JPH10319321A5 - 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、投影露光装置の製造方法 、及び投影露光装置の調整方法 - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】
光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置において、
前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを備え、
前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置において、
前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを備え、
前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第２領域の全体には、第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、
前記第１及び第２フィルター要素は、前記被照射面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して、前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換することを特徴とする照明装置。
【請求項３】
光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置において、
前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換する透過率分布を有する第１フィルターと、
前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記第１フィルターの透過率分布に起因する前記被照射面上に分布する相対的照度の不均一性を少なくとも補正するための透過率分布を有する第２フィルターとを有することを特徴とする照明装置。
【請求項４】
前記第１フィルターと前記第２フィルターとは一体に設けられることを特徴とする請求項３記載の照明装置。
【請求項５】
前記オプティカルインテグレータは多数のレンズ要素を有し、前記フィルターは、前記オプティカルインテグレータの入射側に配置されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の照明装置。
【請求項６】
前記光源系と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されて、前記光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成する補助オプティカルインテグレータと；
該補助インテグレータと前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されて前記補助インテグレータからの光束を前記オプティカルインテグレータへ導く補助コンデンサー光学系と；
を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の照明装置。
【請求項７】
前記コンデンサー光学系と前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記コンデンサー光学系からの光束に基づいて多数の光源を形成する補助オプティカルインテグレータと；
該補助オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記補助オプティカルインテグレータからの光束を前記被照射面へ導く補助コンデンサー光学系と；
を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の照明装置。
【請求項８】
前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記補助インテグレータにより形成される前記多数の光源のうちの一部に対応した第３領域と、前記補助インテグレータにより形成される前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第４領域とを少なくとも有する補助フィルターを備え、
前記補助フィルターの前記第３領域の全体には、第３の透過率分布を有する少なくとも１つの第３フィルター要素が設けられ、
前記補助フィルターの前記第４領域の全体には、第４の透過率分布を有する少なくとも１つの第４フィルター要素が設けられることを特徴とする請求項６または７記載の照明装置。
【請求項９】
前記フィルターの位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の照度分布を均一にするための照度補正フィルターをさらに有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項記載の照明装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２フィルター要素は、前記被照射面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して、前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換することを特徴とする請求項１、５、６、７、８または９記載の照明装置。
【請求項１１】
前記光源系と前記被照射面との間の光路中であって、かつ前記多数の光源が形成される位置または該位置と共役な位置に実質的に配置されて、開口形状を変化させることが可能な開口絞りを有し、
前記第１及び第２フィルター要素は、前記開口形状を変化させた際にも、前記被照射面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持すると共に、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関する前記被照射面を構成する各微少面に対する前記フーリエ変換面上での前記光強度分布を実質的に不変に維持することを特徴とする請求項１０記載の照明装置。
【請求項１２】
所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置において、
光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；
前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；
前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；
前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターと；を備え、
前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１３】
所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置において、
光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；
前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；
前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；
前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターと；を備え、
前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、
前記フィルターの前記第２領域の全体には、第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、
前記第１及び第２フィルター要素は、前記像面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記像面上の所定の点に集光する光に関して、前記像面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換することを特徴とする投影露光装置。
【請求項１４】
所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置において、
光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；
前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；
前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；
