JPH10172460A - 二重層蛍光膜およびその製造方法 - Google Patents
二重層蛍光膜およびその製造方法Info
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 輝度、色再現範囲およびコントラストが
向上した陰極線管用の二重層蛍光膜およびその製造方法
を提供する。 【解決手段】 陰極線管用パネル1の表面に、ブラック
マトリックス2と、赤色、緑色および青色蛍光体とが形
成されていて、青色蛍光体は、CIE Y色座標が0.
045〜0.065である第1層青色蛍光体B1と、こ
の第1層青色蛍光体B1上に形成されCIE Y色座標
が0.075〜0.095である第2層青色蛍光体B2
とからなる。
向上した陰極線管用の二重層蛍光膜およびその製造方法
を提供する。 【解決手段】 陰極線管用パネル1の表面に、ブラック
マトリックス2と、赤色、緑色および青色蛍光体とが形
成されていて、青色蛍光体は、CIE Y色座標が0.
045〜0.065である第1層青色蛍光体B1と、こ
の第1層青色蛍光体B1上に形成されCIE Y色座標
が0.075〜0.095である第2層青色蛍光体B2
とからなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は二重層蛍光膜および
その製造方法に関し、より詳細には、青色蛍光体を二重
に形成して輝度、コントラスト及び色再現範囲が向上で
きる陰極線管用二重層蛍光膜およびその製造方法に関す
る。
その製造方法に関し、より詳細には、青色蛍光体を二重
に形成して輝度、コントラスト及び色再現範囲が向上で
きる陰極線管用二重層蛍光膜およびその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般的なシャドーマスク型陰極線管は、
電子ビーム発射装置により照射される赤、緑、青3つの
電子ビームがシャドーマスク孔を通過して一点に集中し
た後、パネル内面の蛍光面に形成された赤、緑、青の蛍
光体に各々の電子ビームが衝突して、所定の画像を再現
する構造となっている。前記蛍光面は、所定のパターン
で形成されている赤、緑、青の蛍光体とこれら蛍光体間
の同一面に形成された光吸収膜であるブラックマトリッ
クスとからなっている。蛍光面を形成するための工程
は、通常、次のようになっている。パネルにフォトレジ
ストを塗布した後、加熱するなどにより乾燥し、前記パ
ネルをマスクスロットを通じて紫外線を照射して露光す
る。このように露光が完了されたパネルを洗浄して現像
することにより、露光されないフォトレジストを形成し
て乾燥する。フォトレジスト膜が形成された部分と形成
されていない部分が規則的に配列されたパネル上に、ブ
ラックマトリックス物質を塗布した後、エッチングする
ことにより、ブラックマトリックスを形成する。このよ
うにブラックマトリックスが形成されたパネルに、赤、
緑、青の蛍光体を使用して蛍光面を形成し、ここにアル
ミニウム膜を蒸着することにより蛍光膜を製造する。
電子ビーム発射装置により照射される赤、緑、青3つの
電子ビームがシャドーマスク孔を通過して一点に集中し
た後、パネル内面の蛍光面に形成された赤、緑、青の蛍
光体に各々の電子ビームが衝突して、所定の画像を再現
する構造となっている。前記蛍光面は、所定のパターン
で形成されている赤、緑、青の蛍光体とこれら蛍光体間
の同一面に形成された光吸収膜であるブラックマトリッ
クスとからなっている。蛍光面を形成するための工程
は、通常、次のようになっている。パネルにフォトレジ
ストを塗布した後、加熱するなどにより乾燥し、前記パ
ネルをマスクスロットを通じて紫外線を照射して露光す
る。このように露光が完了されたパネルを洗浄して現像
することにより、露光されないフォトレジストを形成し
て乾燥する。フォトレジスト膜が形成された部分と形成
されていない部分が規則的に配列されたパネル上に、ブ
ラックマトリックス物質を塗布した後、エッチングする
ことにより、ブラックマトリックスを形成する。このよ
うにブラックマトリックスが形成されたパネルに、赤、
緑、青の蛍光体を使用して蛍光面を形成し、ここにアル
