JPH10152487A - N−アシルピペラジン誘導体及び抗菌剤、抗潰瘍剤 - Google Patents
N−アシルピペラジン誘導体及び抗菌剤、抗潰瘍剤Info
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Abstract
する抗菌作用を有する化合物を提供する。 【解決手段】一般式化1で示されるN−アシルピペラジ
ン誘導体及びその塩、抗菌剤、抗潰瘍剤。 【化1】 (化1中、R1はピリジルカルボニルオキシ低級アルキ
ル基、ベンゾイルアミノ低級アルキル基、ベンジル基、
カルバモイル基、ピリジル基、又はジフェニルメチル基
を意味する。R2は低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を意味し、nは0〜2の整数を意味する。R3は水素
原子、アルケニル基、又はベンジル基を意味し、mは1
〜3の整数を意味する。)
Description
導体、特にヘリコバクター・ピロリに対する抗菌作用な
いし抗潰瘍作用を有するN−アシルピペラジン誘導体に
関する。
種の説が考えられている。特にストレス、及びリウマチ
疾患などの治療のための非ステロイド性抗炎症剤の服用
などが潰瘍の発生に密接に関連していることが解明され
ており、これらは胃や十二指腸への過剰な酸分泌を誘発
することが大きな原因といわれている。このため、酸分
泌を抑制することで、潰瘍の発生予防及び治療を行うこ
とが重要である。
ター・ピロリは、これが持つ強いウレアーゼ活性により
アンモニアを発生し、潰瘍を誘発するとともに、粘液や
粘膜内にしつこく生存するために潰瘍再発の最大の要因
と考えられるようになってきた。従って、この菌を殺菌
することができれば、潰瘍の再発を防止できると考えら
れている。
薬が開発されているが、ストレス性潰瘍の発生防止効果
あるいはヘリコバクター・ピロリに対する抗菌作用を持
つ薬剤は少ない。本発明は前記従来技術の課題に鑑みな
されたものであり、その目的は潰瘍の発生防止効果に優
れたN−アシルピペラジン誘導体及びそれを主成分とす
るヘリコバクター・ピロリに対する抗菌剤、抗潰瘍剤を
提供することにある。
に本発明者らが鋭意検討を行った結果、特定のN−アシ
ルピペラジン誘導体が、ヘリコバクター・ピロリに対す
る抗菌性ないし酸分泌抑制を主作用機序として各種潰瘍
に有効であることを見いだし、本発明を完成するにいた
った。すなわち、本発明にかかるN−アシルピペラジン
誘導体及びその塩は、下記一般式化5で示されることを
特徴とする。
ルキル基、ベンゾイルアミノ低級アルキル基、ベンジル
基、カルバモイル基、ピリジル基、又はジフェニルメチ
ル基を意味する。R2は低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基を意味し、nは0〜2の整数を意味する。R3は
水素原子、アルケニル基、又はベンジル基を意味し、m
は1〜3の整数を意味する。)
ケニル基であることが好適であり、さらには下記一般式
化6で示される化合物であることが好適である。
はピリジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイ
ルアミノ低級アルキル基又はベンジル基を意味する。R
2、m、及びnは前記化5と同じである。) なお、前記化5においてR3がアルケニル基である化合
物において、nが1又は2であり、R2がイソブチル基
又はメトキシ基であることが好適である。
基である化合物において、nが0であることが好適であ
る。また、本発明化合物において、R3がベンジル基、
R2が低級アルキル基であり、且つn=m=1であるこ
とが好適であり、さらには下記一般式化7で示される化
合物であることが好適である。
ジル基、R2は低級アルキル基、Rbはハロゲン原子を意
味し、lは0又は1を意味する。)
bがフッ素原子で、且つパラ位に結合していることが好
適である。また、前記化5においてR3がベンジル基、
R2が低級アルキル基であり、且つn=m=1である化
合物において、R2がイソブチル基であることが好適で
ある。また、本発明化合物において、下記一般式化8で
示される化合物であることが好適である。
意味し、R2は低級アルキル基を意味する。) なお、前記化8において、R2がイソブチル基であるこ
とが好適である。また、本発明にかかるヘリコバクター
・ピロリに対する抗菌剤は、前記N−アシルピペラジン
誘導体ないしその薬理的に許容できる塩を有効成分とす
ることを特徴する。また、本発明にかかる抗潰瘍剤は、
前記N−アシルピペラジン誘導体ないしその薬理的に許
容できる塩を有効成分とすることを特徴とする。
て説明する。本発明化合物において、R1に見られる
「ピリジルカルボニルオキシ低級アルキル基」は下記一
般式化9に示される基を意味する。
ましくは2である。
低級アルキル基」は下記一般式化10に示される基を意
味する。
ル基、qは1〜4の整数を意味するが、Yとして好まし
くは3,4−メチレンジオキシフェニル基であり、qと
して好ましくは2である。
芳香環上に置換基を有していてもよい。このような置換
基を有するベンジル基としては例えばピペロニル基が挙
げられる。R1に見られるカルバモイル基としては、そ
の窒素原子上に置換基を有していてもよい。このような
置換基としては低級アルキル基が挙げられる。なお、こ
こでいう低級アルキル基とは後述するR2における定義
と同じであるが、好ましくは分岐低級アルキル基であ
り、特に好ましくはプロピル基である。
ジン環上に置換基を有していてもよいが、好ましくは無
置換ピリジル基である。本発明化合物において、R2に
見られる低級アルキル基とは炭素数1〜6の直鎖もしく
は分岐状のアルキル基で、たとえばメチル、エチル、n
−プロピル、n−ブチル、イソプロピル、イソブチル、
1−メチルプロピル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル、1−エチルプロピル、イソアミル、n−ヘキシルな
どを挙げることができるが、好ましくは分岐低級アルキ
ル基であり、特に好ましくはイソブチル基である。
は、上記の低級アルキル基から誘導されるアルコキシ基
を意味するが、好ましい例はメトキシ基である。R3に
見られるアルケニル基とは、二重結合が1つ以上含まれ
る炭素数2〜20の直鎖又は分岐状のアルケニル基を意
味する。なお、二重結合の立体配置についてはシス(c
is)、トランス(trans)の二種が存在するが、
アルケニル基中のそれぞれの立体配置はこの何れであっ
てもよい。このようなアルケニル基のうち、好ましくは
分岐アルケニル基であり、特に好ましくはプレニル基、
ゲラニル基、ネリル基、ファルネシル基であり、さらに
好ましくはプレニル基、ゲラニル基である。
は、その芳香環上に置換基を有していてもよい。このよ
うな置換基としては、好ましくはハロゲン原子であり、
塩素、臭素、ヨウ素、フッ素が挙げられるが、最も好ま
しい例はフッ素である。また、該フッ素原子はパラ位に
存在することが好適である。以下に本発明化合物の製造
方法の例を説明するが、これらに限定されるものではな
い。
(I)のうち、R3がアルケニル基又はベンジル基である
ものは、図1に示す反応式Aのようして合成することが
できる。反応式Aにおいては、一般式(II)で表される
カルボン酸と一般式(III)で表される置換ピペラジン
から、混合酸無水物法、酸塩化物法、DCC法あるいは
アジド法などの公知のアミド結合形成反応を用いること
により、一般式(I)で表される本発明化合物であるN
−アシルピペラジン誘導体が得られる。化合物(III)
中におけるR1及び化合物(II)中におけるR2,m,n
は上記化5の定義の通りであり、R3はアルケニル基又
はベンジル基を意味する。
てたとえば、ジフェニルホスフィニッククロライド、エ
チルクロロホルメート、イソブチルクロロホルメート、
ピバロイルクロライドなどを用いて、カルボン酸(II)
をその対応する酸無水物へと変換した後、化合物(II
I)と反応させる。添加剤として例えば、有機塩基であ
るトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン
