JPH1018071A - 食塩水溶液の電解方法 - Google Patents
食塩水溶液の電解方法Info
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- JPH1018071A JPH1018071A JP17773096A JP17773096A JPH1018071A JP H1018071 A JPH1018071 A JP H1018071A JP 17773096 A JP17773096 A JP 17773096A JP 17773096 A JP17773096 A JP 17773096A JP H1018071 A JPH1018071 A JP H1018071A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素を殆ど損失することなしに塩素中の臭素
量を低下し得る、食塩水溶液の電解方法を提供する。 【解決手段】 食塩水溶液中の臭素イオン１モルに対し
て次亜塩素酸イオン１〜２モルを添加、酸化し、該食塩
水溶液をｐＨ４以下の塩酸酸性に調整した後、不活性気
体０．１〜１０ｍ3／ｍ3・ｍｉｎを用いて少なくとも３
０分間バブリングして生成した臭素を系外に除去し、電
解槽に供給する食塩水溶液中の臭素イオン濃度を１０ｍ
ｇ／リットル未満に制御することを特徴とする食塩水溶
液の電解方法。
量を低下し得る、食塩水溶液の電解方法を提供する。 【解決手段】 食塩水溶液中の臭素イオン１モルに対し
て次亜塩素酸イオン１〜２モルを添加、酸化し、該食塩
水溶液をｐＨ４以下の塩酸酸性に調整した後、不活性気
体０．１〜１０ｍ3／ｍ3・ｍｉｎを用いて少なくとも３
０分間バブリングして生成した臭素を系外に除去し、電
解槽に供給する食塩水溶液中の臭素イオン濃度を１０ｍ
ｇ／リットル未満に制御することを特徴とする食塩水溶
液の電解方法。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、食塩水溶液の電解
方法に関する。詳しくは、工業用食塩水溶液中に含まれ
る臭素イオンを次亜塩素酸イオンで酸化し、臭素として
系外に除去して電解槽に供給する臭素イオン濃度を特定
値未満に制御する食塩水溶液の電解方法に関する。
方法に関する。詳しくは、工業用食塩水溶液中に含まれ
る臭素イオンを次亜塩素酸イオンで酸化し、臭素として
系外に除去して電解槽に供給する臭素イオン濃度を特定
値未満に制御する食塩水溶液の電解方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】塩素、苛性ソーダ等は食塩水溶液を電気
分解することにより製造される。通常、食塩には不純物
として臭化ナトリウム、臭化マグネシウム等の臭化物が
含まれるため、食塩水溶液には可成りの量の臭素イオン
が存在する。かかる食塩水溶液をそのまま電解処理する
と、得られる塩素中には多量の臭素が含まれることとな
る。そのため、高純度の塩素を製造するためには、電解
槽に供給する食塩水溶液を精製するか、または、得られ
た塩素を精製することにより臭素イオン、臭素等を除去
する必要がある。
分解することにより製造される。通常、食塩には不純物
として臭化ナトリウム、臭化マグネシウム等の臭化物が
含まれるため、食塩水溶液には可成りの量の臭素イオン
が存在する。かかる食塩水溶液をそのまま電解処理する
と、得られる塩素中には多量の臭素が含まれることとな
る。そのため、高純度の塩素を製造するためには、電解
槽に供給する食塩水溶液を精製するか、または、得られ
た塩素を精製することにより臭素イオン、臭素等を除去
する必要がある。
【０００３】食塩水溶液の電解により得られた塩素に不
純物として含まれる臭素を除去する方法として、例え
ば、特開昭５９−９２９０３号公報には、２５００ｍｇ
／ｋｇ以下の臭素を含有する塩素を１重量倍以上の実質
的に臭素を含まない水で洗浄する塩素中の臭素の除去方
法が開示されている。そして、好ましい態様を示した実
施例には、充填塔式洗浄塔の下部から臭素を２５６ｍｇ
／ｋｇ含有する塩素ガスを１ｋｇ／ｈｒで供給し、塔上
部から４５℃の水を１２５ｋｇ／ｈｒで噴霧して、除去
率９８％で塩素中の臭素を除去する方法が記載されてい
る。
純物として含まれる臭素を除去する方法として、例え
ば、特開昭５９−９２９０３号公報には、２５００ｍｇ
／ｋｇ以下の臭素を含有する塩素を１重量倍以上の実質
的に臭素を含まない水で洗浄する塩素中の臭素の除去方
