JPH10195670A - 無電解ニッケルめっき液循環システム - Google Patents

無電解ニッケルめっき液循環システム

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JPH10195670A
JPH10195670A JP8359094A JP35909496A JPH10195670A JP H10195670 A JPH10195670 A JP H10195670A JP 8359094 A JP8359094 A JP 8359094A JP 35909496 A JP35909496 A JP 35909496A JP H10195670 A JPH10195670 A JP H10195670A
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JP
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plating
solution
electroless nickel
plating solution
nickel
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JP8359094A
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English (en)
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Takeshi Horikawa
健 堀川
Muneo Mita
宗雄 三田
Hidehiro Nakao
英弘 中尾
Katsuhiko Tashiro
雄彦 田代
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MERUTETSUKUSU KK
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Original Assignee
MERUTETSUKUSU KK
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 無電解ニッケルめっき老化液をめっき液とし
て再利用することができる、工業的に有利なめっき液循
環システムを提供すること。 【解決手段】 (A)めっき金属イオンNi2+及び還元
剤として次亜リン酸イオンH2 PO2 - の主たる供給薬
剤としての次亜リン酸ニッケルを含有するめっき液を用
いてめっき処理する無電解ニッケルめっき処理工程; (B)前記(A)工程からのめっき老化液をキレート樹
脂で処理する脱Ni2+処理工程;(C)脱HPO3 2-処
理工程;(D)脱塩工程;(E)めっき液成分調整後、
前記(A)工程へ戻す再生循環工程;の各工程を順次経
由することを特徴とする無電解ニッケルめっき液循環シ
ステム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、めっき老化液を再
生利用することができる無電解ニッケルめっき液循環シ
ステムに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、無電解ニッケルめっき液の基本組
成は、一般的にはニッケル源として硫酸ニッケル、還元
剤として次亜リン酸ナトリウムを組み合わせたものであ
り、さらにめっき液のpHを一定値に保持するため水酸
化ナトリウムまたは水酸化アンモニウムが添加されてい
る。このような組成のめっき液を使用して無電解ニッケ
ルめっきを行うと、めっき液中に次亜リン酸ナトリウム
からの酸化生成物である亜リン酸ナトリウムとニッケル
源である硫酸ニッケルからの硫酸根とが反応して硫酸ナ
トリウムが経時的に生成蓄積する。このため、めっき速
度の低下、異常析出及び皮膜物性の劣化等の現象を誘発
し、めっき液が老化する。従って、一定期間使用しため
っき液は不足薬液を補充し、更新して繰り返し使用する
が、最終的に高濃度の硫酸ナトリウム及び亜リン酸ナト
リウムを含有する使用液は、老化液として再利用されぬ
まま海洋等に廃棄処分される。しかしながら、1995
年からロンドン・ダンピング条約により地球環境保護の