等が用いられる。溶媒として例えば、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類などが用いられている。反応温度、反応時間は使用す
る原料化合物に応じて変化させればよいが、通常−15
℃から溶媒の還流温度の範囲で行われる。
えば、五塩化リン、三塩化リン、塩化チオニル等を用い
て、カルボン酸(II)をその対応する酸塩化物へと変換
した後、化合物(III)と反応させる。添加剤として例
えば、有機塩基であるトリエチルアミン、ピリジン、N
−メチルモルホリン等が用いられる。溶媒として例え
ば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類などが用いられる。反
応温度、反応時間は使用する原料化合物に応じて変化さ
せればよいが通常、0℃から溶媒の還流温度の範囲で行
われる。
ば、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド塩酸塩(EDCI)等が用いられ
る。溶媒として例えば、ジクロロメタン、クロロホルム
などのハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類など
が用いられる。本反応は必要に応じて1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール(HOBt)やN−ヒドロキシスクシ
ンイミド(HONSu)を添加して行ってもよい。反応
温度、反応時間は使用する原料化合物に応じて変化させ
ればよいが通常、0℃から溶媒の還流温度の範囲で行わ
れる。
ば、ジフェニルホスホリルアジドなどを用いてカルボン
酸(II)をその対応するアジドへと変換した後、化合物
(III)と反応させる。添加剤として例えば、有機塩基
であるトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホ
リンなどが用いられる。溶媒として例えば、ジクロロメ
タン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類などが用いられる。反応温度、反応時間
は使用する原料化合物に応じて変化させればよいが通
常、0℃から溶媒の還流温度の範囲で行われる。
化剤として、ジフェニルホスフィニッククロライド、ピ
バロイルクロライド等を用い、添加剤としてはトリエチ
ルアミンを用いてクロロホルムまたはN,N−ジメチル
ホルムアミド等の溶媒中にて、−15℃から室温の範囲
で反応を行うことにより目的を達する。また、化5にお
いてR3がアルケニル基又はベンジル基である化合物
は、図2に示す反応式Bのようにしても合成することが
できる。
I)で表されるカルボン酸と、一般式(IV)で表される
保護ピペラジンから、反応式Aにおいて記述した縮合方
法を用いることにより、一般式(V)で表される化合物
が得られる。化合物(II)中におけるR2、n、mは上
記化5の定義の通りであり、R3はアルケニル基又はベ
ンジル基を意味する。化合物(IV)中におけるR4はア
ミノ保護基を表し、以後の反応において問題が起きない
限りベンジルオキシカルボニル基、第三ブチルオキシカ
ルボニル基などのウレタン型保護基、ホルミル基やトシ
ル基などのアシル型保護基、あるいはトリチル基などの
アルキル型保護基を用いることができる。
(V)で表される化合物を脱保護反応に付すことによ
り、一般式(VI)で表される化合物が得られる。本脱保
護反応はアミノ保護基R4の種類により公知の各種の方
法を用いることができる。例えばR4がホルミル基の場
合、脱保護剤としてヒドラジン、塩酸、過酸化水素など
が用いられる。具体的には例えば1Nから6Nの範囲の
塩酸を用いてメタノール中にて、0℃から室温の範囲で
反応を行うことにより目的を達する。
I)で表される化合物と一般式(VII)で表されるハロゲ
ン化物とを塩基の存在下で反応させることにより、一般
式(I-a)で表される本発明化合物であるN−アシルピ
ペラジン誘導体が得られる。化合物(VII)中における
Xはハロゲン原子を表し、R1は上記化5の定義のとお
りである。なお、塩基として例えば、炭酸カリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウムな
どの無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基が用いられる。具体的には例えば塩基として炭酸カリ
ウムを用い、アセトン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジクロロメタン、ベンゼンなどの溶媒中にて、0℃
から溶媒の還流温度の範囲で反応を行うことにより目的
を達する。
がベンゾイルアミノ低級アルキル基である化合物、例え
ば化6で示される化合物は反応式Cのようにして合成す
ることができる。反応式Cの第1段階において、上述の
反応式Bの第1段階で合成した化合物(V)を還元反応
に付すことにより、アミン(XVIII)が得られる。な
お、R4’はシアノアルキル基を表す。
方法が用いられ、例えばBirch還元法、金属水素錯化合
物による還元法、ラネーニッケルを用いる方法などを使
用することができる。Birch還元の場合は、触媒として
主にナトリウムやリチウムなどを用い、液体アンモニア
とメタノール、エタノールなどのアルコールとの混合溶
媒中で反応を行うことができる。金属水素錯化合物を用
いる場合は、試薬として水素化アルミニウムリチウムや
水素化アルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどが使
用できる。溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、メタノール、
エタノール、ブタノールなどのアルコール類などが使用
される。水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合は触媒と
してラネーニッケル、塩化アルミニウムや塩化コバルト
などを使用することができる。ラネーニッケルを用いる
場合は、アンモニア飽和メタノールを溶媒として加圧
下、水素添加を行なうことにより目的を達する。いずれ
の反応においても反応温度、反応時間は使用する原料化
合物に応じて変化させれば良いが、通常0℃から溶媒の
還流温度の範囲で行われる。
チウムなどを氷冷下テトラヒドロフラン中に懸濁させ、
そこへ化合物(V)を滴下し、0℃から溶媒の還流温度
の範囲で反応を行なう。次いで水、あるいは水酸化ナト
リウム水溶液などで処理することにより目的を達する。
II)とA−CO−Yとをアミド化させることにより本発
明化合物(II-b)が得られる。なお、Yは前記化10の
定義と同じであり、Aはヒドロキシル基、ハロゲン、ま
たは−OCOYを示す。本アミド化反応は、前記反応式
Aにおける反応条件と同様にして行うことができる。ま
た、本発明化合物(I)において、R3がベンジル基であ
る化合物、例えば前記化7で示される化合物は、図4に
示す反応式Dのようにして合成することができる。
II)で表されるカルボン酸と一般式(III)で表される
置換ピペラジンから、反応式Aにおいて記述した縮合方
法を用いることにより、一般式(IX)で表される化合物
が得られる。化合物(III)中におけるR1、及び化合物
(VIII)中におけるR2は上記化5の定義の通りであ
る。又、化合物(VIII)中におけるR5はフェノール性
水酸基の保護基を表し、以後の反応において問題を起こ
さない限りベンジル基、各種の置換ベンジル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基あるいは第三ブチルオキシカルボ
ニル基等を用いることができる。
X) で表される化合物を脱保護反応に付すことにより、
R5が水素原子である化合物 (XIX) が得られる。本脱保
護反応は保護基R5の種類により公知の各種の方法が用
いることができる。例えばR5がベンジル基の場合、還
