JPH10206281A - 屈折率分布の測定方法及び装置 - Google Patents
屈折率分布の測定方法及び装置Info
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- JPH10206281A JPH10206281A JP2454697A JP2454697A JPH10206281A JP H10206281 A JPH10206281 A JP H10206281A JP 2454697 A JP2454697 A JP 2454697A JP 2454697 A JP2454697 A JP 2454697A JP H10206281 A JPH10206281 A JP H10206281A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 屈折率がほぼ同一の試液Ｂ内にセットされた
被検物Ａについて、干渉縞像を形成し、形成された干渉
縞像の透過波面を測定して被検物の屈折率分布を測定す
る方法において、試液Ｂの温度を容易に制御することが
できるようにする。 【解決手段】 上記試液Ｂを入れたセル２１の外側を容
器３１で覆い、容器３１に水Ｃを入れ、該水Ｃにより上
記試液Ｂの温度を制御する。水Ｃはサーキュレータ３７
により循環させる。
被検物Ａについて、干渉縞像を形成し、形成された干渉
縞像の透過波面を測定して被検物の屈折率分布を測定す
る方法において、試液Ｂの温度を容易に制御することが
できるようにする。 【解決手段】 上記試液Ｂを入れたセル２１の外側を容
器３１で覆い、容器３１に水Ｃを入れ、該水Ｃにより上
記試液Ｂの温度を制御する。水Ｃはサーキュレータ３７
により循環させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、干渉縞の解析によ
り被検物の屈折率分布を３次元的に測定する技術に関
し、特に、被検物を屈折率がほぼ等しい試液内に浸して
測定する測定方法及び装置に関する。
り被検物の屈折率分布を３次元的に測定する技術に関
し、特に、被検物を屈折率がほぼ等しい試液内に浸して
測定する測定方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザプリンタやカメラなどの光
学機器に使用される光学レンズの材料としてプラスチッ
クを用いることが多くなっている。プラスチック成形レ
ンズはガラス研磨レンズに比較して、コスト低減や非球
面レンズの製作性に優れ、安価であるというメリットが
ある。
学機器に使用される光学レンズの材料としてプラスチッ
クを用いることが多くなっている。プラスチック成形レ
ンズはガラス研磨レンズに比較して、コスト低減や非球
面レンズの製作性に優れ、安価であるというメリットが
ある。
【０００３】しかし、その反面、ガラスレンズに比べ製
造上、屈折率分布が不安定でレンズの内部に不均一性を
生じることがある。レンズ内部に不均一性があると、光
学特性に大きな影響を及ぼし、画質の劣化やボケといっ
た原因につながる。従って、レンズ内部の屈折率分布を
高精度に測定し、光学レンズの均質性を評価する必要が
ある。
造上、屈折率分布が不安定でレンズの内部に不均一性を
生じることがある。レンズ内部に不均一性があると、光
学特性に大きな影響を及ぼし、画質の劣化やボケといっ
た原因につながる。従って、レンズ内部の屈折率分布を
高精度に測定し、光学レンズの均質性を評価する必要が
ある。
【０００４】そこで、本発明の出願人は、先願特願平６
−２０３５０２号において、被検物を試液中に浸した状
態で光軸と直交する軸を中心に回転させ、複数の回転角
位置の各々で干渉縞の解析を行い、これらの干渉縞から
透過波面量を算出し、これを一次フーリエ変換し、さら
に、二次元逆フーリエ変換を行って屈折率の分布を求め
る方法を提案した。
−２０３５０２号において、被検物を試液中に浸した状
態で光軸と直交する軸を中心に回転させ、複数の回転角
位置の各々で干渉縞の解析を行い、これらの干渉縞から
透過波面量を算出し、これを一次フーリエ変換し、さら
に、二次元逆フーリエ変換を行って屈折率の分布を求め
る方法を提案した。
【０００５】図４を用いて具体的に説明する。同図の装
置は、マハツェンダ型の干渉計を基本構成としており、
