JPH10156571A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
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- JPH10156571A JPH10156571A JP8321711A JP32171196A JPH10156571A JP H10156571 A JPH10156571 A JP H10156571A JP 8321711 A JP8321711 A JP 8321711A JP 32171196 A JP32171196 A JP 32171196A JP H10156571 A JPH10156571 A JP H10156571A
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- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 33
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 互いに異なる波形を有するレーザ光を被加工
物上の同一箇所に同時に照射してレーザ加工を行う場合
でも、安定した高効率のレーザ加工を実現することがで
きるレーザ加工装置を提供する。 【解決手段】 レーザ加工装置は、互いに異なる波形を
有するレーザ光３，８を発生させる一対のレーザ発振器
１，２と、一方のレーザ発振器１から出射されたレーザ
光３を反射させる全反射ミラー４と、他方のレーザ発振
器２から出射されたレーザ光８を反射させるとともに全
反射ミラー４で反射されたレーザ光３を透過させるハー
フミラー５とを備えている。ハーフミラー５において、
一方のレーザ発振器１からの透過レーザ光７と、他方の
レーザ発振器２からの反射レーザ光９とが同軸上で合成
され、集光レンズ１１、光ファイバ１２および集光レン
ズ１４を介して伝送された後、被加工物１４上に垂直方
向から照射される。
物上の同一箇所に同時に照射してレーザ加工を行う場合
でも、安定した高効率のレーザ加工を実現することがで
きるレーザ加工装置を提供する。 【解決手段】 レーザ加工装置は、互いに異なる波形を
有するレーザ光３，８を発生させる一対のレーザ発振器
１，２と、一方のレーザ発振器１から出射されたレーザ
光３を反射させる全反射ミラー４と、他方のレーザ発振
器２から出射されたレーザ光８を反射させるとともに全
反射ミラー４で反射されたレーザ光３を透過させるハー
フミラー５とを備えている。ハーフミラー５において、
一方のレーザ発振器１からの透過レーザ光７と、他方の
レーザ発振器２からの反射レーザ光９とが同軸上で合成
され、集光レンズ１１、光ファイバ１２および集光レン
ズ１４を介して伝送された後、被加工物１４上に垂直方
向から照射される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光を用いて被
加工物を加工するレーザ加工装置に係り、とりわけ互い
に異なる波形を有するレーザ光を被加工物上の同一箇所
に同時に照射してレーザ加工を行うレーザ加工装置に関
する。
加工物を加工するレーザ加工装置に係り、とりわけ互い
に異なる波形を有するレーザ光を被加工物上の同一箇所
に同時に照射してレーザ加工を行うレーザ加工装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、互いに異なる波形を有するレ
ーザ光を被加工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ
加工を行うレーザ加工装置が知られている。図３に示す
ように、このような従来のレーザ加工装置は、互いに異
なる波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発
振器３１，４３と、これら一対のレーザ発振器３１，４
３から出射されたレーザ光３２，４４のそれぞれを分岐
させて被加工物４０，４２の近傍まで導く光学系とを備
えている。
ーザ光を被加工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ
加工を行うレーザ加工装置が知られている。図３に示す
ように、このような従来のレーザ加工装置は、互いに異
なる波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発
振器３１，４３と、これら一対のレーザ発振器３１，４
３から出射されたレーザ光３２，４４のそれぞれを分岐
させて被加工物４０，４２の近傍まで導く光学系とを備
えている。
【０００３】ここで、レーザ光３２を分岐させて被加工
物４０，４２の近傍まで導く光学系は、レーザ光３２を
二分岐させるハーフミラー３３および全反射ミラー３４
と、これらハーフミラー３３および全反射ミラー３４の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ３５，３６と、集光レンズ３５，３６によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