元的な除去又は酸処理による除去法が用いられる。具体
的には、例えば接触還元条件下、触媒としてパラジウム
−炭素を用い、エタノール等の溶媒中にて室温から溶媒
の還流温度の範囲で反応を行なうことにより目的を達す
る。
X) で表される化合物と一般式 (X)で表される適当に置
換されたベンジルハライドを塩基存在下で反応させるこ
とにより、R3がベンジル基である本発明化合物 (I-c)
が得られる。化合物 (X) 中におけるRb、lは上記化7
の定義のとおりであり、Xはハロゲン原子を表す。本反
応における塩基として例えば、炭酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の無機
塩基、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が用い
られる。具体的には、例えば塩基として炭酸カリウムを
用い、アセトン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶
媒中にて、室温から溶媒の還流温度の範囲で反応を行な
うことにより目的を達する。
明化合物(I)においてR3が水素原子又はベンジル基で
あって、n=m=1でない化合物も合成することが可能
である。また、本発明化合物(I)においてR3が水素原
子であり、且つR1がベンジル基あるいはジメチルフェ
ニル基である化合物、例えば前記化8で示される化合物
は図5に示す反応式Eのようにして合成することができ
る。
II)で示される化合物を脱保護反応に付すことにより、
一般式(XX)で表される化合物が得られる。本脱保護反
応は前記反応式Dの第2段階の反応条件と同様に行うこ
とができる。反応式Eの第2段階において、一般式(X
X)で示されるカルボン酸と、一般式(III)で表される
置換ピペラジンから反応式Aにおいて記述した縮合方法
を用いることにより、本発明化合物(I-d)が得られる。
化合物(III)中におけるR1及び化合物(VIII)中にお
けるR2は上記化8の定義の通りである。次に、各原料
化合物の製造方法について説明する。
I) で表される原料化合物は、商業上入手可能である
か、又は公知の合成方法を用いて製造することが可能で
ある。例えば、原料化合物(II)においてR3がベンジ
ル基で、n=m=1である化合物(II-a)は図6に示す
反応式Fによって製造することができる。
I) で表される化合物と一般式 (X)で表される適当に置
換されたベンジルハライドを塩基存在下で反応させるこ
とにより、一般式 (XII)で表される化合物が得られる。
化合物 (XI) 中におけるR2は上記化5の定義の通りで
あり、化合物 (X) 中におけるRb、lは上記化7の定義
のとおりである。化合物 (X) 中におけるXはハロゲン
原子を表す。また、化合物 (XI) 中におけるR6はカル
ボキシル保護基を表し、以後の反応において問題を起こ
さない限り、メチル基、エチル基、第三ブチル基等の低
級アルキル基、フェナシル基あるいはトリクロロエチル
基等を用いることができる。
リウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナ
トリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基が用いられる。具体的には、例えば塩基とし
て炭酸カリウムを用い、アセトン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド等の溶媒中にて、室温から溶媒の還流温度の
範囲で反応を行なうことにより目的を達する。反応式F
の第二段階において、一般式 (XII) で表される化合物
を脱保護反応に付すことにより、一般式 (II-a) で表さ
れるカルボン酸が得られる。
知の各種の方法が用いられる。例えばR6がメチル基、
エチル基の場合には公知のエステル加水分解によって脱
保護される。具体的には、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の無機塩基を用い、水、メタノール、エ
タノール等の溶媒中にて、室温から溶媒の還流温度の範
囲で反応を行なうことにより目的を達する。
合物(II)のうち、例えばR3がアルケニル基である化
合物(II-b)は、例えば図5に示す反応式Gのようにし
て合成することができる。反応G中、化合物(XIII)に
おいてR2、m、nは上記化5の定義のとおりであり、
R7はカルボキシル保護基を表し、以後の反応において
問題を起こさない限りメチル基、エチル基、第3ブチル
基等の低級アルキル基、フェナシル基あるいはトリクロ
ロエチル基等を用いることができる。化合物(XIV)にお
けるR3はアルケニル基、Xはハロゲン原子を表す。
ルケニルハライドを、塩基存在下で(XIII)で表される
化合物と反応させ、ついで加水分解することによりカル
ボン酸(II-b)を合成することができる。本反応の一段
階めは塩基の存在下に行うことができ、ナトリウムアミ
ド、トリエチルアミン、水素化ナトリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸カリウム、酸化バリウム、酸化銀などが用
いられる。また、触媒量のヨウ化カリウムを加えること
もできる。溶媒としては例えば、メタノール、エタノー
ル、ブタノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ピリジンなどの芳香族化合物、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
などのアミド類、ジメチルスルホキシド、アセトンなど
のケトン類などが使用される。反応温度、反応時間は使
用する原料化合物に応じて変化させれば良いが、通常0
℃から溶媒の還流温度の範囲で行われる。
ヒドロフラン、N,N'−ジメチルホルムアミド等に溶解
し、塩基として水素化ナトリウム等を加えて攪拌した
後、アルケニルハライドを加えて室温から溶媒の還流温
度の範囲で反応を行なうことにより目的を達する。
物(XV)を酸あるいは塩基の存在下で加水分解すること
により、カルボン酸(II-b)を合成することができる。
酸としては塩酸、硫酸、p-トルエンスルホン酸など、塩
基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウ
ムt−ブトキシドなどが用いられる。溶媒としてはギ
酸、酢酸などのカルボン酸類、メタノール、エタノール
などのアルコール類、水あるいはこれらの混合溶媒など
が使用される。反応温度、反応時間は使用する原料化合
物に応じて変化させれば良いが、通常0℃から溶媒の還
流温度の範囲で行われる。
をメタノール、エタノールなどのアルコール類に溶解
し、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム水溶液を
加え、室温から還流温度で反応を行うことにより目的を
達する。なお、反応式Gで用いた原料化合物(XIV)は
図8に示す反応式Hのようにして合成することができ
る。反応式H中、X及びR3は上記反応式Gにおける定
義のとおりである。本反応において一般式(XVI)で表
されるアルコールをハロゲン化することにより一般式
(XIV)で表されるアルケニルハライドを得ることがで
きる。
般的な方法を用いることができる。例えばハロゲン化の
試薬として、塩酸や臭化水素酸などの強酸、三臭化リ
ン、三塩化リン、五塩化リンなどのリン化合物、塩化チ
オニル、N-ハロゲノスクシンイミドとジメチルスルフィ
ド、トリフェニルホスフィンとハロゲン化炭化水素、塩
化メタンスルホニルとリチウムハライドなどを用いて実
施することができる。溶媒としては、例えばジクロロメ
タン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ピリジンなどの芳香族類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類が用いられる。反応温
度、反応時間は使用する原料化合物に応じて変化させれ