前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換する透過率分布を有する第１フィルターと；
前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記第１フィルターの透過率分布に起因する前記被照射面上に分布する相対的照度の不均一性を少なくとも補正するための透過率分布を有する第２フィルターと；
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項１５】
前記第１フィルターと前記第２フィルターとは一体に設けられることを特徴とする請求項１４記載の投影露光装置。
【請求項１６】
前記オプティカルインテグレータは多数のレンズ要素を有し、前記フィルターは、前記オプティカルインテグレータの入射側に配置されていることを特徴とする請求項１２乃至１５の何れか一項記載の投影露光装置。
【請求項１７】
前記光源系と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されて、前記光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成する補助オプティカルインテグレータと；
該補助インテグレータと前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されて前記補助インテグレータからの光束を前記オプティカルインテグレータへ導く補助コンデンサー光学系と；
を有することを特徴とする請求項１２乃至１６の何れか一項記載の投影露光装置。
【請求項１８】
前記コンデンサー光学系と前記所定のパターンとの間の光路中に配置されて、前記コンデンサー光学系からの光束に基づいて多数の光源を形成する補助オプティカルインテグレータと；
該補助オプティカルインテグレータと前記所定のパターンとの間の光路中に配置されて、前記補助オプティカルインテグレータからの光束を前記所定のパターンへ導く補助コンデンサー光学系と；
を有することを特徴とする請求項１２乃至１６の何れか一項記載の投影露光装置。
【請求項１９】
前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記補助インテグレータにより形成される前記多数の光源のうちの一部に対応した第３領域と、前記補助インテグレータにより形成される前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第４領域とを少なくとも有する補助フィルターを備え、
前記補助フィルターの前記第３領域の全体には、第３の透過率分布を有する少なくとも１つの第３フィルター要素が設けられ、
前記補助フィルターの前記第４領域の全体には、第４の透過率分布を有する少なくとも１つの第４フィルター要素が設けられることを特徴とする請求項１７または１８記載の投影露光装置。
【請求項２０】
前記フィルターの位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の照度分布を均一にするための照度補正フィルターをさらに有することを特徴とする請求項１２乃至１９の何れか一項記載の投影露光装置。
【請求項２１】
前記第１及び第２フィルター要素は、前記像面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記像面上の所定の点に集光する光に関して、前記像面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換することを特徴とする請求項１２、１３、１６、１７、１８、１９または２１記載の投影露光装置。
【請求項２２】
前記光源系と前記被照射面との間の光路中であって、かつ前記多数の光源が形成される位置または該位置と共役な位置に実質的に配置されて、開口形状を変化させることが可能な開口絞りを有し、
前記第１及び第２フィルター要素は、前記開口形状を変化させた際にも、前記像面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持すると共に、前記像面上の所定の点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対する前記フーリエ変換面上での前記光強度分布を実質的に不変に維持することを特徴とする請求項２１記載の投影露光装置。
【請求項２３】
前記基板上に感光性材料を塗布する第１工程と；
請求項１２乃至２２の何れか一項記載の投影露光装置を用いて、前記所定のパターンの像を前記基板に投影する第２工程と；
前記基板上の前記感光性材料を現像する第３工程と；
前記第３工程にて現像された前記感光性材料をマスクとして前記基板上に所定の回路パターンを形成する第４工程と；
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２４】
所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を製造する方法において、
光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導く第１工程と；
前記像面上に分布する相対的照度を測定し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ測定する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設けると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設ける第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定することを特徴とする投影露光装置の製造方法。
【請求項２５】
所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を製造する方法において、
光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導くようにシミュレーションする第１工程と；
前記第１工程の前記シミュレーションに基づいて、前記像面上に分布する相対的照度を計算し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ計算する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に設定する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設定すると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設定する第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定することを特徴とする投影露光装置の製造方法。
【請求項２６】
所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を調整する方法において、
光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導く第１工程と；
前記像面上に分布する相対的照度を測定し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ測定する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設けると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設ける第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定することを特徴とする投影露光装置の調整方法。
【請求項２７】
所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を調整する方法において、
光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導くようにシミュレーションする第１工程と；
前記第１工程の前記シミュレーションに基づいて、前記像面上に分布する相対的照度を計算し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ計算する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に設定する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設定すると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設定する第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定することを特徴とする投影露光装置の調整方法。