ため、かかるめっき老化液も海洋廃棄処理が禁止されて
いる。こうしたことから、無電解めっき液の延命或いは
環境にやさしい廃棄処理が可能な無電解めっき液の開発
が望まれている。
【0003】上記した無電解ニッケルめっき操作の過程
で蓄積される亜リン酸ナトリウムや硫酸ナトリウムの除
去については、既に各種の試みがなされてきたが、いず
れも工業的に実用化されていない。例えば、該亜リン酸
ナトリウムや硫酸ナトリウムを除去する方法として、電
解隔膜を用いる方法、アルカリ性としためっき老化液に
アルミニウム板又はアルミニウム箔を投入してニッケル
を析出させた後、硝酸で回収し母液中に残存するニッケ
ルをキレート樹脂に吸着させる方法(特開昭51−61
36号公報)、ニッケルイオン及びナトリウムイオンを
予めイオン交換樹脂でめっき液から分離しイオン交換樹
脂に吸着させてナトリウムとニッケルを分別、脱離した
後、ニッケルのみをめっき液に戻して再利用する方法等
が提案されている。また、現場的には老化しためっき液
の一部を廃棄し、新液を補充して延命を図る方法等も採
用されている。
【0004】しかしながら、これらの方法は、部分的に
は合理的なプロセスと評価される要素はあるものの、経
済的かつ技術的にも問題が多く実用化されていない。ま
た、めっき老化液を一部廃棄し、新液を補充する方法は
根本的な解決方法とはいい難い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、無電解ニッケルめっき老化液をめっき液として
再利用することができる、工業的に有利な方法、更に言
えば、地球環境にやさしい無電解ニッケルめっき液循環
システムを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者は鋭意検討を行った結果、硫酸塩が蓄積しないニ
ッケル源及び次亜リン酸源を含有するめっき液の老化液
について、これを特定の処理工程及び特定の順序で処理
すればNi2+、HPO3 2 - 、Na2+、及びNH4 + のイ
オンを有効に分離除去でき、また、この処理液を循環使
用すれば、極めて効率的に老化液をめっき液として再生
利用できることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0007】すなわち、本発明は、(A)めっき金属イ
オンNi2+及び還元剤として次亜リン酸イオンH2 PO
2 - の主たる供給薬剤としての次亜リン酸ニッケルを含
有するめっき液を用いてめっき処理する無電解ニッケル
めっき処理工程; (B)前記(A)工程からのめっき老化液をキレート樹
脂で処理する脱Ni2+処理工程;(C)脱HPO3 - 処
理工程;(D)脱塩工程;(E)めっき液成分調整後、
前記無電解ニッケルめっき処理工程(A)へ戻す再生循
環工程; の各工程を順次経由することを特徴とする無
電解ニッケルめっき液循環システムを提供するものであ
る。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明は、前記(A)、(B)、
(C)、(D)及び(E)の各工程を順次経由する無電
解ニッケルめっき液循環システムであり、以下に各工程
毎に説明する。
【0009】本発明の(A)工程はめっき金属イオンN
i2+及び還元剤として次亜リン酸イオンH2 PO2 - の
主たる供給薬剤としての次亜リン酸ニッケルを含有する
めっき液を用いた無電解ニッケルめっき処理工程であ
る。上記無電解ニッケルめっき液に配合されるめっき金
属イオンNi2+、還元剤として次亜リン酸イオンH2 P
O2 - の主たる供給薬剤の次亜リン酸ニッケル含水物と
しては、次亜リン酸ニッケルの五水塩及び六水塩等の含
水塩結晶物が挙げられ、このうち、Ni(H2 PO2 )
2 ・6H2 Oで表される次亜リン酸ニッケル・六水塩が
好ましい。次亜リン酸ニッケルの液体物では、次亜リン
酸ニッケルの溶解度が小さいため水溶液等の液体で貯
蔵、運搬するのに不利であり、粉体のうち、無水物では
分解し易いため好ましくない。
【0010】次亜リン酸ニッケル含水物の製造法として
は、公知の方法に従えばよく、ニッケル源と次亜リン酸
源とを水系において反応させ、生成する含水結晶を晶析
