JPH10175902A - エポキシ化合物開環方法 - Google Patents
エポキシ化合物開環方法Info
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- JPH10175902A JPH10175902A JP8359666A JP35966696A JPH10175902A JP H10175902 A JPH10175902 A JP H10175902A JP 8359666 A JP8359666 A JP 8359666A JP 35966696 A JP35966696 A JP 35966696A JP H10175902 A JPH10175902 A JP H10175902A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】エポキシ化合物のエポキシ環を開環してアルコ
シキ基とヒドロキシ基をもつ化合物に変換する新規な方
法を提供する。 【構成】エポキシ基を有する化合物とアルコール類とを
反応させるにさいし、第三級アミンを使用する。
シキ基とヒドロキシ基をもつ化合物に変換する新規な方
法を提供する。 【構成】エポキシ基を有する化合物とアルコール類とを
反応させるにさいし、第三級アミンを使用する。
Description
【産業上の利用分野】この発明は、エポキシ環を開環
し、アルコキシ化化合物を製造する方法に関するもので
あって、当該化合物を工業的に製造する方法を提供する
ものである。
し、アルコキシ化化合物を製造する方法に関するもので
あって、当該化合物を工業的に製造する方法を提供する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】エポキシ化合物を開環する方法として知
られているものに、１−メトキシ−２，３−エポキシブ
タンを、ソジウムとメタノールにから調製された溶液の
中で、還流し、１，２−ジメトキシ−３−ブタノールを
得る方法がある（ｖｏｌ．７６７０９．１９５４）。
１，２−エポキシブタンをソジウムメトキシドと共に加
熱する方法や酸性メタノールと加熱する方法が知られて
いる（Ｊ．Ｃ．Ｓ．１９５９ ５６７）。
られているものに、１−メトキシ−２，３−エポキシブ
タンを、ソジウムとメタノールにから調製された溶液の
中で、還流し、１，２−ジメトキシ−３−ブタノールを
得る方法がある（ｖｏｌ．７６７０９．１９５４）。
１，２−エポキシブタンをソジウムメトキシドと共に加
熱する方法や酸性メタノールと加熱する方法が知られて
いる（Ｊ．Ｃ．Ｓ．１９５９ ５６７）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、エポキシ化
合物とアルコール類とを反応させエポキシ環を開環し、
隣る炭素原子に水酸基を結合したアルコキシ化化合物を
製造するに際して、高い純度で目的物を得ることができ
且つ工業的製造にも適している方法を提供せんとするも
のである。
合物とアルコール類とを反応させエポキシ環を開環し、
隣る炭素原子に水酸基を結合したアルコキシ化化合物を
製造するに際して、高い純度で目的物を得ることができ
且つ工業的製造にも適している方法を提供せんとするも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】エポキシ化合物とアルコ
ールとを反応させてエポキシ環を開環し、隣る炭素原子
にアルコキシ基を有するアルコールを製造するに際し、
アミン取り分け第三級アミンを存在させることによって
発明の目的が達成される。即ち、従来使用されてきたア
ルコラートのごとき強いアルカリ性物ではなく、また水
と爆発的に反応する危険もない第三級アミンを触媒量の
使用で反応を完結せしめるというものである。
ールとを反応させてエポキシ環を開環し、隣る炭素原子
にアルコキシ基を有するアルコールを製造するに際し、
アミン取り分け第三級アミンを存在させることによって
発明の目的が達成される。即ち、従来使用されてきたア
ルコラートのごとき強いアルカリ性物ではなく、また水
と爆発的に反応する危険もない第三級アミンを触媒量の
使用で反応を完結せしめるというものである。
【０００５】本発明において使用されるエポキシ化合物
としては、１，２−ブチレンオキシド、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、
１，２−エポキシオクタンなどが挙げられる。次に、使
用されるアルコール類としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、イゾブタノー
ル、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、アリルアル
コール、トリフルオロエタノールなどが挙げられる。
としては、１，２−ブチレンオキシド、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、
１，２−エポキシオクタンなどが挙げられる。次に、使
用されるアルコール類としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、イゾブタノー
ル、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、アリルアル
コール、トリフルオロエタノールなどが挙げられる。
【０００６】第三級アミンとしては、トリエチルアミ
ン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデセン−７、ピリジン、２，６−ルチジ
ン、スパルテイン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフェロセンエチル
アミン、（−）−スパルテイン、Ｒ−（＋）−Ｎ，Ｎ−
ジメチル−１−フェロセニルエチルアミンなどが挙げら
れる。これら第三級アミンの使用量は触媒量でよいけれ
ども、少ないときは反応完了までに時間がかかることと
なる。例えば１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウ
ンデセン−７を使用する場合、原料のオキシド化合物１
モルに対し、０．０４以上使用することが好都合であ
る。
ン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．
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ジメチル−１−フェロセニルエチルアミンなどが挙げら
れる。これら第三級アミンの使用量は触媒量でよいけれ
ども、少ないときは反応完了までに時間がかかることと
なる。例えば１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウ
ンデセン−７を使用する場合、原料のオキシド化合物１
モルに対し、０．０４以上使用することが好都合であ
る。
【０００７】本発明の反応は、エポキシ化合物、アルコ
ール類及び第三級アミンを混合し、撹拌しながら加温乃
至加熱することによって実施されるところ、反応中にエ
ポキシ化合物が二つ以上結合した多量体の生成が懸念さ
れるので、これを抑制するために、重合禁止剤を加える
ことが効を奏することがわかった。重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ルなどが挙げられる。
ール類及び第三級アミンを混合し、撹拌しながら加温乃
至加熱することによって実施されるところ、反応中にエ
ポキシ化合物が二つ以上結合した多量体の生成が懸念さ
れるので、これを抑制するために、重合禁止剤を加える
ことが効を奏することがわかった。重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ルなどが挙げられる。
【０００８】
【実施例】本発明をさらに具体的に説明するために実施
例を記述する。尚、実施例の記述において１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７をＤＢＵと略
記する。 実施例１ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ３径
フラスコに，メタノール５ｍｌ、ＤＢＵ２．１０ｇ（１
３．８ｍｍｏｌ）を仕込み、１，２−ブチレンオキシド
５．０ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）を室温にて滴下した。そ
の後５０℃で６時間反応しガスクロマトグラフィーにて
原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応終了後、
反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物
たる無色液体を得た。 得量３．４２ｇ（収率４７．３
６％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
９７（ｔ３Ｈ），１．４６〜１．５０（ｍ２Ｈ），２．
２６（ｄ１Ｈ），３．２４（ｔ１Ｈ），３．３９〜３．
４３（ｍ４Ｈ），３．６９〜３．７０（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３４３６，
２９６５，２９６７，２８８１，１４６１，１１１０，
９２０，５６１ 沸点 １３５℃／７６０ｍｍＨｇ
例を記述する。尚、実施例の記述において１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７をＤＢＵと略
記する。 実施例１ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ３径
フラスコに，メタノール５ｍｌ、ＤＢＵ２．１０ｇ（１
３．８ｍｍｏｌ）を仕込み、１，２−ブチレンオキシド
５．０ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）を室温にて滴下した。そ
の後５０℃で６時間反応しガスクロマトグラフィーにて
原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応終了後、
反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物
たる無色液体を得た。 得量３．４２ｇ（収率４７．３
６％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
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【０００８】実施例２ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ３径
フラスコにメタノール６ｍｌ，ＤＢＵ０．８４ｇ（５．
５ｍｍｏｌ）を仕込み１，２−ブチレンオキシド１０．
０ｇ（１３７．８ｍｍｏｌ），を室温にて滴下した。そ
の後５０℃〜６０℃で８時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物たる無色液体を得た。 得量 ８．８７ｇ（収
率 ６１．４３％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
フラスコにメタノール６ｍｌ，ＤＢＵ０．８４ｇ（５．
５ｍｍｏｌ）を仕込み１，２−ブチレンオキシド１０．
０ｇ（１３７．８ｍｍｏｌ），を室温にて滴下した。そ
の後５０℃〜６０℃で８時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物たる無色液体を得た。 得量 ８．８７ｇ（収
率 ６１．４３％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
【０００９】実施例３ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ３径
フラスコにメタノール６．５ｍｌ，ＤＢＵ０．８４ｇ
（５．５ｍｍｏｌ），ヒドロキノンモノメチルエーテル
（ＭＱ）０．０１ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド
１０．０ｇ（１３７．８ｍｍｏｌ）を室温にて滴下し
た。その後７０℃で１２時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物無色液体を得た。得量１０．１７ｇ（収率７
０．４３％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
フラスコにメタノール６．５ｍｌ，ＤＢＵ０．８４ｇ
（５．５ｍｍｏｌ），ヒドロキノンモノメチルエーテル
（ＭＱ）０．０１ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド
１０．０ｇ（１３７．８ｍｍｏｌ）を室温にて滴下し
た。その後７０℃で１２時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物無色液体を得た。得量１０．１７ｇ（収率７
０．４３％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
【００１０】実施例４ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：２０００ｍｌ４
径フラスコにメタノール２４４．４ｇ（７．６ｍｏ
ｌ），ＤＢＵ４２．２ｇ（０．２８ｍｏｌ），ヒドロキ
ノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．５ｇを仕込み１，
２−ブチレンオキシド５００．０ｇ（６．９ｍｏｌ），
を室温にて滴下した。その後４０℃〜７０℃で５時間反
応しガスクロクロマトグラフィーにて原料消失の確認を
行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物は、そ
のまま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液体を得
た。 得量 ６１２．１９ｇ（Ｙ８４．８％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
径フラスコにメタノール２４４．４ｇ（７．６ｍｏ
ｌ），ＤＢＵ４２．２ｇ（０．２８ｍｏｌ），ヒドロキ
ノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．５ｇを仕込み１，
２−ブチレンオキシド５００．０ｇ（６．９ｍｏｌ），
を室温にて滴下した。その後４０℃〜７０℃で５時間反
応しガスクロクロマトグラフィーにて原料消失の確認を
行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物は、そ
のまま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液体を得
た。 得量 ６１２．１９ｇ（Ｙ８４．８％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例１で得たものと同一であった。
【００１１】実施例５ １−（２，２，２−トリフルオロエチル）オキシ−２−
ブタノールの合成：１００ｍｌ４径フラスコに２，２，
２−トリフルオロエタノール７．６ｇ（７５．７ｍｍｏ
ｌ），ＤＢＵ０．４２ｇ（２．８ｍｍｏｌ），ヒドロキ
ノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．００５ｇを仕込み
１，２−ブチレンオキシド５．０ｇ（６９．３ｍｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後４０℃〜６０℃で８
時間撹拌後ＤＢＵ１．０５ｇ，２，２，２−トリフルオ
ロエタノール２．０８ｇを添加し４０℃〜６０℃で６時
間反応した。反応生成物は、減圧蒸留にて精製を行い目
的物たる無色液体を得た。得量３．５９ｇ（収率３０．
２０％） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３３９２，
２９４３，１４６６，１４１４，１２７９，１１５８，
９８１，８２
ブタノールの合成：１００ｍｌ４径フラスコに２，２，
２−トリフルオロエタノール７．６ｇ（７５．７ｍｍｏ
ｌ），ＤＢＵ０．４２ｇ（２．８ｍｍｏｌ），ヒドロキ
ノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．００５ｇを仕込み
１，２−ブチレンオキシド５．０ｇ（６９．３ｍｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後４０℃〜６０℃で８
時間撹拌後ＤＢＵ１．０５ｇ，２，２，２−トリフルオ
ロエタノール２．０８ｇを添加し４０℃〜６０℃で６時
間反応した。反応生成物は、減圧蒸留にて精製を行い目
的物たる無色液体を得た。得量３．５９ｇ（収率３０．
２０％） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３３９２，
２９４３，１４６６，１４１４，１２７９，１１５８，
９８１，８２
【００１２】実施例６ １−イソプロピルオキシ−２−ブタノール の合成：１
００ｍｌ３径フラスコにＤＢＵ１．１ｇ（０．００７２
ｍｏｌ），イソプロピルアルコール１６．７ｇ（０．２
８ｍｏｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）
０．０２ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド２０．０
ｇ（０．２８ｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後７
０℃で３３．５時間反応しガスクロマトグラフィーにて
原料消失の確認を行い反応を終了した。反応終了後、反
応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物
６．６４ｇ（Ｙ１８．１１％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