【０００５】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、第１発明にかかる照明装置は、光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置であって、前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを備え、前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられるものである。

また、上述の目的を達成するために、第２発明にかかる照明装置は、光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置であって、前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを備え、前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第２領域の全体には、第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、前記第１及び第２フィルター要素は、前記被照射面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して、前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するものである。

また、上述の目的を達成するために、第３発明にかかる照明装置は、光束を供給する光源系からの光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと、前記多数の光源からの光束を集光して被照射面を照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置であって、前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換する透過率分布を有する第１フィルターと、前記被照射面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記第１フィルターの透過率分布に起因する前記被照射面上に分布する相対的照度の不均一性を少なくとも補正するための透過率分布を有する第２フィルターとを有するものである。

なお、上記第３発明において、前記第１フィルターと前記第２フィルターとは一体に設けられることが好ましい。
また、上述の目的を達成するために、第４発明にかかる投影露光装置は、所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置であって、光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターと；を備え、前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられるものである。

また、上述の目的を達成するために、第５発明にかかる投影露光装置は、所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置であって、光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターと；を備え、前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第２領域の全体には、前記第１の透過率分布とは逆向きである第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第１領域の全体には、第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素が設けられ、前記フィルターの前記第２領域の全体には、第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素が設けられ、前記第１及び第２フィルター要素は、前記像面上に分布する相対的照度を実質的に不変に維持しながら、前記像面上の所定の点に集光する光に関して、前記像面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するものである。

また、上述の目的を達成するために、第６発明にかかる投影露光装置は、所定のパターンを基板上に転写する投影露光装置であって、光束を供給する光源系からの光束に基づいて、多数の光源を形成するオプティカルインテグレータと；前記多数の光源からの光束を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系と；前記所定のパターンを像面上に配置される前記基板へ投影する投影光学系と；前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記被照射面上の所定の点に集光する光に関して前記被照射面を構成する各微小面に対するフーリエ変換面上での光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換する透過率分布を有する第１フィルターと；前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置されて、前記第１フィルターの透過率分布に起因する前記被照射面上に分布する相対的照度の不均一性を少なくとも補正するための透過率分布を有する第２フィルターと；を有するものである。

上記第６発明においては、前記第１フィルターと前記第２フィルターとは一体に設けられることが好ましい。
また、上述の目的を達成するために、第７発明は、所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を製造する方法であって、光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導く第１工程と；前記像面上に分布する相対的照度を測定し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ測定する第２工程と；前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置する第３工程と；前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設けると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設ける第４工程と；を有し、前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定するものである。

また、上述の目的を達成するために、第８発明は、所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を製造する方法であって、光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導くようにシミュレーションする第１工程と；前記第１工程の前記シミュレーションに基づいて、前記像面上に分布する相対的照度を計算し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ計算する第２工程と；前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に設定する第３工程と；前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設定すると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設定する第４工程と；を有し、前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定するものである。
また、上述の目的を達成するために、第９発明は、所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を調整する方法であって、光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導く第１工程と；
前記像面上に分布する相対的照度を測定し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ測定する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に配置する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設けると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設ける第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定するものである。
また、上述の目的を達成するために、第１０発明は、所定のパターンを基板上へ投影する投影露光装置を調整する方法であって、光源系からの光束を、該光束に基づいて多数の光源を形成するオプティカルインテグレータ、該オプティカルインテグレータからの光を集光して前記所定のパターンを照明するコンデンサー光学系、及び前記パターンの像を所定の像面に形成する投影光学系を経由させて、該投影光学系の像面へ導くようにシミュレーションする第１工程と；
前記第１工程の前記シミュレーションに基づいて、前記像面上に分布する相対的照度を計算し、かつ前記像面上の少なくとも２つの点に集光する光に関する前記像面を構成する各微少面に対するフーリエ変換面上での光強度分布をそれぞれ計算する第２工程と；
前記多数の光源のうちの一部に対応した第１領域と、前記多数の光源のうちの前記一部とは異なる一部に対応した第２領域とを少なくとも有するフィルターを、前記像面に関して光学的に共役な位置または該位置の近傍に設定する第３工程と；
前記フィルターの前記第１領域の全体に第１の透過率分布を有する少なくとも１つの第１フィルター要素を設定すると共に、前記フィルターの前記第２領域の全体に第２の透過率分布を有する少なくとも１つの第２フィルター要素を設定する第４工程と；
を有し、
前記第４工程では、前記像面上に分布する前記相対的照度を実質的に均一に維持しつつ、前記光強度分布を各々独立に所定の光強度分布に変換するために、前記第１及び第２の透過率分布を設定するものである。