可干渉光としてのレーザ光を射出する光源１と、ビーム
エキスパンダ３と、光束分割用のビームスプリッタ５
と、２つの反射ミラー７、９と、光束重畳用のビームス
プリッタ１１と、結像レンズ１３と、ＣＣＤなどからな
る干渉縞検出器１５と、高速画像処理装置、マイクロコ
ンピュータなどからなる演算処理装置１７とを備えてい
る。以上の構成のうち、光源１から結像レンズ１３まで
で、干渉計を構成している。
置は、マハツェンダ型の干渉計を基本構成としており、
可干渉光としてのレーザ光を射出する光源１と、ビーム
エキスパンダ３と、光束分割用のビームスプリッタ５
と、２つの反射ミラー７、９と、光束重畳用のビームス
プリッタ１１と、結像レンズ１３と、ＣＣＤなどからな
る干渉縞検出器１５と、高速画像処理装置、マイクロコ
ンピュータなどからなる演算処理装置１７とを備えてい
る。以上の構成のうち、光源１から結像レンズ１３まで
で、干渉計を構成している。
【０００６】光源１より出射するレーザ光は、ビームエ
キスパンダ３によって光束径を拡大され、ビームスプリ
ッタ５によってこれを直進して参照波ａとなるレーザ光
束と、直角に屈折して被検物Ａとしての位相物体を透過
する被検波ｂとなるもう一つのレーザ光束とに分割され
る。参照波ａと被検波ｂとは、ほぼ１：１となるように
なっている。
キスパンダ３によって光束径を拡大され、ビームスプリ
ッタ５によってこれを直進して参照波ａとなるレーザ光
束と、直角に屈折して被検物Ａとしての位相物体を透過
する被検波ｂとなるもう一つのレーザ光束とに分割され
る。参照波ａと被検波ｂとは、ほぼ１：１となるように
なっている。
【０００７】反射ミラー７は、ピエゾ素子などによる電
気−変位変換素子１９により支持され、位相シフト法に
よる干渉縞解析を行うために、参照波ａの光路長を波長
のオーダで変更できるように配置されている。
気−変位変換素子１９により支持され、位相シフト法に
よる干渉縞解析を行うために、参照波ａの光路長を波長
のオーダで変更できるように配置されている。
【０００８】参照波ａは反射ミラー７で反射され、ビー
ムスプリッタ１１に達し、他方の被検波ｂは、被検物Ａ
を透過して反射ミラー９で反射され、ビームスプリッタ
１１に達して参照波ａと重なり合うが、電気−変位変換
素子１９により参照波ａと被検波ｂとの光路長には、ｎ
π／２の位相の差ができるように調整される。
ムスプリッタ１１に達し、他方の被検波ｂは、被検物Ａ
を透過して反射ミラー９で反射され、ビームスプリッタ
１１に達して参照波ａと重なり合うが、電気−変位変換
素子１９により参照波ａと被検波ｂとの光路長には、ｎ
π／２の位相の差ができるように調整される。
【０００９】参照波ａと被検波ｂは重畳され、ビームス
プリッタ１１から射出されて結像レンズ１３に入射し、
干渉縞検出器１５の撮像面に干渉縞を結像する。干渉縞
検出器１５にはリニアＣＣＤやアレイ状のセンサを用い
る。
プリッタ１１から射出されて結像レンズ１３に入射し、
干渉縞検出器１５の撮像面に干渉縞を結像する。干渉縞
検出器１５にはリニアＣＣＤやアレイ状のセンサを用い
る。
【００１０】被検物Ａの屈折率は空気の屈折率とはかな
り相違しており、被検物の入射面と射出面とが平行でな
い限り、被検物Ａを透過した被検波ｂは、不規則に収束
・発散する。一方、干渉計で干渉縞を結像させるには、
被検波ｂは、ほぼ平行な光束となっていなければならな
い。そこで、被検物Ａがどのような形状であっても、被
検物Ａを透過した被検波ｂがほぼ平行光束になるため
に、次のような構成としている。
り相違しており、被検物の入射面と射出面とが平行でな
い限り、被検物Ａを透過した被検波ｂは、不規則に収束
・発散する。一方、干渉計で干渉縞を結像させるには、
被検波ｂは、ほぼ平行な光束となっていなければならな
い。そこで、被検物Ａがどのような形状であっても、被
検物Ａを透過した被検波ｂがほぼ平行光束になるため
に、次のような構成としている。
【００１１】すなわち、被検物Ａは、被検波ｂの光路の
途中に設けられた容器状のセル２１内に設置する。セル
２１内には、その屈折率が被検物Ａの屈折率とほぼ同一
に調合された試液Ｂを満たしてある。なお、被検物Ａ
は、回転台２３上に載置され、回転台２３は、図示しな
いサーボモータなどにより、被検波ｂに対して直交する
軸ｃを中心に任意の角度だけ回転自在である。セル２１
