JPH10181219A

JPH10181219A - 位置合わせ用紫外線発色シート

Info

Publication number: JPH10181219A
Application number: JP8355955A
Authority: JP
Inventors: Naoki Wakasugi; 直樹若杉; Ikuo Suzuki; 郁夫鈴木
Original assignee: AISERO KAGAKU KK; Aicello Chemical Co Ltd
Current assignee: AISERO KAGAKU KK; Aicello Chemical Co Ltd
Priority date: 1996-12-25
Filing date: 1996-12-25
Publication date: 1998-07-07
Anticipated expiration: 2016-12-25
Also published as: JP3120047B2

Abstract

(57)【要約】【課題】液体回路パターンとソルダーレジストのパタ
ーンの正確な位置を合わせを実施するための紫外線発色
積層シート。【解決手段】透明プラスチックフィルムの上に(1) 有
機溶剤可溶性樹脂にフォトクロミック色材又はロイコ染
料を含有せしめた紫外線発色層、(2) アクリル系粘着材
又はゴム系粘着材に紫外線吸収剤を含有せしめた層を順
次積層した紫外線発色シートの提供。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線回路
基板製造における液状フォトレジストの露光位置合わせ
用紫外線発色シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント回路基板の製造において、紙−
フェノール樹脂板、ガラス−エポキシ樹脂板のような絶
縁板と銅板を貼り合わせた基板をエッチングすることに
より導体回路パターンを形成した後、後続のハンダ付け
工程で不必要部分にハンダが付かないようにソルダーレ
ジストを形成させるときに、従来、熱硬化型、あるいは
紫外線硬化型のソルダーレジストインキをスクリーン印
刷により形成する方法が主流であった。しかし、最近の
ファインパターン化に伴い、スクリーン印刷では精度確
保が難しいため、液状ソルダーレジストを使用する方法
に変わりつつある。この方法は、導体回路パターンを形
成させた基板の全面に液状ソルダーレジストを塗布し、
必要とするところのみ露光し、現像することによりソル
ダーレジスト部を形成する方法である。

【０００３】このようなプリント回路基板の製造におい
て、導体回路パターンとソルダーレジストのパターンの
正確な位置合わせは非常に重要であるが、液状ソルダー
レジストを使用した場合は、ソルダーパターンを露光し
ただけでは露光による変色がないため位置の良否は確認
できず、現像してみなければ確認できないので、そのた
め、位置合わせに多くの時間を費やしてしまう。特に、
多層基板のように何回もこの導体回路パターンの形成、
レジスト層の形成を繰り返して行う場合には、工程毎に
使用不可能なプリント回路基板が増えてしまい、特に少
ロット製造品についてはロス率が非常に高く大きな問題
となっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、導体
回路パターンと液状ソルダーレジストのパターンとの位
置を容易に確認できるのに十分なコントラストを発現す
る良好な紫外線発色性を有する位置合わせ用紫外線発色
シートを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、透明プラスチックフィルム上に、(A)ポ
リ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
ビニルピロリドン、エチルセルロース、メチルセルロー
ス又はセルロースアセテートから選択される１種以上の
有機溶剤可溶性樹脂にフォトクロミック化合物、又は
光酸化剤と光酸化反応により発色するロイコ染料を１
〜50wt％含有させた紫外線発色層を形成させることによ
り、導体回路パターンと液状フォトレジストのパターン
との位置を容易に認識し短時間で正確に露光位置を設定
できる紫外線発色シートが得られることを見出した。

【０００６】さらに、紫外線発色層の上に(B) アクリル
系粘着剤又はゴム系粘着剤に紫外線吸収剤を10〜50wt％
含有させた粘着層を積層させることにより、導体回路パ
ターンと液状フォトレジストのパターンとの位置ズレを
容易に認識できる機能に加え、粘着固定することにより
露光時に生じる紫外線発色シートとプリント回路基板と
のずれによるロスをなくし、及び紫外線発色シートを透
過する紫外光を吸収することにより液状フォトレジスト
を硬化させることによるロスを同時に減少させ、最小限
の製造ロスで位置合わせができることを見出し、本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明では、透明プラ
スチックフィルム上に、(A) ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ール−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、エ
チルセルロース、メチルセルロース又はセルロースアセ
テートから選ばれる有機溶剤可溶性樹脂に (A)フォトク
ロミック化合物又はもしくは光酸化剤と光酸化反応によ
り発色するロイコ染料を１〜50wt％含有させた紫外線発
色層、及び（B)アクリル系粘着剤又はゴム系粘着剤に紫
外線吸収剤を10〜70wt％含有させた粘着層を順次積層さ
せることを特徴とする液状フォトレジストの露光位置合
わせ用紫外線発色シートを開発した。

