JPH1021863A - 局所分析装置 - Google Patents
局所分析装置Info
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- JPH1021863A JPH1021863A JP8167724A JP16772496A JPH1021863A JP H1021863 A JPH1021863 A JP H1021863A JP 8167724 A JP8167724 A JP 8167724A JP 16772496 A JP16772496 A JP 16772496A JP H1021863 A JPH1021863 A JP H1021863A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子ビームを用いて微小領域の分析を行う局
所分析装置において、試料ステージの駆動性や機能性を
失うことなく、振動の影響を防ぐための実用的で簡便な
機構を提供する。 【解決手段】 試料ステージ６上に保持された試料４あ
るいは試料を固定したホルダ５に、ステージ取付け部と
は別の位置より伸ばした防振アーム１０を押圧接触させ
て、一次ビームが発生する鏡筒と試料とを一体化し、鏡
筒のまわりから発生する振動の影響を像に与えないよう
にする。
所分析装置において、試料ステージの駆動性や機能性を
失うことなく、振動の影響を防ぐための実用的で簡便な
機構を提供する。 【解決手段】 試料ステージ６上に保持された試料４あ
るいは試料を固定したホルダ５に、ステージ取付け部と
は別の位置より伸ばした防振アーム１０を押圧接触させ
て、一次ビームが発生する鏡筒と試料とを一体化し、鏡
筒のまわりから発生する振動の影響を像に与えないよう
にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームを用い
て試料上の局所を照射し、高倍率の像を観察したり、分
析したりする局所分析装置に関するものである。
て試料上の局所を照射し、高倍率の像を観察したり、分
析したりする局所分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子顕微鏡やＸ線マイクロアナライザ
（ＥＰＭＡ）、オージェ電子分光装置（ＡＥＳ）など電
子ビームを用いた局所分析装置は、微小領域の表面形
状、結晶状態、元素情報を得ることができるため、材料
研究に広く利用されている。そして、材料研究の発展に
伴い、より微小な領域の分析が求められるようになり、
空間分解能向上の努力が続けられている。実際、電界放
出型（Field Emission）の電子銃を搭載したＡＥＳ（以
下ＦＥ−ＡＥＳと略記する）では１５ｎｍ程度までビー
ムを絞り、かつ元素分析もできるようになった。
（ＥＰＭＡ）、オージェ電子分光装置（ＡＥＳ）など電
子ビームを用いた局所分析装置は、微小領域の表面形
状、結晶状態、元素情報を得ることができるため、材料
研究に広く利用されている。そして、材料研究の発展に
伴い、より微小な領域の分析が求められるようになり、
空間分解能向上の努力が続けられている。実際、電界放
出型（Field Emission）の電子銃を搭載したＡＥＳ（以
下ＦＥ−ＡＥＳと略記する）では１５ｎｍ程度までビー
ムを絞り、かつ元素分析もできるようになった。
【０００３】このように、例えば１０００００倍といっ
たような高倍率の像を撮影し、分析を行うようになる
と、実用上、振動の影響が大きな問題となってくる。振
動が起こると、ビームと試料が相対的な位置ずれを起こ
すため、その影響は像のブレや分析位置のずれとして現
われる。ＥＰＭＡやＡＥＳのようにステージの駆動性が
高い装置において、この問題は特に大きい問題である。
これは次の理由によるものである。
たような高倍率の像を撮影し、分析を行うようになる
と、実用上、振動の影響が大きな問題となってくる。振
動が起こると、ビームと試料が相対的な位置ずれを起こ
すため、その影響は像のブレや分析位置のずれとして現
われる。ＥＰＭＡやＡＥＳのようにステージの駆動性が
高い装置において、この問題は特に大きい問題である。
これは次の理由によるものである。
【０００４】ＥＰＭＡやＡＥＳは装置内で試料をＸ，
Ｙ，Ｚ方向に大きく動かしたり、回転させたり傾斜させ
て分析する場合がある。即ち、ＥＰＭＡの場合であれ
ば、ステージをＸ、Ｙ方向に駆動させながら一次ビーム
によって試料から発生したＸ線の強度を取り込み二次元
の強度分布をとるマッピングという手法がある。このた
