JPH10186375A5 - - Google Patents

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JPH10186375A5
JPH10186375A5 JP1996349366A JP34936696A JPH10186375A5 JP H10186375 A5 JPH10186375 A5 JP H10186375A5 JP 1996349366 A JP1996349366 A JP 1996349366A JP 34936696 A JP34936696 A JP 34936696A JP H10186375 A5 JPH10186375 A5 JP H10186375A5
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Description

【0037】
つぎに、図10に示すように、第1の基板1上のスペース3に相当する接着層22上に転写用スタンプ部8の凸部9上に付着するスペーサー6を押し当て、スペーサー6を接着層22上に転写する。以上により、透明導電体4上の配向膜5上にはスペーサー6設けることを防止できる。
【0040】
最後に図11に示すように、液晶表示装置として利用する場合には、第1の基板1と第2の基板11とをスペーサー6とシール材により所定の間隙を設ける張り合わせ、シール材の開口部より液晶18を注入し、開口部を封孔材により密閉することにより形成できる。また、第1の電極2と第2の電極12の交差部が画素電極となる。第1の電極2と第2の電極12の電極間に所定の電圧を印加して画素電極の液晶18の電圧−透過率変化を利用し、表示を行う。
【0045】
つぎに、図12に示すように、転写用スタンプ部8の凸部9上にポリイミド樹脂からなる粘着材26を形成するために、ポリイミド樹脂を満たす容器27に凸部9を接触する。ポリイミド樹脂を満たす容器27は、転写用スタンプ部8を接触していない時に回転を行うことにより、容器27のポリイミド樹脂表面を平坦にすることができる。さらに、転写用スタンプ部8の凸部9に形成するポリイミド樹脂を回転して振り切ることにより膜厚の均一な粘着材26を形成できる。さらに、転写用スタンプ部8の凸部9上の粘着材26をスペーサー6に押し当てスペーサー6を粘着材26中にめり込ませる。

Claims (9)

  1. 第1の基板と第2の基板の少なくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装置の製造方法において、
    トレイの凹部にスペーサーをほぼ最密充填するスペーサー充填工程と、
    所定の部所に凸部を有する転写用スタンプ部を前記最密充填されたスペーサーに押しつけて、前記凸部に前記スペーサーを転写する第1のスペーサー転写工程と、
    前記第1の基板と前記第2の基板の少なくとも一方に前記転写用スタンプ部の凸部を押しつけ、その凸部を押し付けた基板における所定の位置にスペーサーを転写する第2のスペーサー転写工程
    を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 前記第1のスペーサー転写工程の前に、
    前記転写用スタンプ部の凸部表面をクリーニングする凸部クリーニング工程
    を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 前記第1のスペーサー転写工程の前に、
    前記凸部上に接着剤を選択的に塗布する凸部接着剤配設工程と、
    前記第1の基板と前記第2の基板の少なくとも一方に前記接着剤を転写する接着剤転写工程と
    を有することを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置の製造方法。
  4. 前記接着剤は紫外線硬化性の接着剤であり、前記第2のスペーサー転写工程の後に、
    前記接着剤を転写した基板とは反対面から紫外線を照射して前記接着剤を硬化させてスペーサーを基板に固定するスペーサー固定工程
    を有することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置の製造方法。
  5. 前記第1のスペーサー転写工程の前に、
    前記凸部表面に接着剤を選択的に塗布する凸部接着剤配設工程を有し、
    前記第2のスペーサー転写工程は、前記第1の基板と前記第2の基板の少なくとも一方に前記接着剤とともに前記スペーサーを再転写する工程である
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置の製造方法。
  6. 前記接着剤は熱可塑性の接着剤であり、前記第2のスペーサー転写工程は、前記接着剤を加熱して前記接着剤の粘性を低下させて前記スペーサーを基板に転写する工程であり
    さらに前記第2のスペーサー転写工程の後に、前記接着剤を冷却硬化させて前記スペーサーを基板上に固定するスペーサー固定工程
    を有することを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
  7. 前記第1のスペーサー転写工程は、前記転写用スタンプ部の凸部表面帯電させた後に、前記帯電させた凸部表面前記最密充填された前記スペーサーを吸着させる工程であり、
    前記第2のスペーサー転写工程は、前記第1の基板と第2の基板の少なくとも一方に前記凸部上のスペーサーを接触させた後に前記凸部の帯電を除電し、その基板上に前記スペーサーを再転写する工程である
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置の製造方法。
  8. 前記転写用スタンプ部の凸部の面積はスペーサーの断面積の少なくとも2個以上の面積であることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  9. 前記第2のスペーサー転写工程によりスペーサーを転写する領域は、前記第1の基板に形成された表示電極と前記第2の基板に形成された対向電極の重なる部分からなる画素電極の周囲の非表示領域であることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
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