比べて外形の
大きい基板に対しても周辺露光処理を行うことが可能と
なる。

【００１９】特に、第３の発明に係る周辺露光装置にお
いては、光照射手段が基板の全面に亘って移動可能に構
成されているため、基板を静止した状態で周辺露光処理
を行うことが可能となり、これにより周辺露光装置の構
成および制御動作を簡素化することができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例による周
辺露光装置の構成図である。周辺露光装置は、基板１を
水平に保持して回転する基板回転部１０、基板１の周縁
部に光線を照射して露光する光照射部２０、光照射部２
０の照射位置を移動させるための移動部３０、基板１の
端縁位置を検出するためのＣＣＤラインセンサ４０およ
び基板１の素子領域の画像を入力する画像入力部５０を
備えている。

【００２１】基板回転部１０は、基板１の裏面を吸引し
て保持するスピンチャック１１と、スピンチャック１１
を鉛直方向に延びる軸の回りに回転させるモータ１２と
から構成されている。基板１はスピンチャック１１に水
平姿勢で吸引保持され、モータ１２の回転軸の軸芯を中
心に回動される。

【００２２】光照射部２０は、露光光線となる紫外線を
発生するための露光光源２８と、露光光源２８からの紫
外線を伝達する光ファイバ２３と、光ファイバ２３の先
端に取り付けられかつ基板１の表面に紫外線を照射する
照射端２１とを備えている。露光光源２８は、水銀キセ
ノンランプ２５、楕円鏡２６、紫外線透過フィルタ２４
およびシャッタ２７から構成されている。紫外線透過フ
ィルタ２４を透過した紫外線は光ファイバ２３を通り照
射端２１に導かれる。照射端２１は、紫外線を所定のス
ポット形状（例えば矩形）に絞って基板１に照射するた
めのスリットや光学レンズ系（図示省略）等を備えてい
る。

【００２３】移動部３０は、照射端２１を支持する支持
アーム２２をＸ方向（Ｘ軸）およびＹ方向（Ｙ軸）にそ
れぞれ変位させるための半径方向変位部Ｍｘおよび接線
方向変位部Ｍｙとから構成される。半径方向変位部Ｍｘ
は、Ｘ方向に往復移動可能なＸテーブル３０と、Ｘテー
ブル３０を移動させるためのステッピングモータ３２お
よびボールねじから構成されている。さらに、接線方向
変位部Ｍｙは、Ｙ方向に移動可能なＹテーブル３３とＹ
テーブル３３を移動させるためのステッピングモータ３
４およびボールねじから構成されている。

【００２４】ＣＣＤラインセンサ４０は、基板１の上方
に配置される光源４１と、基板１の下方において光源４
１と対向して配置される受光部４２とを備えている。光
源４１および受光部４２の一部は基板１の外周縁部より
も中心側に入り込んだ位置に設置されている。そして、
光源４１から受光部４２に光を照射した状態で基板１を
回転させ、光源４１からの光線を基板１が遮る位置を受
光部４２で検出することによって基板１の端縁位置を検
出する。

【００２５】画像入力部５０は、基板１表面に形成され
る素子領域の形状を画像として入力するためのＣＣＤカ
メラ５１、カメラレンズ５２および基板１の表面を照明
するカメラ用照明器５３から構成されている。カメラレ
ンズ５２が取り付けられたＣＣＤカメラ５１は、各素子
を分割するためのスクライブラインが２本直交する少な
くとも１つの交点および交点近傍のスクライブラインの
線分を取り込むことができる入力範囲を有している。Ｃ
ＣＤカメラ５１は基板１の上方に配置されており、特に
基板１の中心上方に配置された場合には、光照射部２０
の照射端２１との干渉を防止する上で有効である。ま
た、カメラ用照明器１２は基板１表面の照度が不足する
場合に使用する。

【００２６】図２は、周辺露光装置の機能ブロック図で
ある。ここで基板端縁位置算出手段Ａ、制御部Ｄ、露光
位置算出手段Ｇは、パーソナルコンピュータから構成さ
れ、露光幅設定手段Ｂ、露光量設定手段Ｃおよび露光範
囲設定手段Ｆはディスプレイおよびキーボード装置から
構成され、さらにスクライブライン位置算出部Ｅは画像
処理基板から構成される。

【００２７】上記の構成において、基板回転部１０、露
光範囲設定手段Ｆ、画像入力部５０がそれぞれ本発明の
基板保持手段、形状入力手段、画像入力手段を構成す
る。また、スクライブライン位置算出部Ｅおよび露光位
置算出手段Ｇが本発明の露光領域算出手段を構成し、光
照射部２０および移動部３０が光照射手段を、また制御
部Ｄが本発明の制御手段を構成する。