めには試料ステージは数十ｍｍという大きな範囲で自由
に駆動できなくてはならない。また、ＡＥＳの場合も位
置合わせのための駆動の他、イオンスパッタリングやチ
ャージアップ軽減に必要な、試料の傾斜や回転運動をで
きることが求められる。さらに、ＡＥＳ装置に特有な測
定機能として、試料のイオンスパッタリングと電子ビー
ムを組合せた深さ方向の分析があるが、多くの場合イオ
ンスパッタリングによる試料のクレータ底部の平滑化に
よる深さ方向の分解能向上のため、試料を１ｒｐｍ程度
の回転数で自由回転させることが要求される。
Ｙ，Ｚ方向に大きく動かしたり、回転させたり傾斜させ
て分析する場合がある。即ち、ＥＰＭＡの場合であれ
ば、ステージをＸ、Ｙ方向に駆動させながら一次ビーム
によって試料から発生したＸ線の強度を取り込み二次元
の強度分布をとるマッピングという手法がある。このた
めには試料ステージは数十ｍｍという大きな範囲で自由
に駆動できなくてはならない。また、ＡＥＳの場合も位
置合わせのための駆動の他、イオンスパッタリングやチ
ャージアップ軽減に必要な、試料の傾斜や回転運動をで
きることが求められる。さらに、ＡＥＳ装置に特有な測
定機能として、試料のイオンスパッタリングと電子ビー
ムを組合せた深さ方向の分析があるが、多くの場合イオ
ンスパッタリングによる試料のクレータ底部の平滑化に
よる深さ方向の分解能向上のため、試料を１ｒｐｍ程度
の回転数で自由回転させることが要求される。
【０００５】従ってこれらの装置ではＸ，Ｙ，Ｚの３軸
にさらに回転や傾斜の機構がついた試料ステージの上部
に試料が取付けられており、装置全体から見た場合、試
料は分析室の空間に突き出た自由端に位置することにな
る。このような構造は振動の影響を極めて受けやすい構
造である。周囲からの振動を抑えた場合でも、剛体であ
る装置本体にも振動の共振点は存在するので、実際に上
記のような構造の部分の振動を完全に止めることは困難
である。また、試料ステージの駆動性をよくするために
機械的な遊びを設けたり滑動しやすくすることも振動に
対しては弱点となっている。
にさらに回転や傾斜の機構がついた試料ステージの上部
に試料が取付けられており、装置全体から見た場合、試
料は分析室の空間に突き出た自由端に位置することにな
る。このような構造は振動の影響を極めて受けやすい構
造である。周囲からの振動を抑えた場合でも、剛体であ
る装置本体にも振動の共振点は存在するので、実際に上
記のような構造の部分の振動を完全に止めることは困難
である。また、試料ステージの駆動性をよくするために
機械的な遊びを設けたり滑動しやすくすることも振動に
対しては弱点となっている。
【０００６】なお電子線像として最も高い倍率の像を撮
影できる透過電子顕微鏡では、装置内で試料を大きく動
かす必要がなく、試料は鏡筒の内部に固定され、鏡筒と
一体化させられるため、従来の振動対策のみで十分対応
することができる。これに対し、例えばＦＥ−ＡＥＳの
ように、前述したような試料ステージで試料を動かす装
置では、電子銃の改良によりビームは非常に細く絞れる
ようになったものの、得られる像の実質的な分解能は、
振動によりビーム径よりもかなり大きな値となってい
る。従って、これらの装置において振動の影響は空間分
解能の向上を目指す上で大きな問題となっている。
影できる透過電子顕微鏡では、装置内で試料を大きく動
かす必要がなく、試料は鏡筒の内部に固定され、鏡筒と
一体化させられるため、従来の振動対策のみで十分対応
することができる。これに対し、例えばＦＥ−ＡＥＳの
ように、前述したような試料ステージで試料を動かす装
置では、電子銃の改良によりビームは非常に細く絞れる
ようになったものの、得られる像の実質的な分解能は、
振動によりビーム径よりもかなり大きな値となってい
る。従って、これらの装置において振動の影響は空間分
解能の向上を目指す上で大きな問題となっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このような振動の影響
を防止する基本の第１は振動源を消去すること、また第
２は振動源と目的物との間に振動絶縁を施すことであ
る。この場合振動源としては、床や壁を伝わる振動その
ものと空気を伝わる音の影響とを考えなくてはならな
い。例えば特開平１−３５８３９号公報は装置周辺の振
動または音の発生源である排気系や冷却ファンなどを高
倍率時に停止させるようにしている。しかしながら床面
のゆれや室内の他の部分で発生する振動及び音を完全に
消去することは不可能である。