ミニウム膜を蒸着することにより蛍光膜を製造する。
【0003】上記したような構造を持つ蛍光膜におい
て、輝度、色再現範囲およびコントラストは陰極線管の
画質に影響を及ぼす大変重要な要素であり、電子線に対
する発光強度を増加させて陰極線管の輝度を向上させ、
外光に対する反射度を増大させてコントラストを向上さ
せるための努力が続けられて来た。現在、陰極線管で
は、青色蛍光体として、ZnS;AgAl又はZnS;
AgClなどが使用されるのが一般的である。図2から
わかるように、輝度および色座標(Y)の大きさは互い
に反比例する関係にあり、色座標の値が大きくなること
は、色が薄くなって色の再現範囲がその分だけ低下する
ことを意味するので、輝度と色再現範囲を同時に向上さ
せるのは、いつも一定の制限がある。このような問題点
を解決するため、基本的なZnS系青色蛍光体に少量の
添加物を利用した高輝度化およびフィルターをパネルに
付着するなどの方法により高コントラスト化を図ってい
る。しかしながら、この方法は陰極線管でわずかな性能
向上が現われるにすぎず、しかもフィルターを使用した
場合には、工程上の困難性があり、製造原価を上昇させ
るなどの問題点がある。
て、輝度、色再現範囲およびコントラストは陰極線管の
画質に影響を及ぼす大変重要な要素であり、電子線に対
する発光強度を増加させて陰極線管の輝度を向上させ、
外光に対する反射度を増大させてコントラストを向上さ
せるための努力が続けられて来た。現在、陰極線管で
は、青色蛍光体として、ZnS;AgAl又はZnS;
AgClなどが使用されるのが一般的である。図2から
わかるように、輝度および色座標(Y)の大きさは互い
に反比例する関係にあり、色座標の値が大きくなること
は、色が薄くなって色の再現範囲がその分だけ低下する
ことを意味するので、輝度と色再現範囲を同時に向上さ
せるのは、いつも一定の制限がある。このような問題点
を解決するため、基本的なZnS系青色蛍光体に少量の
添加物を利用した高輝度化およびフィルターをパネルに
付着するなどの方法により高コントラスト化を図ってい
る。しかしながら、この方法は陰極線管でわずかな性能
向上が現われるにすぎず、しかもフィルターを使用した
場合には、工程上の困難性があり、製造原価を上昇させ
るなどの問題点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の有する問題点を解決するために案出されたもので、
その目的は、輝度、色再現範囲およびコントラストが向
上した二重層蛍光膜およびその製造方法を提供すること
にある。
術の有する問題点を解決するために案出されたもので、
その目的は、輝度、色再現範囲およびコントラストが向
上した二重層蛍光膜およびその製造方法を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、請求項記載
の発明により達成される。即ち、本発明の二重層蛍光膜
の特徴構成は、陰極線管用パネルの表面に、ブラックマ
トリックスと、赤色、緑色および青色蛍光体とが形成さ
れた二重層蛍光膜であって、前記青色蛍光体は、CIE
Y色座標が0.045〜0.065である第1層青色
蛍光体と、第1層青色蛍光体上に形成されCIE Y色
座標が0.075〜0.095である第2層青色蛍光体
とからなる点にある。
の発明により達成される。即ち、本発明の二重層蛍光膜
の特徴構成は、陰極線管用パネルの表面に、ブラックマ
トリックスと、赤色、緑色および青色蛍光体とが形成さ
れた二重層蛍光膜であって、前記青色蛍光体は、CIE
Y色座標が0.045〜0.065である第1層青色
蛍光体と、第1層青色蛍光体上に形成されCIE Y色
座標が0.075〜0.095である第2層青色蛍光体
とからなる点にある。
【0006】更に、本発明に係る二重層蛍光膜の製造方
法の特徴構成は、ブラックマトリックスが形成された陰
極線管用パネルの所定箇所に赤色および緑色蛍光体を形
成する工程と、前記パネルにCIE Y色座標が0.0
45〜0.065である第1層青色蛍光体を塗布する工
程と、この第1層青色蛍光体の上にCIE Y色座標が