９６（ｔ３Ｈ），１．１７（ｄ６Ｈ），１．４６〜１．
５０（ｍ２Ｈ），２．４４（ｄ１Ｈ），３．２２（ｔ１
Ｈ），３．４５〜３．４８（ｍ１Ｈ），３．６０〜３．
６２（ｍ２Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１：３４３６，２
９７２，２８７８，１４６６，１３８１，１１３１，１
０８６，９１９
００ｍｌ３径フラスコにＤＢＵ１．１ｇ（０．００７２
ｍｏｌ），イソプロピルアルコール１６．７ｇ（０．２
８ｍｏｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）
０．０２ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド２０．０
ｇ（０．２８ｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後７
０℃で３３．５時間反応しガスクロマトグラフィーにて
原料消失の確認を行い反応を終了した。反応終了後、反
応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物
６．６４ｇ（Ｙ１８．１１％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
９６（ｔ３Ｈ），１．１７（ｄ６Ｈ），１．４６〜１．
５０（ｍ２Ｈ），２．４４（ｄ１Ｈ），３．２２（ｔ１
Ｈ），３．４５〜３．４８（ｍ１Ｈ），３．６０〜３．
６２（ｍ２Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１：３４３６，２
９７２，２８７８，１４６６，１３８１，１１３１，１
０８６，９１９
【００１３】実施例７ １−ベンジルオキシ−２−ブタノール の合成：３００
ｍｌ４径フラスコにＤＢＵ１．３ｇ（０．００８５ｍｏ
ｌ），ベンジルアルコール２３．６ｍｌ（０．２３ｍｏ
ｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２
ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド１５．０ｇ（０．
２３ｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後６０℃で１
０時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確
認を行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液
体を得た。 得量２６．２ｇ（収率６２．１％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
９６（ｔ３Ｈ），１．４７〜１．５１（ｍ２Ｈ），２．
２８（ｄ１Ｈ），３．３４（ｔ１Ｈ），３．５０〜３．
５３（ｍ１Ｈ），３．７３〜３．７４（ｍ１Ｈ），４．
５６（ｓ２Ｈ），７．２５〜７．３５（ｍ５Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３４３６，
２９３２，２８７７，１９５２，１８７５，１８１１，
１６０５，１４９７，１４５５，１３６５，１０９９，
７３８，６９９
ｍｌ４径フラスコにＤＢＵ１．３ｇ（０．００８５ｍｏ
ｌ），ベンジルアルコール２３．６ｍｌ（０．２３ｍｏ
ｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２
ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド１５．０ｇ（０．
２３ｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後６０℃で１
０時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確
認を行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液
体を得た。 得量２６．２ｇ（収率６２．１％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
９６（ｔ３Ｈ），１．４７〜１．５１（ｍ２Ｈ），２．
２８（ｄ１Ｈ），３．３４（ｔ１Ｈ），３．５０〜３．
５３（ｍ１Ｈ），３．７３〜３．７４（ｍ１Ｈ），４．
５６（ｓ２Ｈ），７．２５〜７．３５（ｍ５Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３４３６，
２９３２，２８７７，１９５２，１８７５，１８１１，
１６０５，１４９７，１４５５，１３６５，１０９９，
７３８，６９９
【００１４】実施例８ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ４径
フラスコに，メタノール４．９ｇ（０．１５ｍｏｌ），
ピリジン２．２ｇ（０．０２８ｍｏｌ）ヒドロキノンモ
ノメチルエーテル（ＭＱ）０．０１ｇを仕込み１，２−
ブチレンオキシド１０．０ｇ（０．１４ｍｏｌ）を室温
にて滴下した。その後５０℃〜６０℃で１８時間撹拌後
ピリジン１．１ｇを添加。６０℃にて６時間反応しガス
クロマトグラフィーにて原料消失の確認を行い反応の終
点とした。反応終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸
留にて精製を行い目的物たる無色液体を得た。 得量
５．７５ｇ（収率３９．８２％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲ スペクトル、沸点は実
施例１で得たものと同一であった。
フラスコに，メタノール４．９ｇ（０．１５ｍｏｌ），
ピリジン２．２ｇ（０．０２８ｍｏｌ）ヒドロキノンモ
ノメチルエーテル（ＭＱ）０．０１ｇを仕込み１，２−
ブチレンオキシド１０．０ｇ（０．１４ｍｏｌ）を室温
にて滴下した。その後５０℃〜６０℃で１８時間撹拌後
ピリジン１．１ｇを添加。６０℃にて６時間反応しガス
クロマトグラフィーにて原料消失の確認を行い反応の終