を防止する基本の第１は振動源を消去すること、また第
２は振動源と目的物との間に振動絶縁を施すことであ
る。この場合振動源としては、床や壁を伝わる振動その
ものと空気を伝わる音の影響とを考えなくてはならな
い。例えば特開平１−３５８３９号公報は装置周辺の振
動または音の発生源である排気系や冷却ファンなどを高
倍率時に停止させるようにしている。しかしながら床面
のゆれや室内の他の部分で発生する振動及び音を完全に
消去することは不可能である。
【０００８】また、振動源と目的物間に振動絶縁を施す
という点では、従来から空気バネや金属バネまたはゴム
等を利用した除振台や磁気浮上型の除振台がよく利用さ
れている。これらの除振台についても、能動的に振動を
相殺させて防止する除振台についての特開平２−２０３
９４１号公報に代表されるように種々の改良が加えられ
ている。しかし、これらの除振台も、床からの振動を防
ぐことが目的であるため、空気を伝わる振動である音の
影響を防止することは不可能である。音の影響を防止す
るために分析装置の周囲を暗幕や防音用の壁で覆うこと
などの対策を取ることも多い。しかし、これらの対策は
費用も嵩み大きなスペースを必要とするだけでなく、前
述したような試料ステージ上に保持された試料の振動を
完全に防ぐことは困難である。
という点では、従来から空気バネや金属バネまたはゴム
等を利用した除振台や磁気浮上型の除振台がよく利用さ
れている。これらの除振台についても、能動的に振動を
相殺させて防止する除振台についての特開平２−２０３
９４１号公報に代表されるように種々の改良が加えられ
ている。しかし、これらの除振台も、床からの振動を防
ぐことが目的であるため、空気を伝わる振動である音の
影響を防止することは不可能である。音の影響を防止す
るために分析装置の周囲を暗幕や防音用の壁で覆うこと
などの対策を取ることも多い。しかし、これらの対策は
費用も嵩み大きなスペースを必要とするだけでなく、前
述したような試料ステージ上に保持された試料の振動を
完全に防ぐことは困難である。
【０００９】本発明はこのような問題を解決し、ＥＰＭ
Ａ、ＡＥＳ、ＳＥＭ等で要求されるステージの駆動性や
機能性を失うことなく、振動の影響を防ぐための実用的
で簡便な機構を提供することを目的とするものである。
Ａ、ＡＥＳ、ＳＥＭ等で要求されるステージの駆動性や
機能性を失うことなく、振動の影響を防ぐための実用的
で簡便な機構を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子ビームを
用いて微小領域の分析を行う局所分析装置に適用される
ものである。試料ステージ上に保持された試料を固定し
たホルダあるいは試料に、ステージ取付け部とは別の位
置より伸ばしたアームを接触させて、一次ビームが発生
する鏡筒と試料とを一体化する。このことにより、鏡筒
のまわりから発生する振動の影響を像に与えないように
するものである。さらにこのときアームを接触させた状
態でも試料電流測定に支障のないように、アームの一部
に絶縁物を組込む。また、アームにバネを組み込むこと
によって、分析位置を合わせ易く、また接触部の破損を
防止するようにした装置である。
用いて微小領域の分析を行う局所分析装置に適用される
ものである。試料ステージ上に保持された試料を固定し
たホルダあるいは試料に、ステージ取付け部とは別の位
置より伸ばしたアームを接触させて、一次ビームが発生
する鏡筒と試料とを一体化する。このことにより、鏡筒
のまわりから発生する振動の影響を像に与えないように
するものである。さらにこのときアームを接触させた状
態でも試料電流測定に支障のないように、アームの一部
に絶縁物を組込む。また、アームにバネを組み込むこと
によって、分析位置を合わせ易く、また接触部の破損を
防止するようにした装置である。
【００１１】すなわち、本発明は電子ビームを用いて微
小領域の分析を行う局所分析装置において、鏡筒に尾部
を固定し鏡筒内に先端を延長し伸縮自在な防振アーム
と、該防振アームの先端を試料ステージ上に保持された
試料固定ホルダ又は試料に押圧して鏡筒と試料とを一体
化させる押圧固定装置とを備えたことを特徴とする局所
分析装置である。
小領域の分析を行う局所分析装置において、鏡筒に尾部
を固定し鏡筒内に先端を延長し伸縮自在な防振アーム
と、該防振アームの先端を試料ステージ上に保持された
試料固定ホルダ又は試料に押圧して鏡筒と試料とを一体
化させる押圧固定装置とを備えたことを特徴とする局所
分析装置である。
【００１２】この装置において、前記アームは、先端を
