JPH10186638A - ロールコート用放射線感応性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロールコート法により基板上に塗布した際に
塗布ムラの発生しにくいロールコート用放射線感応性組
成物を提供すること。 【構成】 ロールコート用放射線感応性組成物の溶剤と
して、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール
の少なくとも１種を当該溶剤中２０重量％以下含有する
混合溶剤を用いる。プロピレングリコール或いはジプロ
ピレングリコール以外の溶剤としては、例えばプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
ｔ−ブチルエーテル、エチルラクテート及びこれらの混
合物などが好ましいものとしてあげられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ロールコート用放射線
感応性組成物、更に詳細にはロールコート法により塗布
した際に塗布ムラの発生しにくいレジスト膜を形成する
ことができるロールコート用放射線感応性組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体集積回路素子、カラーフィルタ、
液晶表示素子等の製造においては、従来より微細加工を
行うためにリソグラフィー技術が用いられており、近年
ではサブミクロン或いは更にサブクオーターミクロンオ
ーダーでの微細加工を可能にする技術の開発が進められ
ている。このようなリソグラフィー技術においては、基
板上に必要に応じ反射防止膜が形成された後、ポジ型或
いはネガ型の放射線感応性組成物が塗布され、プリベー
クされて放射線感応性レジスト膜が形成される。

【０００３】その後、この放射線感応性レジスト膜は紫
外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の各種放射線によりパ
ターン露光された後現像されて、レジストパターンが形
成される。放射線感応性組成物の塗布法としては、スピ
ンコート法、ロールコート法、流延塗布法、ドクターコ
ート法、浸漬塗布法など種々の方法が知られている。例
えば半導体集積回路素子の製造においては、レジスト素
材としてはポジ型の放射線感応性組成物が、また塗布法
としてはスピンコート法が多く用いられている。一方、
液晶表示素子の製造においてもレジスト素材としてはポ
ジ型の放射線感応性組成物が多く使用され、塗布法とし
てはスピンコート法とともにロールコート法が多く採用
されている。ところで、塗布法としてスピンコート法を
用いる場合には、基板上に滴下されたレジスト溶液は基
板の回転にともない遠心力により基板外周方向に流延さ
れた後、大部分のレジスト溶液は過剰のレジスト溶液と
して基板外周から飛散除去され、この飛散除去されたレ
ジスト溶液は廃棄されている。このスピンコート法は、
均一な膜厚を有するレジスト膜を容易に形成することが
できる反面、廃棄されるレジストの量が多く、高コスト
となる欠点を有している。これに対し、ロールコート法
は、使用するレジストの大部分をレジスト膜として利用
することができるため低コスト化が可能となるが、放射
線感応性組成物の塗布時にすじ状やゆず肌状等の塗布ム
ラが生じるという欠点を有する。たとえば、このような
塗布ムラの存在するレジスト膜を用いて製造した液晶表
示素子においては、光の濃淡が発生し、商品としての価
値がなくなる。このため、塗布ムラの生じない放射線感
応性組成物が望まれている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のごとき従来の欠点を有さない放射線感応性組成物、具
体的にはロールコート法により塗布した際に塗布ムラの
発生しにくい、ロールコート用放射線感応性組成物を提
供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究した
結果、ロールコート用放射線感応性組成物の溶剤とし
て、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール
から選ばれた少なくとも１種を該溶剤中２０重量％以下
含有する混合溶剤を用いることにより上記目的を達成す
ることができることを見い出し本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明は、放射線感応性組成物
の溶剤としてプロピレングリコール及びジプロピレング
リコールから選ばれた少なくとも１種を該溶剤中２０重
量％以下含有する混合溶剤を用いたことを特徴とする塗
布性の改善されたロールコート用放射線感応性組成物で
ある。

【０００７】本発明では、混合溶剤の一成分としてプロ
ピレングリコール及びジプロピレングリコールが用いら
れるが、これらの化合物の添加、含有によりロールコー
ト時の塗布ムラの発生が防止される理由は必ずしも明確
ではない。しかし、これらの化合物は粘度が高く（２５
℃において、プロピレングリコールは、４３．２２ｃ
Ｐ、ジプロピレングリコールは、７７．８０ｃＰ）、こ
のため放射線感応性組成物の固形分含有量が低くとも組
成物の粘度は塗布に適した粘度となり、これにより同一
膜厚の被膜を形成するために塗布量を多くすることがで
きることによる自己レベリング効果の上昇がその要因の
一つと考えられるが、この考えは、単に本発明者の推測
によるものであり、この考えにより本発明が限定される
ものではない。

