JPH1017921A - ランス挿入方法 - Google Patents

ランス挿入方法

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Publication number
JPH1017921A
JPH1017921A JP17496696A JP17496696A JPH1017921A JP H1017921 A JPH1017921 A JP H1017921A JP 17496696 A JP17496696 A JP 17496696A JP 17496696 A JP17496696 A JP 17496696A JP H1017921 A JPH1017921 A JP H1017921A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lance
vacuum
sealing device
seal
vacuum tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP17496696A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidemi Tsutsui
秀実 筒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
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Publication of JPH1017921A publication Critical patent/JPH1017921A/ja
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  • Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一個のシール装置で複数の真空槽に対応で
き、かつ、ランスの真空槽への挿入が簡単にできるラン
ス挿入方法を提供する。 【解決手段】 予めランス1を装着したシール装置2
を、真空脱ガス処理位置の上方にある作業デッキの下面
に設置したエアーシリンダ3を介して配設し、前記エア
ーシリンダの作動によりシール装置を、真空脱ガス処理
位置に移動して来た真空槽の上蓋8に押しつけ固定した
後、シール装置2に装着したランス1を真空槽へ挿入す
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空脱ガス設備に
おける真空槽内へのランス及びバーナの挿入技術に属す
るものである。
【0002】
【従来の技術】RH法などの真空脱ガス設備でのランス
挿入方式は、一般に真空槽上蓋から挿入する上吹き方式
と胴体から挿入する斜め吹き方式とがある。例えば、真
空槽上蓋から挿入する上吹き方式では、図4に示すよう
に、真空槽上蓋8に装着固定されたシール装置2に、ラ
ンス1を挿入し、次いで真空槽上蓋のランス挿入孔25か
ら真空槽内にランス1を挿入していた。このときのラン
ス1と真空槽上蓋8間のシールは、シール装置2によっ
て行われている。また、真空槽は真空槽移動台車に載置
され、待機位置と真空脱ガス処理位置間を移動するよう
になっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、シール装置を
真空槽上蓋に装着固定した後に、ランスを真空槽に挿入
する従来の方法では、図4に示すように、シール装置2
と真空槽上蓋8間に移動代がないため、ランス1とシー
ル装置2間に芯ずれがないように調整してランス1を挿
入しなければならない。このため、従来は作業者を配し
てランス1をシール装置2に挿入していた。また、待機
位置から移動して来た真空槽移動台車は、ランス芯との
ずれを数mm以内に抑えて真空脱ガス処理位置に停止しな
ければならなかった。
【0004】さらに、各真空槽には、個々にシール装置
が必要であり、その駆動源(電気、エアー等)を真空槽
移動台車へ供給する設備が必要であった。
【0005】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、予めランスを装着したシール装置を、
真空脱ガス処理位置の上方にある作業デッキの下面にエ
アーシリンダを介して配設し、ランス挿入時は、前記エ
アーシリンダでシール装置を真空槽上蓋に押しつけ固定
し、ランスと真空槽上蓋間のシールを行うことにより、
一個のシール装置で複数の真空槽に対応でき、かつ、ラ
ンスの真空槽への挿入が簡単にできるランス挿入方法を
提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、予めラ
ンスを装着したシール装置を、真空脱ガス処理位置の上
方にある作業デッキの下面に設置したエアーシリンダを
介して配設し、前記エアーシリンダの作動によりシール
装置を、真空脱ガス処理位置にある真空槽の上蓋に押し
つけ固定した後、シール装置に装着してあるランスを前
記真空槽へ挿入することを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図に基づ
いて説明する。図1は、真空槽移動台車6に載置された
真空槽4、5とランス1を装着したシール装置2との位
置関係を示す図で、真空槽4と5は、それぞれの待機位
置(A)と(B)に待機した状態である。シール装置2
はエアーシリンダ3を介して、作業デッキ7の下面に配
設されている。すなわち、作業デッキ7の下面に設置し
たエアーシリンダ3の連接棒9の先端にシール装置2の
シール蓋10が固定され、これによって、シール装置2は
作業デッキ7の下面に配設されている。
【0008】図2は、真空脱ガス処理位置に移動して来
た真空槽4又は真空槽5の真空槽上蓋8に、予めランス
1を装着したシール装置2を押しつけ固定し、ランス1
と真空槽上蓋8間のシールを行った状態を示す図で、真
空槽4、5を載置した真空槽移動台車6が真空脱ガス処
理位置に停止した後、エアーシリンダ3を作動させ、連
接棒9を押し出し、シール装置2のシール蓋10を真空槽
上蓋8に押しつけ固定して、ランス1と真空槽の上蓋8
