JPH10206602A - 導電性反射防止フィルム - Google Patents
導電性反射防止フィルムInfo
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- JPH10206602A JPH10206602A JP9012762A JP1276297A JPH10206602A JP H10206602 A JPH10206602 A JP H10206602A JP 9012762 A JP9012762 A JP 9012762A JP 1276297 A JP1276297 A JP 1276297A JP H10206602 A JPH10206602 A JP H10206602A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】可視光の反射防止性能に優れ、かつ、反射防止
層中の層間の密着性の良い、下地となるハードコート層
に対する応力の小さい反射防止フィルムであり、かつ電
磁波遮蔽機能を有する導電性反射防止フィルムを提供す
ること。 【解決手段】フィルム上に、順次、ハードコート層、屈
折率が異なり、かつ、少なくとも１層以上の導電性を有
する無機化合物を積層した反射防止層、撥水層を積層し
た反射防止フィルムであり、各々の無機化合物層の光学
膜厚（∫ｎｄｘ（積分区間は膜の両面間））において、
導電性を有する無機化合物の層以外の無機化合物層の厚
さ方向のｎの値が不均一であることを特徴とする反射防
止フィルム。
層中の層間の密着性の良い、下地となるハードコート層
に対する応力の小さい反射防止フィルムであり、かつ電
磁波遮蔽機能を有する導電性反射防止フィルムを提供す
ること。 【解決手段】フィルム上に、順次、ハードコート層、屈
折率が異なり、かつ、少なくとも１層以上の導電性を有
する無機化合物を積層した反射防止層、撥水層を積層し
た反射防止フィルムであり、各々の無機化合物層の光学
膜厚（∫ｎｄｘ（積分区間は膜の両面間））において、
導電性を有する無機化合物の層以外の無機化合物層の厚
さ方向のｎの値が不均一であることを特徴とする反射防
止フィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの表
示画面表面に設けられた偏光フィルムなどの上に適用さ
れる導電性反射防止フィルムの係り、特に可視光の反射
防止性能に優れ、かつ、反射防止層中の層間の密着性の
良い、下地となるハードコート層に対する応力の小さな
反射防止フィルムであり、かつ電磁波遮蔽機能を有する
導電性反射防止フィルムに関するものである。
示画面表面に設けられた偏光フィルムなどの上に適用さ
れる導電性反射防止フィルムの係り、特に可視光の反射
防止性能に優れ、かつ、反射防止層中の層間の密着性の
良い、下地となるハードコート層に対する応力の小さな
反射防止フィルムであり、かつ電磁波遮蔽機能を有する
導電性反射防止フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ディスプレイの多くは、室内外問わず、
外光が入射するような環境下で使用され、この入射光
は、ディスプレイ内部において正反射され光源の虚像を
表面上に再生したり、表示光に混合して表示品質を低下
させる。
外光が入射するような環境下で使用され、この入射光
は、ディスプレイ内部において正反射され光源の虚像を
表面上に再生したり、表示光に混合して表示品質を低下
させる。
【０００３】これらを防止するため、表示画面上に凹凸
を設け、乱反射させたり、本発明のような高屈折率と低
屈折率の材料を交互にｎ×ｄにおけるｎを均一に積層し
て構成される反射防止膜が利用されている。
を設け、乱反射させたり、本発明のような高屈折率と低
屈折率の材料を交互にｎ×ｄにおけるｎを均一に積層し
て構成される反射防止膜が利用されている。
【０００４】さらに近年、表示画面の駆動回路から、あ
るいは表示画面を通して回路中への電磁波の侵入が問題
となり、人体への影響あるいは機械の誤作動の原因とな
っている。
るいは表示画面を通して回路中への電磁波の侵入が問題
となり、人体への影響あるいは機械の誤作動の原因とな
っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、乱反射
させる方法では、ディスプレイ上の画像がぼやけて見え
たりして、反射防止膜に比べると十分であるとは言えな