法が開示されている。そして、好ましい態様を示した実
施例には、充填塔式洗浄塔の下部から臭素を２５６ｍｇ
／ｋｇ含有する塩素ガスを１ｋｇ／ｈｒで供給し、塔上
部から４５℃の水を１２５ｋｇ／ｈｒで噴霧して、除去
率９８％で塩素中の臭素を除去する方法が記載されてい
る。
【０００４】該方法は、臭素の除去率が高い点では優れ
た方法である。しかし、大量の洗浄水を用いて洗浄する
ので、臭素と共に塩素も溶解し、その塩素及び臭素を含
む水を利用または消費することができる他の製造設備等
が併設されている場合には有用な方法であるが、かかる
設備が併設されていない場合には、排水処理設備等の付
帯設備が必要となるだけでなく、塩素の収率が低く、必
ずしも満足できる方法とはいえない。
た方法である。しかし、大量の洗浄水を用いて洗浄する
ので、臭素と共に塩素も溶解し、その塩素及び臭素を含
む水を利用または消費することができる他の製造設備等
が併設されている場合には有用な方法であるが、かかる
設備が併設されていない場合には、排水処理設備等の付
帯設備が必要となるだけでなく、塩素の収率が低く、必
ずしも満足できる方法とはいえない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題に鑑み、電解槽に供給する食塩水溶液を予め処理
して系内に持ち込む臭素イオン量を低下して、塩素を殆
ど損失することなしに得られる塩素中の臭素量を低下し
得る、食塩水溶液の電解方法を提供することにある。
の問題に鑑み、電解槽に供給する食塩水溶液を予め処理
して系内に持ち込む臭素イオン量を低下して、塩素を殆
ど損失することなしに得られる塩素中の臭素量を低下し
得る、食塩水溶液の電解方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、食塩水溶液中の臭素イオンを特定の条件下で
次亜塩素酸イオンにより酸化して臭素とし、それを系外
に排出して臭素イオンの含有量が１０ｍｇ／リットル未
満に制御された食塩水溶液を電解槽に供給することによ
り、上記目的が達成できることを見出し、本発明に到っ
た。
した結果、食塩水溶液中の臭素イオンを特定の条件下で
次亜塩素酸イオンにより酸化して臭素とし、それを系外
に排出して臭素イオンの含有量が１０ｍｇ／リットル未
満に制御された食塩水溶液を電解槽に供給することによ
り、上記目的が達成できることを見出し、本発明に到っ
た。
【０００７】すなわち、本発明は、食塩水溶液中の臭素
イオン１モルに対して次亜塩素酸イオン１〜２モルを添
加、酸化し、該食塩水溶液をｐＨ４以下の塩酸酸性に調
整した後、不活性気体０．１〜１０ｍ3／ｍ3・ｍｉｎを
用いて少なくとも３０分間バブリングして生成した臭素
を系外に除去し、電解槽に供給する食塩水溶液中の臭素
イオン濃度を１０ｍｇ／リットル未満に制御することを
特徴とする食塩水溶液の電解方法である。
イオン１モルに対して次亜塩素酸イオン１〜２モルを添
加、酸化し、該食塩水溶液をｐＨ４以下の塩酸酸性に調
整した後、不活性気体０．１〜１０ｍ3／ｍ3・ｍｉｎを
用いて少なくとも３０分間バブリングして生成した臭素
を系外に除去し、電解槽に供給する食塩水溶液中の臭素
イオン濃度を１０ｍｇ／リットル未満に制御することを
特徴とする食塩水溶液の電解方法である。
【０００８】本発明の特徴は、特定の処理を施すことに
より電解系内に持ち込む臭素イオン量を１０ｍｇ／リッ
トル未満に制御することにある。臭素イオンを未処理の
まま電解槽に供給する従来の方法の如き、塩素の損失の
原因となる生成塩素の精製なしに臭素の含有量が１５ｍ
ｇ／ｋｇ以下である高純度の塩素を製造することができ
る。
より電解系内に持ち込む臭素イオン量を１０ｍｇ／リッ
トル未満に制御することにある。臭素イオンを未処理の
まま電解槽に供給する従来の方法の如き、塩素の損失の
原因となる生成塩素の精製なしに臭素の含有量が１５ｍ
ｇ／ｋｇ以下である高純度の塩素を製造することができ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の概要は、食塩を水に溶解
して食塩水溶液を調製し、得られた食塩水溶液に次亜塩
素酸イオンを含む次亜塩素酸ナトリウム水溶液等を添加
して、食塩水溶液に含まれる臭素イオンを酸化して０価
の臭素となし、次いで、該食塩水溶液に塩酸を加えてｐ
Ｈ４以下の酸性に調整し、さらに、生成した臭素をバブ
リングにより系外に除去して、食塩水溶液中の臭素イオ