伸張方向に付勢するばねを備えると好ましく、また前記
アームは、先端部と尾端部との間に電気的に絶縁物を介
装し、かつ先端部を試料と電気的に結合すると好適であ
る。
伸張方向に付勢するばねを備えると好ましく、また前記
アームは、先端部と尾端部との間に電気的に絶縁物を介
装し、かつ先端部を試料と電気的に結合すると好適であ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明では、最も確実に振動を防
止する手段として、装置内で試料防振装置を用いて鏡筒
と一体化させ、一方、試料ハンドリング機能を維持す
る。局所分析装置としてＦＥ−ＡＥＳを用いた場合の実
施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。
止する手段として、装置内で試料防振装置を用いて鏡筒
と一体化させ、一方、試料ハンドリング機能を維持す
る。局所分析装置としてＦＥ−ＡＥＳを用いた場合の実
施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。
【００１４】図１に本発明の実施例を示す。ＦＥ−ＡＥ
Ｓは一般に電界放出型電子銃１、エネルギー分析器２、
分析室３、試料ステージ６、真空排気系（イオンポン
プ）９から構成される。試料ステージ６には試料４を固
定した試料ホルダ５がセットされる。このようなＦＥ−
ＡＥＳにおいて本発明に係る防振装置は、分析室３内に
試料ステージ６とは異なる方向から防振アーム１０を挿
入し、試料４または試料ホルダ５にその先端部を接触さ
せてその試料ステージを分析室３の壁と一体化させ、振
動を押えるものである。防振アーム１０には装置外部よ
り位置合わせができるように押圧固定装置２０が設けら
れている。押圧固定装置２０は防振アームの駆動及び防
振アームをロックする機構を有するものである。
Ｓは一般に電界放出型電子銃１、エネルギー分析器２、
分析室３、試料ステージ６、真空排気系（イオンポン
プ）９から構成される。試料ステージ６には試料４を固
定した試料ホルダ５がセットされる。このようなＦＥ−
ＡＥＳにおいて本発明に係る防振装置は、分析室３内に
試料ステージ６とは異なる方向から防振アーム１０を挿
入し、試料４または試料ホルダ５にその先端部を接触さ
せてその試料ステージを分析室３の壁と一体化させ、振
動を押えるものである。防振アーム１０には装置外部よ
り位置合わせができるように押圧固定装置２０が設けら
れている。押圧固定装置２０は防振アームの駆動及び防
振アームをロックする機構を有するものである。
【００１５】本発明に係る防振機構の作動は、試料４を
おおよその位置合わせしたのち、防振アーム１０の先端
部１２を試料４又は試料ホルダ５に押圧接触させて試料
ステージ６を固定する。試料電流を測定できるように防
振アーム１０の先端部１２とシャフト１１との間に絶縁
台１５を組み込んである。また位置合わせの作業性を考
慮して先端部１２とシャフト１１との間にスプリング１
４を介装してある。これにより振動の影響を殆ど受けず
に５００００倍以上の高倍率測定も可能となった。
おおよその位置合わせしたのち、防振アーム１０の先端
部１２を試料４又は試料ホルダ５に押圧接触させて試料
ステージ６を固定する。試料電流を測定できるように防
振アーム１０の先端部１２とシャフト１１との間に絶縁
台１５を組み込んである。また位置合わせの作業性を考
慮して先端部１２とシャフト１１との間にスプリング１
４を介装してある。これにより振動の影響を殆ど受けず
に５００００倍以上の高倍率測定も可能となった。
【００１６】実際に本発明を実施する場合の作業につい
て述べる。防振アーム１０を試料４に接触させる前に数
百倍から数千倍の二次電子像で分析位置を探す。位置が
決まったら、防振アーム１０の先端部１２を試料４又は
試料ホルダ５に押圧接触させる。防振アーム１０は分析
位置がなるべく中央付近に来るように配慮しながら、試
料ステージ６と防振アーム１０の位置および押圧力を微
調整する。防振アーム１０の押圧接触が弱いと数万倍と
いう高い倍率時でも問題となる数十ｎｍ程度の振動を押
え切ることができない。このためある程度の圧力をかけ
る必要がある。分析位置が中央にない場合、ビームを電
気的にずらす方法もあるが、ビームを細く絞る点からは
ビームそのものを曲げることは極力避ける必要がある。
従って、分析位置が中央にくるように試料ステージを動
かして調整しなければならない。これはかなりの力をか
けながら導体を押し付け合うことになるため、無理のか