い。さらに、通常の厚さ方向に対してｎの値の均一な積
層体では界面においても強固な材料である屈折率の高い
材料を用いなければならないゆえに、脆性が強く応力が
大きく、それにより作成した層ではのみならず、フィル
ム基材との密着性ならびに硬さの緩和のために設けたハ
ードコート層との応力の差による耐性の劣化が生じ、ク
ラックが発生し、品質の低下を招くことがある。
させる方法では、ディスプレイ上の画像がぼやけて見え
たりして、反射防止膜に比べると十分であるとは言えな
い。さらに、通常の厚さ方向に対してｎの値の均一な積
層体では界面においても強固な材料である屈折率の高い
材料を用いなければならないゆえに、脆性が強く応力が
大きく、それにより作成した層ではのみならず、フィル
ム基材との密着性ならびに硬さの緩和のために設けたハ
ードコート層との応力の差による耐性の劣化が生じ、ク
ラックが発生し、品質の低下を招くことがある。
【０００６】本発明は、このような問題点に着目してな
されたもので、その課題とするところは、可視光の反射
防止性能に優れ、かつ、反射防止層中の層間の密着性の
良い、下地となるハードコート層に対する応力の小さい
反射防止フィルムであり、かつ電磁波遮蔽機能を有する
導電性反射防止フィルムを提供することにある。
されたもので、その課題とするところは、可視光の反射
防止性能に優れ、かつ、反射防止層中の層間の密着性の
良い、下地となるハードコート層に対する応力の小さい
反射防止フィルムであり、かつ電磁波遮蔽機能を有する
導電性反射防止フィルムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
フィルム上に、順次、ハードコート層、屈折率が異な
り、かつ、少なくとも１層以上の導電性を有する無機化
合物を積層した反射防止層、防汚層を積層した反射防止
フィルムであり、各々の無機化合物層の光学膜厚（屈折
率と形状膜厚が一定の場合ｎ（屈折率）×ｄ（形状膜
厚）と規定される値で、∫ｎｄｘ（但し、積分区間は膜
の両面間（ｘ＝０からｄ迄））において、導電性を有す
る無機化合物の層以外の無機化合物層の厚さ方向のｎの
値が不均一であることを特徴とする反射防止フィルムで
ある。
フィルム上に、順次、ハードコート層、屈折率が異な
り、かつ、少なくとも１層以上の導電性を有する無機化
合物を積層した反射防止層、防汚層を積層した反射防止
フィルムであり、各々の無機化合物層の光学膜厚（屈折
率と形状膜厚が一定の場合ｎ（屈折率）×ｄ（形状膜
厚）と規定される値で、∫ｎｄｘ（但し、積分区間は膜
の両面間（ｘ＝０からｄ迄））において、導電性を有す
る無機化合物の層以外の無機化合物層の厚さ方向のｎの
値が不均一であることを特徴とする反射防止フィルムで
ある。
【０００８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物からなる層以外の高屈折率（ｎ
＞１．９）材料が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウ
ム、酸化セリウム、酸化錫のいずれかであることを特徴
とする導電性反射防止フィルムである。
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物からなる層以外の高屈折率（ｎ
＞１．９）材料が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウ
ム、酸化セリウム、酸化錫のいずれかであることを特徴
とする導電性反射防止フィルムである。
【０００９】請求項３記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物を有する無機化合物からなる層
以外の層の低屈折率（ｎ＜１．６）材料が、酸化珪素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムの何れかである
ことを特徴とする導電性反射防止フィルムである。
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物を有する無機化合物からなる層
以外の層の低屈折率（ｎ＜１．６）材料が、酸化珪素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムの何れかである
ことを特徴とする導電性反射防止フィルムである。