の両端、すなわち、被検波ｂの入射窓２５と射出窓２７
は互いに平行で、かつ、それぞれに面精度が高いオプチ
カルフラット２８，２９を取り付けて液密にシールドし
ている。したがって、被検物Ａと試液Ｂで充填されたセ
ル２１は、全体として均一な屈折率の物体となり、か
つ、入射面と射出面とが平行なので、セル２１内を透過
した被検波ｂは、ほぼ平行な光束となって射出されるよ
うになる。
途中に設けられた容器状のセル２１内に設置する。セル
２１内には、その屈折率が被検物Ａの屈折率とほぼ同一
に調合された試液Ｂを満たしてある。なお、被検物Ａ
は、回転台２３上に載置され、回転台２３は、図示しな
いサーボモータなどにより、被検波ｂに対して直交する
軸ｃを中心に任意の角度だけ回転自在である。セル２１
の両端、すなわち、被検波ｂの入射窓２５と射出窓２７
は互いに平行で、かつ、それぞれに面精度が高いオプチ
カルフラット２８，２９を取り付けて液密にシールドし
ている。したがって、被検物Ａと試液Ｂで充填されたセ
ル２１は、全体として均一な屈折率の物体となり、か
つ、入射面と射出面とが平行なので、セル２１内を透過
した被検波ｂは、ほぼ平行な光束となって射出されるよ
うになる。
【００１２】干渉縞像は、干渉縞検出器１５で検出さ
れ、光電変換されて電気的な画像信号となり、Ａ／Ｄ変
換器２０によってＡ／Ｄ変換された後、演算装置１７に
入力される。なお、演算装置１７は、位相シフト法など
による干渉縞像の解析によって透過波面の計測演算を行
う透過波面計測部１８を含んでいる。
れ、光電変換されて電気的な画像信号となり、Ａ／Ｄ変
換器２０によってＡ／Ｄ変換された後、演算装置１７に
入力される。なお、演算装置１７は、位相シフト法など
による干渉縞像の解析によって透過波面の計測演算を行
う透過波面計測部１８を含んでいる。
【００１３】次に上述の構成よりなる測定装置を利用し
て被検物Ａの屈折率を計測する方法を説明する。まず、
被検物Ａを回転台２３にセットしない状態で、干渉縞検
出器１５が出力する干渉縞像の画像信号を演算処理装置
１７に取り込んで演算処理装置内部の透過波面計測部１
８により干渉縞像の解析を行い、初期状態の透過波面の
計測をする。この計測結果に基づいて測定装置自身の定
常的な誤差成分を排除する初期処理を行う。
て被検物Ａの屈折率を計測する方法を説明する。まず、
被検物Ａを回転台２３にセットしない状態で、干渉縞検
出器１５が出力する干渉縞像の画像信号を演算処理装置
１７に取り込んで演算処理装置内部の透過波面計測部１
８により干渉縞像の解析を行い、初期状態の透過波面の
計測をする。この計測結果に基づいて測定装置自身の定
常的な誤差成分を排除する初期処理を行う。
【００１４】次に、回転台２３に被検物Ａをセットし、
回転台２３がθ＝０の位置で干渉縞検出器１５の撮像面
に干渉縞を結像し、干渉縞検出器１５が出力する干渉縞
像の画像信号を演算処理装置１７に取り込んで干渉縞像
の解析を行う。
回転台２３がθ＝０の位置で干渉縞検出器１５の撮像面
に干渉縞を結像し、干渉縞検出器１５が出力する干渉縞
像の画像信号を演算処理装置１７に取り込んで干渉縞像
の解析を行う。
【００１５】回転台２３が初期回転位置にある透過波面
の計測では、干渉縞像の解析結果は被検物Ａの厚み方向
（ｘ方向）に積算されており、これだけでは屈折率の不
均一部分の空間的な位置を特定することができない。
の計測では、干渉縞像の解析結果は被検物Ａの厚み方向
（ｘ方向）に積算されており、これだけでは屈折率の不
均一部分の空間的な位置を特定することができない。
【００１６】そこで、回転台２３を初期回転位置より所
定角度回転させ、回転台２３上の被検物Ａを被検波ｂの
光軸に対して変化させる。このように被検物Ａが回転変
位しても干渉縞像は干渉縞検出器１５の撮像面に結像す
る。この状態下にて干渉縞検出器１５が出力する干渉縞
像の画像信号を演算処理装置１７に取り込んで透過波面
の計測をする。こうしてたとえば、１゜刻みで１８０゜
（π）あるいは３６０゜（２π）の方向から複数回に渡
って干渉縞を形成し、この透過波面を計測して、コンピ
ュータ、すなわち、演算処理装置１７上で再合成する。
この画像の再構成は、公知のＸ線ＣＴ（Computed Tomog
raphy）解析の手法を用いて行うことができる。
定角度回転させ、回転台２３上の被検物Ａを被検波ｂの