間のシールを行う。この後、シール装置2に装着してあ
るランス1を真空槽内に挿入する。
【0009】図3は、本発明の方法を用いて、バーナ11
を挿入し真空槽内を保熱している図で、予めバーナ11を
装着したシール装置2のシール蓋10を真空槽上蓋8に押
しつけ固定し、バーナ11と真空槽上蓋8間のシールを行
った後、バーナ11を真空槽内に挿入し、真空槽5内を保
熱している例である。
【0010】本発明で使用するシール装置には、例え
ば、図2に示すようなシール装置を用いる。図2に示す
シール装置2の内側は、シール装置の中央部にグランド
パッキン12が、その上部にチューブシール13があり、上
端の内側角部は面取りされランス1装着時のランスガイ
ド14を構成している。また、シール装置2の外側は、上
部フランジ15と、下部フランジ16を設け、上部フランジ
15の下面にはシールパッキン17が設けてある。シール蓋
10の内径は下部フランジ16の外径よりも小さく、、かつ
下部フランジ16の厚さに等しい深さの切り欠き部18を設
け、この切り欠き部18に下部フランジ16が載置されてい
る。
【0011】ベローズ19は下部フランジ16とシール蓋10
との間をシールするもので、ベローズ19の下端は、環状
固定下金具20を用いて下部フランジ16を切り欠き部18に
押圧するようにして、ボルト等の固定具でシール蓋10に
固定され、上端は環状固定上金具21を用いて上部フラン
ジ15にボルト等の固定具で固定されている。環状固定上
金具21と上部フランジ15との間及び環状固定下金具20と
シール蓋10との間のシールは、シールパッキン17及び22
によって行われる。
【0012】シール蓋10には、エアーシリンダ3の連接
棒9が固定されている。シール装置2のシール蓋10を真
空槽上蓋8に押しつけ固定したときのシール蓋10と真空
槽上蓋8間のシールは、真空槽上蓋8の鉄皮23に設けた
シールパッキン24によって行われる。操業時は、シール
蓋10と下部フランジ16との間の間隙26がランス1の移動
代となり、ランス1に生じる横方向振動を吸収すること
ができる。このため、グランドパッキン12に加わる横方
向の力は減少し、グランドパッキン12の損傷を軽減し、
シール装置2のシール性を持続させることができる。
【0013】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明に係わるランス挿入方法は、シール装置を真空槽
の上蓋に固定する前に、予めランスをシール装置に装着
するため、作業者を配して行っていたランスのシール装
置への挿入が不要になる。また、真空槽へのランスの挿
入は、シール装置を真空槽の上蓋に押しつけ固定するだ
けですむため、ランスと真空槽との芯合わせが不要とな
り、真空槽移動台車の真空脱ガス処理位置での停止位置
の精度も緩和される。さらに、一個のシール装置で複数
の真空槽に対応できるため、その駆動源の供給設備も簡
単にすませることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】真空槽移動台車に載置された真空槽とランスを
装着したシール装置との位置関係を示す図である。
【図2】真空脱ガス処理位置に移動して来た真空槽の上
蓋に、ランスを装着したシール装置を押しつけ、ランス
と真空槽上蓋間のシールを行った状態を示す図である。
【図3】本発明の方法を用いて、真空槽内を保熱してい
る図である。
【図4】従来のランスと真空槽上蓋間のシールの一例を
示す図である。
【符号の説明】
1…ランス、2…シール装置、3…エアーシリンダ、4
…真空槽、5…真空槽、6…真空槽移動台車、7…作業
デッキ、8…真空槽上蓋、9…連接棒、10…シール蓋、
11…バーナ、12…グランドパッキン、13…チューブシー
ル、14…ランスガイド、15…上部フランジ、16…下部フ
ランジ、17…シールパッキン、18…切り欠き部、19…ベ
ローズ、20…環状固定下金具、21…環状固定上金具、22
…シールパッキン、23…鉄皮、24…シールパッキン、25
…ランス挿入孔、26…間隙、27…中空弾性体、28…気体
加圧シール室、29…溶鋼鍋、30…溶鋼。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予めランスを装着したシール装置を、真
    空脱ガス処理位置の上方にある作業デッキの下面に設置
    したエアーシリンダを介して配設し、前記エアーシリン
    ダの作動によりシール装置を、真空脱ガス処理位置にあ
    る真空槽の上蓋に押しつけ固定した後、シール装置に装
    着してあるランスを前記真空槽へ挿入することを特徴と
    するランス挿入方法。
JP17496696A 1996-07-04 1996-07-04 ランス挿入方法 Pending JPH1017921A (ja)

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JP17496696A JPH1017921A (ja) 1996-07-04 1996-07-04 ランス挿入方法

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JPH1017921A true JPH1017921A (ja) 1998-01-20

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ID=15987858

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010084234A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Inteco Special Melting Technologies Gmbh 真空処理系システムに用いられるランス導入装置
WO2011125366A1 (ja) * 2010-04-02 2011-10-13 日本坩堝株式会社 真空給湯装置

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