JPH10208996A5 - - Google Patents

Description

【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記した従来の問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の電子ビーム露光装置のある形態は、電子ビームを放射する光源を用いて、複数の開口を有する第１物体を照明し、前記第１物体からの電子ビームで第２物体を露光する電子ビーム露光装置において、前記光源からの電子ビームを前記第１物体に照射する照明電子光学系と、前記第１物体の複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成する電子光学系と、複数の前記中間像を前記第２物体に投影する縮小電子光学系とを備え、前記第１物体の複数の開口は、それぞれを通過する電子ビームの電流が略一致するように開口面積が設定されていることを特徴とする。

【０００７】
本発明の電子ビーム露光装置の別の形態は、電子ビームを放射する光源を用いて、複数の開口を有する第１物体を照明し、前記第１物体からの電子ビームで第２物体を露光する電子ビーム露光装置において、前記光源からの電子ビームを前記第１物体に照射する照明電子光学系と、前記第１物体の複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成する電子光学系と、複数の前記中間像を前記第２物体に投影する縮小電子光学系とを備え、前記第１物体の複数の開口は、それぞれを通過する電子ビームの電流密度に反比例するように開口面積が設定されていることを特徴とする。

【０００８】
前記第１物体に照射される電子ビームの強度分布に関する情報を得る手段をさらに備え、前記情報に基づいて、前記複数の開口の開口面積が設定されることを特徴とする。

【０００９】
前記第１物体に照射される電子ビームの強度分布に関する情報を得る手段をさらに備え、前記照明電子光学系は複数の電子レンズ、および、前記情報に基づいて、前記複数の電子レンズの少なくとも２つの電子レンズの電子光学特性を調整する調整手段を有することを特徴とする。

【００１２】
前記電子光学系は、前記中間像が前記縮小電子光学系を介して前記第２物体に投影される際に発生する収差を補正することを特徴とする。

【００１３】
前記複数の開口を通過する電子ビームを個別に遮断する手段をさらに備えることを特徴とする。

【００１４】
本発明の電子ビーム露光方法のある形態は、照明電子光学系によって光源からの電子ビームで複数の開口を有する第１物体を照明し、電子光学系によって前記複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成し、縮小電子光学系によって複数の前記中間像を第２物体に投影する電子ビーム露光方法において、前記第１物体を照射する電子ビームの強度分布に関する情報を得る段階と、前記情報に基づいて、前記複数の開口を通過する電子ビームの電流が略一致するように前記複数の開口の開口面積を設定する段階とを有することを特徴とする。

【００１５】
本発明の電子ビーム露光方法の別の形態は、照明電子光学系によって光源からの電子ビームで複数の開口を有する第１物体を照明し、電子光学系によって前記複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成し、縮小電子光学系によって複数の前記中間像を第２物体に投影する電子ビーム露光方法において、前記第１物体を照射する電子ビームの強度分布に関する情報を得る段階と、前記情報に基づいて、前記複数の開口を通過する電子ビームの電流密度に反比例するように前記複数の開口の開口面積を設定する段階とを有することを特徴とする。

Claims (12)

1. 電子ビームを放射する光源を用いて、複数の開口を有する第１物体を照明し、前記第１物体からの電子ビームで第２物体を露光する電子ビーム露光装置において、
   前記光源からの電子ビームを前記第１物体に照射する照明電子光学系と、
   前記第１物体の複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成する電子光学系と、
   複数の前記中間像を前記第２物体に投影する縮小電子光学系とを備え、
   前記第１物体の複数の開口は、それぞれを通過する電子ビームの電流が略一致するように開口面積が設定されていることを特徴とする電子ビーム露光装置。
2. 電子ビームを放射する光源を用いて、複数の開口を有する第１物体を照明し、前記第１物体からの電子ビームで第２物体を露光する電子ビーム露光装置において、
   前記光源からの電子ビームを前記第１物体に照射する照明電子光学系と、
   前記第１物体の複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成する電子光学系と、
   複数の前記中間像を前記第２物体に投影する縮小電子光学系とを備え、
   前記第１物体の複数の開口は、それぞれを通過する電子ビームの電流密度に反比例するように開口面積が設定されていることを特徴とする電子ビーム露光装置。
3. 前記第１物体に照射される電子ビームの強度分布に関する情報を得る手段をさらに備え、前記情報に基づいて、前記複数の開口の開口面積が設定されることを特徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム露光装置。
4. 前記第１物体に照射される電子ビームの強度分布に関する情報を得る手段をさらに備え、
   前記照明電子光学系は複数の電子レンズ、および、前記情報に基づいて、前記複数の電子レンズの少なくとも２つの電子レンズの電子光学特性を調整する調整手段を有することを特徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム露光装置。
5. 前記調整手段は、前記複数の電子レンズの少なくとも２つの電子レンズの電子光学的パワーを調整することを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム露光装置。
6. 前記調整手段は、前記複数の電子レンズの少なくとも２つの電子レンズの前記照明電子光学系の光軸方向の位置を調整することを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム露光装置。
7. 前記電子光学系は、前記中間像が前記縮小電子光学系を介して前記第２物体に投影される際に発生する収差を補正することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の電子ビーム露光装置。
8. 前記複数の開口を通過する電子ビームを個別に遮断する手段をさらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の電子ビーム露光装置。
9. 請求項１〜８のいずれか１つに記載の電子ビーム露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
10. 照明電子光学系によって光源からの電子ビームで複数の開口を有する第１物体を照明し、電子光学系によって前記複数の開口を通過する電子ビームから前記光源の中間像をそれぞれ形成し、縮小電子光学系によって複数の前記中間像を第２物体に投影する電子ビーム露光方法において、
    前記第１物体を照射する電子ビームの強度分布に関する情報を得る段階と、
    前記情報に基づいて、前記複数の開口を通過する電子ビームの電流が略一致するように前記複数の開口の開口面積を設定する段階とを有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
11. 照明電子光学系によって光源からの電子ビームで複数の開口を有する第１物体を照明し、電子光学系によって前記複数の開口を通過する電子ビームから前記 光源の中間像をそれぞれ形成し、縮小電子光学系によって複数の前記中間像を第２物体に投影する電子ビーム露光方法において、
    前記第１物体を照射する電子ビームの強度分布に関する情報を得る段階と、
    前記情報に基づいて、前記複数の開口を通過する電子ビームの電流密度に反比例するように前記複数の開口の開口面積を設定する段階とを有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
12. 請求項１０または１１に記載の電子ビーム露光方法を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。