ン濃度を１０ｍｇ／リットル未満となし、これを電解槽
に供給する方法である。
して食塩水溶液を調製し、得られた食塩水溶液に次亜塩
素酸イオンを含む次亜塩素酸ナトリウム水溶液等を添加
して、食塩水溶液に含まれる臭素イオンを酸化して０価
の臭素となし、次いで、該食塩水溶液に塩酸を加えてｐ
Ｈ４以下の酸性に調整し、さらに、生成した臭素をバブ
リングにより系外に除去して、食塩水溶液中の臭素イオ
ン濃度を１０ｍｇ／リットル未満となし、これを電解槽
に供給する方法である。
【００１０】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明が適用できる電解法には特に制限はなく、隔膜電解
法、水銀電解法等の公知の方法が適用できる。しかし、
環境汚染等を考慮すると隔膜電解法が好ましい。また、
本発明に用いる食塩水溶液の濃度には制限はないが、電
流効率等を考慮すると２０〜２５重量％程度のものが好
ましく使用される。
発明が適用できる電解法には特に制限はなく、隔膜電解
法、水銀電解法等の公知の方法が適用できる。しかし、
環境汚染等を考慮すると隔膜電解法が好ましい。また、
本発明に用いる食塩水溶液の濃度には制限はないが、電
流効率等を考慮すると２０〜２５重量％程度のものが好
ましく使用される。
【００１１】次亜塩素酸イオンを用いて、食塩水溶液に
含まれる臭素イオンを酸化する場合、両者が等モルであ
って、且つ、そのｐＨが４以下であるとその酸化反応は
下記式（１）〔化１〕
含まれる臭素イオンを酸化する場合、両者が等モルであ
って、且つ、そのｐＨが４以下であるとその酸化反応は
下記式（１）〔化１〕
【００１２】
【化１】 で表される。しかし、反応系がｐＨ４を超えると下記式
（２）〔化２〕
（２）〔化２〕
【００１３】
【化２】 で表されるように、臭素イオンが臭素酸イオンまで酸化
される。この場合、食塩水溶液を空気、不活性ガス等と
接触させても臭素として系外に排出することができな
い。従って、本発明においては、ｐＨ４以下の酸性下に
おいて酸化反応を行うことが重要である。また、反応系
のｐＨを酸性に調整するための酸として塩酸を用いる
と、下記式（３）〔化３〕
される。この場合、食塩水溶液を空気、不活性ガス等と
接触させても臭素として系外に排出することができな
い。従って、本発明においては、ｐＨ４以下の酸性下に
おいて酸化反応を行うことが重要である。また、反応系
のｐＨを酸性に調整するための酸として塩酸を用いる
と、下記式（３）〔化３〕
【００１４】
【化３】 で表されるように、系内の次亜塩素酸イオンが塩酸によ
り酸化され塩素が生成する。この塩素が、臭素イオンの
酸化剤として作用し、下記式（４）〔化４〕
り酸化され塩素が生成する。この塩素が、臭素イオンの
酸化剤として作用し、下記式（４）〔化４〕
【００１５】
【化４】 により、系内（食塩水溶液中）の臭素イオンが臭素に酸
化され、上記式（１）による酸化反応に加えて、さらに
系内の臭素イオンが酸化されて臭素となる利点がある。
塩酸を用いずに例えば硫酸を用いてｐＨ調整を行うと、
電解槽に硫酸イオンが供給されることとなり、イオン交
換膜電解の場合にはイオン交換膜に悪影響を及ぼす。従
って、本発明においては、上記式（１）の酸化反応は塩
酸酸性下のｐＨ４以下で行うことが重要である。上記式
（２）の反応を抑制するためには、反応系のｐＨは低い
方が好ましいが、装置の腐食等他の問題もある。かかる
点を総合的に考慮すると、好ましいｐＨ領域は２〜３．
５程度である。
化され、上記式（１）による酸化反応に加えて、さらに
系内の臭素イオンが酸化されて臭素となる利点がある。
塩酸を用いずに例えば硫酸を用いてｐＨ調整を行うと、
電解槽に硫酸イオンが供給されることとなり、イオン交
換膜電解の場合にはイオン交換膜に悪影響を及ぼす。従
って、本発明においては、上記式（１）の酸化反応は塩
酸酸性下のｐＨ４以下で行うことが重要である。上記式
（２）の反応を抑制するためには、反応系のｐＨは低い
方が好ましいが、装置の腐食等他の問題もある。かかる
点を総合的に考慮すると、好ましいｐＨ領域は２〜３．
５程度である。
【００１６】また、本発明では、上記式（１）の酸化反
応は臭素イオンと次亜塩素酸イオンとを等モル、または
次亜塩素酸イオンが過剰の状態で反応させることが好ま
しい。次亜塩素酸イオンを過剰に用いれば、上記式
（１）の酸化反応は促進されるが、系内に過剰の次亜塩
素酸イオンが存在することとなるので、これの処理が必