【０００７】本発明の液状フォトレジストの露光位置合
わせ用シートを構成する透明プラスチックフィルムに
は、厚み10〜 100μm 、より好ましくは30〜80μm のポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロ
ンフィルム、ポリエステルフィルム等を用いるが、必要
に応じ、片面にコロナ放電処理、離型処理を施すことも
できる。また、紫外線発色層は、ポリ酢酸ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体又はセルロースアセテート
から選ばれる有機溶剤可溶性樹脂にフォトクロミック化
合物、もしくは光酸化剤と光酸化反応により発色するロ
イコ染料を１〜50wt％含有させた紫外線発色樹脂溶液を
グラビア印刷機、リバースコーターなどを用いて支持層
に塗布して得られる。この紫外線発色層の厚みは、0.5
〜50μm が好ましいが、紫外線発色性能とコストのバラ
ンスを考えると、１〜10μm の厚みが好適である。

【０００８】ここで使用するフォトクロミック化合物と
しては、1,3,3-トリメチルインドリノベンゾピリロスピ
ラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-6'-プロモベンゾピ
リロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-8'-メトシ
キベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ
-β- ナフトピリロスピラン等のスピロピラン系化合
物、1,1'- ビス(2,4- ジニトロフェニル)-4,4'- ビピリ
ジニウムジクロライド、1,1'- ジベンジル-4,4'-ビピリ
ジニウムジクロライド、1,1'- ジ-n- ヘブチル-4,4'-ビ
ピリジニウムジブロマイド、1,1'-n- オクチル-4,4'-ビ
ピリジニウムジブロマイド、4,4'- ジビリジル等のビオ
ロゲン系化合物があげられる。

【０００９】また、ロイコ染料としては、例えばロイコ
クリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリーンが
挙げられる。ロイコ染料を紫外線により発色させる光酸
化剤は、例えばベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベン
ゾフェノン、4-ベンゾイル-4'-メチルジフェニルスルフ
ァイド等のベンゾフェノン系化合物、2,4-ジメチルチオ
キサントン、2-イソプロピルチオキサントン等のチオキ
サントン系化合物、2,2'- ビス(-クロロフェニル)-4,5,
4',5'-テトラフェニル-1,2- ビイミダゾール等が挙げら
れる。これらの紫外線発色剤の含有量は、１〜50wt％で
あり、１wt％未満では導体回路パターンと液状フォトレ
ジストのパターンの位置を容易に認識できるのに十分な
コントラストは得られず、50wt％を超えると、発色性が
高すぎて保存安定性が悪い。経済性を考えると、１〜30
wt％の範囲で添加するのが好ましい。また、この紫外線
発色層には必要に応じ、バインダー樹脂の可塑剤を添加
してもかまわない。

【００１０】粘着層としては、紫外線吸収剤を添加した
アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等の粘着剤をリバース
コーターなどを用いて形成する。塗布厚みは、１〜20μ
m が好ましい。また、基板と紫外線発色シートとの剥離
強度があまりに大きいと、位置合わせ後の基板から剥離
が困難になり基板を次工程での使用ができなくなるた
め、粘着力としては、導体回路パターンを形成した紙−
フェノール樹脂基板、ガラス−エポキシ樹脂基板に対し
10〜200gf/50mmの剥離強度がえられる粘着力が好まし
い。再剥離しやすい適度な粘着力を得るために必要に応
じて、シリカ等の無機系粒子やポリ酢酸ビニル、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、スチレン−ア
クリル共重合体等の樹脂を添加することもできる。

【００１１】この粘着剤に添加する紫外線吸収剤は無機
系紫外線吸収剤でも有機系紫外線吸収でも制限はなく、
無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化セリウ
ム又は酸化亜鉛、有機系紫外線吸収剤としては、2,4-ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシン-4- メトキ
シベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オクトキシベンゾ
フェノン、2-ヒドロキシ -4-ドデシルオキシベンゾフェ
ノン、 2,2'-ジヒドロキシ-4- ジメトキシベンゾフェノ
ン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェノ
ン、2-ヒドロキシ-4- メトキシ-5- スルホキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン-5-
スルホン酸ナトリウム、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフ
ェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-
ブチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-3',5'- ジ-t- ブチルフェニル) ベンゾトリアゾー
ル、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニ
ル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-3'-5'-t- ブチルフェニル) ベンゾトリアゾール、フェ
ニルサリシレート、4-t-ブチルフェニルサリシレート、
4-t-オクチルフェニルサリシレート、2-エチルヘキシル
-2- シアノ-3,3'-ジフェニルアクリレート又はエチル -
2-シアノ-3,3'-ジフェニルアクリレートの群から選択さ
れる１種以上の化合物が使用される。これら紫外線吸収
剤の含有量としては、10〜70wt％が好ましくは20〜60wt
％である。10wt％未満では、紫外線吸収性が乏しく、紫
外線発色シートを透過した紫外光が液状フォトレジスト
を硬化させてしまう。また70wt％を超えると、紫外線吸
収剤自体が比較的高価であるためコスト的に妥当でな
い。