0.075〜0.095である第2青色蛍光体を塗布す
る工程と、前記第1層および第2層青色蛍光体を露光お
よび現像して二重層青色蛍光体を形成する工程と、を有
する点にある。
法の特徴構成は、ブラックマトリックスが形成された陰
極線管用パネルの所定箇所に赤色および緑色蛍光体を形
成する工程と、前記パネルにCIE Y色座標が0.0
45〜0.065である第1層青色蛍光体を塗布する工
程と、この第1層青色蛍光体の上にCIE Y色座標が
0.075〜0.095である第2青色蛍光体を塗布す
る工程と、前記第1層および第2層青色蛍光体を露光お
よび現像して二重層青色蛍光体を形成する工程と、を有
する点にある。
【0007】このように、本発明は、第1層青色蛍光体
として、比較的濃い青色を呈するが輝度の低い蛍光体を
使用すると共に、第2層青色蛍光体として、比較的薄い
青色を呈するが輝度の低い蛍光体を使用することによ
り、色再現範囲および輝度特性を互いに補完しつつ、こ
れら特性を向上させ、併せてコントラストを向上させる
蛍光膜を提供し得るのである。従って、第1層青色蛍光
体と第2層青色蛍光体のCIE Y色座標が上記範囲を
外れると、蛍光体の色が濃くなりすぎたり、薄くなりす
ぎて好ましい蛍光体特性を十分に発揮することがない。
として、比較的濃い青色を呈するが輝度の低い蛍光体を
使用すると共に、第2層青色蛍光体として、比較的薄い
青色を呈するが輝度の低い蛍光体を使用することによ
り、色再現範囲および輝度特性を互いに補完しつつ、こ
れら特性を向上させ、併せてコントラストを向上させる
蛍光膜を提供し得るのである。従って、第1層青色蛍光
体と第2層青色蛍光体のCIE Y色座標が上記範囲を
外れると、蛍光体の色が濃くなりすぎたり、薄くなりす
ぎて好ましい蛍光体特性を十分に発揮することがない。
【0008】前記第1層青色蛍光体は5〜10μmの平
均直径を有し、顔料を付着したものであることが好まし
く、前記第2層青色蛍光体は顔料を付着しないのが好ま
しい。前記第1層青色蛍光体の平均直径が、5μm未満
あるいは10μmを越えると蛍光体の発光特性が低下
し、蛍光膜の製造が難しくなって好ましくない。又、前
記第1層青色蛍光体に顔料を付着させるのは、第1層青
色蛍光体はパネルと接する位置にあり、外光と接する層
であるので、この部分からの外光による反射をできるだ
け少なくするためである。前記第1層青色蛍光体の厚さ
と第2層青色蛍光体の厚さの比は、1:2であることが
好ましい。両蛍光体の厚さの比を逆にすると、輝度が低
下して好ましくない。
均直径を有し、顔料を付着したものであることが好まし
く、前記第2層青色蛍光体は顔料を付着しないのが好ま
しい。前記第1層青色蛍光体の平均直径が、5μm未満
あるいは10μmを越えると蛍光体の発光特性が低下
し、蛍光膜の製造が難しくなって好ましくない。又、前
記第1層青色蛍光体に顔料を付着させるのは、第1層青
色蛍光体はパネルと接する位置にあり、外光と接する層
であるので、この部分からの外光による反射をできるだ
け少なくするためである。前記第1層青色蛍光体の厚さ
と第2層青色蛍光体の厚さの比は、1:2であることが
好ましい。両蛍光体の厚さの比を逆にすると、輝度が低
下して好ましくない。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態を、図面を参照
して詳細に説明する。図1に示すように、ブラックマト
リックス2が形成された陰極線管用パネル1に赤色およ
び緑色蛍光体(R及びG)を、従来の方法を用いて形成
する。赤色および緑色蛍光体を形成した後、顔料を付着
して、CIE Y色座標が0.045〜0.065であ
る青色蛍光体スラリB1を塗布し、これを第1層青色蛍
光体スラリとする。この上にCIE Y色座標が0.0
75〜0.095である青色蛍光体B2スラリを塗布し
た後、これら2つの層の青色蛍光体スラリを露光および
現像して、二重層青色蛍光体を形成する。塗布方法は、
スピンコーティング又はロールコーティングなど、従来
のコーティング方法を使用できる。第1層青色蛍光体B
1の厚さ対第2層青色蛍光体B2の厚さの比は、約1:
2にすることが好ましい。このように、赤色、緑色およ