光軸に対して変化させる。このように被検物Ａが回転変
位しても干渉縞像は干渉縞検出器１５の撮像面に結像す
る。この状態下にて干渉縞検出器１５が出力する干渉縞
像の画像信号を演算処理装置１７に取り込んで透過波面
の計測をする。こうしてたとえば、１゜刻みで１８０゜
（π）あるいは３６０゜（２π）の方向から複数回に渡
って干渉縞を形成し、この透過波面を計測して、コンピ
ュータ、すなわち、演算処理装置１７上で再合成する。
この画像の再構成は、公知のＸ線ＣＴ（Computed Tomog
raphy）解析の手法を用いて行うことができる。
【００１７】図５はＣＴ法の原理を示すものであり、角
度θから入射した被検波による透過波面のデータｐ
（ｘ，θ）を変数ｘについて一次元フーリエ変換すれ
ば、求めるべき屈折率の分布Δｎ（ｘ，ｙ）の二次元フ
ーリエ変換の極座標表現におけるθ方向成分が得られ
る。
度θから入射した被検波による透過波面のデータｐ
（ｘ，θ）を変数ｘについて一次元フーリエ変換すれ
ば、求めるべき屈折率の分布Δｎ（ｘ，ｙ）の二次元フ
ーリエ変換の極座標表現におけるθ方向成分が得られ
る。
【００１８】すなわち、０≦θ≦２π又は０≦θ≦πの
角度範囲にわたって透過波面を計測し、その透過波面デ
ータを一次元フーリエ変換し、フーリエ変換された各断
面の極座標データＰ（ｘ，θ）を直交座標データに変換
し、その後二次元逆フーリエ変換し、さらに屈折率に変
換する、ことにより被検物Ａの三次元屈折率分布を再構
成することができる。
角度範囲にわたって透過波面を計測し、その透過波面デ
ータを一次元フーリエ変換し、フーリエ変換された各断
面の極座標データＰ（ｘ，θ）を直交座標データに変換
し、その後二次元逆フーリエ変換し、さらに屈折率に変
換する、ことにより被検物Ａの三次元屈折率分布を再構
成することができる。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の屈折
率測定方法によれば、被検物Ａとしての位相物体を浸す
試液Ｂは、装置のまわりの空気やレーザによる発熱など
の影響を受け、その温度が徐々に上昇する。そして、温
度が変化すれば試液Ｂの屈折率も変化する。このとき、
温度変化が小さければ屈折率の変化も小さく、引き続い
て干渉縞の測定も可能である。しかし、温度変化が大き
くなると、屈折率の変化が大きくなり、被検物を透過し
た被検波ｂの平行度が乱れ、干渉縞の結像が困難にな
る。
率測定方法によれば、被検物Ａとしての位相物体を浸す
試液Ｂは、装置のまわりの空気やレーザによる発熱など
の影響を受け、その温度が徐々に上昇する。そして、温
度が変化すれば試液Ｂの屈折率も変化する。このとき、
温度変化が小さければ屈折率の変化も小さく、引き続い
て干渉縞の測定も可能である。しかし、温度変化が大き
くなると、屈折率の変化が大きくなり、被検物を透過し
た被検波ｂの平行度が乱れ、干渉縞の結像が困難にな
る。
【００２０】したがって、測定中の試液Ｂの温度変化を
一定の範囲内に制御し、試液の屈折率と被検物の屈折率
の差を小さく保てるようにすることが重要である。でき
れば、測定中の試液の温度を一定に保っておきたい。し
かし、上記の熱源は、装置に不可欠のものでもあり、試
液の温度変化を一定の範囲内に保つこととは二律背反の
関係になる。本発明は、上記の事実から考えられたもの
で、試液の温度を容易に制御することができる屈折率の
測定方法と、測定装置を提供することを目的としてい
る。
一定の範囲内に制御し、試液の屈折率と被検物の屈折率
の差を小さく保てるようにすることが重要である。でき
れば、測定中の試液の温度を一定に保っておきたい。し
かし、上記の熱源は、装置に不可欠のものでもあり、試
液の温度変化を一定の範囲内に保つこととは二律背反の
関係になる。本発明は、上記の事実から考えられたもの
で、試液の温度を容易に制御することができる屈折率の
測定方法と、測定装置を提供することを目的としてい
る。
【００２１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の方法は、同一光源からの可干渉光を、基準
となる参照波と、屈折率がほぼ同一の試液で充填された
セル内の被検物を透過する被検波とに分割し、参照波と
被検波とを重畳することによって干渉縞像を形成し、形
成された干渉縞像の透過波面を測定して被検物の屈折率