３７，３８と、光ファイバ３７，３８の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物４０，４２上に集光させる集
光レンズ３９，４１とから構成されている。
物４０，４２の近傍まで導く光学系は、レーザ光３２を
二分岐させるハーフミラー３３および全反射ミラー３４
と、これらハーフミラー３３および全反射ミラー３４の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ３５，３６と、集光レンズ３５，３６によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
３７，３８と、光ファイバ３７，３８の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物４０，４２上に集光させる集
光レンズ３９，４１とから構成されている。
【０００４】また、レーザ光４４を分岐させて被加工物
４０，４２の近傍まで導く光学系は、レーザ光４４を二
分岐させるハーフミラー４５および全反射ミラー４６
と、これらハーフミラー４５および全反射ミラー４６の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ４７，４８と、集光レンズ４７，４８によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
４９，５０と、光ファイバ４９，５０の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物４０，４２上に集光させる集
光レンズ５１，５２とから構成されている。
４０，４２の近傍まで導く光学系は、レーザ光４４を二
分岐させるハーフミラー４５および全反射ミラー４６
と、これらハーフミラー４５および全反射ミラー４６の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ４７，４８と、集光レンズ４７，４８によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
４９，５０と、光ファイバ４９，５０の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物４０，４２上に集光させる集
光レンズ５１，５２とから構成されている。
【０００５】図３において、一方のレーザ発振器３１か
ら出射されたレーザ光３２はハーフミラー３３および全
反射ミラー３４により二分岐される。二分岐されたレー
ザ光の各々は集光レンズ３５，３６により集光されて光
ファイバ３７，３８の入射端に入射される。入射された
レーザ光の各々は光ファイバ３７，３８により被加工物
４０，４２の近傍まで伝送された後、光ファイバ３７，
３８の出射端から出射される。そして、光ファイバ３７
から出射されたレーザ光は集光レンズ３９により集光さ
れて被加工物４０上の所定箇所に照射され、光ファイバ
３８から出射されたレーザ光は集光レンズ４１により集
光されて被加工物４２上の所定箇所に照射される。
ら出射されたレーザ光３２はハーフミラー３３および全
反射ミラー３４により二分岐される。二分岐されたレー
ザ光の各々は集光レンズ３５，３６により集光されて光
ファイバ３７，３８の入射端に入射される。入射された
レーザ光の各々は光ファイバ３７，３８により被加工物
４０，４２の近傍まで伝送された後、光ファイバ３７，
３８の出射端から出射される。そして、光ファイバ３７
から出射されたレーザ光は集光レンズ３９により集光さ
れて被加工物４０上の所定箇所に照射され、光ファイバ
３８から出射されたレーザ光は集光レンズ４１により集
光されて被加工物４２上の所定箇所に照射される。
【０００６】また同様に、他方のレーザ発振器４３から
出射されたレーザ光４４はハーフミラー４５および全反
射ミラー４６により二分岐される。二分岐されたレーザ
光の各々は集光レンズ４７，４８により集光されて光フ
ァイバ４９，５０の入射端に入射される。入射されたレ
ーザ光の各々は光ファイバ４９，５０により被加工物４
０，４２の近傍まで伝送された後、光ファイバ４９，５
０の出射端から出射される。そして、光ファイバ４９か
ら出射されたレーザ光は集光レンズ５１により集光され
て被加工物４０上の所定箇所（光ファイバ３７から出射
されたレーザ光の照射箇所）に照射され、光ファイバ５
０から出射されたレーザ光は集光レンズ５２により集光
されて被加工物４２上の所定箇所（光ファイバ３８から
出射されたレーザ光の照射箇所）に照射される。
出射されたレーザ光４４はハーフミラー４５および全反
射ミラー４６により二分岐される。二分岐されたレーザ
光の各々は集光レンズ４７，４８により集光されて光フ
ァイバ４９，５０の入射端に入射される。入射されたレ
ーザ光の各々は光ファイバ４９，５０により被加工物４
０，４２の近傍まで伝送された後、光ファイバ４９，５
０の出射端から出射される。そして、光ファイバ４９か
ら出射されたレーザ光は集光レンズ５１により集光され
て被加工物４０上の所定箇所（光ファイバ３７から出射