点とした。反応終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸
留にて精製を行い目的物たる無色液体を得た。 得量
５．７５ｇ（収率３９．８２％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲ スペクトル、沸点は実
施例１で得たものと同一であった。
【００１５】実施例９ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ４径
フラスコに，メタノール４．９ｇ（０．１５ｍｏｌ），
２，６−ルチジン１．４９ｇ（０．０１４ｍｏｌ）ヒド
ロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０１ｇを仕込
み１，２−ブチレンオキシド１０．０ｇ（０．１４ｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後５０℃〜６０℃にて
２８時間撹拌した。目的物を２８．３６％の収率で得
た。
フラスコに，メタノール４．９ｇ（０．１５ｍｏｌ），
２，６−ルチジン１．４９ｇ（０．０１４ｍｏｌ）ヒド
ロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０１ｇを仕込
み１，２−ブチレンオキシド１０．０ｇ（０．１４ｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後５０℃〜６０℃にて
２８時間撹拌した。目的物を２８．３６％の収率で得
た。
【００１６】実施例１０ １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ４径
フラスコに，メタノール８．９ｇ（０．２８ｍｏｌ），
トリエチルアミン１．１ｇ（０．０１１ｍｏｌ）ヒドロ
キノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２ｇを仕込み
１，２−ブチレンオキシド２０．０ｇ（０．２８ｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後６８℃で１１時間反
応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確認を行い
反応の終点とした。反応終了後、反応生成物は、そのま
ま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液体を得た。
得量２１．８６ｇ（Ｙ７５．６７％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例でえたものと同一であった。
フラスコに，メタノール８．９ｇ（０．２８ｍｏｌ），
トリエチルアミン１．１ｇ（０．０１１ｍｏｌ）ヒドロ
キノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２ｇを仕込み
１，２−ブチレンオキシド２０．０ｇ（０．２８ｍｏ
ｌ），を室温にて滴下した。その後６８℃で１１時間反
応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確認を行い
反応の終点とした。反応終了後、反応生成物は、そのま
ま減圧蒸留にて精製を行い目的物たる無色液体を得た。
得量２１．８６ｇ（Ｙ７５．６７％）１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、沸点は実施
例でえたものと同一であった。
【００１７】実施例１１ （Ｒ）−１−メトキシ−２−オクタノール の合成：３
０ｍｌナスフラスコに，メタノール０．２６ｇ（８．１
ｍｍｏｌ），ＤＢＵ０．０４７ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）
ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）少量を仕込み
（Ｒ）−１，２−エポキシオクタン１．０ｇ（７．８ｍ
ｍｏｌ），を室温にて滴下。その後４０℃〜８０℃で２
８時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確
認を行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物０．１６ｇ
（Ｙ１３．３３％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
８７〜０．８８（ｍ３Ｈ），１．２９〜１．４４（ｍ１
０Ｈ），２．２３（ｄ１Ｈ），３．２３（ｔ１Ｈ），
３．３９〜３．４２（ｍ４Ｈ），３．７６〜３．７７
（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３４３６，
２９２７，２８５８，１６４１，１４６０，１３７９，
１１９７，１１１６，８９４ 比旋光度［α］２０／Ｄ−４．７７（Ｃ２．０３０ ｉ
ｎ ＣＨＣｌ３）
０ｍｌナスフラスコに，メタノール０．２６ｇ（８．１
ｍｍｏｌ），ＤＢＵ０．０４７ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）
ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）少量を仕込み
（Ｒ）−１，２−エポキシオクタン１．０ｇ（７．８ｍ
ｍｏｌ），を室温にて滴下。その後４０℃〜８０℃で２
８時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失の確
認を行い反応の終点とした。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物０．１６ｇ
（Ｙ１３．３３％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：０．
８７〜０．８８（ｍ３Ｈ），１．２９〜１．４４（ｍ１
０Ｈ），２．２３（ｄ１Ｈ），３．２３（ｔ１Ｈ），
３．３９〜３．４２（ｍ４Ｈ），３．７６〜３．７７