分布を測定する方法において、上記セルの外側に水を接
触させ、該水により上記試液の温度を制御することを特
徴としている。
めに本発明の方法は、同一光源からの可干渉光を、基準
となる参照波と、屈折率がほぼ同一の試液で充填された
セル内の被検物を透過する被検波とに分割し、参照波と
被検波とを重畳することによって干渉縞像を形成し、形
成された干渉縞像の透過波面を測定して被検物の屈折率
分布を測定する方法において、上記セルの外側に水を接
触させ、該水により上記試液の温度を制御することを特
徴としている。
【００２２】また、上記水を流水としたり、上記水が、
上記被検波の光路内には存在しないようにすることが望
ましい。上記被検物を上記被検波の光軸と直交する軸回
りに回転させ、次々に干渉縞像の透過波面を測定してＣ
Ｔ解析を行うこともできる。
上記被検波の光路内には存在しないようにすることが望
ましい。上記被検物を上記被検波の光軸と直交する軸回
りに回転させ、次々に干渉縞像の透過波面を測定してＣ
Ｔ解析を行うこともできる。
【００２３】本発明の装置は、同一光源からの可干渉光
を基準となる参照波と被検物を透過する被検波とに分割
し、参照波と被検波を重畳して干渉縞を形成する干渉計
と、上記被検物を屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に
保持するとともに相互に平行な入射窓と射出窓とを有す
るセルと、該セルの外側に設けられセルの少なくとも一
部を水に浸す容器とを有することを特徴としている。ま
た、上記容器内の水を循環させるサーキュレータを有す
る構成や、上記セルの入射窓と射出窓とが、上記水から
分離されている構成とすることが望ましい。
を基準となる参照波と被検物を透過する被検波とに分割
し、参照波と被検波を重畳して干渉縞を形成する干渉計
と、上記被検物を屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に
保持するとともに相互に平行な入射窓と射出窓とを有す
るセルと、該セルの外側に設けられセルの少なくとも一
部を水に浸す容器とを有することを特徴としている。ま
た、上記容器内の水を循環させるサーキュレータを有す
る構成や、上記セルの入射窓と射出窓とが、上記水から
分離されている構成とすることが望ましい。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明の
実施例を詳細に説明する。図１は本発明の第１実施例の
要部を示す図である。本発明の屈折率測定装置は、図４
で説明した従来の屈折率測定装置における被検物Ａの周
辺の構成のみが相違するものである。
実施例を詳細に説明する。図１は本発明の第１実施例の
要部を示す図である。本発明の屈折率測定装置は、図４
で説明した従来の屈折率測定装置における被検物Ａの周
辺の構成のみが相違するものである。
【００２５】本発明の被検物Ａは、セル２１内で、被検
波ｂと直交する軸ｃを中心に回転可能に保持されてい
る。セル２１内には、屈折率が被検物Ａとほぼ同じ試液
Ｂを充填する。以上の構成は、従来と同じである。
波ｂと直交する軸ｃを中心に回転可能に保持されてい
る。セル２１内には、屈折率が被検物Ａとほぼ同じ試液
Ｂを充填する。以上の構成は、従来と同じである。
【００２６】本発明では、セル２１を容器３１内に挿入
し、セル２１の外側の容器３１内に水Ｃを充填している
ことに特徴がある。容器３１には、水の入口３３と、出
口３５とがあり、離れて設けられたポンプなどのサーキ
ュレータ３７にホース類で接続され、水Ｃが循環できる
ようになっている。容器３１の入射窓３８と射出窓３９
にも高精度に平行なオプチカルフラットを取り付けてい
る。
し、セル２１の外側の容器３１内に水Ｃを充填している
ことに特徴がある。容器３１には、水の入口３３と、出
口３５とがあり、離れて設けられたポンプなどのサーキ
ュレータ３７にホース類で接続され、水Ｃが循環できる
ようになっている。容器３１の入射窓３８と射出窓３９
にも高精度に平行なオプチカルフラットを取り付けてい
る。
【００２７】被検物Ａの屈折率の測定が行われている
間、サーキュレータ３７は水Ｃを循環させる。水Ｃは、
安価で入手し易く、また、空気などに比べて熱容量が大
きく、適当な加熱・冷却手段によって任意の温度に設定
することができ、試液Ｂを短時間で所望の温度範囲内に