【００１０】請求項４記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、導電性を有する無機化合物が、酸化イン
ジウムを主材料とする透明導電性材料あるいは酸化錫を
主材料とする透明導電性材料あるいは酸化亜鉛を主材料
とする透明導電性材料であることを特徴とする導電性反
射防止フィルムである。
明を前提とし、導電性を有する無機化合物が、酸化イン
ジウムを主材料とする透明導電性材料あるいは酸化錫を
主材料とする透明導電性材料あるいは酸化亜鉛を主材料
とする透明導電性材料であることを特徴とする導電性反
射防止フィルムである。
【００１１】請求項５記載の発明は、請求項１および４
記載の発明を前提とし、導電性を有する無機化合物がス
パッタリングにより成膜されていることを特徴とする導
電性反射防止フィルムである。
記載の発明を前提とし、導電性を有する無機化合物がス
パッタリングにより成膜されていることを特徴とする導
電性反射防止フィルムである。
【００１２】請求項６記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、ハードコート層が、光散乱性を有するこ
とを特徴とする導電性反射防止フィルムである。
明を前提とし、ハードコート層が、光散乱性を有するこ
とを特徴とする導電性反射防止フィルムである。
【００１３】請求項７記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層の層数
が２層以上であることを特徴とする導電性反射防止フィ
ルムである。
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層の層数
が２層以上であることを特徴とする導電性反射防止フィ
ルムである。
【００１４】請求項８記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物からなる層が、厚さ方向のｎの
値が他の層と接する界面で低い事を特徴とする導電性反
射防止フィルムである。
明を前提とし、無機化合物を積層した反射防止層中の導
電性を有する無機化合物からなる層が、厚さ方向のｎの
値が他の層と接する界面で低い事を特徴とする導電性反
射防止フィルムである。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の導電性反射防止フィルム
の一例を図１に示し、詳細に説明する。
の一例を図１に示し、詳細に説明する。
【００１６】この実施の形態に係る反射防止フィルム
は、図１に示すように基材２、ハードコート層３、反射
防止層４、防汚層５から構成されている。さらに４１は
高屈折率材料層、４２は低屈折率材料層、４３は透明導
電性材料層である。
は、図１に示すように基材２、ハードコート層３、反射
防止層４、防汚層５から構成されている。さらに４１は
高屈折率材料層、４２は低屈折率材料層、４３は透明導
電性材料層である。
【００１７】尚、４１、４２の屈折率は図２に示すよう
に不均一となっており、∫ｎｄｘ（但し、積分区間は膜
の両面間（ｘ＝０からｄ迄））と規定される値である光
学膜厚としては一定の値を取るように設計されている。
４３の屈折率に関しては、電磁波遮蔽機能を持たせるた
めには均一の方が好ましい。本発明の主眼とする密着性
に関しては、透明導電性が均一であっても、その材料層
の表裏ともに不均一な層より構成されているので影響は
ない。
に不均一となっており、∫ｎｄｘ（但し、積分区間は膜
の両面間（ｘ＝０からｄ迄））と規定される値である光
学膜厚としては一定の値を取るように設計されている。
４３の屈折率に関しては、電磁波遮蔽機能を持たせるた
めには均一の方が好ましい。本発明の主眼とする密着性
に関しては、透明導電性が均一であっても、その材料層
の表裏ともに不均一な層より構成されているので影響は
ない。
【００１８】本発明におけるハードコート層３は、透明
性があり、基材の屈折率とその屈折率が等しいことが望
ましいが、厚さが５μｍ以上あれば、層である必要はな
い。また、材質としては密着性、硬さなどの要求する性
能を満たすものであれば、いかなるものでも良く、また
いかなる硬化方法であっても良いが、主として紫外線硬
化型のアクリル樹脂、シリコーン樹脂が挙げられる。
性があり、基材の屈折率とその屈折率が等しいことが望
ましいが、厚さが５μｍ以上あれば、層である必要はな
い。また、材質としては密着性、硬さなどの要求する性
能を満たすものであれば、いかなるものでも良く、また