び二重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を
蒸着することにより蛍光膜を完成する。
して詳細に説明する。図1に示すように、ブラックマト
リックス2が形成された陰極線管用パネル1に赤色およ
び緑色蛍光体(R及びG)を、従来の方法を用いて形成
する。赤色および緑色蛍光体を形成した後、顔料を付着
して、CIE Y色座標が0.045〜0.065であ
る青色蛍光体スラリB1を塗布し、これを第1層青色蛍
光体スラリとする。この上にCIE Y色座標が0.0
75〜0.095である青色蛍光体B2スラリを塗布し
た後、これら2つの層の青色蛍光体スラリを露光および
現像して、二重層青色蛍光体を形成する。塗布方法は、
スピンコーティング又はロールコーティングなど、従来
のコーティング方法を使用できる。第1層青色蛍光体B
1の厚さ対第2層青色蛍光体B2の厚さの比は、約1:
2にすることが好ましい。このように、赤色、緑色およ
び二重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を
蒸着することにより蛍光膜を完成する。
【0010】
【実施例】より具体的に、好ましい実施例を、比較例と
共に説明する。しかし、下記した実施例は本発明の構成
および効果を表わす一実施例にすぎず、本発明が下記し
た実施例に限定されるものではない。
共に説明する。しかし、下記した実施例は本発明の構成
および効果を表わす一実施例にすぎず、本発明が下記し
た実施例に限定されるものではない。
【0011】[実施例1]14インチ大の陰極線管用パ
ネルに、フォトレジストであるPVP−DASを1μm
厚さで均一に塗布し、波長250〜600nmの紫外線
で20秒間、超高圧水銀灯により露光させ、現像液であ
る純水で現像し、25℃で3分間自然乾燥させてフォト
レジストドットを形成した。このように乾燥されたフォ
トレジストドットに、ブラックマトリックス物質をもっ
て黒鉛を塗布した後、露光、現像、洗浄してブラックマ
トリックスドットを形成した。次いで、赤色蛍光体と少
量の界面活性剤および分散剤を添加して、スラリを製造
した。このスラリをパネルに塗布、乾燥後、シャド−マ
スクに付着して超高圧水銀灯で露光させ、水を使用して
低圧現像することにより赤色蛍光体を形成した。同様な
方法により、前記工程を緑色蛍光体にも反復して適用し
た。このようにパネル上に、赤色および緑色の蛍光体を
形成した後、顔料を付着してCIE Y色座標が0.0
55である青色蛍光体B1スラリを10μmの厚さで塗
布し、この第1層青色蛍光体スラリ上にCIE Y色座
標が0.093である青色蛍光体B2スラリを20μm
の厚さに塗布した。これら2つの層の青色蛍光体スラリ
を露光および現像することにより、青色、緑色および二
重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を蒸着
することによって二重層蛍光膜を製造した。
ネルに、フォトレジストであるPVP−DASを1μm
厚さで均一に塗布し、波長250〜600nmの紫外線
で20秒間、超高圧水銀灯により露光させ、現像液であ
る純水で現像し、25℃で3分間自然乾燥させてフォト
レジストドットを形成した。このように乾燥されたフォ
トレジストドットに、ブラックマトリックス物質をもっ
て黒鉛を塗布した後、露光、現像、洗浄してブラックマ
トリックスドットを形成した。次いで、赤色蛍光体と少
量の界面活性剤および分散剤を添加して、スラリを製造
した。このスラリをパネルに塗布、乾燥後、シャド−マ
スクに付着して超高圧水銀灯で露光させ、水を使用して
低圧現像することにより赤色蛍光体を形成した。同様な
方法により、前記工程を緑色蛍光体にも反復して適用し
た。このようにパネル上に、赤色および緑色の蛍光体を
形成した後、顔料を付着してCIE Y色座標が0.0
55である青色蛍光体B1スラリを10μmの厚さで塗
布し、この第1層青色蛍光体スラリ上にCIE Y色座
標が0.093である青色蛍光体B2スラリを20μm
の厚さに塗布した。これら2つの層の青色蛍光体スラリ
