JPH10221843A - 色フィルタ用感光性組成物及びこれを用いた色フィルタの製造方法 - Google Patents
色フィルタ用感光性組成物及びこれを用いた色フィルタの製造方法Info
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Abstract
色フィルタを形成できる感光性組成物、および該感光性
組成物を用いた色フィルタの製造方法を提供すること。 【解決手段】(a)光重合性化合物、(b)光重合開始
剤、(c)顔料、(d)架橋剤および(e)酸発生剤を
含有することを特徴とする色フィルタ用感光性組成物、
および該感光性組成物を基材上に塗布、乾燥したのち、
ネガマスクを介して露光、現像し、次いで加熱し架橋硬
化する色フィルタの製造方法。
Description
用感光性組成物、さらに詳しくは、TFT型液晶パネ
ル、STN型液晶パネル、反射型TFT型液晶パネル等
の、低消費電力の液晶ディスプレイのブラックマトリッ
クスやカラーフィルタを好適に形成でき、しかも耐熱
性、密着性および耐薬品性に優れた色フィルタ用感光性
組成物およびこれを用いた色フィルタの製造方法に関す
る。
薄型化、軽量化が可能であることから携帯用ワープロ、
携帯用パソコン、車載用TV、カメラ一体型のVTR等
のディスプレイとして広く用いられており、将来的には
PDA(個人携帯情報端末)等への応用が期待されてい
る。
えばTFT型液晶ディスプレイでは、ガラス基板上に偏
光板を設け、ITO等の透明導電回路層および薄膜トラ
ンジスタ(TFT)層を任意に形成し、その上を層間絶
縁層で被覆して背面板とする一方、同様にして、ガラス
板上に偏光板を設け、黒色顔料を含有してなるブラック
マトリックス層または赤、青、緑等の色パターンが形成
されたカラーフィルタ層を形成し、さらに透明導電回路
層、層間絶縁層を順次積層して上面板を形成し、この上
面板と前記背面板とをスペーサを介して対向させて配置
し、両板間に液晶を封入した構造となっている。
液晶ディスプレイに設けられるカラーフィルタやブラッ
クマトリックス、特にブラックマトリックスの密着性、
耐熱性、耐薬品性が低く背面板と上面板との貼り合わせ
の際、封止材が直接ブラックマトリックスの上に設けら
れることが起り、その信頼性が公知のクロム膜ブラック
マトリックスに比べて劣るものであった。また、前記カ
ラーフィルタやブラックマトリックスを形成するために
使用する顔料の保持性が低いため層間膜を厚くせざるを
得ず、開口率やコントラストの低下が起り、高輝度でか
つコントラストの強調されたディスプレイの製造が極め
て困難であるという欠点があった。そこで、前記開口率
やコントラストを向上させるために基板上に直接カラー
フィルタやブラックマトリックスを設けるオンアレイ
(glass−on−array)構造の液晶パネルが
提案されたが、液晶保持率(液晶の不純物添加による劣
化防止性)が低く、長期間、信頼性高く使用することが
きなかった。
究を続けた結果、光重合性化合物、光重合開始剤および
顔料を含有する感光性組成物にさらに架橋剤と酸発生剤
とを含有することで、耐熱性、密着性および耐薬品性に
優れた色フィルタ用感光性組成物が得られること、およ
び該感光性組成物を用いることで高輝度でかつコントラ
ストの強調された色フィルタが製造できることを見出
し、本発明を完成したものである。すなわち、
に優れた色フィルタ用感光性組成物を提供することを目
的とする。
トの優れた色フィルタの製造方法を提供することを目的
とする。
明は、(a)光重合性化合物、(b)光重合開始剤、
(c)顔料、(d)架橋剤および(e)酸発生剤を含有
することを特徴とする色フィルタ用感光性組成物、およ
び該感光性組成物を基板上に塗布、乾燥したのち、ネガ
マスクを介して露光、現像し、次いで加熱し架橋硬化す
ることを特徴とする色フィルタの製造方法に係る。
れる光重合開始剤(以下(a)成分という)は、感光性
組成物が活性エネルギー線の照射を受けたとき、光重合
開始剤の作用により付加重合硬化するようなエチレン性
不飽和二重結合を1個以上有する化合物であって、例え
ばエチレン性不飽和二重結合を有する単量体、または側
鎖若しくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重
合体等が挙げられる。前記「単量体」とは、狭義の単量
体にとどまらず、二量体、三量体、オリゴマーをも包含
するものである。
量体としては、例えば不飽和カルボン酸;脂肪族(ポ
リ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステ
ル;芳香族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステル;不飽和カルボン酸と多価カルボン酸お
よび前述の脂肪族(ポリ)ヒドロキシ化合物、芳香族
(ポリ)ヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と
のエステル;不飽和カルボン酸アミド;不飽和カルボン
酸ニトリル等が挙げられる。具体的には、アクリル酸、
メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸;メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチレング
リコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレング
リコールモノメチルエーテルメタクリレート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアクリレート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルメタクリレート、グリセ
ロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメ
タリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリ
コールジメタクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ト
リメチロールエタントリアクリレート、トリメチロール
エタントリメタリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロ
ールプロパントリメタリレート、テトラメチロールプロ
パンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテ
トラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6
−ヘキサンジオールジメタクリレート;前記化合物のア
クリレート、メタクリレートを、フマレート、マレエー
ト、クロトネート、イタコネートに換えた,フマル酸エ
ステル、マレイン酸エステル、クロトン酸エステル、イ
タコン酸エステル;アクリル酸、メタクリル酸、フマル
酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、ヒドロキノ
ンモノアクリレート、ヒドロキノンモノメタクリレー
ト、ヒドロキノンジアクリレート、ヒドロキノンジメタ
クリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジ
メタクリレート、ピロガロールジアクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート;アクリル酸とフタル酸および
ジエチレングリコールとの縮合物,アクリル酸とマレイ
ン酸およびジエチレングリコールとの縮合物、メタクリ
ル酸とテレフタル酸およびペンタエリスリトールとの縮
合物、アクリル酸とアジピン酸およびブタンジオールと
グリセリンとの縮合物;エチレンビスアクリルアミド、
エチレンビスメタクリルアミド、フタル酸ジアリルのア
リルエステル、ジビニルフタレート;下記一般式化3
1〜5のアルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、R
3は水素原子又はメチル基であり、Xは側鎖に炭素数1
〜3のアルキル基を有してもよい炭素数1〜5のアルキ
レン基、−CO−、−O−、−CH2−、−C(CH3)
−、−SO2−又は下記化4
レイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタ
ル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸などの酸無水物残基を示し、nは1〜20の整数を表
わす。]が挙げられる。前記一般式化3で表わされる化
合物において、Xが−CO−である具体例としてはビス
(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ケトン等が、
Xが−CH2−である具体例としてはビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジクロロフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジブロモフェニル)メタン等が、Xが−C(C
H3)−である具体例としては2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3
−クロロフェニル)プロパン等が、Xが−O−である具
体例としてはビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル
エーテル等が、Xが−SO2−である具体例としてビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロ
ロフェニル)スルホン等が挙げられる。また、Xが化4
で表わされる残基の具体例としては、フルオレン、9,
9−ビスフルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
ヒドロキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9
−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フルオロフ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−
3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロ
フェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等が挙げられ
る。
えば特開平5−339356号公報に記載するように、
一般式化5
反応させたのち、セルソルブ系溶剤中で加熱し、酸無水
物と反応させることで製造できる。
和二重結合を有する重合体としては、例えば、不飽和ジ
カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により
得られるポリエステル、不飽和ジカルボン酸とジアミン
との重縮合反応により得られるポリアミド、イタコン
酸、プロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸とジヒ
ドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエス
テル、イタコン酸、プロピリデンコハク酸、エチリデン
マロン酸とジアミンとの重縮合反応により得られるポリ
アミド、フェノールノボラック型エポキシアクリレー
ト、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート、
クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾ
ールノボラック型エポキシメタクリレート、ビスフェノ
ールA型エポキシアクリレート、ビスフェノールS型エ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマ
ー、ウレタンメタクリレートオリゴマー等が挙げられ
る。前記エポキシ(メタ)アクリレート樹脂にさらに多
塩基酸無水物を反応させたものも使用できる。その他、
側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化アルキル基などの反応
活性を有する官能基を有する重合体、例えばポリビニル
アルコール、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト)、ポリエピクロルヒドリン等と、アクリル酸、メタ
クリル酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコ
ン酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られ
る重合体なども使用できる。
3で表わされる化合物を含有する色フィルタ用感光性組
成物は、耐熱性、透明性、密着性等に優れた被膜を形成