いかなる硬化方法であっても良いが、主として紫外線硬
化型のアクリル樹脂、シリコーン樹脂が挙げられる。
【００１９】さらに、光を散乱させるための材料は、ハ
ードコート剤への透明粉末が好ましく、その透明材料と
して、例えば、透明顔料が利用でき、このような透明顔
料としては、酸化チタン、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化ア
ルミニウム等の無機化合物、硫酸バリウム等の無機塩、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等のフッ化物等
が挙げられる。また、上記透明粉末として、ポリジビニ
ルベンゼン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレ
ン等の樹脂粉末、これらの樹脂から構成される中空のビ
ーズあるいはこれらの樹脂またはその中空ビーズ表面に
表面処理を施した粉末などを利用することもできる。こ
のような透明粉末樹脂は、上記透明樹脂層中で適当な大
きさの平均粒径を有する物であれば良く、好ましくは〜
３μｍ程度が望ましい。これらは基材に対して平滑に、
かつ、均一に塗布されるものであり、その方法は、いか
なる方法であっても構わない。
ードコート剤への透明粉末が好ましく、その透明材料と
して、例えば、透明顔料が利用でき、このような透明顔
料としては、酸化チタン、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化ア
ルミニウム等の無機化合物、硫酸バリウム等の無機塩、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等のフッ化物等
が挙げられる。また、上記透明粉末として、ポリジビニ
ルベンゼン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレ
ン等の樹脂粉末、これらの樹脂から構成される中空のビ
ーズあるいはこれらの樹脂またはその中空ビーズ表面に
表面処理を施した粉末などを利用することもできる。こ
のような透明粉末樹脂は、上記透明樹脂層中で適当な大
きさの平均粒径を有する物であれば良く、好ましくは〜
３μｍ程度が望ましい。これらは基材に対して平滑に、
かつ、均一に塗布されるものであり、その方法は、いか
なる方法であっても構わない。
【００２０】本発明における基材２は、透明なプラスチ
ックフィルムであれば良く、目的に応じて適時、選択さ
れるものである。ディスプレイの表面に使用するのであ
れば、複屈折のないものが要求され、例えば、ポリカー
ボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスル
ホン、ポリメチルアクリレート等が挙げられるが、ポリ
エチレンテレフタレート等汎用性のあるフィルムであっ
ても構わない。その厚さは用途に応じて選定されるもの
である。
ックフィルムであれば良く、目的に応じて適時、選択さ
れるものである。ディスプレイの表面に使用するのであ
れば、複屈折のないものが要求され、例えば、ポリカー
ボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスル
ホン、ポリメチルアクリレート等が挙げられるが、ポリ
エチレンテレフタレート等汎用性のあるフィルムであっ
ても構わない。その厚さは用途に応じて選定されるもの
である。
【００２１】本発明における防汚層５は、本発明の反射
防止層４を保護し、かつ、防汚性能を高めるものであ
り、性能の要求を満たすものであれば、いかなる材料で
あっても構わない。また、いかなる方法で層を形成して
も構わない。厚さは反射防止層４の機能を阻害しないよ
うに設定しなければならず、好ましくは、２０ｎｍ以
下、更に好ましくは１０ｎｍ以下である。材料として
は、疎水基を有する化合物が良く、例としてはパーフル
オロシラン、フルオロカーボン等が挙げられ、材料に応
じて、蒸着、スパッタリング等の物理気相析出法、ＣＶ
Ｄのような化学気相析出法を用いることができる。
防止層４を保護し、かつ、防汚性能を高めるものであ
り、性能の要求を満たすものであれば、いかなる材料で
あっても構わない。また、いかなる方法で層を形成して
も構わない。厚さは反射防止層４の機能を阻害しないよ
うに設定しなければならず、好ましくは、２０ｎｍ以
下、更に好ましくは１０ｎｍ以下である。材料として