ば良いが、通常0℃から溶媒の還流温度の範囲で行われ
る。
ルアミンの存在下でメタンスルホニルクロリド等を用
い、アセトン等の溶媒中において0℃から室温の範囲で
反応を行うことにより目的を達する。また、反応式Aま
たはDにおいて一般式 (III) で表される原料化合物は
商業上入手可能であるか、または図9に示す反応式Iに
よって製造することができる。
V) で表される保護ピペラジンと一般式 (VII) で表され
る適当なハライドを塩基存在下で反応させることによ
り、一般式 (XVII) で表される化合物が得られる。化合
物 (IV) 中におけるR4はアミノ保護基を表し、以後の
反応において問題が起きない限りベンジルオキシカルボ
ニル基、第三ブチルオキシカルボニル基等のウレタン型
保護基、ホルミル基やトシル基等のアシル型保護基、あ
るいはトリチル基等のアルキル型保護基を用いることが
できる。化合物 (VII) 中におけるXはハロゲン原子を
表す。
水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム
などの無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基が用いられる。具体的には例えば塩基として炭酸カ
リウムを用い、アセトン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジクロロメタン、ベンゼンなどの溶媒中にて、0℃
から溶媒の還流温度の範囲で反応を行うことにより目的
を達する。
II) で表される化合物を脱保護反応に付すことにより、
一般式 (III) で表される化合物が得られる。本脱保護
反応はアミノ保護基R4の種類により公知の各種の方法
を用いることができる。例えばR4がホルミル基の場
合、脱保護剤としてヒドラジン、塩酸、過酸化水素等が
用いられる。具体的には、例えば1Nから6Nの範囲の
塩酸を用いてメタノール中にて、0℃から室温の範囲で
反応を行なうことにより目的を達する。なお、上記の各
反応式において用いられている原料化合物で、製造法を
記述していない化合物、例えば(IV)、 (VII)、(VIII)、
(X)等は商業上入手可能であるか、あるいは公知の方法
を用い、容易に合成することができる。
ラジン誘導体(I)の酸付加塩としては、例えば塩酸、
臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩、酢酸、プ
ロピオン酸、クエン酸、乳酸、シュウ酸、マレイン酸、
フマル酸、コハク酸、酒石酸、メタンスルホン酸等の有
機酸との塩が挙げられる。これらの塩は通常の方法によ
り容易に製造することができる。
体は、強力な抗ストレス性潰瘍作用や優れた胃酸分泌抑
制作用を有し、さらに潰瘍再発の原因とされるヘリコバ
クター・ピロリに対する抗菌作用を有し、しかも安全性
が高い。このため、人または動物の消化性潰瘍の治療・
予防剤として有用である。このように、胃酸分泌抑制作
用及びヘリコバクター・ピロリに対する抗菌作用を共に
有する化合物は従来殆ど認められておらず、本発明化合
物が潰瘍の予防、治療のみならず、再発防止にも有効で
あることが示される。
として投与する場合、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル
剤、シロップ剤などとして経口的に投与してもよいし、
また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤として非経口的に投
与してもよい。投与量は症状の程度、個人差、年齢、潰
瘍の種類などにより下記範囲外の量を投与することもあ
り得るが、勿論それぞれの特定の場合における個々の状
況に適合するように調節しなければならない。通常成人
1日あたり約0.01〜200mg/kg、好ましくは0.
05〜50mg/kg、さらに好ましくは0.1〜10mg/kg
を1日1〜数回に分けて投与する。
法により製造するが、必要により薬理学的、製剤学的に
許容しうる添加物を加えてもよい。すなわち、経口用固
形製剤を調整する場合には、主薬に賦形剤、さらに必要
に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤
等を加えた後、常法により錠剤、被服錠剤、顆粒剤、散
剤、カプセル剤などとする。
ーチ、白糖、ブドウ糖、ソルビット、結晶セルロース、
二酸化ケイ素等が、結合剤としては、例えばポリビニル
アルコール、ポリビニルエーテル、エチルセルロース、
メチルセルロース、アラビアゴム、トラガント、ゼラチ
ン、シェラック、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒド
ロキシプロピルスターチ、ポリビニルピロリドン等が、
崩壊剤としては、例えば澱粉、寒天、ゼラチン末、結晶
セルロース、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、ク
エン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン等が、滑沢
剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム、タル
ク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物油など
が、着色剤としては医薬品に添加することが許されてい
るものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、
芳香酸、ハッカ油、龍脳、桂皮末などが用いられる。こ
れらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要
により適宜コーティングすることが可能である。
薬にpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添
加し、常法により皮下、筋肉内、静脈内用注射剤とす
る。以下、具体例を挙げて本発明を詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。まず、各実
施例の抗潰瘍剤としての評価に用いた試験方法について
説明する。
lc:SD系雄性ラットを一晩絶食し(摂水は自由)、
一群あたり5〜8匹として0.3%カルボキシメチルセ
ルロースナトリウムまたは0.05%Tween80水溶液に
溶解または懸濁した被験薬物(100mg/10ml/kg)を経
口投与した。なお、対象には基剤のみを投与した。10
分後にラットをストレスケージに入れ、21℃の恒温水
槽内に剣状突起まで浸した。水浸開始より7時間後にラ
ットを水槽より引き上げ、直ちにエーテルまたは炭酸ガ
スで屠殺して胃を摘出した。5%中性ホルマリン緩衝液
10mlを胃内に注入し、そのまま1%中性ホルマリン緩
衝液中に30分以上浸して固定したのち、胃の大彎に沿
って切開し腺胃部に発生している糜爛の長さを解剖顕微
鏡下にで測定した。胃一つあたりの糜爛の長さの総和を
潰瘍係数とした。
の効果を、潰瘍発生抑制率(%)として表した。潰瘍発
生抑制率(%)=(1-(被験薬物群の潰瘍係数/対象群の潰瘍
係数))×100
o) <意義>細胞レベルでの酸分泌抑制能を検討する。また
作用機序の検討に用いることができる。 <方法>まず遊離胃底腺膜標本を作製した。雄性日本白
色種家兎(2.5−3Kg)をネンブタールTMで麻酔死
させ、正中切開して直ちに胃を摘出し、幽門・噴門部を
切除して大彎部に沿って切開して2枚に分けた。粘膜面
に付着している胃内容物を氷冷PBS(−)で洗い流し
たのち、氷冷PBS(−)中で丁寧に洗い去った。胃壁
を粘膜面を上にしてコルク板上に広げ、滅菌ガーゼで餌
・粘液を完全に除去した。スパチラで粘膜を剥離し、氷
冷PBS(−)に集めた。PBS(−)で2回洗浄後、
はさみで2〜3mm3に細切した。さらに栄養液で2回洗
浄した。栄養液の組成は、NaCl 132.4mM,
KCl 5.4mM,Na2HPO4・12H2O 5m
M,NaH2PO4・2H2O 1mM,MgSO4 1.