されたレーザ光の照射箇所）に照射され、光ファイバ５
０から出射されたレーザ光は集光レンズ５２により集光
されて被加工物４２上の所定箇所（光ファイバ３８から
出射されたレーザ光の照射箇所）に照射される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のレーザ加工装置においては、例えば独立した光ファイ
バ３７，４９の各々により伝送されたレーザ光３２，４
４の一部が被加工物４０上の同一箇所に同時に照射され
る。しかしながら、光ファイバ３７，４９の出射端と被
加工物４０との間に配置される集光レンズ３９，５１が
機構的に互いに干渉するため、光ファイバ３７，４９か
ら出射されたレーザ光は被加工物４０に対して斜め方向
から照射されることになる。このような場合、被加工物
４０上の加工点におけるエネルギー分布が不均一とな
り、また被加工物４０上でのレーザ光の反射率が高くな
るので、安定した効率のよいレーザ加工を行うことがで
きないという問題がある。なお、この問題は被加工物４
２についても同様である。
のレーザ加工装置においては、例えば独立した光ファイ
バ３７，４９の各々により伝送されたレーザ光３２，４
４の一部が被加工物４０上の同一箇所に同時に照射され
る。しかしながら、光ファイバ３７，４９の出射端と被
加工物４０との間に配置される集光レンズ３９，５１が
機構的に互いに干渉するため、光ファイバ３７，４９か
ら出射されたレーザ光は被加工物４０に対して斜め方向
から照射されることになる。このような場合、被加工物
４０上の加工点におけるエネルギー分布が不均一とな
り、また被加工物４０上でのレーザ光の反射率が高くな
るので、安定した効率のよいレーザ加工を行うことがで
きないという問題がある。なお、この問題は被加工物４
２についても同様である。
【０００８】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、互いに異なる波形を有するレーザ光を被加
工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ加工を行う場
合でも、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
ものであり、互いに異なる波形を有するレーザ光を被加
工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ加工を行う場
合でも、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、互いに異なる
波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発振器
と、一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射
させる反射ミラーと、他方のレーザ発振器から出射され
たレーザ光を反射させるとともに前記反射ミラーで反射
されたレーザ光を透過させるハーフミラーとを備え、前
記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器から
の透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射
レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とするレーザ
加工装置を提供する。
波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発振器
と、一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射
させる反射ミラーと、他方のレーザ発振器から出射され
たレーザ光を反射させるとともに前記反射ミラーで反射
されたレーザ光を透過させるハーフミラーとを備え、前
記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器から
の透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射
レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とするレーザ
加工装置を提供する。
【００１０】また本発明は、互いに異なる波形を有する
レーザ光を発生させる一対のレーザ発振器と、一方のレ
ーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させる反射ミ
ラーと、他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光の
一部を反射させるとともに残りを透過させ、かつ前記反
射ミラーで反射されたレーザ光の一部を透過させるとと
もに残りを反射させるハーフミラーとを備え、前記ハー
フミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器からの透過
レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射レーザ