は、疎水基を有する化合物が良く、例としてはパーフル
オロシラン、フルオロカーボン等が挙げられ、材料に応
じて、蒸着、スパッタリング等の物理気相析出法、ＣＶ
Ｄのような化学気相析出法を用いることができる。
【００２２】本発明における、反射防止層４は、高屈折
率材料４１と低屈折率材料４２を交互に所定の光学膜厚
で積層させることにより機能を発現するものである。な
お、一般の定義では屈折率と形状膜厚が一定と仮定した
場合のｎ（屈折率）×ｄ（形状膜厚）と規定される値で
あるが、本発明の場合は一定ではない為に、∫ｎｄｘ
（但し、積分区間は膜の両面間（ｘ＝０からｄ迄））と
規定される値である。高屈折率材料４１とは、ｎ＞１．
９のものであり、低屈折率材料４２とは、ｎ＜１．６の
ものである。層数は１層でも必要条件を満たすものであ
れば良いが、反射率が０．５％となる可視領域での波長
が狭く、２層以上積層させることにより反射率防止効果
のある波長領域を広げることができ、４〜５層が好まし
い。材料は請求項２あるいは請求項３において、限定し
ているが、材料間の密着性、即ち層間での応力の緩和
（相殺）できるものであれば、これ以外の材料であって
も構わない。
率材料４１と低屈折率材料４２を交互に所定の光学膜厚
で積層させることにより機能を発現するものである。な
お、一般の定義では屈折率と形状膜厚が一定と仮定した
場合のｎ（屈折率）×ｄ（形状膜厚）と規定される値で
あるが、本発明の場合は一定ではない為に、∫ｎｄｘ
（但し、積分区間は膜の両面間（ｘ＝０からｄ迄））と
規定される値である。高屈折率材料４１とは、ｎ＞１．
９のものであり、低屈折率材料４２とは、ｎ＜１．６の
ものである。層数は１層でも必要条件を満たすものであ
れば良いが、反射率が０．５％となる可視領域での波長
が狭く、２層以上積層させることにより反射率防止効果
のある波長領域を広げることができ、４〜５層が好まし
い。材料は請求項２あるいは請求項３において、限定し
ているが、材料間の密着性、即ち層間での応力の緩和
（相殺）できるものであれば、これ以外の材料であって
も構わない。
【００２３】本発明を実施させる、即ち、ｎを不均一に
するための成膜方法としては、成膜粒子を基材に対し
て、斜入射できる方法が好ましく、ｎの値の入射角度依
存性を利用して成膜できる方法が好ましい。さらには導
入ガスの量によってもｎを変えることができる。すなわ
ち、スパッタリング方法よりも蒸着法の方がより好まし
く、その際、適時、反応性蒸着あるいはプラズマやイオ
ンビーム等によるアシスト蒸着を施しても構わない。さ
らには、ガス組成を適当に変化させたＣＶＤ方であって
も構わず、フィルム基材にダメージを与えることなく、
目的の性能を達することができるものであれば、いかな
る成膜方法であっても構わない。
するための成膜方法としては、成膜粒子を基材に対し
て、斜入射できる方法が好ましく、ｎの値の入射角度依
存性を利用して成膜できる方法が好ましい。さらには導
入ガスの量によってもｎを変えることができる。すなわ
ち、スパッタリング方法よりも蒸着法の方がより好まし
く、その際、適時、反応性蒸着あるいはプラズマやイオ
ンビーム等によるアシスト蒸着を施しても構わない。さ
らには、ガス組成を適当に変化させたＣＶＤ方であって
も構わず、フィルム基材にダメージを与えることなく、
目的の性能を達することができるものであれば、いかな
る成膜方法であっても構わない。
【００２４】本発明における透明導電性材料層は、酸化
インジウム、酸化錫、酸化亜鉛を主材料とした透明導電
性材料であり、これらに少量の金属あるいは半導体を添
加したものである。酸化インジウムに対しては錫をドー
プしたいわゆるＩＴＯが知られており、酸化錫に対して
はアンチモン、酸化亜鉛に対してはアルミニウムなどが
知られている。電磁波遮蔽機能に関しては、以下の式に
示されるように、透明導電性の材料の層の抵抗値と遮蔽
機能との間に関係がある。 電磁波遮蔽効果（ｄＢ）＝２０×ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ） （１） ここで、（１）式中、Ｅｉは電磁波遮蔽材料に入射した
電磁波の電界強度、Ｅｔはこの電磁波遮蔽材料を透過し
た電界強度である。従って、本発明における抵抗値は１
００Ω／□以下であることが望ましい。さらに好ましく
は、５０Ω／□以下であることが望ましい。
インジウム、酸化錫、酸化亜鉛を主材料とした透明導電
性材料であり、これらに少量の金属あるいは半導体を添