分離し、これを乾燥処理すればよい。具体的には、塩化
ニッケルと次亜リン酸ナトリウムとの複分解反応により
次亜リン酸ニッケル・六水塩の含水塩結晶を得ることが
できる。
【0011】本発明において、上記Ni2+源及びH2 P
O2 - の主たる供給薬剤とは、めっき浴調整時に用いる
Ni2+源及びH2 PO2 - 源及び連続的にめっきを施す
際にめっき浴に補助供給するNi2+源及びH2 PO2 -
源の両方の供給薬剤を意味する。また、該供給薬剤の次
亜リン酸ニッケル含水物を建浴又は薬液補充する場合、
これを所望の濃度に希釈溶解して使用することが好まし
い。
【0012】上記無電解ニッケルめっき液は、Ni2+が
0.017〜0.34モル/リットル、H2 PO2 - が
0.017〜1.0モル/リットルの範囲であり、さら
にH2 PO2 - /Ni2+のモル比が1.0〜4の範囲で
あることが、硫酸根の生成蓄積を抑制することから好ま
しい。また、80℃以上でめっき処理をする高温浴の場
合、Ni2+が0.017〜0.15モル/リットル、H
2 PO2 - が0. 017〜0.330モル/リットル、
また、常温ないし60℃程度でめっき処理する低温浴の
場合、Ni2+が0.095〜0.34モル/リットル、
H2 PO2 - が0.095〜0.472モル/リットル
の範囲において、それぞれ前記モル比内で浴管理するこ
とが好ましい。
【0013】上記無電解ニッケルめっき液は、上記必須
成分以外に、キレート剤、緩衝剤、pH調整剤及び安定
剤から選ばれる1種以上を配合することが好ましい。
【0014】キレート剤としては、例えば水溶性のリン
ゴ酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、アミノ酸及びそれらの
塩などが挙げられ、このうち、めっき老化液の再生を考
慮してカルシウム塩の溶解度差の大きいものが好まし
い。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いられ
る。また、緩衝剤としては、例えば、酢酸、コハク酸、
マロン酸及びそれらの塩などが挙げられ、これらは1種
又は2種以上を組み合わせて用いられる。更に、安定剤
としては、例えば、鉛、ビスマス及びタリウムなどの酢
酸塩、硝酸塩及びある種の硫黄化合物が挙げられ、これ
らは1種又は2種以上を組み合わせて用いられる。
【0015】上記無電解ニッケルめっき液のpHは、p
H調整剤によって調整でき、酸性浴では4.0〜5.
5、アルカリ浴ではアンモニア、アミン化合物及び苛性
アルカリ等のアルカリ剤で8〜10の範囲に調整すれば
よい。
【0016】また、上記無電解ニッケルめっき液は、必
要に応じてさらに光沢剤、界面活性剤等通常無電解ニッ
ケルめっき液に使用されている補助薬剤を配合すること
もできる。
【0017】上記無電解ニッケルめっき液を用いて、金
属板及び無機粉体等の表面をめっきする場合、めっき反
応により副生する亜リン酸イオンの量としては、HPO
3 2-/Ni2+のモル比が3〜10の範囲とすることが好
ましい。
【0018】上記条件でめっき処理を連続で施すことに
より、亜リン酸イオンの濃度が増加し、ついにはめっき
機能が減退しためっき老化液となる。該めっき老化液の
組成としては、特に制限されないが、一例を示すと、多
くの場合、Ni2+が4〜7g/リットル、H2 PO2 2-
が10〜55g/リットル、HPO3 2-が80〜160
g/リットル、SO4 2-が30〜75g/リットル、キ
レート剤が30〜55g/リットル、Na+ が46〜1
20g/リットルの範囲で、pHが3.5〜5.5にあ
る。
【0019】本発明の(B)の工程は、前記(A)工程
からのめっき老化液をキレート樹脂に通して処理する脱
Ni2+処理工程である。かかるキレート樹脂としては、
特に制限されないが、イミノジ酢酸型のキレート樹脂が
2価金属のNi2+を該老化液から選択的に分離除去でき
ることから好ましい。
【0020】該キレート樹脂の使用量は、通常、めっき
老化液の0.5倍以上が好ましく、特に1〜5倍量が好
ましい。また、めっき老化液の処理速度としては、通
常、10〜100ml/分が好ましく、特に20〜40ml
/分とするのが好ましい。また、処理pH値は通常4.