要となり大過剰の次亜塩素酸イオンを用いることは好ま
しくない。上限については２倍モル程度が好ましい。
応は臭素イオンと次亜塩素酸イオンとを等モル、または
次亜塩素酸イオンが過剰の状態で反応させることが好ま
しい。次亜塩素酸イオンを過剰に用いれば、上記式
（１）の酸化反応は促進されるが、系内に過剰の次亜塩
素酸イオンが存在することとなるので、これの処理が必
要となり大過剰の次亜塩素酸イオンを用いることは好ま
しくない。上限については２倍モル程度が好ましい。
【００１７】通常、食塩は不純物としてマグネシウム化
合物、カルシウム化合物、硫酸塩等を含むので電解槽に
供給する食塩水溶液は、これらの不純物を除去するため
に前処理が施される。この前処理の際に上記式（１）の
酸化反応で消費された後の余剰の次亜塩素酸イオンが悪
影響を及ぼす。余剰の次亜塩素酸イオンは、上記式
（３）による酸化で処理されるが、チオ硫酸ナトリウム
等の還元剤を加えて中和等により処理することが好まし
い。チオ硫酸ナトリウム等の還元剤を加えることにより
上記式（３）の酸化反応で生じた塩素も同時に処理する
ことができる。
合物、カルシウム化合物、硫酸塩等を含むので電解槽に
供給する食塩水溶液は、これらの不純物を除去するため
に前処理が施される。この前処理の際に上記式（１）の
酸化反応で消費された後の余剰の次亜塩素酸イオンが悪
影響を及ぼす。余剰の次亜塩素酸イオンは、上記式
（３）による酸化で処理されるが、チオ硫酸ナトリウム
等の還元剤を加えて中和等により処理することが好まし
い。チオ硫酸ナトリウム等の還元剤を加えることにより
上記式（３）の酸化反応で生じた塩素も同時に処理する
ことができる。
【００１８】上記式（１）の酸化剤である次亜塩素酸イ
オンとして次亜塩素酸ナトリウム等が使用される。食塩
水溶液中の臭素イオンを酸化する反応の温度には特に制
限はないが、通常１５〜９０℃である。好ましくは４０
〜６０℃である。
オンとして次亜塩素酸ナトリウム等が使用される。食塩
水溶液中の臭素イオンを酸化する反応の温度には特に制
限はないが、通常１５〜９０℃である。好ましくは４０
〜６０℃である。
【００１９】本発明においては、食塩水溶液中の臭素イ
オンを臭素に酸化した後、食塩水溶液中に空気、窒素等
の食塩水溶液と反応しない不活性ガスを吹き込む、所
謂、バブリングすることにより生成した臭素を系外へ排
出、除去する。これは上記式（１）の酸化反応が平衡反
応であり、生成系の臭素を系外に排出することにより反
応を促進させることが可能となる。
オンを臭素に酸化した後、食塩水溶液中に空気、窒素等
の食塩水溶液と反応しない不活性ガスを吹き込む、所
謂、バブリングすることにより生成した臭素を系外へ排
出、除去する。これは上記式（１）の酸化反応が平衡反
応であり、生成系の臭素を系外に排出することにより反
応を促進させることが可能となる。
【００２０】食塩水溶液と不活性ガスの量比は、食塩水
溶液１ｍ3当たり不活性ガス０．１〜１０ｍ3／ｍｉｎ程
度を使用することが好ましい。空気または不活性ガスの
量が少な過ぎると、酸化反応で生成した臭素の系外への
排出、除去率が悪くなるばかりでなく、バブリングによ
り空気等を食塩水溶液に吹き込む際にガス導管部に食塩
が析出して導管を閉塞し、ガスの流れを著しく低下させ
る原因となる。逆に多過ぎると臭素と同時に食塩水も飛
沫となって損失することになる。空気等のバブリングに
代えてスクラバー等を用いて食塩水溶液と空気とを向流
接触する方法でもよい。
溶液１ｍ3当たり不活性ガス０．１〜１０ｍ3／ｍｉｎ程
度を使用することが好ましい。空気または不活性ガスの
量が少な過ぎると、酸化反応で生成した臭素の系外への
排出、除去率が悪くなるばかりでなく、バブリングによ
り空気等を食塩水溶液に吹き込む際にガス導管部に食塩
が析出して導管を閉塞し、ガスの流れを著しく低下させ
る原因となる。逆に多過ぎると臭素と同時に食塩水も飛
沫となって損失することになる。空気等のバブリングに
代えてスクラバー等を用いて食塩水溶液と空気とを向流
接触する方法でもよい。
【００２１】バブリングの際の食塩水溶液の温度は１５
〜９０℃、好ましくは４０〜６０℃である。温度が高過
ぎると水が蒸発してガス導管部に食塩が析出し易くな
り、ガス流路を閉塞して流量を低下させる。また、水の
蒸発により過飽和食塩水溶液となり食塩が析出する。本
発明により系外に除去、排出された臭素は、苛性ソーダ
等を用いて処理することが好ましい。
〜９０℃、好ましくは４０〜６０℃である。温度が高過