光とを同軸上で合成するとともに、前記一方のレーザ発
振器からの反射レーザ光と、前記他方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とす
るレーザ加工装置を提供する。
レーザ光を発生させる一対のレーザ発振器と、一方のレ
ーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させる反射ミ
ラーと、他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光の
一部を反射させるとともに残りを透過させ、かつ前記反
射ミラーで反射されたレーザ光の一部を透過させるとと
もに残りを反射させるハーフミラーとを備え、前記ハー
フミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器からの透過
レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射レーザ
光とを同軸上で合成するとともに、前記一方のレーザ発
振器からの反射レーザ光と、前記他方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とす
るレーザ加工装置を提供する。
【００１１】本発明によれば、互いに異なる波形を有す
るレーザ光はハーフミラーにおいて同軸上で合成され
る。これにより、互いに異なる波形を有するレーザ光を
被加工物に対して同一方向から照射することが可能とな
り、被加工物上の加工点におけるエネルギー分布を均一
にすることができる。また、レーザ光が同軸上で合成さ
れているので、被加工物に対してレーザ光を垂直方向か
ら照射することが可能となり、被加工物に対するレーザ
光の吸収率の低減を抑えることができる。
るレーザ光はハーフミラーにおいて同軸上で合成され
る。これにより、互いに異なる波形を有するレーザ光を
被加工物に対して同一方向から照射することが可能とな
り、被加工物上の加工点におけるエネルギー分布を均一
にすることができる。また、レーザ光が同軸上で合成さ
れているので、被加工物に対してレーザ光を垂直方向か
ら照射することが可能となり、被加工物に対するレーザ
光の吸収率の低減を抑えることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１および図２は本発明に
よるレーザ加工装置の一実施の形態を示す図である。
施の形態について説明する。図１および図２は本発明に
よるレーザ加工装置の一実施の形態を示す図である。
【００１３】図１に示すように、レーザ加工装置は、互
いに異なる波形を有するレーザ光３，８を発生させる一
対のレーザ発振器１，２と、一方のレーザ発振器１から
出射されたレーザ光３を反射させる全反射ミラー４と、
他方のレーザ発振器２から出射されたレーザ光８の一部
を反射させて反射レーザ光９とするとともに残りを透過
させて透過レーザ光１０とし、かつ全反射ミラー４で反
射されたレーザ光３の一部を透過させて透過レーザ光７
とするとともに残りを反射させて反射レーザ光６とする
ハーフミラー５とを備えている。
いに異なる波形を有するレーザ光３，８を発生させる一
対のレーザ発振器１，２と、一方のレーザ発振器１から
出射されたレーザ光３を反射させる全反射ミラー４と、
他方のレーザ発振器２から出射されたレーザ光８の一部
を反射させて反射レーザ光９とするとともに残りを透過
させて透過レーザ光１０とし、かつ全反射ミラー４で反
射されたレーザ光３の一部を透過させて透過レーザ光７
とするとともに残りを反射させて反射レーザ光６とする
ハーフミラー５とを備えている。
【００１４】一対のレーザ発振器１，２は、各々から出
射されるレーザ光３，８の光軸が互いに平行となるよう
に配置されている。また、全反射ミラー４は一方のレー
ザ発振器１から出射されたレーザ光３をその光軸と直交
する方向に反射させており、この反射光の光軸と、他方
のレーザ発振器２から出射されたレーザ光８の光軸とが
交差する位置にハーフミラー５が配置されている。
射されるレーザ光３，８の光軸が互いに平行となるよう
に配置されている。また、全反射ミラー４は一方のレー
ザ発振器１から出射されたレーザ光３をその光軸と直交
する方向に反射させており、この反射光の光軸と、他方
のレーザ発振器２から出射されたレーザ光８の光軸とが
交差する位置にハーフミラー５が配置されている。
【００１５】また、全反射ミラー４とハーフミラー５と
は、一方のレーザ発振器１からの透過レーザ光７の光軸
と、他方のレーザ発振器２からの反射レーザ光９との光
軸が略一致し、また一方のレーザ発振器１からの反射レ
ーザ光６の光軸と、他方のレーザ発振器２からの透過レ
ーザ光１０の光軸とが略一致するように互いの位置関係
および傾きが決められている。
は、一方のレーザ発振器１からの透過レーザ光７の光軸
と、他方のレーザ発振器２からの反射レーザ光９との光
軸が略一致し、また一方のレーザ発振器１からの反射レ
ーザ光６の光軸と、他方のレーザ発振器２からの透過レ
ーザ光１０の光軸とが略一致するように互いの位置関係