を露光および現像することにより、青色、緑色および二
重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を蒸着
することによって二重層蛍光膜を製造した。
【0012】[比較例1]図3に示すように、14イン
チ大の陰極線管用パネル1に、フォトレジストであるP
VP−DASを1μm厚さで均一に塗布し、波長250
〜600nmの紫外線で20秒間、超高圧水銀灯により
露光させ、現像液である純水で現像し、25℃で3分間
自然乾燥してフォトレジストドットを形成した。このよ
うにして乾燥したフォトレジストドットに、ブラックマ
トリックス物質をもって黒鉛を塗布した後、露光、現
像、洗浄して、ブラックマトリックスドット2を形成し
た。次に、赤色蛍光体と少量の界面活性剤および分散剤
を添加して、スラリを製造した。このスラリをパネルに
塗布、乾燥後、シャドーマスクを付着して超高圧水銀灯
により露光し、水を使用して低圧現像することで赤色蛍
光体Rを形成した。同じ方法で、前記工程を緑色蛍光体
Gにも反復して適用した。このように赤色および緑色蛍
光体を形成した後、CIE Y色座標が0.066であ
る青色蛍光体スラリを10μmの厚さで塗布、露光およ
び現像して、青色蛍光体Bを形成した。このようにして
赤色、緑色および青色蛍光体を形成した後、アルミニウ
ム膜を蒸着することにより蛍光膜を製造した。
チ大の陰極線管用パネル1に、フォトレジストであるP
VP−DASを1μm厚さで均一に塗布し、波長250
〜600nmの紫外線で20秒間、超高圧水銀灯により
露光させ、現像液である純水で現像し、25℃で3分間
自然乾燥してフォトレジストドットを形成した。このよ
うにして乾燥したフォトレジストドットに、ブラックマ
トリックス物質をもって黒鉛を塗布した後、露光、現
像、洗浄して、ブラックマトリックスドット2を形成し
た。次に、赤色蛍光体と少量の界面活性剤および分散剤
を添加して、スラリを製造した。このスラリをパネルに
塗布、乾燥後、シャドーマスクを付着して超高圧水銀灯
により露光し、水を使用して低圧現像することで赤色蛍
光体Rを形成した。同じ方法で、前記工程を緑色蛍光体
Gにも反復して適用した。このように赤色および緑色蛍
光体を形成した後、CIE Y色座標が0.066であ
る青色蛍光体スラリを10μmの厚さで塗布、露光およ
び現像して、青色蛍光体Bを形成した。このようにして
赤色、緑色および青色蛍光体を形成した後、アルミニウ
ム膜を蒸着することにより蛍光膜を製造した。
【0013】[比較例2]14インチ大の陰極線管用パ
ネルに、フォトレジストであるPVP−DASを1μm
厚さで均一に塗布し、波長250〜600nmの紫外線
で20秒間、超高圧水銀灯で露光し、現像液である純水
で現像し、25℃で3分間自然乾燥してフォトレジスト
ドットを形成した。このように乾燥されたフォトレジス
トドットに、ブラックマトリックス物質をもって黒鉛を
塗布した後、露光、現像、洗浄してブラックマトリック
スドットを形成した。次に、赤色蛍光体と少量の界面活
性剤および分散剤を添加して、スラリを製造した。この
スラリをパネルに塗布、乾燥後、シャドーマスクを付着
して超高圧水銀灯で露光し、水を使用して低圧現像する
ことにより赤色蛍光体を形成した。同じ方法で、前記工
程を緑色蛍光体にも反復して適用した。このように赤色
および緑色蛍光体を形成した後、CIE Y色座標が
0.093である青色蛍光体スラリを10μmの厚さで
塗布し、このような1の青色蛍光体スラリ上に顔料を添
加してCIE Y色座標が0.055である青色蛍光体
スラリを20μm厚さで塗布した後、これら2つの青色
蛍光体スラリを露光および現像することにより、二重層
青色蛍光体を形成した。このように赤色、緑色および二
重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を蒸着
することにより二重層蛍光膜を製造した。
ネルに、フォトレジストであるPVP−DASを1μm
厚さで均一に塗布し、波長250〜600nmの紫外線
で20秒間、超高圧水銀灯で露光し、現像液である純水
で現像し、25℃で3分間自然乾燥してフォトレジスト