からない構造にする必要がある。ばね常数が大き目のス
プリング１４を組み込んだ防振アーム１０は、試料ステ
ージ６を損傷させることなく位置合わせをすることがで
きる。
て述べる。防振アーム１０を試料４に接触させる前に数
百倍から数千倍の二次電子像で分析位置を探す。位置が
決まったら、防振アーム１０の先端部１２を試料４又は
試料ホルダ５に押圧接触させる。防振アーム１０は分析
位置がなるべく中央付近に来るように配慮しながら、試
料ステージ６と防振アーム１０の位置および押圧力を微
調整する。防振アーム１０の押圧接触が弱いと数万倍と
いう高い倍率時でも問題となる数十ｎｍ程度の振動を押
え切ることができない。このためある程度の圧力をかけ
る必要がある。分析位置が中央にない場合、ビームを電
気的にずらす方法もあるが、ビームを細く絞る点からは
ビームそのものを曲げることは極力避ける必要がある。
従って、分析位置が中央にくるように試料ステージを動
かして調整しなければならない。これはかなりの力をか
けながら導体を押し付け合うことになるため、無理のか
からない構造にする必要がある。ばね常数が大き目のス
プリング１４を組み込んだ防振アーム１０は、試料ステ
ージ６を損傷させることなく位置合わせをすることがで
きる。
【００１７】また分析時には分析条件の確認のため、試
料電流（ビーム電流）を測定することが求められる。防
振アーム１０が全て金属で構成されていると、電流は防
振アームを伝わってアースへ流れてしまうため電流が測
定できなくなる。そこで防振アームの中間部に絶縁台１
５を介護して絶縁してある。図２は測定時の状態を示す
模式図である。試料４に電子ビーム２４が照射される
と、試料４の前方向にかなり広い範囲で２次電子２１が
分布する。この分布の中に、たとえ金属であっても電気
的に絶縁された防振アーム１０の先端部１２が近付く
と、ある電位となる。２次電子検出器（ＳＥＤ）７は、
引き込み電圧をかけて２次電子２１を取り込むが、この
２次電子のエネルギーは非常に弱いので、防振アーム１
０の先端部１２の移動に伴って、２次電子の分布が影響
を受ける。これを避けるためには、防振アーム１０の先
端部１２を導線２３で試料４と電気的に結合しておくと
よい。なお図２中の２２は電流計である。
料電流（ビーム電流）を測定することが求められる。防
振アーム１０が全て金属で構成されていると、電流は防
振アームを伝わってアースへ流れてしまうため電流が測
定できなくなる。そこで防振アームの中間部に絶縁台１
５を介護して絶縁してある。図２は測定時の状態を示す
模式図である。試料４に電子ビーム２４が照射される
と、試料４の前方向にかなり広い範囲で２次電子２１が
分布する。この分布の中に、たとえ金属であっても電気
的に絶縁された防振アーム１０の先端部１２が近付く
と、ある電位となる。２次電子検出器（ＳＥＤ）７は、
引き込み電圧をかけて２次電子２１を取り込むが、この
２次電子のエネルギーは非常に弱いので、防振アーム１
０の先端部１２の移動に伴って、２次電子の分布が影響
を受ける。これを避けるためには、防振アーム１０の先
端部１２を導線２３で試料４と電気的に結合しておくと
よい。なお図２中の２２は電流計である。
【００１８】
【発明の効果】本発明を実施する前の像では、振動のた
め、最大約４０ｎｍの振幅の像ブレがあったのに対し、
本発明の局所分析装置では、像ブレは１０ｎｍ以下に確
実に抑えることができた。
め、最大約４０ｎｍの振幅の像ブレがあったのに対し、
本発明の局所分析装置では、像ブレは１０ｎｍ以下に確
実に抑えることができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例（ＦＥ−ＡＥＳ）の装置構成図
である。
である。
【図２】防振機構の絶縁の説明図である。
１ 電子銃 ２ エネルギー分析器 ３ 分析室 ４ 試料 ５ 試料ホルダ ６ 試料ステージ ７ ＳＥＤ ９ 真空排気系（イオンポンプ） １０ 防振アーム １１ シャフト １２ 先端部 １４ スプリング １５ 絶縁台 ２０ 押圧固定装置 ２１ ２次電子 ２２ 電流計 ２３ 導線 ２４ 電子ビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 公 千葉市中央区川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社技術研究所内 (72)発明者 田口 雅美 神奈川県茅ケ崎市萩園 2500 アルバッ ク・ファイ株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 電子ビームを用いて微小領域の分析を行