保つことが可能となる。
間、サーキュレータ３７は水Ｃを循環させる。水Ｃは、
安価で入手し易く、また、空気などに比べて熱容量が大
きく、適当な加熱・冷却手段によって任意の温度に設定
することができ、試液Ｂを短時間で所望の温度範囲内に
保つことが可能となる。
【００２８】実施例では水Ｃを循環させているが、条件
によっては、静止した水でも目的を達成することができ
る。また、セル２１は、その全体が水Ｃ内に浸かってい
るが、一部のみ水Ｃと接触させるようにしてもよい。
によっては、静止した水でも目的を達成することができ
る。また、セル２１は、その全体が水Ｃ内に浸かってい
るが、一部のみ水Ｃと接触させるようにしてもよい。
【００２９】図２は本発明の第２実施例の要部構成を示
す図である。この実施例では、セル２１の入射窓２５と
射出窓２７を、容器３１´の入射窓と射出窓に重ねた構
成となっている。オプチカルフラット２８，２９は、上
記セル２１の入射窓２５と射出窓２７にはめ込まれてい
る。このような構成とすることによって、被検波ｂの光
路から水Ｃがなくなり、水Ｃの流動による被検波ｂへの
影響を無くすことができる。また、オプチカルフラット
の数を減らすことができ、装置を安価に製造することが
できる。
す図である。この実施例では、セル２１の入射窓２５と
射出窓２７を、容器３１´の入射窓と射出窓に重ねた構
成となっている。オプチカルフラット２８，２９は、上
記セル２１の入射窓２５と射出窓２７にはめ込まれてい
る。このような構成とすることによって、被検波ｂの光
路から水Ｃがなくなり、水Ｃの流動による被検波ｂへの
影響を無くすことができる。また、オプチカルフラット
の数を減らすことができ、装置を安価に製造することが
できる。
【００３０】図３は本発明の第３実施例を示す図であ
る。この実施例では、セル２１´と容器３１”の双方を
円筒形にしている。このような構成とすることによっ
て、水Ｃが流動し易くなり、水の淀みも減るので、セル
２１内の試液Ｂの温度をより速く一様な温度分布にする
ことが可能となる。
る。この実施例では、セル２１´と容器３１”の双方を
円筒形にしている。このような構成とすることによっ
て、水Ｃが流動し易くなり、水の淀みも減るので、セル
２１内の試液Ｂの温度をより速く一様な温度分布にする
ことが可能となる。
【００３１】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
被検物を屈折率がほぼ同一の試液内に入れて干渉縞像を
形成し、形成された干渉縞像の透過波面を測定して被検
物の屈折率分布を測定する方法において、試液を入れる
セルを外側から水に接触させ、該水により上記試液の温
度を制御することとしたので、測定中の試液の温度を一
定の範囲内に保つことができる。
被検物を屈折率がほぼ同一の試液内に入れて干渉縞像を
形成し、形成された干渉縞像の透過波面を測定して被検
物の屈折率分布を測定する方法において、試液を入れる
セルを外側から水に接触させ、該水により上記試液の温
度を制御することとしたので、測定中の試液の温度を一
定の範囲内に保つことができる。
【００３２】また、水を流水とすれば、さらに、確実な
温度管理ができる。また、上記水が、上記被検波の光路
内には存在しないようにすれば、水の流動などによる影
響を受けずに屈折率分布を測定できる。上記被検物を上
記被検波の光軸と直交する軸回りに回転させ、次々に干
渉縞像の透過波面を測定してＣＴ解析を行うこととすれ
ば、被検物の屈折率分布を平面的乃至は立体的に測定す
ることができる。
温度管理ができる。また、上記水が、上記被検波の光路
内には存在しないようにすれば、水の流動などによる影
響を受けずに屈折率分布を測定できる。上記被検物を上
記被検波の光軸と直交する軸回りに回転させ、次々に干
渉縞像の透過波面を測定してＣＴ解析を行うこととすれ
ば、被検物の屈折率分布を平面的乃至は立体的に測定す
ることができる。
【図１】本発明の屈折率分布を測定する装置の要部構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】本発明の他の実施例の要部構成を示す図で、
（ａ）は正面断面図、（ｂ）は側面断面図である。
（ａ）は正面断面図、（ｂ）は側面断面図である。
【図３】本発明のまた別の実施例の要部構成を示す図