加したものである。酸化インジウムに対しては錫をドー
プしたいわゆるＩＴＯが知られており、酸化錫に対して
はアンチモン、酸化亜鉛に対してはアルミニウムなどが
知られている。電磁波遮蔽機能に関しては、以下の式に
示されるように、透明導電性の材料の層の抵抗値と遮蔽
機能との間に関係がある。 電磁波遮蔽効果（ｄＢ）＝２０×ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ） （１） ここで、（１）式中、Ｅｉは電磁波遮蔽材料に入射した
電磁波の電界強度、Ｅｔはこの電磁波遮蔽材料を透過し
た電界強度である。従って、本発明における抵抗値は１
００Ω／□以下であることが望ましい。さらに好ましく
は、５０Ω／□以下であることが望ましい。
【００２５】本発明において、透明導電性材料層の形成
にスパッタリング法を使用するのは、粒径をより小さく
し、粒子同志の界面を少なくして抵抗値を下げるためで
ある。スパッタリング法以外ではＣＶＤ法も適当である
が、膜の厚さの制御方法に問題あり、さらには蒸着法に
おいては、基材がプラスチックであることより高温に曝
すことができず、低抵抗化が困難である。スパッタリン
グ法においてはいかなる方法でも良く、反応性スパッタ
リングでも通常のスパッタリングでも、マグネトロンを
使用しようとも、直流でも交流でも、それらを重畳させ
ようとも構わない。
にスパッタリング法を使用するのは、粒径をより小さく
し、粒子同志の界面を少なくして抵抗値を下げるためで
ある。スパッタリング法以外ではＣＶＤ法も適当である
が、膜の厚さの制御方法に問題あり、さらには蒸着法に
おいては、基材がプラスチックであることより高温に曝
すことができず、低抵抗化が困難である。スパッタリン
グ法においてはいかなる方法でも良く、反応性スパッタ
リングでも通常のスパッタリングでも、マグネトロンを
使用しようとも、直流でも交流でも、それらを重畳させ
ようとも構わない。
【００２６】
【実施例】高屈折率材料４１として、二酸化チタンを使
用し、低屈折率材料４２として、二酸化珪素を、導電性
材料４３としてＩＴＯ（酸化錫５重量％）を使用した。
４１および４２に関しては蒸着法により、４３に関して
は直流マグネトロンスパッタリング法により作成した。
基材２にはトリアセチルセルロースを使用し、ハードコ
ート層３として、紫外線硬化型のアクリル樹脂を使用
し、マイクログラビアコートした。二酸化チタン、ＩＴ
Ｏを各１層、二酸化珪素を２層、次に示すｎｄ値で形成
した。 ＳｉＯ2 ／ＩＴＯ ／ＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 ／／ハードコート層 λ／４ λ／４ λ／８ λ／８ 光学膜厚＝ １４０ １４０ ７０ ７０ （ｎｍ）λ＝５５０ｎｍ ＳｉＯ2 およびＴｉＯ2 について、図２に示すようにｎ
を調整し、不均一とした。これらの膜は、プラズマアシ
スト蒸着法により形成する際の、粒子の基材への入射角
を変化させて、不均一とした。防汚層としてパーフルオ
ロシランをＣＶＤ法により５ｎｍ程度形成した。
用し、低屈折率材料４２として、二酸化珪素を、導電性
材料４３としてＩＴＯ（酸化錫５重量％）を使用した。
４１および４２に関しては蒸着法により、４３に関して
は直流マグネトロンスパッタリング法により作成した。
基材２にはトリアセチルセルロースを使用し、ハードコ
ート層３として、紫外線硬化型のアクリル樹脂を使用
し、マイクログラビアコートした。二酸化チタン、ＩＴ
Ｏを各１層、二酸化珪素を２層、次に示すｎｄ値で形成
した。 ＳｉＯ2 ／ＩＴＯ ／ＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 ／／ハードコート層 λ／４ λ／４ λ／８ λ／８ 光学膜厚＝ １４０ １４０ ７０ ７０ （ｎｍ）λ＝５５０ｎｍ ＳｉＯ2 およびＴｉＯ2 について、図２に示すようにｎ
を調整し、不均一とした。これらの膜は、プラズマアシ
スト蒸着法により形成する際の、粒子の基材への入射角
を変化させて、不均一とした。防汚層としてパーフルオ
ロシランをＣＶＤ法により５ｎｍ程度形成した。
【００２７】この導電性反射防止フィルムの可視スペク
トルを図３に示す。５５０ｎｍにおける反射率は０．５
％であった。さらに６０℃、相対湿度９０％の雰囲気下
に放置したところ、外観および性能の変化のみならず、
クラックの発生も認められなかった。さらに本発明にお