2mM,CaCl2 1mM,HEPES 25mM,
glucose 2mg/ml,BSA 1mg/ml
である。コラゲナーゼ 1mg/mlを含む栄養液70
mlに細切した粘膜片を分散させ、三角フラスコに入れ
て37℃で40−60分間スターラーで激しく撹拌し
た。この間、100%O2を栄養液表面に吹き付けてお
き、またpHを適 宜測定して、低下していたら直ちに
アルカリでpH7.4に調整した。反応液に栄養液を加
えて約200mlとし、メッシュでろ過して50mlの
遠沈管に分注し、15分間静置して胃底腺を沈殿させ
た。上清をアスピレーターで除去・栄養液に分散・静
置、を繰り返して胃底腺を3回洗浄した。この時、ピペ
ッティングではなく、遠沈管2本に交互に繰り返し注ぎ
入れるかたちで分散させた。顕微鏡下で細胞数をカウン
トし、1.6×106cells/mlに調整した。
験を行なった。エッペンドルフチューブを秤量したの
ち、上述した栄養液に溶解したヒスタミン10μl(最
終濃度10-5M)、DMSOに溶解した被験薬物10μ
l(最終濃度10-5M)、栄養液で希釈した[14C]−
アミノピリン10μl(最終濃度0.05μCi/m
l)を入れ、上で調製した遊離胃底腺分散液970μl
を加え、37℃で40分間125回/分で振盪させた。
30秒間遠心し、上清200μlをミニバイアルにと
り、残りはアスピレーターで除去した。沈澱はチューブ
の蓋を開けた状態で80℃の乾燥機に一晩入れて完全に
乾固させたのち、蓋を閉めて室温に戻して秤量した。次
いで1N KOH 100μlを加え、蓋をして60℃
で1−2時間処理して溶解し、ミニバイアルに移した。
上清または沈澱の入ったミニバイアルにアトムライト4
mlを加え、液体シンチレーションカウンターで放射活
性を測定した。なお、20mM NaSCNを加えて水
素イオン濃度勾配をキャンセルさせたものを用いて沈澱
の放射活性の補正を行なったのち、沈澱に特異的にトラ
ップされたアミノピリンの集積率を算出した。なお、本
実験はduplicateで実施した。
離胃底腺では酸は分泌小管から腺腔にかけての空間に蓄
積する。アミノピリンは弱塩基(pKa=5.0)で中
性溶液中では非イオン型で細胞膜を自由に通過し、酸性
溶液中ではイオン化して電荷のため細胞膜を通過できな
くなることから、遊離胃底腺の閉じられた酸性空間にア
ミノピリンが蓄積する性質を利用している。アミノピリ
ンの集積率(R)は以下の式で算出される。 R=((補正した沈澱の放射活性)/(上清の放射活
性))×(200/(沈澱のmg乾燥重量)) <判定基準>最終濃度10-5Mにおける被験薬物の効果
は、酸分泌抑制率(%)で表した。 酸分泌抑制率(%)=(1−(被験薬物のR/対照群の
R))×100
抗菌性試験 <意義>潰瘍の発生及び再燃・再発に深く関与するとい
われているヘリコバクター・ピロリ(微好気性のグラム
陰性菌;以下、HP)に対する最小発育阻止濃度(MI
C)を測定し、抗ヘリコバクター・ピロリ作用を有する
化合物を見出す。
た。すなわち、Helicobacter pylor
i NCTC11637株の凍結菌株(−80℃)を市
販の5%羊血液加トリブチケースソイ寒天培地で復元さ
せ、さらに同培地で継代し、3日間前培養した。なお、
培養条件は、37℃,5%O2・10%CO2・85%N
2で行った。
25%以下のDMSO溶液にて調製し、これを減菌清製
水で種々の濃度となるように希釈し、各濃度の溶液各々
100μlを24ウエルプレートにとり、5%馬血液加
ブルセラ寒天培地900μlを加えて混合し固化させ、
MIC測定用培地を調製した。前培養で生育したコロニ
ーは適当量とり、Mueller Hinton Br
othに、肉眼で濁りが確認できる程度まで懸濁し、約
107cfu/mlの菌懸濁原液とした。この菌懸濁原
液をMueller Hinton Brothで10
2希釈し、接種用菌液(105cfu/ml)とした。菌
の接種は、接種用菌液10μl(約103cfu/m
l)を分注器にてMIC測定用培地上に滴下して行っ
た。菌を接種したMIC測定用培地は、前培養と同条件
下で7日間培養し、培養終了後に菌の生育の無有を判定
した。
か、認めても数個(5個以内)の被験薬物の最小濃度を
MIC値(μg/ml)として数値で表示した。なお、
MIC値が100μg/ml以上であったものについて
は、被験薬物濃度250mMの溶液で同様に調製したM
IC測定用培地と、被験薬物を含有しない溶液で同様に
調製したMIC測定用培地(コントロール)を用い、同
様に菌を接種して、比較を行った。そして、コントロー
ルのHPコロニー数に対する薬物含有培地のコロニー数
が90%未満であった場合は+、90%以上であった場
合は−で表示した。
〜5匹で用いた。試験当日朝9時より4〜5時間絶食
(摂水は自由)し、0.5%カルボキシメチルセルロー
スナトリウム水溶液に溶解または懸濁した被験薬物20
00mg/10ml/kgを経口投与した。なお、対照には基剤の
みを投与した。投与後15分、30分、1時間、2時
間、3時間の各時点で行動・症状観察を行い、一週間後
まで毎日経過観察した。体重は、絶食前・絶食後毎日同
じ時刻に測定した。死亡例については直ちに剖検し、臓
器の肉眼的観察を行った。生存例についても、投与一週
間後にエーテルまたは炭酸ガスで屠殺し、臓器の肉眼的
観察を行った。
投与時の毒性を5段階に分類して表した。 5:死亡率0%、行動・臓器とも全く毒性を認めない。 4:死亡率0%、臓器には毒性を認めないが、行動ない
し体重増加に若干の毒性を認める。 3:死亡例がある(全例死亡ではない)が臓器には毒性
を認めない。 2:死亡例の有無に関わらず、臓器に毒性を認める。 1:全例死亡
胞レベルでの毒性があるものも、抗潰瘍剤としては不適
当である。また、他の細胞レベルの試験における被験薬
物の作用が毒性によるものではないことを確認すること
ができる。
kg)をネンブタールTMで麻酔死させ、直ちに胃を摘出し
た。胃大彎を切開して胃内容物を除去し、粘膜表面をH
BSS(Hanks'balanced salt solution)で洗浄したの
ち、氷冷したHBSS中で実験室へ運搬した。幽門前庭
部を取り除き、胃体部粘膜をスバチラではがし、BME
(Basal Medium Eagle)中で2〜3mm3に細切した後、
ディスパーゼ280U/ml及びコラゲナーゼ30〜50U/
ml(メディウム:BME60ml)にて37℃で15分間
120〜130回/分振盪した。なお、コラゲナーゼ濃
度はロットが変わるごとに、細胞の状態を見て適宜変更
した。1mMEDTA含有EBSS(Earle's Balanced S
alt Solution)で2回洗浄した後、1mMEDTA含有M
EM(Minimum Essential Medium)で5分間37℃で振
盪した。次に、前述と同濃度のディスパーゼ・コラゲナ
ーゼで15分振盪させて上清を除去し、さらに50〜6
0分間、37℃・120〜130回/分振盪した。その
後、HBSSで2回洗浄した後、2%Ultrocer
GTMを含むHam F12にて1×106Cells/mlと
し、96穴プレートに200μlづつ分注した。37℃
・5%CO2・95%airで3日間インキュベートしてコ
ンフルエントに達した状態で、MTTアッセイに用い
た。
に溶解し、最終濃度10-4Mとなるように2%Ultr
ocer GTM含有HBSSで希釈した。8well/群と
し、メディウム100μlと交換後直ちにMTT試薬1
0μlを加えた。37℃・5%CO2・95%airで4時
間インキュベート後、遠心して上清を捨て、100%エ
タノール100μlを加えてMTTホルマザンを溶解
し、マイクロプレートリーダーで吸光度(OD570−
630)を測定した。これは生細胞のミトコンドリアの
みによってMTTがMTTホルマザンに変化し、色が変
わる現象を利用した方法である。
験薬物の細胞障害作用または細胞保護作用を細胞障害率
(%)として表した。 細胞障害率(%)=(1-(被験薬物群の吸光度/対照群の吸
光度))×100 従って、数字が小さい方が好ましい。
本発明の実施例にかかる化合物の抗潰瘍作用、HPに対