で、（ａ）は正面断面図、（ｂ）は側面断面図である。
で、（ａ）は正面断面図、（ｂ）は側面断面図である。
【図４】従来の屈折率分布を測定する装置の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【図５】ＣＴ解析の原理を説明する図である。
Ａ 被検物 Ｂ 試液 Ｃ 水 ａ 参照波 ｂ 被検波 １ 光源 ２１，２１´ セル ２５ 入射窓 ２７ 射出窓 ３１，３１´，３１” 容器 ３７ サーキュレータ
Claims (7)
- 【請求項１】 同一光源からの可干渉光を、基準となる
参照波と、屈折率がほぼ同一の試液で充填されたセル内
の被検物を透過する被検波とに分割し、参照波と被検波
とを重畳することによって干渉縞像を形成し、形成され
た干渉縞像の透過波面を測定して被検物の屈折率分布を
測定する方法において、上記セルの外側に水を接触さ
せ、該水により上記試液の温度を制御することを特徴と
する屈折率分布の測定方法。 - 【請求項２】 上記水が流水であることを特徴とする請
求項１記載の屈折率分布の測定方法。 - 【請求項３】 上記水が、上記被検波の光路内には存在
しないようにしたことを特徴とする請求項１又は２記載
の屈折率分布の測定方法。 - 【請求項４】 上記被検物を上記被検波の光軸と直交す
る軸回りに回転させ、次々に干渉縞像の透過波面を測定
してＣＴ解析を行うことを特徴とする請求項１から３の
いずれかに記載の屈折率分布の測定方法。 - 【請求項５】 同一光源からの可干渉光を基準となる参
照波と被検物を透過する被検波とに分割し、参照波と被
検波を重畳して干渉縞を形成する干渉計と、上記被検物
を屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に保持するととも
に相互に平行な入射窓と射出窓とを有するセルと、該セ
ルの外側に設けられセルの少なくとも一部を水に浸す容
器とを有することを特徴とする屈折率分布の測定装置。 - 【請求項６】 上記容器内の水を循環させるサーキュレ
ータを有することを特徴とする請求項５記載の屈折率分
布の測定装置。 - 【請求項７】 上記セルの入射窓と射出窓とが、上記水
から分離されていることを特徴とする請求項５又は６記
載の屈折率分布の測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2454697A JPH10206281A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2454697A JPH10206281A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10206281A true JPH10206281A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=12141162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2454697A Pending JPH10206281A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10206281A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015105850A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | キヤノン株式会社 | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 |
-
1997
- 1997-01-24 JP JP2454697A patent/JPH10206281A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015105850A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | キヤノン株式会社 | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 |
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