ぎると水が蒸発してガス導管部に食塩が析出し易くな
り、ガス流路を閉塞して流量を低下させる。また、水の
蒸発により過飽和食塩水溶液となり食塩が析出する。本
発明により系外に除去、排出された臭素は、苛性ソーダ
等を用いて処理することが好ましい。
【００２２】工業用食塩は、通常、臭素イオンとして１
００〜２００ｍｇ／ｋｇ程度の臭素化合物を含む。従っ
て、通常、電解槽に供給される食塩水溶液の濃度は２５
重量％程度であることを考慮すると、食塩水溶液中に
は、２５〜５０ｍｇ／リットル程度の臭素イオンが含ま
れる。上記方法により酸化、バブリング等を施すことに
より、その臭素イオンを１０ｍｇ／リットル未満に低下
することが可能である。除去率は７０％以上である。電
解槽に供給する食塩水溶液中の臭素イオン濃度の下限は
０に近い程度に低いことが好ましいが、臭素の水への溶
解性を考慮すると、空気等のバブリングを上記条件で１
時間以上行えば、その下限は通常０．５ｍｇ／リットル
程度である。
００〜２００ｍｇ／ｋｇ程度の臭素化合物を含む。従っ
て、通常、電解槽に供給される食塩水溶液の濃度は２５
重量％程度であることを考慮すると、食塩水溶液中に
は、２５〜５０ｍｇ／リットル程度の臭素イオンが含ま
れる。上記方法により酸化、バブリング等を施すことに
より、その臭素イオンを１０ｍｇ／リットル未満に低下
することが可能である。除去率は７０％以上である。電
解槽に供給する食塩水溶液中の臭素イオン濃度の下限は
０に近い程度に低いことが好ましいが、臭素の水への溶
解性を考慮すると、空気等のバブリングを上記条件で１
時間以上行えば、その下限は通常０．５ｍｇ／リットル
程度である。
【００２３】通常、電解法により、食塩水溶液から塩素
を製造する際には、電解槽を一回通過させる時に電解槽
で消費される食塩は供給量の３０〜４０重量％程度であ
り、残りは戻り食塩水溶液として循環再利用される。従
って、工業的電解法では、電解槽内で消費された食塩の
量に相当する食塩を新たに溶解して系内に追加される。
かかる工程を考慮したとき、本発明の好ましい適用方法
は、食塩を新たに溶解して調製した食塩水溶液に対し
て、上記臭素イオンの酸化、バブリングによる臭素の除
去を施す方法である。因に、戻り食塩水溶液系にのみ上
記臭素イオンの酸化、バブリングによる臭素の除去を適
用した場合でも食塩水溶液中の臭素イオンの低減を図る
ことができる。しかし、その場合、電解槽から排出され
た食塩水溶液中には３０００ｍｇ／リットル程度の塩素
が存在するため、臭素と共に塩素も除去されることとな
り経済的でない。
を製造する際には、電解槽を一回通過させる時に電解槽
で消費される食塩は供給量の３０〜４０重量％程度であ
り、残りは戻り食塩水溶液として循環再利用される。従
って、工業的電解法では、電解槽内で消費された食塩の
量に相当する食塩を新たに溶解して系内に追加される。
かかる工程を考慮したとき、本発明の好ましい適用方法
は、食塩を新たに溶解して調製した食塩水溶液に対し
て、上記臭素イオンの酸化、バブリングによる臭素の除
去を施す方法である。因に、戻り食塩水溶液系にのみ上
記臭素イオンの酸化、バブリングによる臭素の除去を適
用した場合でも食塩水溶液中の臭素イオンの低減を図る
ことができる。しかし、その場合、電解槽から排出され
た食塩水溶液中には３０００ｍｇ／リットル程度の塩素
が存在するため、臭素と共に塩素も除去されることとな
り経済的でない。
【００２４】
【実施例】以下、実施例を示して本発明についてさらに
詳細に説明する。なお、実施例に示した臭素イオン及び
臭素濃度は下記方法により測定した値である。 （１）臭素イオン濃度（ｍｇ／リットル） イオンクロマトグラフ（ダイオネックス社製、形式：Ｄ
ＩＯＮＥＸ４０００Ｉ、カラム：ＳＥＰＡＲＡＴＥＲ
ＡＳ４Ａ、ＳＵＰＰＲＥＳＳＯＲ ＡＭＭＳ−ＩＣＥ、
溶離液：炭酸水素ナトリウム（１ミリモル／リット
ル）、炭酸ナトリウム（２ミリモル／リットル）、溶離
液流速：１．２ミリリットル／ｍｉｎ、検出器〔日本分
光（株）製、形式：ＵＶ−９７０、ＵＶ２０５ｎｍ、カ
ラム及び検出器の温度：室温、試料注入量：５０μリッ
トル〕、及び、データ処理装置〔島津（株）製、形式：
ＣＲ−３Ａ〕を用いて、臭素イオンに基づくピーク面積
から、予め作成した検量線により測定する。
詳細に説明する。なお、実施例に示した臭素イオン及び
臭素濃度は下記方法により測定した値である。 （１）臭素イオン濃度（ｍｇ／リットル） イオンクロマトグラフ（ダイオネックス社製、形式：Ｄ