【００２８】上記の周辺露光装置の各部の動作は制御部
Ｄにより制御される。図３は、本発明の実施例による周
辺露光装置の動作を示すフローチャートである。以下、
図３を参照して周辺露光装置の周辺露光動作について説
明する。

【００２９】なお、周辺露光動作の説明に先立ち、基板
１の基板中心Ｏｗ、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒ
およびＣＣＤカメラ５１の画像入力領域Ｖの視野中心Ｏ
ｖの位置関係および周辺露光装置の座標系について図４
を参照して説明する。

【００３０】スピンチャック１１の回転中心ＯｒはＸ軸
の軸線上に位置し、さらにＣＣＤラインセンサ４０の検
出位置もＸ軸の軸線上に設定されている。また、移動部
３０の移動原点が図中Ｏ点に設定されている。

【００３１】基板１は、基板中心Ｏｗがスピンチャック
１１の回転中心Ｏｒに一致するようにスピンチャック１
１に載置されることが好ましいが、実際には、ずれて載
置される場合がある。また、ＣＣＤカメラ５１もその視
野中心Ｏｖがスピンチャック１１の回転中心Ｏｒに一致
するようにＣＣＤカメラ５１を設置することが難しく、
ずれて設置される場合がある。この場合、基板中心Ｏ
ｗ、視野中心Ｏｖ、回転中心Ｏｒの間には、例えば図中
に示す変位が生じる。そこで、以下に示す周辺露光装置
の動作の各ステップでは、これらの位置の変位量を考慮
した処理が行われる。

【００３２】まず、周辺露光装置でのＣＣＤカメラ５１
の組み立て動作時には、ＣＣＤカメラ５１の視野中心Ｏ
ｖとスピンチャック１１の回転中心Ｏｒとのオフセット
量を検出する。例えば、中心部分に「＋」印を描いたダ
ミーの基板をスピンチャック１１上に吸引保持して１／
ｎ周毎（ｎは２以上の整数）に回転させ、その時の
「＋」印を含む画像をＣＣＤカメラ５１から取り込む。
そして、ｎ個の画像について「＋」印の位置をスクライ
ブライン位置検出手段で算出し、それらの平均が回転中
心Ｏｒとなる。そこで、求められた回転中心ＯｒとＣＣ
Ｄカメラ５１の視野中心Ｏｖとの変位量（△Ｘ₂，△Ｙ
₂）をオフセット量として検出する。

【００３３】図３において、周辺露光処理が開始される
と、まず周辺露光処理の対象となる基板１が搬送装置に
よりスピンチャック１１上に載置され、吸引保持される
（ステップＳ１）。

【００３４】次に、操作者は、キーボードあるいは操作
パネル等を有する露光範囲設定手段Ｆを用いて処理対象
となる基板１の基板サイズ（外形）、素子サイズ（Ｘ方
向のサイズｘ，Ｙ方向のサイズｙ）、素子の配列数（Ｙ
方向の素子数ｈ，Ｘ方向の素子数ｖ）を入力する。ある
いは、露光装置等他の装置からこれらの情報を入力して
もよい。入力された基板情報はディスプレイの画面上に
表示される。図５は、画面上に表示された基板情報を示
す模式図である。基板情報に基づいて、素子２がＸ軸方
向にｖ個、Ｙ軸方向にｈ個整列した矩形の素子領域Ｒが
規定される。表示された素子領域Ｒは、一部が基板１の
外方にはみ出した不適切な素子２ａ（斜線部）も含んで
おり、このような不適切な素子２ａは画面上で反転表示
され、有効な素子領域Ｒｅから除外される。

【００３５】さらに、操作者は、表示された有効な素子
領域Ｒｅの中から露光すべきでない素子２を任意に指定
し、露光すべき素子領域Ｒｅを決定する。これにより、
有効な素子領域Ｒｅの範囲が確定し、その情報が記憶さ
れる（ステップＳ２）。

【００３６】次に、モータ１２を起動し、基板１を回転
させながらＣＣＤラインセンサ４０により基板１の端縁
位置を検出する。ＣＣＤラインセンサ４０では、基板１
の下方にある受光部４２の画素からＯＦＦ信号が出力さ
れ、基板１の外方にある画素からＯＮ信号が出力され
る。そして、ＯＮ信号を出力した画素の位置に基づい
て、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒから基板１の外
周端縁までの半径が基板１の外周縁に沿って数度の回転
角度毎に複数箇所で求められる。また、この時半径が求
められた各外周縁位置の回転角度も同時に検出される。

【００３７】基板１の基板中心Ｏｗがスピンチャック１
１の回転中心Ｏｒと一致している場合には、ＯＮ信号を
出力する画素の個数は変動しないが、偏心している場合
にはＯＮ信号を出力する画素の個数が変化する。そこ
で、この画素の変化量に基づいて基板１の基板中心Ｏｗ
を算出し、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒとのオフ
セット量を算出する。図４に示す例では、両者のオフセ
ット量は（△Ｘ₁，△Ｙ ₁）である（ステップＳ３）。