（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：３４３６，
２９２７，２８５８，１６４１，１４６０，１３７９，
１１９７，１１１６，８９４ 比旋光度［α］２０／Ｄ−４．７７（Ｃ２．０３０ ｉ
ｎ ＣＨＣｌ３）
【００１８】実施例１２ １００ｍｌ４径フラスコに，メタノール８．９ｇ（０．
２８ｍｏｌ），（−）−Ｓｐａｒｔｅｉｎｅ ２．６ｇ
（０．０１１ｍｏｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル
（ＭＱ）０．０２ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド
２０．０ｇ（０．２８ｍｏｌ），を室温にて滴下。その
後６５℃〜７５℃で３３時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物３．６０ｇ（Ｙ１２．４６％）無色液体を得
た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ０．９７（ｔ３Ｈ），１．４６〜１．５０（ｍ２Ｈ），
２．２６（ｄ１Ｈ），３．２４（ｔ１Ｈ），３．３９〜
３．４３（ｍ４Ｈ），３．６９〜３．７０（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４３６，２９６５，２９６７，２８８１，１４６１，
１１１０，９２０，５６１
２８ｍｏｌ），（−）−Ｓｐａｒｔｅｉｎｅ ２．６ｇ
（０．０１１ｍｏｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル
（ＭＱ）０．０２ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド
２０．０ｇ（０．２８ｍｏｌ），を室温にて滴下。その
後６５℃〜７５℃で３３時間反応しガスクロマトグラフ
ィーにて原料消失の確認を行い反応の終点とした。反応
終了後、反応生成物は、そのまま減圧蒸留にて精製を行
い目的物３．６０ｇ（Ｙ１２．４６％）無色液体を得
た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ０．９７（ｔ３Ｈ），１．４６〜１．５０（ｍ２Ｈ），
２．２６（ｄ１Ｈ），３．２４（ｔ１Ｈ），３．３９〜
３．４３（ｍ４Ｈ），３．６９〜３．７０（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４３６，２９６５，２９６７，２８８１，１４６１，
１１１０，９２０，５６１
【００１９】実施例１３ １００ｍｌ４径フラスコに，メタノール１．５６ｇ（４
８．７ｍｍｏｌ），Ｒ−（＋）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１
−フェロセニルエチルアミン０．５ｇ（１．９ｍｍｏ
ｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２
ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド３．５ｇ（４８．
５ｍｍｏｌ），を室温にて滴下。その後５５℃〜６５℃
で１１時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失
の確認を行い反応を終了した。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物１．６８ｇ
（Ｙ３３．２％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ０．９７（ｔ３Ｈ），１．４６〜１．５０（ｍ２Ｈ），
２．２６（ｄ１Ｈ），３．２４（ｔ１Ｈ），３．３９〜
３．４３（ｍ４Ｈ），３．６９〜３．７０（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４３６，２９６５，２９６７，２８８１，１４６１，
１１１０，９２０，５６１
８．７ｍｍｏｌ），Ｒ−（＋）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１
−フェロセニルエチルアミン０．５ｇ（１．９ｍｍｏ
ｌ）ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＱ）０．０２
ｇを仕込み１，２−ブチレンオキシド３．５ｇ（４８．
５ｍｍｏｌ），を室温にて滴下。その後５５℃〜６５℃
で１１時間反応しガスクロマトグラフィーにて原料消失
の確認を行い反応を終了した。反応終了後、反応生成物
は、そのまま減圧蒸留にて精製を行い目的物１．６８ｇ
（Ｙ３３．２％）無色液体を得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ０．９７（ｔ３Ｈ），１．４６〜１．５０（ｍ２Ｈ），
２．２６（ｄ１Ｈ），３．２４（ｔ１Ｈ），３．３９〜
３．４３（ｍ４Ｈ），３．６９〜３．７０（ｍ１Ｈ） ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４３６，２９６５，２９６７，２８８１，１４６１，
１１１０，９２０，５６１
【００２０】実施例１４ シクロヘキセンオキシド９８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）にメタ
ノール（１２μＬ，３ｍｍｏｌ）とＤＢＵ（１８３μ
Ｌ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、アセトニトリル２ｍｌの
混合溶液とした後、６０℃、８ｋｂａｒ加圧下で３日間
反応させた。反応終了後、２Ｎ−ＨＣ１を加えジエチル
エーテルで抽出した後、水、飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ
２ＳＯ４で乾燥した。濃縮後、シリカゲル−カラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製し、目的物を油状物質（４６ｍｇ）として得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ３．４０（ｓ３Ｈ）０Ｍｅ ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４４１，２９３４，２８６３，１７４０，１４５３，
１３７９，１２３５，１１９０，１１０１，９９７，９
１２，８４７，
ノール（１２μＬ，３ｍｍｏｌ）とＤＢＵ（１８３μ
Ｌ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、アセトニトリル２ｍｌの
混合溶液とした後、６０℃、８ｋｂａｒ加圧下で３日間
反応させた。反応終了後、２Ｎ−ＨＣ１を加えジエチル
エーテルで抽出した後、水、飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ
２ＳＯ４で乾燥した。濃縮後、シリカゲル−カラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製し、目的物を油状物質（４６ｍｇ）として得た。１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ） ３．４０（ｓ３Ｈ）０Ｍｅ ＩＲ スペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１） ３４４１，２９３４，２８６３，１７４０，１４５３，
１３７９，１２３５，１１９０，１１０１，９９７，９
１２，８４７，
【００２１】参考例 １−メトキシ−２−ブタノールの合成：１００ｍｌ３径
フラスコにＤＢＵ０．２１ｇ（１．４ｍｍｏｌ），メタ
ノール５ｍｌを仕込み１，２−ブチレンオキシド５．０
ｇ（９．３ｍｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後４
０〜５０℃で６時間反応し、ガスクロマトグラフィーに
て目的生成物の生成を調べたが、わずかに確認できたに
過ぎなかった。
フラスコにＤＢＵ０．２１ｇ（１．４ｍｍｏｌ），メタ
ノール５ｍｌを仕込み１，２−ブチレンオキシド５．０
ｇ（９．３ｍｍｏｌ），を室温にて滴下した。その後４
０〜５０℃で６時間反応し、ガスクロマトグラフィーに
て目的生成物の生成を調べたが、わずかに確認できたに
過ぎなかった。
Claims (7)
- 【請求項１】第三級アミンの存在下に、アルコール類と
エポキシ化合物を反応させることを特徴とするエポキシ
化合物開環方法 - 【請求項２】請求項１のエポキシ化合物開環方法におい
て、エポキシ化合物が１，２−ブチレンオキシドである
エポキシ化合物開環方法 - 【請求項３】請求項１のエポキシ化合物開環方法におい
て、エポキシ化合物が１，２−ブチレンオキシドであ
り、アルコール類が 第一級低級アルコールであるエポ
キシ化合物開環方法 - 【請求項４】１，２−ブチレンオキシドとアルコール類
とを反応させ、エポキシ環を開環するに際し、１，８−
ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７の存在下
に行うエポキシ化合物開環方法 - 【請求項５】１，２−ブチレンオキシドとメチルアルコ
ールとを１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデ
セン−７の存在下に反応させ、１−メトキシ−２−ヒド
ロキシブタンを得ることを特徴とする１−メトキシ−２
−ヒドロキシブタンの製造方法 - 【請求項６】１，２−ブチレンオキシドとメチルアルコ
ールとを１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデ
セン−７の存在下に反応させ、１−メトキシ−２−ヒド
ロキシブタンを得るに際し、ヒドロキノンモノメチルエ
ーテルを添加することを特徴とする１−メトキシ−２−
ヒドロキシブタンの製造方法 - 【請求項７】１，２−ブチレンオキシド１モルとメチル
アルコール１モル以上とを１，８−ジアザビシクロ
〔５，４，０〕ウンデセン−７の存在下に反応させ、１
−メトキシ−２−ヒドロキシブタンを得るに際し、１，
８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７を
０．０４モル以上使用することを特徴とする１−メトキ
シ−２−ヒドロキシブタンの製造方法 【０００１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8359666A JPH10175902A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | エポキシ化合物開環方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8359666A JPH10175902A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | エポキシ化合物開環方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10175902A true JPH10175902A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18465674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8359666A Pending JPH10175902A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | エポキシ化合物開環方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10175902A (ja) |
-
1996
- 1996-12-18 JP JP8359666A patent/JPH10175902A/ja active Pending
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