ＩＯＮＥＸ４０００Ｉ、カラム：ＳＥＰＡＲＡＴＥＲ
ＡＳ４Ａ、ＳＵＰＰＲＥＳＳＯＲ ＡＭＭＳ−ＩＣＥ、
溶離液：炭酸水素ナトリウム（１ミリモル／リット
ル）、炭酸ナトリウム（２ミリモル／リットル）、溶離
液流速：１．２ミリリットル／ｍｉｎ、検出器〔日本分
光（株）製、形式：ＵＶ−９７０、ＵＶ２０５ｎｍ、カ
ラム及び検出器の温度：室温、試料注入量：５０μリッ
トル〕、及び、データ処理装置〔島津（株）製、形式：
ＣＲ−３Ａ〕を用いて、臭素イオンに基づくピーク面積
から、予め作成した検量線により測定する。
【００２５】（２）臭素濃度（ｍｇ／ｋｇ） ＪＩＳ Ｋ−０１０１に規定される方法に従い、塩素ガ
ス１０ｇを１５重量％の苛性ソーダ水溶液に吸収し、ヨ
ウ素滴定法により塩素濃度を求める。次いで、吸収液１
ミリリットルをヨードフラスコに採取し、塩酸でｐＨ２
以下に調整して塩素及び臭素を遊離させる。次いで、３
０重量％過酸化水素水溶液を加えて塩素及び臭素をイオ
ンに還元する。以下、前項の方法により、臭素イオン濃
度を求める。
ス１０ｇを１５重量％の苛性ソーダ水溶液に吸収し、ヨ
ウ素滴定法により塩素濃度を求める。次いで、吸収液１
ミリリットルをヨードフラスコに採取し、塩酸でｐＨ２
以下に調整して塩素及び臭素を遊離させる。次いで、３
０重量％過酸化水素水溶液を加えて塩素及び臭素をイオ
ンに還元する。以下、前項の方法により、臭素イオン濃
度を求める。
【００２６】実施例１ 工業用食塩の２０重量％水溶液（臭素イオン濃度：２６
ｍｇ／リットル、０．３２ミリモル、２３℃）１ｍ3に
有効塩素１２重量％の次亜塩素酸ナトリウム２００ミリ
リットル（０．３４モル）を撹拌しながら加えた。次い
で、塩酸を加えてｐＨ３に調整した後、室温（２３℃）
で窒素ガスを０．５ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹
き込んだ。処理後の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上
記方法により測定した結果７．４ｍｇ／リットルであっ
た。処理後の食塩水溶液を６０℃に加熱した後、イオン
交換膜式電解槽（クロリン社製、形式：ＤＩ槽、電圧：
３．３Ｖ、電流：：６０，０００Ａ）に供給して電気分
解を行った。得られた塩素中の臭素を上記方法により測
定した結果、１４ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を
〔表１〕に示す。
ｍｇ／リットル、０．３２ミリモル、２３℃）１ｍ3に
有効塩素１２重量％の次亜塩素酸ナトリウム２００ミリ
リットル（０．３４モル）を撹拌しながら加えた。次い
で、塩酸を加えてｐＨ３に調整した後、室温（２３℃）
で窒素ガスを０．５ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹
き込んだ。処理後の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上
記方法により測定した結果７．４ｍｇ／リットルであっ
た。処理後の食塩水溶液を６０℃に加熱した後、イオン
交換膜式電解槽（クロリン社製、形式：ＤＩ槽、電圧：
３．３Ｖ、電流：：６０，０００Ａ）に供給して電気分
解を行った。得られた塩素中の臭素を上記方法により測
定した結果、１４ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を
〔表１〕に示す。
【００２７】実施例２ 工業用食塩の２５重量％水溶液（臭素イオン濃度：３２
ｍｇ／リットル ０．４モル）１ｍ3に有効塩素１２
重量％の次亜塩素酸ナトリウム３００ミリリットル
（０．５２モル）を撹拌しながら加えた。、次いで、塩
酸を加えてｐＨ２．３に調整した後、４０℃で空気を
０．１ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹き込んだ。処
理後の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上記方法により
測定した結果８．９ｍｇ／リットルであった。処理後の
食塩水溶液を実施例１と同様にして電気分解を行った。
得られた塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、
１４ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示