する抗菌作用及び安全性を調べた。化合物群1 本化合物群1のN−アシルピペラジン誘導体は前記化5
においてR3がアルケニル基の化合物である。本化合物
群1のN−アシルピペラジン誘導体として、下記の実施
例化合物を試験した。
1の化合物は優れた抗潰瘍作用、酸分泌抑制作用を有し
ており、ヘリコバクター・ピコリに対する高い抗菌性も
併有している。また、安全性も高いことが理解される。
前記化5において、R3がベンジル基、R2が低級アルキ
ル基であり、且つn=m=1である化合物である。本化
合物群2のN−アシルピペラジン誘導体として、下記の
実施例化合物を試験した。
ベンジル基をもち、隣接位にアルキル基をもつ本化合物
群2のN−アシルピペラジン誘導体において、高い抗潰
瘍作用、酸分泌抑制作用及びヘリコバクター・ピロリに
対する高い抗菌性を有し、また、非常に安全性が高いこ
とが理解される。
前記化5においてR3が水素原子、R2が低級アルキル基
であり、且つn=m=1である化合物である。本化合物
群3のN−アシルピペラジン誘導体として、下記の実施
例化合物を試験した。
3のN−アシルピペラジン誘導体は高い抗潰瘍作用、酸
分泌抑制作用及びヘリコバクター・ピロリに対する高い
抗菌性を有し、また、安全性も高いことが示された。
す。実施例1 1-(4-ゲラニルオキシ)ベンゾイル-4-[2-(ピペロニロ
イルアミノ)エチル]ピペラジンの合成 実施例8と同様にして、4-ゲラニルオキシ安息香酸 5.4
9gと、シアノメチルピペラジン2.75gとの縮合反応に
付することにより、7.19gのアミド体を得た。このアミ
ド体2.29gをメタノールに溶解し、氷冷下塩化コバルト
2.86g、及び水素化ホウ素ナトリウム2.27gを加えて2
0分室温で撹拌した。反応液を濃縮し、得られた残渣を
クロロホルムに溶解し、濾過した。濃縮によりアミン体
1.12gを得た。
トリエチルアミン0.45gを加えて氷冷した。ピペロニロ
イルクロライド0.41gを加えて0℃で3時間撹拌した。
炭酸水素ナトリウム溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。濾過濃縮後、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=5
0:1)で精製して、淡黄色オイル状の標題化合物0.27
g(23%)を得た。
z), 7.31-7.24(2H, m), 6.91(2H, d,J=8.8Hz), 6.84(1
H, d, J=8.8Hz), 6.57(1H, s), 6.03(2H, s), 5.48(1H,
t, J=6.4Hz), 5.09(1H, t, J=6.8Hz), 4.56(2H, d, J=
6.4Hz), 3.80-3.50(4H, bs), 3.53(2H, q, J=5.4Hz),
2.62(2H, t, J=5.9Hz), 2.17-2.03(4H, m), 1.74(3H,
s), 1.68(3H, s), 1.61(3H,s).
(ピペロニロイルアミノ)エチル]ピペラジンの合成 実施例8と同様にして、4-ゲラニルオキシ-3-イソブチ
ル安息香酸 1.51gをN-ヒドロキシエチルピペラジン0.6
5gとの縮合反応に付することにより、1.95g(94%)の
アミド体を得た。このアミド体1.95gとピペロニロイル
クロライド0.93gとを反応させることにより、淡黄色オ
イル状の標題化合物1.92g(68%)を得た。
z), 7.45(1H, s), 7.25(1H, d, J=8.3Hz), 7.15(1H,
s), 6.84(1H, d, J=8.8Hz), 6.82(1H, d, J=8.3Hz), 6.
04(1H, s), 5.45(1H, t, J=6.8Hz), 5.10(1H, t, J=6.4
Hz), 4.55(2H, d, J=5.8Hz), 4.42(2H, t, J=5.8Hz),
3.82-3.40(4H, bs), 2.79(2H, t, J=5.8Hz), 2.58(4H,
s),2.49(2H, d, J=6.8Hz), 2.18-2.04(4H, m), 1.91(1
H, n, J=6.4), 1.72(3H, s), 1.68(3H,s), 1.61(3H,
s), 0.88(6H, d, J=6.4Hz).
ルエチル)ピペラジンの合成 実施例8と同様にして4-ゲラニルオキシ安息香酸8.23g
をN-ヒドロキシエチルピペラジン3.91gとの縮合反応に
付すことによりアミド体11.6gを得た。このアミド体1.9
3gを、イソニコチノイルクロライド0.89gと反応させる
ことにより、標題化合物1.13g(46%)を得た。
d, J=5.4Hz), 7.36(2H,d, J=8.8Hz), 6.91(2H, d, J=
8.8Hz), 5.47(1H, t, J=6.8Hz), 5.09(1H, t, J=6.8H
z), 4.56(2H, d, J=6.4Hz), 4.50(2H, t, J=5.4Hz), 3.
85-3.40(4H, bs), 2.81(2H, t, J=5.4) 2,58(4H, s),
2.19-2.06(4H, m), 1.74(3H, s), 1.68(3H, s), 1.61(3
H, s).
ジンの合成 実施例8と同様にして、4-ゲラニルオキシ安息香酸 1.1
0gをN-ピペロニルピペラジン0.97gとの縮合反応に付
することにより、標題化合物1.85g(96%)を得た。
ンゾイルピペラジンの合成 実施例8と同様にして、3,5-ジメトキシ-4-ゲラニルオ
キシ安息香酸をN-ベンジルピペラジンとの縮合反応に付
することにより、標題化合物を得た。
ピペラジンの合成 実施例8と同様にして、3,4,5-トリプレニルオキシ安息
香酸1.12gをN-ベンジルピペラジン0.57gとの縮合反応に
付することにより、標題化合物1.14g(72%)を得た。1 H-NMR (CDCl3)δ: 7.27-7.32(2H, s), 6.60(2H,s),
5.52-5.60(1H, m), 5.44-5.52(2H, m), 4.54(4H, d, J=
6.3Hz), 4.50(2H, d, J=6.3Hz), 3.50-3.77(4H,m), 3.5
3(2H, s), 2.41-2.55(4H, m), 1.71- 1.76(18H, m).
ンゾイルピペラジンの合成 実施例8と同様にして、3,4-ジメトキシ-5-ゲラニルオ
キシ安息香酸1.00gをN-ベンジルピペラジン0.56gとの縮
合反応に付することにより、標題化合物1.29g(87%)を得
た。1 H-NMR (CDCl3)δ: 7.26-7.32(5H, m), 6.62(2H,s),
5.45-5.53(1H, m), 5.04-5.12(1H, m), 4.58(2H, d, J=
6.4Hz), 3.85(6H, s), 3.45-3.90(4H, m), 3.54(2H ,
s), 2.35-2.59(4H, m), 2.05-2.10(4H, m), 1.72(3H,
s), 1.67(3H, s), 1.60(3H, s).
ゾイル-4-(N-イソプロピルカルバモイル)ピペラジン
の合成 [4-(4-フルオロベンジルオキシ)-3-イソブチル]安息香
酸 1.51gをクロロホルム 25ml、トリエチルアミン1.39
mlに溶解し、氷冷下ジフェニルホスフィニッククロライ
ド0.96mlを加えた。40分間撹拌後、1-イソプロピルカ
ルバモイルピペラジン0.89gを加え、1.5時間室温にて
撹拌した。反応液を1N-水酸化ナトリウム水溶液、食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過
後、濾液を減圧濃縮し、残渣を再結晶(n-ヘキサン−酢
酸エチル混液)することにより、標題化合物の白色結晶
1.66g(73%)を得た。
28-7.22(1H, m), 7.18(1H,s), 7.09(1H, t, J=8.8Hz),
6.89(1H, d, J=8.3Hz), 5.06(2H, s), 4.23(1H,d, J=7.