【０００８】ところで、本発明において用いるプロピレ
ングリコールは吸湿性が高く、通常の塗布雰囲気（４０
〜６０％ＲＨ）とほぼ同じ大気中の湿度が５０〜６０％
ＲＨのとき、溶剤中の含有量が２０重量％を越えると放
射線感応性組成物の塗布、乾燥時に塗布基板に白濁（白
化現象）が生じる傾向が顕著となる。また、溶剤中のプ
ロピレングリコールの含有量を５重量％未満とすると、
塗布性の改善が得られにくいため、溶剤中のプロピレン
グリコールの含有量は５重量％以上、２０重量％以下と
するのが好ましく、同含有量を５〜１５重量％とするの
がより好ましい。なお、塗布雰囲気が７０％ＲＨのとき
は、プロピレングリコールの溶剤中の含有量が約１０重
量％のとき白化現象を生じるので、プロピレングリコー
ルの含有量を高く設定する場合は、塗布、乾燥雰囲気の
湿度を調整する必要がある。一方、ジプロピレングリコ
ールは吸湿性が比較的小さいため、白化現象を防ぐため
の添加制限はない。

【０００９】一方、プロピレングリコール又はジプロピ
レングリコールとともに用いられる溶剤としては、従来
から放射線感応性組成物の溶剤として用いられているも
の或いは用い得ることができるものであればいずれのも
のでもよく、その代表的な溶剤を例示すると、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、メトキシ
プロパノール、エトキシプロパノールのようなアルコー
ル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテルのようなエチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテートのようなエチレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノフェニルエーテルのようなジエチレ
ングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテルのようなジエチレングリコールジアルキルエ
ーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコー
ルモノブチルエーテルのようなプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテートのようなプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコール
ジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート、
プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコ
ールジプロピオネート、ブタンジオールジアセテートの
ようなグリコールのジエステル類、蟻酸エチル、蟻酸ア
ミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミ
ル、酢酸イソアミル、プロピオン酸エチル、プロピオン
酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−エトキシプロピ
オン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−
メトキシブチルアセテート、アセト酢酸エチルのような
エステル類、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水
素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチルピロリドンのようなアミド類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケト
ン、メチルアミルケトン、エチルプロピルケトン、エチ
ルイソプロピルケトン、エチルブチルケトン、エチルイ
ソブチルケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、シクロオクタノンのようなケトン類、その他
ジオキサン、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラクトン
等があげられ、その中でもプロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレング
リコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＧＡ）、プ
ロピレングリコールｔ−ブチルエーテル（ＰｔＢ）、エ
チルラクテート（ＥＬ）が好ましい。これらの溶剤は、
単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。

【００１０】また、本発明の放射線感応性組成物で用い
られる放射線感応性材料は、ポジ型或いはネガ型レジス
ト材料として従来より周知或いは公知のいずれのもので
もよい。本発明で使用することができる放射線感応性材
料の代表的なものを例示すると、ポジ型では、例えば、
アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系化合物からなる
もの、化学増幅型レジストなどが、ネガ型では、例え
ば、ポリケイ皮酸ビニル等の感光性基を有する高分子化
合物を含むもの、芳香族アジド化合物を含有するもの或
いは環化ゴムとビスアジド化合物からなるもの、ジアゾ
樹脂を含むもの、付加重合性不飽和化合物を含む光重合
性組成物、アルカリ可溶樹脂と架橋剤、酸発生剤からな
る化学増幅型ネガレジストなどがあげられる。