および傾きが決められている。
【００１６】さらに、ハーフミラー５と被加工物１５と
の間の光路上には、ハーフミラー５において合成された
透過レーザ光７および反射レーザ光９を集光させる集光
レンズ１１と、集光レンズ１１によるレーザ光の集光位
置に入射端が設けられた光ファイバ１２と、光ファイバ
１２の出射端から出射されたレーザ光１３を被加工物１
５上に集光させる集光レンズ１４とが設けられている。
の間の光路上には、ハーフミラー５において合成された
透過レーザ光７および反射レーザ光９を集光させる集光
レンズ１１と、集光レンズ１１によるレーザ光の集光位
置に入射端が設けられた光ファイバ１２と、光ファイバ
１２の出射端から出射されたレーザ光１３を被加工物１
５上に集光させる集光レンズ１４とが設けられている。
【００１７】また、ハーフミラー５と被加工物２１との
間の光路上には、ハーフミラー５において合成された反
射レーザ光６および透過レーザ光１０を反射させる全反
射ミラー１６と、全反射ミラー１６で反射されたレーザ
光を集光させる集光レンズ１７と、集光レンズ１７によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
１８と、光ファイバ１８の出射端から出射されたレーザ
光１９を被加工物２１上に集光させる集光レンズ２０と
が設けられている。
間の光路上には、ハーフミラー５において合成された反
射レーザ光６および透過レーザ光１０を反射させる全反
射ミラー１６と、全反射ミラー１６で反射されたレーザ
光を集光させる集光レンズ１７と、集光レンズ１７によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
１８と、光ファイバ１８の出射端から出射されたレーザ
光１９を被加工物２１上に集光させる集光レンズ２０と
が設けられている。
【００１８】次に、このような構成からなる本実施の形
態の作用について説明する。
態の作用について説明する。
【００１９】一方のレーザ発振器１から出射されたレー
ザ光３は、全反射ミラー４により反射された後、ハーフ
ミラー５においてその一部が透過されて透過レーザ光７
となるとともに残りが反射されて反射レーザ光６とな
る。
ザ光３は、全反射ミラー４により反射された後、ハーフ
ミラー５においてその一部が透過されて透過レーザ光７
となるとともに残りが反射されて反射レーザ光６とな
る。
【００２０】また、他方のレーザ発振器２から出射され
たレーザ光８は、ハーフミラー５においてその一部が反
射されて反射レーザ光９となるとともに残りが透過され
て透過レーザ光１０となる。
たレーザ光８は、ハーフミラー５においてその一部が反
射されて反射レーザ光９となるとともに残りが透過され
て透過レーザ光１０となる。
【００２１】このようにしてレーザ光３，８がハーフミ
ラー５を通過することにより、一方のレーザ発振器１か
らの透過レーザ光７と、他方のレーザ発振器２からの反
射レーザ光９とが互いに同軸上で合成され、また一方の
レーザ発振器１からの反射レーザ光６と、他方のレーザ
発振器２からの透過レーザ光１０とも互いに同軸上で合
成される。透過レーザ光７と反射レーザ光９の光軸、お
よび反射レーザ光６と透過レーザ光１０の光軸はハーフ
ミラー５の厚みに起因する所定距離だけずれているが、
このずれ量は非常に小さく、しかも両光軸は互いに平行
であるために、光路上に設けられた集光レンズ１１，１
４，１７，２０を介して結ばれる集光位置は同一箇所と
なる。
ラー５を通過することにより、一方のレーザ発振器１か
らの透過レーザ光７と、他方のレーザ発振器２からの反
射レーザ光９とが互いに同軸上で合成され、また一方の
レーザ発振器１からの反射レーザ光６と、他方のレーザ
発振器２からの透過レーザ光１０とも互いに同軸上で合
成される。透過レーザ光７と反射レーザ光９の光軸、お
よび反射レーザ光６と透過レーザ光１０の光軸はハーフ
ミラー５の厚みに起因する所定距離だけずれているが、
このずれ量は非常に小さく、しかも両光軸は互いに平行
であるために、光路上に設けられた集光レンズ１１，１
４，１７，２０を介して結ばれる集光位置は同一箇所と
なる。
【００２２】なお、一対のレーザ発振器１，２により発
生されるレーザ光３，８は、例えば図２（ａ）（ｂ）に
示すような連続発振の波形２２、パルス発振の波形２３
を有しており、これらのレーザ光を合成した結果、図２
（ｃ）に示すような波形２４を有するレーザ光が得られ
る。なお、合成されるレーザ光の波形としては図２
（ａ）（ｂ）に示したもの以外の各種の波形を用いるこ
とができ、これにより多種多様な加工に対応することが
できる。
生されるレーザ光３，８は、例えば図２（ａ）（ｂ）に
示すような連続発振の波形２２、パルス発振の波形２３
を有しており、これらのレーザ光を合成した結果、図２
（ｃ）に示すような波形２４を有するレーザ光が得られ
る。なお、合成されるレーザ光の波形としては図２
（ａ）（ｂ）に示したもの以外の各種の波形を用いるこ
とができ、これにより多種多様な加工に対応することが
できる。
【００２３】ハーフミラー５において同軸上で合成され
た透過レーザ光７および反射レーザ光９は、集光レンズ