3Hz), 3.98(1H, d, J=6.8Hz), 3.75-3.50(4H, bs), 3.3
9(4H, t, J=5.4Hz), 2.53(2H, d, J=7.3Hz), 2.02-1.85
(1H, m), 1.17(6H, d, J=6.8Hz), 0.89(6H, d, J=6.4H
z).
ンジルピペラジンの合成 実施例8と同様にして、4-ベンジルオキシ-3-イソブチ
ル安息香酸をN-ベンジルピペラジンとの縮合反応に付す
ることにより、標題化合物を得た。
ゾイル-4-(2-ピリジル)ピペラジンの合成 実施例8と同様にして、4-(4-フルオロベンジルオキ
シ)-3-イソブチル安息香酸をN-(2-ピリジル)ピペラジ
ンとの縮合反応に付することにより、標題化合物を得
た。
ニルピペラジンの合成 実施例8と同様にして、2-ヒドロキシ-3-イソブチル安
息香酸 0.50gを、N-ピペロニルピペラジン0.62gとの
縮合反応に付することにより、標題化合物0.64g(62.7
%)を得た。
(1H, d, J=7.4Hz), 7.07(1H, d, J=7.8Hz), 6.85(1H,
s), 6.71-6.77(3H, m), 5.95(2H, s), 3.73(4H, brt, J
=5.0Hz),3.45(2H, s), 2.52(2H, d, J=7.2Hz), 2.48(4
H, brt, J=5.0Hz), 1.92-2.04(1H, m), 0.92(6H, d, J=
6.6Hz).
ベンゾイルピペラジンの合成 実施例8と同様にして、3-ヒドロキシ-4-イソブチル安
息香酸をN-ジフェニルメチルピペラジンとの縮合反応に
付することにより、標題化合物を得た。
アシルピペラジン誘導体は、優れた抗潰瘍効果及びヘリ
コバクター・ピロリに対する抗菌作用と、高い安全性を
有する。
製造行程の一例を示す説明図である。
製造行程の一例を示す説明図である。
製造行程の一例を示す説明図である。
製造行程の一例を示す説明図である。
製造行程の一例を示す説明図である。
原料化合物の製造行程の一例を示す説明図である。
原料化合物の製造行程の一例を示す説明図である。
原料化合物の製造行程の一例を示す説明図である。
原料化合物の製造行程の一例を示す説明図である。
意味し、R2は低級アルキル基を意味する。)
芳香環上に置換基を有していてもよい。このような置換
基を有するベンジル基としては例えばピペロニル基が挙
げられる。R1に見られるカルバモイル基としては、そ
の窒素原子上に置換基を有していてもよい。このような
置換基としては低級アルキル基が挙げられる。なお、こ
こでいう低級アルキル基とは後述するR2における定義
と同じであるが、好ましくは分岐低級アルキル基であ
り、特に好ましくはイソプロピル基である。
(I)のうち、R3がアルケニル基又はベンジル基であ
る化合物(I−a)は、図1に示す反応式Aのようして
合成することができる。反応式Aにおいては、一般式
(II)で表されるカルボン酸と一般式(III)で表
される置換ピペラジンから、混合酸無水物法、酸塩化物
法、DCC法あるいはアジド法などの公知のアミド結合
形成反応を用いることにより、一般式(I−a)で表さ
れる本発明化合物であるN−アシルピペラジン誘導体が
得られる。化合物(III)中におけるR1及び化合物
(II)中におけるR2,m,nは上記化5の定義の通
りであり、R3はアルケニル基又はベンジル基を意味す
る。
化剤として、ジフェニルホスフィニッククロライド、ピ
バロイルクロライド等を用い、添加剤としてはトリエチ
ルアミンを用いてクロロホルムまたはN,N−ジメチル
ホルムアミド等の溶媒中にて、−15℃から室温の範囲
で反応を行うことにより目的を達する。また、化5にお
いてR3がアルケニル基又はベンジル基である化合物
(I−a)は、図2に示す反応式Bのようにしても合成
することができる。
がベンゾイルアミノ低級アルキル基である化合物、例え
ば一般式(I−b)で示される化合物は図3の反応式C
のようにして合成することができる。反応式Cの第1段
階において、上述の反応式Bの第1段階のようにして合
成できる化合物(V’)を還元反応に付すことにより、
アミン(XVIII)が得られる。なお、R4’はシア
ノアルキル基を表す。
チウムなどを氷冷下テトラヒドロフラン中に懸濁させ、
そこへ化合物(V’)を滴下し、0℃から溶媒の還流温
度の範囲で反応を行なう。次いで水、あるいは水酸化ナ
トリウム水溶液などで処理することにより目的を達す
る。
VII)とA−CO−Yとをアミド化させることにより
本発明化合物(I−b)が得られる。なお、Yは前記化
10の定義と同じであり、Aはヒドロキシ基、ハロゲ
ン、または−OCOYを示す。本アミド化反応は、前記
反応式Aにおける反応条件と同様にして行うことができ
る。また、本発明化合物(I)において、R3がベンジ
ル基である化合物、例えば前記化7で示される化合物
は、図4に示す反応式Dのようにして合成することがで
きる。
明化合物(I)においてR3が水素原子又はベンジル基
であって、n=m=1でない化合物も合成することが可
能である。また、本発明化合物(I)においてR3が水
素原子であり、且つR1がベンジル基あるいはジフェニ
ルメチル基である化合物、例えば前記化8で示される化
合物は図5に示す反応式Eのようにして合成することが
できる。
合物(II)のうち、例えばR3がアルケニル基である
化合物(II−b)は、例えば図7に示す反応式Gのよ
うにして合成することができる。反応式G中、化合物
(XIII)においてR2、m、nは上記化5の定義の
とおりであり、R7はカルボキシル保護基を表し、以後
の反応において問題を起こさない限りメチル基、エチル
基、第3ブチル基等の低級アルキル基、フェナシル基あ
るいはトリクロロエチル基等を用いることができる。化
合物(XIV)におけるR3はアルケニル基、Xはハロ
ゲン原子を表す。
トラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等に
溶解し、塩基として水素化ナトリウム等を加えて撹拌し
た後、アルケニルハライドを加えて室温から溶媒の還流
温度の範囲で反応を行なうことにより目的を達する。
法により製造するが、必要により薬理学的、製剤学的に
許容しうる添加物を加えてもよい。すなわち、経口用固
形製剤を調製する場合には、主薬に賦形剤、さらに必要
に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤
等を加えた後、常法により錠剤、被服錠剤、顆粒剤、散
剤、カプセル剤などとする。
薬にpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添
加し、常法により皮下、筋肉内、静脈内用注射剤とす
る。以下、具体例を挙げて本発明を詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。まず、各実
施例の抗潰瘍剤としての評価に用いた試験方法について
説明する。
実験を行なつた。エッペンドルフチューブを秤量したの
ち、上述した栄養液に溶解したヒスタミン10μl(最
終濃度10−5M)、DMSOに溶解した被験薬物10
pl(最終濃度10−5M)、栄養液で希釈した[14
C]−アミノピリン10μl(最終濃度0.05μCi
/ml)を入れ、上で調製した遊離胃底腺分散液970
μlを加え、37℃で40分間125回/分で振盪させ