【００１１】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系化
合物を含む放射線感応性材料は、本発明の好ましい放射
線感応性組成物を形成する材料の一つである。これらア
ルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド系化合物の一部を
例示すると、アルカリ可溶性樹脂としては、例えばノボ
ラック樹脂、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコ
ール、アクリル酸或いはメタクリル酸の共重合体などが
あげられる。そしてノボラック樹脂としては、例えば、
フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、キシレノール、トリメチルフェノール、ｔ−
ブチルフェノール、エチルフェノール、２−ナフトー
ル、１，３−ジヒドロキシナフタレン等のフェノール類
の１種又は２種以上と、ホルムアルデヒド、パラホルム
アルデヒド等のアルデヒド類との縮重合生成物などがあ
げられる。これら、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性
樹脂は、必要に応じ２種以上を組合せて用いることがで
きる。

【００１２】また、キノンジアジド系化合物の例として
は、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸、
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸、１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸、これらの
スルホン酸のエステル或いはアミドなどがある。これら
キノンジアジドのスルホン酸エステル或いはアミド化物
は、該当するキノンジアジドスルホン酸またはキノンジ
アジドスルホニルクロリドと、水酸基を有する化合物ま
たはアミノ基を有する化合物との縮合反応により得られ
る。水酸基を有する化合物としては、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェ
ノン、フェノール、ナフトール、ｐ−メトキシフェノー
ル、ビスフェノールＡ、ピロカテコール、ピロガロー
ル、ピロガロールメチルエーテル、没食子酸、α，
α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリイソプロピルベンゼン、トリス（ヒドロキ
シフェニル）メタン等が、またアミノ基を有する化合物
としてはアニリン，ｐ−アミノジフェニルアミン等があ
げられる。これらキノンジアジド系感光剤は、単独で或
いは２種以上の混合物として用いることができる。ま
た、キノンジアジドスルホン酸エステルとして、フェノ
ール類とアルデヒド類或いはケトン類との重縮合物とキ
ノンジアジドスルホン酸とのエステルを用いることもで
きる。

【００１３】上記キノンジアジド系化合物とアルカリ可
溶性樹脂との使用割合は、用いられるキノンジアジド系
化合物及びアルカリ可溶性樹脂により異なるが、一般的
には重量比で１：１〜１：２０の範囲が好ましい。しか
し、本発明がこれに限定されるわけではない。

【００１４】また、化学増幅型レジストも本発明におい
て好ましく用いることができる放射線感応性材料であ
る。この化学増幅型レジストは、放射線照射により酸を
発生させ、この酸の触媒作用による化学変化により放射
線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパター
ンを形成するもので、例えば、放射線照射により酸を発
生させる酸発生化合物と、酸の存在下に分解しフェノー
ル性水酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶
性基が生成される酸感応性基含有樹脂を含むものがあ
る。

【００１５】上記放射線照射により酸を発生させる酸発
生化合物としては、ビス（イソプロピルスルホニル）ジ
アゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メ
チルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのような
ビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシ
クロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニ
ルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−
メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのような
スルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジル
ｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスル
ホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートの
ようなアルキル或いはアリールスルホネート類、ベンゾ
イントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ
−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミ
ドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フル
オロ−ベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリ
メチル−２−ピリドンのようなピロリドン類、２，２，
２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３
−ビニルフェニル）−エチル４−クロロベンゼンスルホ
ネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルス
ルホニウムメタンスルホネートのようなオニウム塩類等
があげられ、これらの化合物は、単独で又は２種以上を
混合して用いることができる。

【００１６】また、酸の存在下に分解しフェノール性水
酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基を
生成する酸感応性基含有樹脂は、酸の存在下に分解する
酸感応性基とアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶性
樹脂部からなる。前記酸感応性基としては、１−メトキ
シエチル基、１−ベンジルオキシエチル基などの１−置
換エチル基、ｔ−ブチル基などの１−分岐アルキル基、
トリメチルシリル基などのシリル基、トリメチルゲルミ
ル基などのゲルミル基、ｔ−ブトキシカルボニル基など
のアルコキシカルボニル基、アセチル基などのアシル
基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル
基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフ
ラニル基などの環式酸分解基等があげられる。これらの
酸分解性基のうち好ましいものは、ｔ−ブチル基、ベン
ジル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラ
ニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピ
ラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等である。

【００１７】また、フェノール性水酸基或いはカルボキ
シル基のようなアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えばヒドロキシスチレン、ヒドロキ
シ−α−メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、
ビニル安息香酸、カルボキシメチルスチレン、カルボキ
シメトキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、クロ
トン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサ
コン酸、ケイ皮酸などのビニル単量体からの重合体或い
は共重合体、これら単量体少なくとも１種と他の単量体
との共重合体、ノボラック樹脂のような縮重合樹脂があ
げられる。