す。
ｍｇ／リットル ０．４モル）１ｍ3に有効塩素１２
重量％の次亜塩素酸ナトリウム３００ミリリットル
（０．５２モル）を撹拌しながら加えた。、次いで、塩
酸を加えてｐＨ２．３に調整した後、４０℃で空気を
０．１ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹き込んだ。処
理後の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上記方法により
測定した結果８．９ｍｇ／リットルであった。処理後の
食塩水溶液を実施例１と同様にして電気分解を行った。
得られた塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、
１４ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示
す。
【００２８】実施例３ 工業用食塩の２５重量％水溶液（臭素イオン濃度：３２
ｍｇ／リットル ０．２ミリモル）１ｍ3に有効塩素
１２重量％の次亜塩素酸ナトリウム３００ミリリットル
（０．５２モル）を撹拌しながら加えた。次いで、塩酸
を加えてｐＨ２．３に調整した後、４０℃で空気を０．
４ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹き込んだ。処理後
の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上記方法により測定
した結果６．７ｍｇ／リットルであった。処理後の食塩
水溶液を実施例１と同様にして電気分解を行った。得ら
れた塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、１１
ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示す。
ｍｇ／リットル ０．２ミリモル）１ｍ3に有効塩素
１２重量％の次亜塩素酸ナトリウム３００ミリリットル
（０．５２モル）を撹拌しながら加えた。次いで、塩酸
を加えてｐＨ２．３に調整した後、４０℃で空気を０．
４ｍ3／ｍｉｎ．の速度で３０分間吹き込んだ。処理後
の食塩水溶液中の臭素イオン濃度を上記方法により測定
した結果６．７ｍｇ／リットルであった。処理後の食塩
水溶液を実施例１と同様にして電気分解を行った。得ら
れた塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、１１
ｍｇ／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示す。
【００２９】比較例１ 実施例１で用いた工業用食塩の２０重量％水溶液（臭素
イオン濃度：２６ｍｇ／リットル、０．３２モル、２３
℃）を未処理のままで電解槽に供給した以外、実施例１
と同様にして食塩水溶液の電気分解を行った。得られた
塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、５０ｍｇ
／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示す。
イオン濃度：２６ｍｇ／リットル、０．３２モル、２３
℃）を未処理のままで電解槽に供給した以外、実施例１
と同様にして食塩水溶液の電気分解を行った。得られた
塩素中の臭素を上記方法により測定した結果、５０ｍｇ
／ｋｇであった。得られた結果を〔表１〕に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、電解槽から発生する塩
素を精製処理することなしに、臭素の含有量が１５ｍｇ
／リットル以下の高純度の塩素が得られる。
素を精製処理することなしに、臭素の含有量が１５ｍｇ
／リットル以下の高純度の塩素が得られる。
Claims (2)
- 【請求項１】 食塩水溶液中の臭素イオン１モルに対し
て次亜塩素酸イオン１〜２モルを添加、酸化し、該食塩
水溶液をｐＨ４以下の塩酸酸性に調整した後、不活性気
体０．１〜１０ｍ3／ｍ3・ｍｉｎを用いて少なくとも３
０分間バブリングして生成した臭素を系外に除去し、電
解槽に供給する食塩水溶液中の臭素イオン濃度を１０ｍ
ｇ／リットル未満に制御することを特徴とする食塩水溶
液の電解方法。 - 【請求項２】 食塩水溶液の濃度が２０〜２５重量％、
温度が１５〜９０℃であることを特徴とする請求項１記