ドットを形成した。このように乾燥されたフォトレジス
トドットに、ブラックマトリックス物質をもって黒鉛を
塗布した後、露光、現像、洗浄してブラックマトリック
スドットを形成した。次に、赤色蛍光体と少量の界面活
性剤および分散剤を添加して、スラリを製造した。この
スラリをパネルに塗布、乾燥後、シャドーマスクを付着
して超高圧水銀灯で露光し、水を使用して低圧現像する
ことにより赤色蛍光体を形成した。同じ方法で、前記工
程を緑色蛍光体にも反復して適用した。このように赤色
および緑色蛍光体を形成した後、CIE Y色座標が
0.093である青色蛍光体スラリを10μmの厚さで
塗布し、このような1の青色蛍光体スラリ上に顔料を添
加してCIE Y色座標が0.055である青色蛍光体
スラリを20μm厚さで塗布した後、これら2つの青色
蛍光体スラリを露光および現像することにより、二重層
青色蛍光体を形成した。このように赤色、緑色および二
重層の青色蛍光体を形成した後、アルミニウム膜を蒸着
することにより二重層蛍光膜を製造した。
【0014】[比較例3]図3に示すように、14イン
チ大の陰極線管用パネル1に、フォトレジストであるP
VP−DASを1μm厚さで均一に塗布し、波長250
〜600nmの紫外線で20秒間、超高圧水銀灯により
露光し、現像液である純水で現像し、25℃で3分間自
然乾燥してフォトレジストドットを形成した。このよう
に乾燥されたフォトレジストドットに、ブラックマトリ
ックス物質をもって黒鉛を塗布した後、露光、現像、洗
浄してブラックマトリックスドット2を形成した。次い
で、赤色蛍光体と少量の界面活性剤および分散剤を添加
して、スラリを製造した。このスラリをパネルに塗布、
乾燥後シャドーマスクを付着して超高圧水銀灯で露光さ
せ水を使用して低圧現像することで赤色蛍光体Rを形成
した。同じ方法で、前記工程を緑色蛍光体Gにも反復し
て適用した。このように赤色および緑色蛍光体を形成し
た後、CIE Y色座標が0.093である青色蛍光体
スラリとCIE Y色座標が0.055である青色蛍光
体スラリを混合して、10μmの厚さで塗布した後、露
光および現像して青色蛍光体を形成した。このように赤
色、緑色および青色蛍光体を形成した後、アルミニウム
膜を蒸着することにより蛍光膜を製造した。
チ大の陰極線管用パネル1に、フォトレジストであるP
VP−DASを1μm厚さで均一に塗布し、波長250
〜600nmの紫外線で20秒間、超高圧水銀灯により
露光し、現像液である純水で現像し、25℃で3分間自
然乾燥してフォトレジストドットを形成した。このよう
に乾燥されたフォトレジストドットに、ブラックマトリ
ックス物質をもって黒鉛を塗布した後、露光、現像、洗
浄してブラックマトリックスドット2を形成した。次い
で、赤色蛍光体と少量の界面活性剤および分散剤を添加
して、スラリを製造した。このスラリをパネルに塗布、
乾燥後シャドーマスクを付着して超高圧水銀灯で露光さ
せ水を使用して低圧現像することで赤色蛍光体Rを形成
した。同じ方法で、前記工程を緑色蛍光体Gにも反復し
て適用した。このように赤色および緑色蛍光体を形成し
た後、CIE Y色座標が0.093である青色蛍光体
スラリとCIE Y色座標が0.055である青色蛍光
体スラリを混合して、10μmの厚さで塗布した後、露
光および現像して青色蛍光体を形成した。このように赤
色、緑色および青色蛍光体を形成した後、アルミニウム
膜を蒸着することにより蛍光膜を製造した。
【0015】上記実施例および比較例の製造方法により
製造された蛍光膜を使用して、陰極線管を製造した後、
光学系ミノルタCA−100を使用して、各蛍光膜の輝
度および蛍光体反射率比、即ち、コントラストを測定し
た結果を、下記の表1に示す。
製造された蛍光膜を使用して、陰極線管を製造した後、
光学系ミノルタCA−100を使用して、各蛍光膜の輝
度および蛍光体反射率比、即ち、コントラストを測定し
た結果を、下記の表1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】表1からわかるように、本実施例の二重層
蛍光膜は、一般的な製造方法により製造された比較例1