【００３８】また、ＣＣＤラインセンサ４０により検出
したスピンチャック１１の回転中心Ｏｒから外周端縁ま
での半径が最も短くなる点をオリフラ部１ａの中心位置
と判定し、このオリフラの中心位置がＣＣＤラインセン
サ４０の検出位置に一致する位置、あるいはその位置か
ら９０度、１８０度、２７０度回転した位置のいずれか
に基板１を停止させる。すなわち、図４に示すように、
ＣＣＤラインセンサ４０は、スピンチャック１１の回転
中心Ｏｒを通るＸ軸線上に検出位置が設定されている。
したがって、上記の位置で基板１を停止させると、基板
１のオリフラ部１ａの直線部分がＸ軸あるいはＹ軸にほ
ぼ平行になる。以下の説明では、図４に示すように、オ
リフラ部１ａがＣＣＤラインセンサ４０と反対側の位置
でＹ軸に平行となるように基板１を停止させたものとす
る（ステップＳ４）。

【００３９】次に、画像入力部５０から基板１表面の素
子領域の画像を入力する（ステップＳ５）。図６は、素
子領域の入力画像の模式図である。図６（ａ）におい
て、ＣＣＤカメラ５１の入力範囲Ｖは、少なくとも１つ
の素子２の角部（スクライブラインの交点）を含む大き
さを有している。

【００４０】スクライブライン位置算出部Ｅは、入力さ
れた画像データから各スクライブラインＳＬＸ０，ＳＬ
Ｙ０を識別し、スクライブラインの交点Ａの位置座標お
よびスクライブラインＳＬＹ０中の任意の点Ｂの位置座
標を求める。そして、２点Ａ，Ｂの座標値に基づいてス
クライブラインＳＬＹ０がＹ軸と平行であるか否かを判
定する。図６（ａ）のように、θだけ傾いている場合に
は、基板１を回転し、図６（ｂ）に示すように、スクラ
イブラインＳＬＹ０がＹ軸に平行となるように基板１の
回転停止位置を微調整する（ステップＳ６）。

【００４１】図７は、スクライブライン位置算出動作を
示す説明図である。スクライブライン位置算出部Ｅは、
さらに視野中心Ｏｖを基準に、露光範囲設定手段Ｆによ
り予め入力された素子サイズ（ｘ，ｙ）に基づいて各ス
クライブラインＳＬＸ−３〜ＳＬＸ−３，ＳＬＹ−３〜
ＳＬＹ３の座標値を算出する。これにより、素子領域Ｒ
ｅの外周の各基準点の座標値が求められる。さらに、各
座標値に、先に求められた視野中心Ｏｖとスピンチャッ
ク１１の回転中心Ｏｒとのオフセット量をそれぞれ加え
ることにより、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒを基
準とする素子領域Ｒｅの外形の基準点座標が求められる
（ステップＳ７）。

【００４２】図８は、周辺露光装置の周辺露光動作を示
す説明図である。素子領域Ｒｅの外形を規定する基準点
座標が求まると、露光位置算出手段Ｆは、素子領域Ｒｅ
の外形から一定幅離れて露光するためのオフセット幅を
加えて図８に示すような露光基準点Ｐ₀〜Ｐ₅の位置デ
ータを算出する。素子領域Ｒｅの外形と周辺露光領域と
のオフセット量は例えば２００μｍ以下に設定する（ス
テップＳ８）。

【００４３】図８に示すように、周辺露光処理は、基板
１を４分割したそれぞれの領域毎に行われる。光照射部
２０の照射端２１（図１参照）から照射されるスポット
光ＳＢは、矩形に絞られている。そして、移動部３０
は、まずスポット光ＳＢの基準点Ｓ₀が露光基準点Ｐ₀
に一致する位置に照射端２１を移動し、スポット光ＳＢ
の照射を開始する。さらに、図中の矢印方向に従って順
次露光基準点Ｐ₁〜Ｐ₅間を移動し、基板１の約４分の
１の周辺領域の露光処理を行う（ステップＳ９）。

【００４４】その後、基板のすべての周辺領域の露光処
理が終わったか否かを判定し（ステップＳ１０）、終了
していなければ、基板１を９０度回転し（ステップＳ１
１）、ステップＳ５からステップＳ９の処理を繰り返し
行う。

【００４５】すべての領域の周辺露光処理が終了する
と、周辺露光処理を終了する。これにより、素子領域Ｒ
ｅの外形に沿って所定距離だけ離れた階段状の周辺露光
領域を形成することができる。