【００１８】また、化学増幅型レジストとしては、上記
のものの外にも、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸の
存在下に分解され、アルカリ可溶性樹脂の溶解性制御効
果を低下させる或いはアルカリ可溶性樹脂の溶解性を促
進させる化合物を含有するものも知られており、このよ
うなものも使用し得る。

【００１９】更に本発明の放射線感応性組成物には、増
感剤、界面活性剤等の公知或いは周知の各種配合剤を添
加することもできる。

【００２０】また、プロピレングリコール及びジプロピ
レングリコールから選ばれた少なくとも１種を溶剤中２
０重量％以下含有する混合溶剤のレジストに対する使用
量は、使用するレジストの種類、更には使用する溶剤の
種類により異なるものの、通常レジスト固形成分１００
重量部に対し、５０〜３０００重量部、好ましくは７０
〜２０００重量部、更に好ましくは１００〜１０００重
量部である。

【００２１】本発明のロールコート用放射線感応性組成
物は、放射線感応性材料及び必要に応じ各種配合剤を前
記混合溶剤に溶解し、必要に応じフィルターでろ過する
ことにより調製される。このようにして調製された組成
物は、ロールコーターを用いて、例えば液晶表示素子基
板などの基板上にプリベーク後の膜厚が通常１．０〜
２．５μｍとなるように塗布される。基板に塗布された
組成物は、例えばホットプレート上でプリベークされて
溶剤が除去され、放射線感応性レジスト膜が形成され
る。プリベーク温度は、用いる溶剤或いは放射線感応性
材料の種類により異なり、通常３０〜２００℃、好まし
くは５０〜１５０℃程度の温度で行われる。レジスト膜
が形成された後露光が行われるが、露光は、例えば高圧
水銀灯、メタルハライドランプ、超高圧水銀ランプ、Ｋ
ｒＦエキシマレーザー、軟Ｘ線照射装置、電子線描画装
置など公知の照射装置を用い、必要に応じマスクを介し
て行われる。露光後、現像性、解像度、パターン形状等
を改善するため、必要に応じアフターベーキングが行わ
れた後、現像が行われる。また、現像後必要があれば反
射防止膜等の除去のためガスプラズマなどによる乾式エ
ッチングが行なわれ、レジストパターンが形成される。

【００２２】上記レジストの現像は、通常現像液を用
い、露光域と未露光域の溶剤に対する溶解性或いはアル
カリ溶液に対する溶解性の差を利用して行われる。アル
カリ性現像液としてしては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウムなど
の無機アルカリ類、アンモニア、エチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ジエチルエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ベンジルアミンなどのアミ
ン類、ホルムアミドなどのアミド類、水酸化テトラメチ
ルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テトラエチルアン
モニウム、コリンなどの第４級アンモニウム塩類、ピロ
ール、ピペラジンなどの環状アミン類等を溶解した水溶
液或いは水性溶液が用いられる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。

【００２４】〔実施例１〜５、比較例１〕放射線感応性
材料として、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール（６／
４）とホルムアルデヒドの縮重合物（ノボラック樹脂）
及び２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライ
ドの縮合物（キノンジアジド感光剤）を重量比で１０
０：２０で用い、これを表１の溶剤により３０ｃＰの粘
度となるように溶解し、大日本スクリーン製造（株）製
のロールコーターＲＣ−３５３−Ｐを用いて、Ｃｒ膜付
きガラス基板（３００×３６０×１．１mm）にプリベー
ク後の膜厚が１．５μｍとなるように塗布した。塗布
後、１００℃のダイレクトホットプレートでプリベーク
（プロキシミティ１００sec ，ダイレクト１００sec ）
した後、ナトリウムランプ（イエローランプ）の下で目
視により観察し、表１の結果を得た。なお、表中におけ
る塗布性と乾燥性に関する評価は、次の評価基準に基づ
いて行われたものである。