う局所分析装置において、鏡筒に尾部を固定し鏡筒内に
先端を延長し伸縮自在な防振アームと、該防振アームの
先端を試料ステージ上に保持された試料固定ホルダ又は
試料に押圧して鏡筒と試料とを一体化させる押圧固定装
置とを備えたことを特徴とする局所分析装置。 - 【請求項２】 前記防振アームは、先端を伸張方向に付
勢するばねを備えたことを特徴とする請求項１記載の局
所分析装置。 - 【請求項３】 前記防振アームは、先端部と尾端部との
間に絶縁物を介装し、かつ先端部を試料と電気的に結合
したことを特徴とする請求項１記載の局所分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16772496A JP3667884B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 局所分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16772496A JP3667884B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 局所分析装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005079708A Division JP3865752B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 局所分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1021863A true JPH1021863A (ja) | 1998-01-23 |
| JP3667884B2 JP3667884B2 (ja) | 2005-07-06 |
Family
ID=15855001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16772496A Expired - Fee Related JP3667884B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 局所分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3667884B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016371A1 (en) * | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Hitachi, Ltd. | Beam-utilizing equipment |
| EP1041552A1 (en) * | 1999-03-31 | 2000-10-04 | Pioneer Corporation | Recording medium reproducing apparatus |
| CN106537552A (zh) * | 2015-04-28 | 2017-03-22 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子射线装置、设置方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53120258A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-20 | Hitachi Ltd | Scan-type electronic microscope |
| JPS61114755U (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-19 | ||
| JPS63298951A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-06 | Shimadzu Corp | 走査顕微鏡 |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP16772496A patent/JP3667884B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
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