5〜5.5であり、上記(A)工程後のめっき老化液
は、通常pH3.5〜5.5の範囲にあるので該めっき
老化液をキレート樹脂でそのまま処理すればよい。ま
た、上記のpH値の範囲を外れるものは、pH調整する
ことにより、pH4.5〜5.5の範囲とするのが好ま
しい。かような処理により、めっき老化液からNi2+は
置換的に捕捉され、液中に実質不含の状態となる。な
お、キレート樹脂で捕捉したNi2+は、公知の方法によ
り、塩酸又は硫酸で処理し、塩化ニッケル又は硫酸ニッ
ケルとして回収し、これを次亜リン酸ニッケルの原料と
して有用利用することができる。
【0021】本発明の(C)工程は、前記(B)工程か
らのめっき老化液を脱HPO3 2-処理する工程である。
すなわち、脱Ni2+処理しためっき老化液にカルシウム
塩を粉末状又は水性スラリー状として撹拌下、反応槽に
添加し、pH6〜9、好ましくは6.5〜8.8の範囲
に調整してHPO3 2-を亜リン酸カルシウムとして沈殿
させ、分離除去することにより行われる。
【0022】該カルシウム塩としては、例えば、水酸化
カルシウム及び炭酸カルシウム等が挙げられ、これらは
1種又は2種を組み合わせて用いられる。また、該カル
シウム塩の添加量は、処理液中のHPO3 2-と当量近く
であることが好ましい。
【0023】また、pH値を6〜9の範囲としたのは、
処理液における亜リン酸カルシウムの溶解度を少なくす
ること及び固液分離の作業性を良好にするためであり、
この範囲外ではいずれも、亜リン酸カルシウムの溶解度
が増すので好ましくない。また、処理温度は、70℃以
下であれば特に限定はないが、10℃以下となると反応
時間が長くなり好ましくない。また、処理時間は無電解
ニッケルめっき老化液とカルシウム塩との反応から、カ
ルシウム塩の溶解度が反応律速となるので亜リン酸カル
シウムの生成時間を十分に採る必要があり、2時間以
上、好ましくは20時間以上、撹拌下で反応させること
が好ましい。
【0024】反応終了後、処理液を30℃以下の温度で
濾過して沈殿生成した亜リン酸カルシウムを分離除去す
る。この濾過操作により、無電解めっき老化液中の大部
分の亜リン酸塩及び金属不純物が除去される。また、め
っき老化液中のキレート剤もその種類によって一様では
ないがカルシウム塩を形成して一部沈殿して除去され
る。上記の脱HPO3 2-処理は、HPO3 2-イオンが実
質的に除去されるが、亜リン酸カルシウムの溶解度相当
分及びキレート剤の影響もあって若干のHPO3 2-イオ
ン及びカルシウムイオンが溶存する。この場合、回収母
液中に溶存するカルシウムイオンの濃度として、0.1
2g/リットル以下になるように亜リン酸カルシウムを
分離除去することが、回収母液をリサイクルして再生使
用する場合、ニッケル皮膜に悪影響を及ぼす危険性を避
けることからも好ましい。したがって、必要に応じて、
さらに溶解亜リン酸カルシウムを除く場合、上記の処理
で得られた回収母液を加熱濃縮して、再度亜リン酸カル
シウムの沈殿を生成させ、これを分離除去することが好
ましい。
【0025】また、分離した亜リン酸カルシウムは、N
i2+を実質的に含有しないので、白色粉末として回収で
き、還元剤、樹脂添加剤、無公害型の防錆顔料及び各種
の機能性素材として有効利用することができる。
【0026】本発明の(D)工程は、前記(C)工程か
らの分離母液中に存在するNa+ 、NH4 + 等の塩を除
去する、いわゆる脱塩工程である。これらNa+ 、NH
4 +等のカチオンは、主として(A)工程のめっき処理