１１により集光されて光ファイバ１２の入射端に入射さ
れる。入射されたレーザ光は光ファイバ１２により被加
工物１５の近傍まで伝送された後、光ファイバ１２の出
射端から出射される。そして、光ファイバ１２から出射
された異なる波形が組み合わされたレーザ光１３は集光
レンズ１４により集光され、被加工物１５に対して垂直
方向から照射される。
た透過レーザ光７および反射レーザ光９は、集光レンズ
１１により集光されて光ファイバ１２の入射端に入射さ
れる。入射されたレーザ光は光ファイバ１２により被加
工物１５の近傍まで伝送された後、光ファイバ１２の出
射端から出射される。そして、光ファイバ１２から出射
された異なる波形が組み合わされたレーザ光１３は集光
レンズ１４により集光され、被加工物１５に対して垂直
方向から照射される。
【００２４】また、ハーフミラー５において同軸上で合
成された反射レーザ光６および透過レーザ光１０は、全
反射ミラー１６により反射された後、集光レンズ１７に
より集光されて光ファイバ１８の入射端に入射される。
入射されたレーザ光は光ファイバ１８により被加工物２
１の近傍まで伝送された後、光ファイバ１８の出射端か
ら出射される。そして、光ファイバ１８から出射された
異なる波形が組み合わされたレーザ光１９は集光レンズ
２０により集光され、被加工物２１に対して垂直方向か
ら照射される。
成された反射レーザ光６および透過レーザ光１０は、全
反射ミラー１６により反射された後、集光レンズ１７に
より集光されて光ファイバ１８の入射端に入射される。
入射されたレーザ光は光ファイバ１８により被加工物２
１の近傍まで伝送された後、光ファイバ１８の出射端か
ら出射される。そして、光ファイバ１８から出射された
異なる波形が組み合わされたレーザ光１９は集光レンズ
２０により集光され、被加工物２１に対して垂直方向か
ら照射される。
【００２５】このように本実施の形態によれば、互いに
異なる波形を有するレーザ光３，８はハーフミラー５に
おいて同軸上で合成され、被加工物１５，２１に対して
垂直方向から同時に照射されるので、被加工物１５，２
１上の加工点における２種類のレーザ光３，８のエネル
ギー分布を均一にするとともに被加工物１５，２１に対
するレーザ光３，８の吸収率の低減を抑えることがで
き、このため安定した高効率のレーザ加工を実現するこ
とができる。
異なる波形を有するレーザ光３，８はハーフミラー５に
おいて同軸上で合成され、被加工物１５，２１に対して
垂直方向から同時に照射されるので、被加工物１５，２
１上の加工点における２種類のレーザ光３，８のエネル
ギー分布を均一にするとともに被加工物１５，２１に対
するレーザ光３，８の吸収率の低減を抑えることがで
き、このため安定した高効率のレーザ加工を実現するこ
とができる。
【００２６】また、必要とされる光ファイバや集光レン
ズ等の光学部品の点数が図３に示す従来のレーザ加工装
置と比較して約半分で済むので、安価でかつコンパクト
なレーザ加工装置を実現することができる。
ズ等の光学部品の点数が図３に示す従来のレーザ加工装
置と比較して約半分で済むので、安価でかつコンパクト
なレーザ加工装置を実現することができる。
【００２７】なお、本実施の形態では、２つはの被加工
物１５，２１にレーザ光が照射されるものとしたが、例
えば１つの被加工物１５のみにレーザ光が照射されるよ
うにしてもよく、この場合には全反射ミラー１６やその
後段に設けられる光学部材１７，１８，２０を省略する
ことができる。
物１５，２１にレーザ光が照射されるものとしたが、例
えば１つの被加工物１５のみにレーザ光が照射されるよ
うにしてもよく、この場合には全反射ミラー１６やその
後段に設けられる光学部材１７，１８，２０を省略する
ことができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、互
いに異なる波形を有するレーザ光が同軸上で合成され、
このようにして合成されたレーザ光を被加工物に対して
同一方向、好ましくは垂直方向から照射することができ
るので、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できる。
いに異なる波形を有するレーザ光が同軸上で合成され、
このようにして合成されたレーザ光を被加工物に対して
同一方向、好ましくは垂直方向から照射することができ
るので、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できる。
【図１】本発明によるレーザ加工装置の一実施の形態を
示す図である。
示す図である。
【図２】図１に示すレーザ加工装置における合成前およ
び合成後のレーザ光の波形を示す図である。
び合成後のレーザ光の波形を示す図である。
【図３】従来のレーザ加工装置を示す図である。
１，２ レーザ発振器 ３，８ レーザ光 ４，１６ 全反射ミラー ５ ハーフミラー ６，９ 反射レーザ光 ７，１０ 透過レーザ光 １１，１４，１７，２０ 集光レンズ １２，１８ 光ファイバ １３，１９ （合成された）レーザ光 １５，２１ 被加工物
Claims (2)
- 【請求項１】互いに異なる波形を有するレーザ光を発生