【００１２】以下に実施例を示す。

【実施例１】塩化ビニール−酢酸ビニル共重合体（電気
化学工業製「デンカビニル#1000D」)100重量部、ロイコ
クリスタルバイオレット（保土ヶ谷化学製「LCV 」)10
重量部、ジメチルチオキサントン（日本化薬製「KAYACU
RE DETX 」５重量部、酢酸エチル200 重量部、トルエン
200 重量部からなる紫外線発色製樹脂液を厚み50μmの
二軸延伸ポリエステルフィルムに５μm リバースコータ
ーにて塗布、乾燥した。その後、アクリル系エマルジョ
ン (中央理化工業製「リカボンドAP-37 」)20重量部、
エチレン- 酢酸ビニル共重合体エマルジョン (中央理化
工業製「リカボンドBE-800」)80 重量部、水100 重量部
に紫外線吸収剤ＺnO (レジノカラー製「ホワイトUV-W-2
02」固形分30％)35 重量部を添加して調製した粘着剤を
７μm 塗布、乾燥して紫外線発色シートを作成した。導
体回路パターンを形成させた紙フェノール樹脂基板上に
液状フォトレジスト（サンワ化学工業製「SPSR-700」)
を塗布し、その上に作製した紫外線発色シートをラミネ
ートして、１ｍの距離から３kwメタルハライドランプに
て60秒露光した。紫外線発色シートは、露光時に導体回
路パターンを形成させた紙フェノール樹脂基板からずれ
ることなく、導体回路パターンとフォトレジストのパタ
ーンとの位置ズレを容易に識別できるのに十分なコント
ラストを発現した。また、この紫外線発色シートは、紙
フェノール樹脂基板から容易に剥離でき、液状フォトレ
ジストについても硬化していなかった。

【００１３】

【実施例２】塩化ビニール酢酸ビニル共重合体（電気化
学工業製「デンカビニル#1000D」)100重量部、4,4'- ジ
ビリジル (キシダ化学製）１重量部、酢酸エチル200 重
量部、トルエン200 重量部からなる紫外線発色製樹脂液
を厚み50μm の二軸延伸ポリエステルフィルムに５μm
リバースコーターにて塗布、乾燥した。その後、アクリ
ル系エマルジョン (中央理化工業製「リカボンドAP-37
」固形分59％)20 重量部、エチレン- 酢酸ビニル共重
合体エマルジョン (中央理化工業製「リカボンドBE-80
0」固形分56％)80 重量部、水100 重量部に紫外線吸収
剤2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン-5- スルホ
ン酸ナトリウム (湘南化学製「ASL-24ＳT 」)20 重量部
を添加して調製した粘着剤を10μm 塗布、乾燥して紫外
線発色シートを作成した。導体回路パターンを形成させ
た紙フェノール樹脂基板上に液状フォトレジスト（サン
ワ化学工業製「SPSR-700」) を塗布し、その上に作製し
た紫外線発色シートをラミネートして、１ｍの距離から
３kwメタルハライドランプにて90秒露光した。紫外線発
色シートは、露光時に導体回路パターンを形成させた紙
フェノール樹脂基板からずれることなく、導体回路パタ
ーンとフォトレジストのパターンとの位置ズレを容易に
識別できるのに十分なコントラストを発現した。また、
この紫外線発色シートは、紙フェノール樹脂基板から容
易に剥離でき、液状フォトレジストについても硬化して
いなかった。