に際し、めっき浴のpH調整剤としてのアルカリ剤ある
いはモル比調整剤の使用に伴って混入するものである。
【0027】上記脱塩方法としては、電気透析槽、陽イ
オン交換樹脂又は逆浸透膜のいずれか1つに通して処理
する方法が挙げられる。
【0028】電気透析槽としては、希釈室の両側が陽イ
オン交換膜で仕切られていることが重要な要件となる。
その構成としては、陽イオン交換膜単膜、陽イオン交換
膜の複数膜を備えたもの、又は陰イオン交換膜と陽イオ
ン交換膜の複数膜を備えたものを挙げることができる。
具体的には、例えば図1に示すように、電気透析槽10
には、陰イオン交換膜1と陽イオン交換膜2が複数対組
み込まれ、陽極側4からみて陽極室7、濃縮室6、希釈
室5の順に配列され、その後、濃縮室6と希釈室5を交
互に配列し、その間は陽イオン交換膜2を配し、最後に
濃縮室6、陽イオン交換膜2、陰極室8となるように配
列する。さらに処理液を送り込み、希釈室5を通過し流
入する希釈液タンク11、電極液を送り込み、陽極室7
及び陰極室8を通過し流入する電極液タンク12、濃縮
液を送り込み、濃縮室6を通過し流入する濃縮液タンク
13を備える。
【0029】図1において、前記(C)工程からの分離
母液は、電気透析槽10の希釈室5に、好ましくは5〜
50cm/秒で供給される。この時、電気透析槽10の両
端部に位置する陽極室7及び陰極室8には適宜の電解質
水溶液を供給すればよい。通電は、限界電流密度以下、
好ましくは0.1〜10A/dm2 の範囲で行い、希釈室
5に供給される上記分離母液中の陽イオンを陽イオン交
換膜を通して、選択的に濃縮室6に移行させて、上記分
離母液中のNa+ 、NH4 + 等の陽イオンを除去すれば
よい。陽イオン交換膜としては、特に制限されず、例え
ばセレミオンCMV(旭硝子社製)、ネオセブタCM-1
(徳山曹達社製)、Nafion324 (デュポン社製)等が挙
げられる。陰イオン交換膜としては、特に制限されず、
例えばセレミオンAMV(旭硝子社製)、ネオセブタA
M-1(徳山曹達社製)等が挙げられる。
【0030】陽イオン交換樹脂としては、スルホン基、
カルボキシル基等の陽イオン交換基を持つものであれ
ば、特に制限されず、例えばダイアイオンSK-1B(三
菱化成社製)等が挙げられる。陽イオン交換樹脂の量
は、通常廃液量の当量以上、好ましくは2〜5倍量であ
る。処理速度は通常10〜200ml/分、好ましくは5
0〜100ml/分である。
【0031】逆浸透膜の材質としては、例えば、セルロ
ースアセテート系、芳香族ポリアミド系及びポリベンツ
イミダゾロン系の膜等が挙げられ、孔径としては、通常
100オングストローム以下、好ましくは5〜50オン
グストロームが用いられる。原水に加える処理圧力とし
しては、通常0.5〜100kg/m2 、好ましくは10
〜30kg/m2 である。
【0032】かかる電気透析、陽イオン交換樹脂及び逆
浸透膜の各操作方法としては、特に制限されず、いずれ
の操作で行うかは適用する(C)工程からの分離分液の
組成と経済的条件で検討すればよくこれによりNa+ 、
NH4 + 等のカチオンを除去した後のpHが5.5以
下、好ましくは4.5以下となる。次いで、かかる処理
された液は、次の(E)工程へ移される。
【0033】本発明の(E)工程は、めっき液成分調整
後、前記無電解ニッケルめっき処理工程(A)へ戻す再
生循環工程である。すなわち、上記のような処理を行っ
た無電解ニッケルめっき老化液は、キレート剤を主に含