いて作成したＩＴＯの抵抗値は８０Ω／□であり、電磁
波遮蔽効果を測定したところ、−２０ｄＢであった。
トルを図３に示す。５５０ｎｍにおける反射率は０．５
％であった。さらに６０℃、相対湿度９０％の雰囲気下
に放置したところ、外観および性能の変化のみならず、
クラックの発生も認められなかった。さらに本発明にお
いて作成したＩＴＯの抵抗値は８０Ω／□であり、電磁
波遮蔽効果を測定したところ、−２０ｄＢであった。
【００２８】比較として、入射角を一定として成膜した
場合には、同様にして放置したところ、クラックが生じ
た。
場合には、同様にして放置したところ、クラックが生じ
た。
【００２９】
【発明の効果】請求項１から７によれば、導電性反射防
止フィルムが屈折率の異なる各々の無機化合物層の光学
膜厚において、その層の厚さ方向のｎの値が斜入射ある
いはガス供給量あるいは成膜方法を工夫する結果とし
て、不均一であることにより、優れた耐性、応力緩和な
どを有する。図２、３中の他の層との界面の部分が応力
緩和、密着性を強固にするように働き、効果を大にして
いる。
止フィルムが屈折率の異なる各々の無機化合物層の光学
膜厚において、その層の厚さ方向のｎの値が斜入射ある
いはガス供給量あるいは成膜方法を工夫する結果とし
て、不均一であることにより、優れた耐性、応力緩和な
どを有する。図２、３中の他の層との界面の部分が応力
緩和、密着性を強固にするように働き、効果を大にして
いる。
【００３０】低抵抗値の透明導電性の材料の層を設ける
ことにより電磁波遮蔽効果も付与でき、反射防止効果と
電磁波遮蔽効果を有し、かつ上記のような特徴を有する
従来にない導電性反射防止フィルムである。
ことにより電磁波遮蔽効果も付与でき、反射防止効果と
電磁波遮蔽効果を有し、かつ上記のような特徴を有する
従来にない導電性反射防止フィルムである。
【図１】 本発明の実施の形態に係る導電性反射防止フ
ィルムの断面図
ィルムの断面図
【図２】 本発明の実施の形態に係る部分の断面図
【図３】 本発明の実施の一例のスペクトル
１…導電性反射防止フィルム ２…基材 ３…ハードコ
ート層 ４…導電性反射防止層 ４１…高屈折率材料層 ４２…
低屈折率材料層 ４３…透明導電材料層 ５…防汚層
ート層 ４…導電性反射防止層 ４１…高屈折率材料層 ４２…
低屈折率材料層 ４３…透明導電材料層 ５…防汚層
Claims (8)
- 【請求項１】フィルム上に、順次、ハードコート層、屈
折率が異なり、かつ、少なくとも１層以上の導電性を有
する無機化合物を積層した反射防止層、防汚層を積層し
た反射防止フィルムであり、各々の無機化合物層の光学
膜厚（屈折率と形状膜厚が一定の場合ｎ（屈折率）×ｄ
（形状膜厚）と規定される値であり、微小区間のｎとｄ
の積を膜厚分だけ積算した値）において、導電性を有す
る無機化合物の層以外の無機化合物層の厚さ方向のｎの
値が不均一であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項２】上記無機化合物を積層した反射防止層中の
導電性を有する無機化合物からなる層以外の高屈折率
（ｎ＞１．９）材料が二酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハ
フニウム、酸化セリウム、酸化錫のいずれかであること
を特徴とする請求項１記載の導電性反射防止フィルム。 - 【請求項３】上記無機化合物を積層した反射防止層中の
導電性を有する無機化合物を有する無機化合物からなる
層以外の層の低屈折率（ｎ＜１．６）材料が、二酸化珪
素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムのいずれか
であることを特徴とする請求項１記載の導電性反射防止
フィルム。 - 【請求項４】上記導電性を有する無機化合物が、酸化イ
ンジウムを主材料とする透明導電性材料あるいは酸化錫
を主材料とする透明導電性材料あるいは酸化亜鉛を主材
料とする透明導電性材料であることを特徴とする請求項
１記載の反射防止フィルム。 - 【請求項５】上記導電性を有する無機化合物がスパッタ
リングにより成膜されていることを特徴とする請求項１
および４何れかに記載の導電性反射防止フィルム。 - 【請求項６】上記ハードコート層が、光散乱性を有する
ことを特徴とする請求項１記載の導電性反射防止フィル
ム。 - 【請求項７】上記無機化合物を積層した反射防止層の層
数が２層以上であることを特徴とする請求項１記載の導