【００４６】このように、本実施例による周辺露光装置
は、基板の端縁位置を検出するＣＣＤラインセンサ４０
と、基板上の素子の１つの角部の形状を画像情報として
入力するＣＣＤカメラ５１とを備え、１つのスクライブ
ラインの交点位置を検出することによって素子領域Ｒｅ
の外形寸法を算出し、この外形寸法に基づいて周辺露光
領域の座標値を算出して周辺露光処理を行うことができ
る。したがって、従来のように素子領域Ｒｅの位置情報
を逐一入力する必要が無くなり、操作性のよい処理効率
の高い周辺露光装置を得ることができる。

【００４７】なお、基板処理の初期段階において基板１
表面の画像が不鮮明な場合には、素子領域の画像情報を
取り込むことが困難となる。この場合には、ＣＣＤライ
ンセンサ４０により得られた基板１の端縁位置に基づい
て露光幅設定手段Ｂが露光幅を設定し、その露光幅で基
板の外周縁を環状に露光する周辺露光処理を併せて用い
てもよい。

【００４８】また、上記の実施例では、基板１の中心部
のスクライブラインの交点近傍の画像を取り込むように
ＣＣＤカメラ５１を配置したが、中心部に限らず、素子
領域Ｒｅ内の任意のスクライブラインの交点の画像を取
り込むようにＣＣＤカメラ５１を配置してもよい。この
場合、スクライブラインの交点位置は、スピンチャック
１１の回転中心ＯｒとＣＣＤカメラ５１の視野中心Ｏｖ
とのオフセット量から算出することができる。

【００４９】さらに、上記実施例では、ＣＣＤラインセ
ンサ４０を用いて基板１の端縁位置を検出するように構
成したが、基板１の端縁位置は他の手段を用いて検出す
るように構成してもよい。

【００５０】さらに、上記実施例では、基板１の４分の
１領域毎に周辺露光を行うように構成したが、移動部３
０のＸ，Ｙ方向への変位量が大きく、照射端２１が基板
１の全表面にわたって移動可能に構成される場合には、
基板１を回転することなく基板１の周辺露光を行うこと
ができる。この場合、露光位置算出手段Ｆは、基板１の
すべての周辺露光領域における露光基準点を同時に算出
するように構成される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による周辺露光装置の構成図で
ある。

【図２】本発明の実施例による周辺露光装置の機能ブロ
ック図である。

【図３】図１に示す周辺露光装置の動作を示すフローチ
ャートである。

【図４】周辺露光装置の基板中心、回転中心および視野
中心のオフセットの関係を示す説明図である。

【図５】基板上の有効な素子領域を決定する動作を示す
説明図である。

【図６】図１の周辺露光装置のＣＣＤカメラの入力画像
の模式図である。

【図７】スクライブライン位置算出部における動作を示
す説明図である。

【図８】図１の周辺露光装置における露光動作を示す説
明図である。

【図９】従来の周辺露光装置における露光動作を示す説
明図である。

【符号の説明】

１基板２素子１０基板回転部１１スピンチャック２０光照射部２１照射端３０移動部４０ＣＣＤラインセンサ５０画像入力部５１ＣＣＤカメラＳＬＸ−３〜ＳＬＸ３，ＳＬＹ−３〜ＳＬＹ３スクラ
イブラインＯｒスピンチャックの回転中心Ｏｖ視野中心Ｏｗ基板中心

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に塗布された感光膜のうち、前記
基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を前記素子領
域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置であっ
て、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、前記基板および前記素子領域の形状情報を入力する形状
入力手段と、前記素子領域内のスクライブラインの交点近傍の形状を
画像データとして入力する画像入力手段と、前記画像入力手段から入力された画像から前記スクライ
ブラインの交点位置を検出し、前記交点位置および前記
形状入力手段によって入力された前記基板および前記素
子領域の形状情報に基づいて前記素子領域の外形位置を
算出し、前記素子領域の外形位置に基づいて前記素子領
域の外形に沿った周辺露光領域の位置を算出する露光領
域算出手段と、前記感光膜に光を照射する光照射手段と、前記露光領域算出手段によって算出された前記周辺露光
領域の位置に基づいて前記感光膜の周辺露光領域が露光
されるように前記光照射手段を制御する制御手段とを備
えたことを特徴する周辺露光装置。
【請求項２】前記基板保持手段は、前記基板を回転さ
せる基板回転部を有しており、前記制御手段は、前記基板が所定角度ずつ回転された位
置毎に周辺露光領域が分割して露光されるように光照射
手段を制御することを特徴とする請求項１記載の周辺露
光装置。
【請求項３】前記光照射手段は、光を照射する光照射
部と前記光照射部を前記基板の全面に亘って移動させる
移動部とを備えたことを特徴とする請求項１記載の周辺
露光装置。