有する次亜リン酸溶液であるが、液組成を確認して、必
要に応じて不足分の次亜リン酸ニッケル、キレート剤、
pH調整剤及び安定剤等の薬剤を添加して前記(A)工
程におけるめっき液組成に調整した後、建浴液として又
は補充液として再利用すればよい。
【0034】上記の如く、本発明のめっき液循環システ
ムによれば、めっき老化液を効率的に処理し、再生使用
できるとともに、硫酸ソーダ含有のめっき液のものと異
なり、平滑で良好な皮膜が得られる。特に、従来のめっ
き浴に比べて、浴の寿命が長く、いわゆるターン数が増
加できるという顕著な利点がある。
【0035】
【作用】本発明の無電解ニッケルめっき液循環システム
において、(A)のめっき処理工程では、めっき液とし
て、めっき金属イオンNi2+及び還元剤として次亜リン
酸イオンH2 PO2 - の主たる供給薬剤としての次亜リ
ン酸ニッケルを含有するめっき液とすることにより、め
っき処理中に硫酸塩の生成蓄積を抑制できる。また、繰
り返しめっき処理を行うことによるめっき液のめっき機
能が減退しても、めっき老化液を(B)工程のキレート
樹脂に通すことにより、Ni2+を選択的に除去できる。
次いで(C)工程におけるカルシウム塩の投入により、
めっき老化液中のHPO3 2-を次式; HPO3 2-+Ca2+→CaHPO3 ↓ で実質的に亜リン酸カルシウムのみを選択的に沈殿させ
て分離処理できる。また、(D)工程により、めっき老
化液中のNa+ 、NH4 + 等の低分子量の塩を選択的に
除去できる。さらに(E)工程により、液組成を確認し
て、必要に応じて不足分の次亜リン酸ニッケル、キレー
ト剤、pH調整剤及び安定剤等の薬剤を添加して液組成
を調整したのち、建浴液として再利用することができ
る。
【0036】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、これは例示であって、本発明を制限するも
のではない。
【0037】実施例1 (A)工程 次亜リン酸ニッケル六水塩30.3g/リットル、次亜
リン酸ソーダ一水塩10.8g/リットル、リンゴ酸2
5g/リットル、コハク酸10g/リットル、硝酸鉛2
mg/リットルからなるpH4.5の無電解ニッケルめっ
き液2リットルを3リットルのガラスビーカーに建浴し
た。次いで、90℃に加温した後、脱脂及び酸洗浄した
鉄片(5cm×10cm×0.2mm)10枚を一度に浸漬
し、30分間無電解ニッケルめっきを行った。次いで鉄
片を取り代え同様の処理を都合16回行った。なお、め
っき操作の途中で、めっき反応により消耗する薬剤(主
に次亜リン酸ニッケル)を30分毎に補給した。また、
液のpHを4.5に維持するため水酸化ナトリウム水溶
液を常時補充すると共に、蒸発する水分を補充するため
脱塩水を加えた。この無電解ニッケルめっき処理により
鉄片上に最大厚み10.9μm、最小厚み9.9μm、
平均厚み10.5μmのニッケルめっき皮膜が析出し、
形成されためっき層は全て平滑で優れた金属光沢を示す
ものであった。めっき処理終了後のめっき老化液の組成
を表1に示す。
【0038】(B)工程 上記めっき老化液2リットルをイミノジ酢酸型キレート
樹脂を充填した2リットルカラム(口径7.5cm×長さ
60cm)に40ml/分の流速でポンプで送り込んで、脱
Ni2+処理を行って、(C)工程の処理槽に移した。こ
のときのNi2+の捕捉率は99%であった。
【0039】(C)工程 脱Ni2+処理した処理溶液2リットル(pH3.6、液
温70℃)に消石灰を撹拌下に投入し、pH値を6.1