【００２５】塗布性 ◎：塗布厚のバラツキが全くなく、かつ液晶表示素子と
してイエローランプのもとで観察した場合に光の濃淡が
ない ○：塗布厚のバラツキがほとんどなく、かつ液晶表示素
子としてイエローランプのもとで観察した場合に光の濃
淡がない △：塗布厚のバラツキがみられ、また液晶表示素子とし
てイエローランプのもとで観察した場合に光の濃淡を感
じる ×：塗布厚のバラツキや荒れがあり、また液晶表示素子
としてイエローランプのもとで観察した場合に光の濃淡
をはっきり感じる 乾燥性 ◎：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、１．２倍の乾燥時間以内である ○：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、１．５倍の乾燥時間以内である △：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、２倍の乾燥時間以内である ×：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、２倍以上の乾燥時間である なお、以下表中の％は、重量％をあらわす。

【００２６】

【表１】

【００２７】表１から明らかなように、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に
プロピレングリコール（ＰＧ）を添加、含有せしめるこ
とにより塗布性が著しく改善される。また、含有量が増
加すると塗布性は良くなるが、乾燥性が幾分落ちる。ま
た、ＰＧの含有量が２０重量％を越えると塗布膜の白濁
が顕著となり、実用的でない。

【００２８】〔実施例６〜８、比較例２〕溶剤として表
２に記載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返し
た。これにより、表２の結果を得た。

【００２９】

【表２】

【００３０】表２から、エチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート（ＥＧＡ）にプロピレングリコール
（ＰＧ）を添加、含有せしめることにより塗布性が著し
く改善されることがわかる。また、含有量が増加すると
塗布性は良くなるが、乾燥性が幾分落ちる。

【００３１】〔実施例９〜１１〕溶剤として表３に記載
のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これに
より、表３の結果を得た。

【００３２】

【表３】

【００３３】表３から、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）にジプロピレング
リコール（ＤＰＧ）を添加、含有せしめることにより塗
布性が改善されることがわかる。

【００３４】〔実施例１２〜１６〕溶剤として表４に記
載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これ
により、表４の結果を得た。

【００３５】

【表４】

【００３６】主溶剤として混合溶剤を用いたときにも塗
布性の改善がなされるが、表４から、主溶剤としてエチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＧ
Ａ）とプロピレングリコールｔ−ブチルエーテル（Ｐｔ
Ｂ）或いはエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート（ＥＧＡ）とエチルラクテート（ＥＬ）との混合
溶剤を用いた場合においては、塗布性が特に優れ、また
乾燥性も良いものが得られることがわかる。

【００３７】なお、上記結果より、一般的に塗布性の向
上に伴い乾燥性は悪くなる傾向にあるが、それにより産
業上の利用可能性がなくなるわけではない。例えばこれ
らの放射線感応性組成物を液晶表示素子の製造に際し用
いる場合、やや乾燥性が低下したとしても塗布性が改善
されるため光の濃淡の差が減少し、非常に品質の高いも
のが得られる。従って、実施に当たっては塗布性と乾燥
性のバランスを考え溶剤の選択をすれば良いのである。

【００３８】

【発明の効果】上記したように、本発明においては、放
射線感応性組成物の溶剤中にプロピレングリコール或い
はジプロピレングリコールを当該溶剤中２０重量％以下
含有せしめることにより、ロールコーターを用いて基板
上に放射線感応性組成物を塗布した際に塗布ムラの発生
のない被膜を形成することができ、またその際のレジス
ト膜の特性も優れたものがえられる。

【００３９】また、上記するように塗布性が改善される
ため、ロールコーターを用いる液晶表示素子の製造にお
いて、光の濃淡のない高品質の製品を得ることができる
という顕著な効果も奏する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】放射線感応性組成物の溶剤として、プロピ
   レングリコール及びジプロピレングリコールから選ばれ
   た少なくとも１種を該溶剤中２０重量％以下含有する混
   合溶剤を用いることを特徴とする、ロールコーターによ
   る塗布性の優れたロールコート用放射線感応性組成物。
2. 【請求項２】プロピレングリコール及びジプロピレング
   リコール以外の溶剤が、プロピレングリコールモノメチ
   ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチ
   ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルア
   セテート、プロピレングリコールｔ−ブチルエーテル、
   エチルラクテートから選ばれた少なくとも一種である請
   求項１記載のロールコート用放射線感応性組成物。