させる一対のレーザ発振器と、 一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
る反射ミラーと、 他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
るとともに前記反射ミラーで反射されたレーザ光を透過
させるハーフミラーとを備え、 前記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反
射レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とするレー
ザ加工装置。 - 【請求項２】互いに異なる波形を有するレーザ光を発生
させる一対のレーザ発振器と、 一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
る反射ミラーと、 他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光の一部を反
射させるとともに残りを透過させ、かつ前記反射ミラー
で反射されたレーザ光の一部を透過させるとともに残り
を反射させるハーフミラーとを備え、 前記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反
射レーザ光とを同軸上で合成するとともに、前記一方の
レーザ発振器からの反射レーザ光と、前記他方のレーザ
発振器からの透過レーザ光とを同軸上で合成したことを
特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321711A JPH10156571A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321711A JPH10156571A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10156571A true JPH10156571A (ja) | 1998-06-16 |
Family
ID=18135588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8321711A Pending JPH10156571A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10156571A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1162024A3 (en) * | 2000-04-11 | 2003-01-02 | Fanuc Ltd | Laser machining apparatus |
| JP2004319989A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | 結晶化装置および結晶化方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5472489U (ja) * | 1977-11-01 | 1979-05-23 | ||
| JPS56114390A (en) * | 1980-02-15 | 1981-09-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Laser apparatus |
| JPS58188173A (ja) * | 1982-04-27 | 1983-11-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レ−ザ装置 |
| JPH01254392A (ja) * | 1987-12-11 | 1989-10-11 | Nippon Steel Corp | 製品表面のダル加工法 |
-
1996
- 1996-12-02 JP JP8321711A patent/JPH10156571A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5472489U (ja) * | 1977-11-01 | 1979-05-23 | ||
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1162024A3 (en) * | 2000-04-11 | 2003-01-02 | Fanuc Ltd | Laser machining apparatus |
| JP2004319989A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | 結晶化装置および結晶化方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050906 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050916 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060124 |