〜8.0として、室温で24時間保持した。処理後、複
分解反応により生成した白色沈殿物を常法により30℃
以下の温度で濾過して亜リン酸カルシウムを除去分離し
た。濾過後の母液の組成を表1に示す。
【0040】(D)工程 次いで、処理母液1リットルを有効面積150cm2 の陽
イオン交換膜セレミオンCMW(旭硝子社製)5枚及び
陰イオン交換膜セレミオンAMV(旭硝子社製)1枚よ
りなる電気透析槽に供給した。電気透析槽に供給した直
流電流は5A、電圧は10Vであった。電気透析処理後
の液組成を表1に示す。
【0041】(E)工程及び再度の(A)工程 上記処理母液1リットルに、次亜リン酸ニッケル六水塩
60g、次亜リン酸ナトリウム一水塩20g,リンゴ酸
24.8g、コハク酸9.5g及び硝酸鉛2mgを加え、
更に純水で液量が2リットルとなるようにしてめっき液
を調整した。次いで、上記組成のめっき液をpH4.5
に調整し、3リットルのガラスビーカーに建浴して、9
0℃に加温した後、脱脂及び酸洗浄した鉄片(5cm×1
0cm×0.2mm)10枚を一度に浸漬し30分間無電解
ニッケルめっきを再び16回行った。なお、めっき操作
の途中で、めっき反応により消耗する薬剤(主に次亜リ
ン酸ニッケル)を30分毎に補給し、液のpHを4.5
に維持するため水酸化ナトリウム水溶液を常時補充する
と共に、蒸発する水分を補充するため脱塩水を加えた。
この無電解ニッケルめっき処理により、鉄片上に最大厚
み10.4μm、最小厚み9.6μm、平均厚み10.
1μmのニッケルめっき皮膜が析出し、形成されためっ
き層は全て平滑で優れた金属光沢を示すものであり、当
初に建浴しためっき液によるめっき品と何ら異なるもの
ではなかった。
【0042】
【表1】
【0043】実施例2 (A)工程 次亜リン酸ソーダ一水塩10.8g/リットルを6.7
g/リットルとし、「無電解ニッケルめっき液2リット
ルを3リットルのガラスビーカに建浴する」を「無電解
ニッケルめっき液4リットルを5リットルのガラスビー
カに建浴する」とした以外は実施例1と同様の方法でめ
っき処理を行った。この無電解ニッケルめっき処理によ
り鉄片上に最大厚み10.4μm、最小厚み9.3μ
m、平均厚み9.8μmのニッケルめっき皮膜が析出
し、形成されためっき層はすべて平滑で優れた金属光沢
を示すものであった。めっき処理終了後のめっき老化液
の組成を表2に示す。
【0044】(B) 工程及び(C)工程は実施例1と同
様の方法で行った。(C)工程における濾過後の母液の
組成を表2に示す。
【0045】(D)工程 次いで、処理母液1リットルを陽イオン交換樹脂(ダイ
ヤイオンSK-1B;三菱化成社製)を2リットル充填し
たカラム(口径7.5cm×長さ60cm)に90ml/分の
流速でポンプで送り込んで脱塩処理を行った。次いで、
次工程のめっき処理槽に移した。陽イオン交換樹脂処理
後の液組成を表2に示す。
【0046】(E)工程及び再度の(A)工程 リンゴ酸24.8gを26gとした以外は実施例1と同
様の方法で行った。めっき液調整後のめっき処理も実施
例1と同様の方法で行い、この無電解ニッケルめっき処
理により、鉄片上に最大厚み10.0μm、最小厚み
8.9μm、平均厚み9.5μmのニッケルめっき皮膜
が析出し、形成されためっき層は全て平滑で優れた金属
光沢を示すものであり、当初に建浴しためっき液による
めっき品と何ら異なるものではなかった。
【0047】
【表2】
【0048】実施例3 (A)工程 次亜リン酸ソーダ一水塩10.8g/リットルを16.