電性反射防止フィルム。 - 【請求項８】上記無機化合物を積層した反射防止層中の
導電性を有する無機化合物からなる層が、厚さ方向のｎ
の値が他の層と接する界面で低い事を特徴とする請求項
１記載の導電性反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01276297A JP3577866B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 導電性反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01276297A JP3577866B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 導電性反射防止フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10206602A true JPH10206602A (ja) | 1998-08-07 |
| JP3577866B2 JP3577866B2 (ja) | 2004-10-20 |
Family
ID=11814420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01276297A Expired - Fee Related JP3577866B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 導電性反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3577866B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1134207A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-09 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フイルム |
| JP2000094590A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止性着色ハードコートフィルム及び表示装置 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2008075092A (ja) * | 2007-11-29 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルムもしくはシートの製造方法、及び機能性無機薄膜付きハードコートフィルムもしくはシートの製造方法 |
| CN114895384A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-08-12 | Oppo广东移动通信有限公司 | 减反膜及其制作方法与壳体 |
-
1997
- 1997-01-27 JP JP01276297A patent/JP3577866B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1134207A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-09 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フイルム |
| JP2000094590A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止性着色ハードコートフィルム及び表示装置 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2008075092A (ja) * | 2007-11-29 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルムもしくはシートの製造方法、及び機能性無機薄膜付きハードコートフィルムもしくはシートの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3577866B2 (ja) | 2004-10-20 |
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