載の食塩水溶液の電解方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17773096A JPH1018071A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 食塩水溶液の電解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17773096A JPH1018071A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 食塩水溶液の電解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1018071A true JPH1018071A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=16036121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17773096A Pending JPH1018071A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 食塩水溶液の電解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1018071A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2864969A1 (fr) * | 2004-01-12 | 2005-07-15 | Solvay | Procede de production de chlore haute purete |
| JP2006167570A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 食塩水中の臭素イオンの除去方法 |
| JP2011245484A (ja) * | 2011-08-08 | 2011-12-08 | Tsurumi Soda Co Ltd | 塩水精製装置及び塩水精製方法 |
| JP2014124600A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd | 排水処理システム |
| JP2017009208A (ja) * | 2015-06-23 | 2017-01-12 | 高知県公立大学法人 | 殺菌可能な冷却媒体の生産システム及び生産方法 |
-
1996
- 1996-07-08 JP JP17773096A patent/JPH1018071A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2864969A1 (fr) * | 2004-01-12 | 2005-07-15 | Solvay | Procede de production de chlore haute purete |
| WO2005068686A3 (en) * | 2004-01-12 | 2006-01-19 | Solvay | Process for the production of high-purity chlorine |
| EA012069B1 (ru) * | 2004-01-12 | 2009-08-28 | Солвей (Сосьете Аноним) | Способ получения хлора высокой чистоты |
| JP2006167570A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 食塩水中の臭素イオンの除去方法 |
| JP2011245484A (ja) * | 2011-08-08 | 2011-12-08 | Tsurumi Soda Co Ltd | 塩水精製装置及び塩水精製方法 |
| JP2014124600A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd | 排水処理システム |
| JP2017009208A (ja) * | 2015-06-23 | 2017-01-12 | 高知県公立大学法人 | 殺菌可能な冷却媒体の生産システム及び生産方法 |
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