2g/リットルとした以外は実施例1と同様の方法でめ
っき処理を行った。この無電解ニッケルめっき処理によ
り鉄片上に最大厚み10.8μm、最小厚み10.2μ
m、平均厚み10.6μmのニッケルめっき皮膜が析出
し、形成されためっき層は全て平滑で優れた金属光沢を
示すものであった。めっき処理終了後のめっき老化液の
組成を表3に示す。
【0049】(B) 工程及び(C)工程は実施例1と同
様の方法で行った。(C)工程における濾過後の母液の
組成を表3に示す。
【0050】(D)工程 次いで、処理母液1リットルを30kg/cm2 の圧力で逆
浸透膜を通して脱塩処理を行った。次いで、次工程のめ
っき処理槽に移した。逆浸透膜通過後の液組成を表3に
示す。
【0051】(E)工程及び再度の(A)工程 上記組成の処理母液1リットルに、純水900mlを加
え、更に次亜リン酸ニッケル六水塩60g、次亜リン酸
ナトリウム一水塩34g、リンゴ酸9.2g、コハク酸
11.7g及び硝酸鉛4mgを加えてめっき液を調整し
た。また、めっき液調整後のめっき処理は実施例1と同
様の方法で行い、この無電解ニッケルめっき処理によ
り、鉄片上に最大厚み10.4μm、最小厚み9.8μ
m、平均厚み10.1μmのニッケルめっき皮膜が析出
し、形成されためっき層は全て平滑で優れた金属光沢を
示すものであり、当初に建浴しためっき液によるめっき
品と何ら異なるものではなかった。
【0052】
【表3】
【0053】
【発明の効果】本発明の無電解ニッケルめっき液循環シ
ステムによれば、めっき液中に硫酸塩の生成蓄積がな
く、めっき液の長寿化が図れる。また、繰り返し使用に
よるめっき老化液からNi2+、HPO3 2-及びNa+ や
NH4 + 等の低分子のカチオンを工業上に極めて有利に
分離除去できるとともに、該老化液の再生利用が可能と
なる。しかも再生利用した老化液を用いてめっき処理し
ても初めと変わらぬ良好なめっき皮膜を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の(D)工程で用いる電気透析槽の概念
を示す図である。
【符号の説明】
1 陰イオン交換膜 2 陽イオン交換膜 3 陰極 4 陽極 5 希釈室 6 濃縮室 7 陽極室 8 陰極室 10 電気透析槽 11 希釈液タンク 12 電極液タンク 13 濃縮液タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C02F 1/469 C02F 1/58 R 1/58 1/46 103 (72)発明者 中尾 英弘 埼玉県大宮市吉野町2丁目3番1号 メル テックス株式会社研究部内 (72)発明者 田代 雄彦 埼玉県大宮市吉野町2丁目3番1号 メル テックス株式会社研究部内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)めっき金属イオンNi2+及び還元剤
    として次亜リン酸イオンH2 PO2 - の主たる供給薬剤
    としての次亜リン酸ニッケルを含有するめっき液を用い
    てめっき処理する無電解ニッケルめっき処理工程; (B)前記(A)工程からのめっき老化液をキレート樹
    脂で処理する脱Ni2+処理工程;(C)脱HPO3 2 - 処
    理工程;(D)脱塩工程;(E)めっき液成分調整後、
    前記無電解ニッケルめっき処理工程(A)へ戻す再生循
    環工程; の各工程を順次経由することを特徴とする無
    電解ニッケルめっき液循環システム。
  2. 【請求項2】 前記(A)工程の前記めっき液が、更
    に、キレート剤、緩衝剤、pH調整剤又は安定剤を含有
    するものである請求項1記載の無電解ニッケルめっき液
    循環システム。
  3. 【請求項3】 前記(C)工程が、前記(B)工程後の
    めっき老化液を、カルシウム塩でpH6〜9に調整して
    亜リン酸カルシウムの沈澱を生成せしめ、これを分離除
    去するものである請求項1又は2記載の無電解ニッケル
    めっき液循環システム。
  4. 【請求項4】 前記(D)工程が、前記(C)工程で得
    られる分離母液を、電気透析槽、陽イオン交換樹脂又は
    逆浸透膜に通して処理するものである請求項1〜3のい
    ずれか1項に記載の無電解ニッケルめっき液循環システ
    ム。
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