【００１４】

【比較例１】塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（電気化
学工業製「デンカビニル＃1000D 」)100重量部、ロイコ
クリスタルバイオレット (保土ヶ谷化学製「LCV 」)10
重量部、ジメチルチオキサントン (日本化薬製「KAYACU
RE DETX 」５重量部、酢酸エチル200 重量部、トルエン
200重量部からなる紫外線発色製樹脂液を50μm の厚さ
の二軸延伸ポリエステルフィルムに５μm の厚みにリバ
ースコーターにて塗布、乾燥して紫外線発色シートを作
成した。導体回路パターンを形成させた紙−フェノール
樹脂基板上に液状フォトレジスト (サンワ化学工業製SP
SR-700」) を塗布し、その上に上記作成の紫外線発色シ
ートを置き、１ｍの距離から３kwメタルハライドランプ
で90秒露光した。紫外線発色シートは、導体回路パター
ンと液状フォトレジストのパターンとの位置ズレを容易
に識別できるのに十分なコントラストを発現しているけ
れども露光時に樹脂板からずれてしまっており、液状フ
ォトレジストについても硬化して再使用できなかった。

【００１５】

【比較例２】塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（電気化
学工業製「デンカビニク＃1000D 」)100重量部、ロイコ
クリスタルバイオレット (保土ヶ谷化学製「LCV 」)10
重量部、ジメチルチオキサントン (日本化薬製「KAYACU
RE DETX 」５重量部、酢酸エチル200 重量部、トルエン
200重量部からなる紫外線発色製樹脂液を50μm の厚さ
の二軸延伸ポリエステルフィルムに５μm の厚みにリバ
ースコーターにて塗布、乾燥した。その後、アクリル系
エマルジョン（中央理化工業製「リカボンドAP-37 」)2
0 重量部 (固形分59重量％) 、エチレン−酢酸ビニル共
重合体エマルジョン（中央理化工業製「リカボンドBE-8
00」)80 重量部 (固形分56重量％) 及び水 100重量部か
らなる粘着剤を５μm の厚みに塗布し、乾燥して紫外線
発色シートを作成した。導体回路パターンを形成させた
紙−フェノール樹脂基板上に液状フォトレジスト（サン
ワ化学工業製「SPSR-700」) を塗布し、その上に上記作
成の紫外線発色シートをラミネートして、１cmの距離か
ら３kwメタルハライドランプにて60秒露光した。紫外線
発色シートは、露光時に樹脂板からずれることなく、導
体パターンとフォートレジストのパターンとの位置ズレ
を容易に識別できるのに十分なコントラストを発現し
た。しかし、この紫外線発色シートは紙フェノール樹脂
基板から容易に剥離できたものの液状フォートレジスト
については硬化しており再使用できなかった。

【００１６】

【発明の効果】以上に述べた本発明の液状フォトレジス
トの露光位置合わせ用シートを用いることにより、露光
時にプリント配線回路基板からずれることなく、また、
シートを透過した紫外光により液状フォトレジストが硬
化することなく、導体回路パターンと液状フォトレジス
トのパターンとの位置ズレを容易に識別でき、ロスなく
短時間で正確に露光位置を設定できる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＢ４１Ｍ 5/26 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６Ｈ０５Ｋ 3/00 ＧＨ０５Ｋ 3/00 3/28 Ｄ 3/28 Ｂ４１Ｍ 5/18 ＬＥ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明プラスチックフィルム上に、(A) ポ
リ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
ビニルピロリドン、エチルセルロース、メチルセルロー
ス又はセルロースアセテートから選択される１種以上の
有機溶剤可溶性樹脂にフォトクロミック化合物、又は
光酸化剤と光酸化反応により発色するロイコ染料を１
〜50wt％含有させた紫外線発色剤層、及び(B)(i)アクリ
ル系粘着剤又は(ii)ゴム系粘着剤に紫外線吸収剤を10〜
70wt％含有させた粘着層を順次積層させることを特徴と
する露光位置合わせ用紫外線発色シート。
【請求項２】紫外線吸収剤として、酸化チタン、酸化
セリウム、酸化亜鉛、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、2-ヒドロキシン-4- メトキシベンゾフェノン、2-ヒ
ドロキシ -4-オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ
-4-ドデシルオキシベンゾフェノン、2, 2'-ジヒドロキ
シ -4-ジメトキシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ
-4,4'-ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ -4-メ
トキシ-5- スルホキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ -
4-メトキシベンゾフェノン-5- スルホン酸ナトリウム、
2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル) ベンゾトリアゾ
ール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-ブチルフェニル) ベンゾ
トリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3', 5'-ジ-t- ブチル
フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-
t-ブチル-5'-メチルフェニル) -5- クロロベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t- ブチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、フェニルサリシレート、4-t-
ブチルフェニルサリシレート、4-t-オクチルフェニルサ
リシレート、2-エチルヘキシル-2- シアノ-3,3'-ジフェ
ニルアクリレート及びエチル-2- シアノ-3,3'-ジフェニ
ルアクリレートの群から選択される１種以上の化合物を
用いる請求項１記載の露光位置合わせ用紫外線発色シー
ト。