た。30秒間遠心し、上清200μlをミニバイアルに
とり、残りはアスピレーターで除去した。沈澱はチュー
ブの蓋を開けた状態で80℃の乾燥機に一晩入れて完全
に乾固させたのち、蓋を閉めて室温に戻して秤量した。
次いで1N KOH 100μlを加え、蓋をして60
℃で1−2時間処理して溶解し、ミニバイアルに移し
た。上清または沈澱の入ったミニバイアルにアトムライ
トTM 4mlを加え、液体シンチレーションカウンター
で放射活性を測定した。なお、20mM NaSCNを
加えて水素イオン濃度勾配をキャンセルさせたものを用
いて沈澱の放射活性の補正を行なったのち、沈澱に特異
的にトラップされたアミノピリンの集積率を算出した。
なお、本実験はduplicateで実施した。
25%以下のDMSO溶液にて調製し、これを減菌清製
水で種々の濃度となるように希釈し、各濃度の溶液各々
100μlを24ウエルプレートにとり、5%馬血液加
ブルセラ寒天培地900μlを加えて混合し固化させ、
MIC測定用培地を調製した。前培養で生育したコロニ
ーは適当量とり、Mueller Hinton Br
othに、肉眼で濁りが確認できる程度まで懸濁し、約
107cfu/mlの菌懸濁原液とした。この菌懸濁原
液をMueller Hinton Brothで10
2希釈し、接種用菌液(105cfu/ml)とした。
菌の接種は、接種用菌液10μl(約103cfu)を
分注器にてMIC測定用培地上に滴下して行った。菌を
接種したMIC測定用培地は、前培養と同条件下で7日
間培養し、培養終了後に菌の生育の無有を判定した。
kg)をネンブタールTMで麻酔死させ、直ちに胃を摘
出した。胃大彎を切開して胃内容物を除去し、粘膜表面
をHBSS(Hanks’balanced salt
solution)で洗浄したのち、氷冷したHBS
S中で実験室へ運搬した。幽門前庭部を取り除き、胃体
部粘膜をスパチラではがし、BME(BasalMed
ium Eagle)中で2〜3mm3に細切した後、
ディスパーゼ280U/ml及びコラゲナーゼ30〜5
0U/ml(メディウム:BME60ml)にて37℃
で15分間120〜130回/分振盪した。なお、コラ
ゲナーゼ濃度はロットが変わるごとに、細胞の状態を見
て適宜変更した。1mMEDTA含有EBSS(Ear
le’s BalancedSalt Solutio
n)で2回洗浄した後、1mMEDTA含有MEM(M
inimum Essential Medium)で
5分間37℃で振盪した。次に、前述と同濃度のディス
パーゼ・コラゲナーゼで15分振盪させて上清を除去
し、さらに50〜60分間、37℃・120〜130回
/分振盪した。その後、HBSSで2回洗浄した後、2
%Ultrocer GTMを含むHam F12にて
1×106Cells/mlとし、96穴プレートに2
00μlづつ分注した。37℃・5%CO2・95%a
irで3日間インキュベートしてコンフルエントに達し
た状態で、MTTアッセイに用いた。
ジル基をもち、隣接位にアルキル基をもつ本化合物群2
のN−アシルピペラジン誘導体において、高い抗潰瘍作
用、酸分泌抑制作用及びヘリコバクター・ピロリに対す
る高い抗菌性を有し、また、非常に安全性が高いことが
理解される。
ソニコチノイルオキシエチル)ピペラジンの合成 実施例8と同様にして4−ゲラニルオキシ安息香酸8.
23gをN−ヒドロキシエチルピペラジン3.91gと
の縮合反応に付すことによりアミド体11.6gを得
た。このアミド体1.93gを、イソニコチノイルクロ
ライド0.89gと反応させることにより、標題化合物
1.13g(46%)を得た。
(1H,s),7.14(1H,d,J=7.4H
z),7.07(1H,d,J=7.8Hz),6.8
5(1H,s),6.71−6.77(3H,m),
5.95(2H,s),3.73(4H,brt,J=
5.0Hz),3.45(2H,s),2.52(2
H,d,J=7.2Hz),2.48(4H,brt,
J=5.0Hz),1.92−2.04(1H,m),
0.92(6H,d,J=6.6Hz).
Claims (13)
- 【請求項1】 下記一般式化1で示されることを特徴と
するN−アシルピペラジン誘導体及びその塩。 【化1】 (上記化1中、R1はピリジルカルボニルオキシ低級ア
ルキル基、ベンゾイルアミノ低級アルキル基、ベンジル
基、カルバモイル基、ピリジル基、又はジフェニルメチ
ル基を意味する。R2は低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基を意味し、nは0〜2の整数を意味する。R3は
水素原子、アルケニル基、又はベンジル基を意味し、m
は1〜3の整数を意味する。) - 【請求項2】 請求項1記載の化合物において、R3が
アルケニル基であることを特徴とするN−アシルピペラ
ジン誘導体及びその塩。 - 【請求項3】 請求項2記載の化合物において、下記一
般式化2で示されることを特徴とするN−アシルピペラ
ジン誘導体及びその塩。 【化2】 (化2中、Raはメチル基又はプレニル基を意味し、R1
はピリジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイ
ルアミノ低級アルキル基又はベンジル基を意味する。R
2、m、及びnは前記化1と同じである。) - 【請求項4】 請求項2又は3記載の化合物において、
nが1又は2であり、R2がイソブチル基又はメトキシ
基であることを特徴とするN−アシルピペラジン誘導体
及びその塩。 - 【請求項5】 請求項2又は3記載の化合物において、
nが0であることを特徴とするN−アシルピペラジン誘
導体及びその塩。 - 【請求項6】 請求項1記載の化合物において、R3が
ベンジル基、R2が低級アルキル基であり、且つn=m
=1であることを特徴とするN−アシルピペラジン誘導
体及びその塩。 - 【請求項7】 請求項6記載の化合物において、下記一
般式化3で示されることを特徴とするN−アシルピペラ
ジン誘導体及びその塩。 【化3】 (化3中、R1はカルバモイル基、ベンジル基又はピリ
ジル基、R2は低級アルキル基、Rbはハロゲン原子を意
味し、lは0又は1を意味する。) - 【請求項8】 請求項7記載の化合物において、lが1
であり、Rbがフッ素原子で、且つパラ位に結合してい
ることを特徴とするN−アシルピペラジン誘導体及びそ
の塩。 - 【請求項9】 請求項6〜8の何れかに記載の化合物に
おいて、R2がイソブチル基であることを特徴とするN
−アシルピペラジン誘導体及びその塩。 - 【請求項10】 請求項1記載の化合物において、下記
一般式化4で示されることを特徴とするN−アシルピペ
ラジン誘導体及びその塩。 【化4】 (化4中、R1はベンジル基又はジフェニルメチル基を
意味し、R2はイソブチル基を意味する。) - 【請求項11】 請求項10記載の化合物において、R
2がイソブチル基であることを特徴とするN−アシルピ
ペラジン誘導体及びその塩。 - 【請求項12】 請求項1〜11の何れかに記載のN−
アシルピペラジン誘導体ないしその薬理的に許容できる
塩を有効成分とするヘリコバクター・ピロリに対する抗
菌剤。 - 【請求項13】 請求項1〜11何れかに記載のN−ア
シルピペラジン誘導体ないしその薬理的に許容できる塩
を有効成分とする抗潰瘍剤。
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