の蛍光膜に比べて、輝度が約20%向上しており、蛍光
体反射率比が約15%向上している。このように、本実
施例の二重層蛍光膜を形成した陰極線管は、輝度を高め
て陰極線管の発光面積を低減できるので、より小さいド
ットを有する陰極線管の製造を可能にし、次世代HDT
Vにも適用できる。
蛍光膜は、一般的な製造方法により製造された比較例1
の蛍光膜に比べて、輝度が約20%向上しており、蛍光
体反射率比が約15%向上している。このように、本実
施例の二重層蛍光膜を形成した陰極線管は、輝度を高め
て陰極線管の発光面積を低減できるので、より小さいド
ットを有する陰極線管の製造を可能にし、次世代HDT
Vにも適用できる。
【0018】
【発明の効果】以上の結果、本発明によれば、従来の陰
極線管用蛍光膜に比べて、輝度、色再現範囲およびコン
トラストが向上した二重層蛍光膜およびその製造方法を
提供することができた。
極線管用蛍光膜に比べて、輝度、色再現範囲およびコン
トラストが向上した二重層蛍光膜およびその製造方法を
提供することができた。
【図1】ブラックマトリックスが塗布されたパネルに赤
色および緑色の蛍光体および二重層の青色蛍光体を形成
した本発明の一実施例である蛍光膜の概略断面図
色および緑色の蛍光体および二重層の青色蛍光体を形成
した本発明の一実施例である蛍光膜の概略断面図
【図2】輝度と色座標の関係を表わすグラフ
【図3】ブラックマトリックスが塗布されたパネルに赤
色、緑色、青色の蛍光体を形成した従来の蛍光膜の概略
断面図
色、緑色、青色の蛍光体を形成した従来の蛍光膜の概略
断面図
1 陰極線管用パネル 2 ブラックマトリックス B1 第1層青色蛍光体 B2 第2層青色蛍光体 G 緑色蛍光体 R 赤色蛍光体
Claims (8)
- 【請求項1】 陰極線管用パネルの表面に、ブラックマ
トリックスと、赤色、緑色および青色蛍光体とが形成さ
れた二重層蛍光膜であって、前記青色蛍光体は、CIE
Y色座標が0.045〜0.065である第1層青色
蛍光体と、この第1層青色蛍光体上に形成されCIE
Y色座標が0.075〜0.095である第2層青色蛍
光体とからなる二重層蛍光膜。 - 【請求項2】 前記第1層青色蛍光体は5〜10μmの
平均直径を有すると共に、顔料が付着されている請求項
1記載の二重蛍光膜。 - 【請求項3】 前記第2層青色蛍光体は、顔料が付着さ
れていない請求項1又は2記載の二重蛍光膜。 - 【請求項4】 前記第1層青色蛍光体の厚さと第2層青
色蛍光体の厚さの比は、1:2である請求項1〜3のい
ずれか記載の二重蛍光膜。 - 【請求項5】 ブラックマトリックスが形成された陰極
線管用パネルの所定箇所に赤色および緑色蛍光体を形成
する工程と、 前記パネルにCIE Y色座標が0.045〜0.06
5である第1層青色蛍光体を塗布する工程と、 この第1層青色蛍光体の上にCIE Y色座標が0.0
75〜0.095である第2青色蛍光体を塗布する工程
と、 前記第1層および第2層青色蛍光体を露光および現像し
て二重層青色蛍光体を形成する工程と、 を有する二重層蛍光膜の製造方法。 - 【請求項6】 前記第1層青色蛍光体は5〜10μmの
平均直径を有すると共に、顔料を付着している請求項5
記載の二重層蛍光膜の製造方法。 - 【請求項7】 前記第2層青色蛍光体は、顔料を付着し
ていない請求項5又は6記載の二重層蛍光膜の製造方
法。 - 【請求項8】 前記第1層青色蛍光体の厚さと第2層青
色蛍光体の厚さの比は、1:2である請求項5〜7のい
ずれか記載の二重層蛍光膜の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| KR1019960061376A KR100197579B1 (ko) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 이중층 형광막 및 그의 제조방법 |
| KR1996-61376 | 1996-12-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172460A true JPH10172460A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=19485587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9170798A Pending JPH10172460A (ja) | 1996-12-03 | 1997-06-27 | 二重層蛍光膜およびその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5866977A (ja) |
| JP (1) | JPH10172460A (ja) |
| KR (1) | KR100197579B1 (ja) |
| CN (1) | CN1184325A (ja) |
| BR (1) | BR9703291A (ja) |
| DE (1) | DE19727245A1 (ja) |
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| TW434628B (en) * | 1999-02-24 | 2001-05-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | Color display device |
| DE10043530A1 (de) * | 2000-09-05 | 2002-03-14 | Philips Corp Intellectual Pty | Farbbildschirm mit blauer Leuchtstoffschicht |
| US6717346B2 (en) | 2000-12-01 | 2004-04-06 | Sony Corporation | CRT display matrix that emits ultraviolet light |
| KR100708649B1 (ko) * | 2004-11-10 | 2007-04-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및, 그것의 제조 방법 |
-
1996
- 1996-12-03 KR KR1019960061376A patent/KR100197579B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-06-02 US US08/867,710 patent/US5866977A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-06 TW TW086107829A patent/TW350962B/zh active
- 1997-06-26 DE DE19727245A patent/DE19727245A1/de not_active Withdrawn
- 1997-06-27 JP JP9170798A patent/JPH10172460A/ja active Pending
- 1997-06-27 BR BR9703291A patent/BR9703291A/pt active Search and Examination
- 1997-09-23 CN CN97119614A patent/CN1184325A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW350962B (en) | 1999-01-21 |
| BR9703291A (pt) | 1998-09-15 |
| KR100197579B1 (ko) | 1999-06-15 |
| KR19980043499A (ko) | 1998-09-05 |
| DE19727245A1 (de) | 1998-06-04 |
| US5866977A (en) | 1999-02-02 |
| CN1184325A (zh) | 1998-06-10 |
| MX9704904A (es) | 1998-06-28 |
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