できて好ましく、特にカルドエポキシジアクリレート、
カルドエポキシジメタクリレート、ビスフェノールA型
エポキシアクリレートが重合密度の高いパターンを得る
ことができて好ましい。中でもカルドエポキシジアクリ
レートは露光時に感度の大幅な向上がみられ好適であ
る。
(a)〜(e)成分の総和100重量部に対し20〜5
0重量部の範囲で含有することができる。(a)成分が
20重量部未満では露光硬化後の被膜の耐摩耗性や耐薬
品性が低下するため好ましくなく、また、50重量部を
超えるとブラックマトリックス形成において遮光性が低
下したり、或はカラーフィルタ形成にあっては透過領域
以外の透過率が上昇することがあり好ましくない。
(b)成分という)としては、特に限定されるものでな
く、例えば1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−
1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェ
ニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベ
ンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)−ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕
−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オ
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオ
キントン、2,4−ジメチルチオキサントン、3,3−
ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニ
ル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オ
ン、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィ
ド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ
安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、
4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミ
ノ安息香酸−2−エチルヘキシル、4−ジメチルアミノ
安息香酸−2−イソアミル、2,2−ジエトキシアセト
フェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−
メトキシエチルアセタール、1−フェニル−1,2−プ
ロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシ
ム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス(4−ジメチ
ルアミノフェニル)ケトン、4,4’−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノ
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブ
チルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチル
ジクロロアセトフェノン、2−(o−クロロフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、チオキサン
トン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチ
オキサントン、ジベンゾスベロン、α,α−ジクロロ−
4−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−4−ジメチ
ルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,
7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビ
ス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−
(9−アクリジニル)プロパンなどが挙げられる。中で
も、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾリル二量体と2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン−1−オン
または2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンを組み合わ
せて使用したものは高感度であり好ましく用いることが
できる。
総和100重量部に対し0.5〜30重量部の範囲で含
有することができる。前記(b)成分が0.5重量部未
満では露光硬化不良を起こすことがあり、また30重量
部を超えるとブラックマトリックス形成にあっては遮光
性が低下し、カラーフィルタ形成にあっては透過領域以
外の可視光の透過率が上昇してしまうことがあり好まし
くない。
という)としては、カラーフィルタの形成には、黄、
橙、赤、紫、青、緑および茶色等の顔料から選ばれた1
種、または2種以上が用いられ、また、ブラックマトリ
ックス形成には、カーボンブラック、樹脂被覆カーボン
ブラック或は有色有機顔料を調合して得た疑似黒色顔料
などが用いられる。前記カーボンブラックとしてはチャ
ンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラッ
ク、ランプブラックなど公知のカーボンブラックを用い
ることができるが、特にチャンネルブラックは遮光性に
優れるところから好適に用いることができる。また、樹
脂被覆カーボンブラックとしては、カーボンブラックと
カーボンブラック表面に存在するカルボキシル基、ヒド
ロキシル基、カルボニル基と反応性を有する樹脂とを混
合し、50〜380℃で加熱して得た樹脂被覆カーボン
ブラックや、水−有機溶剤混合系または水−界面活性剤
混合系にエチレン性モノマーを分散し、重合開始剤の存
在下でラジカル重合、またはラジカル共重合させて得た
樹脂被覆カーボンブラックなどが挙げられる。前記樹脂
被覆カーボンブラックは樹脂被覆のないカーボンブラッ
クに比べて導電性が低いところから、液晶ディスプレイ
の形成時に電流のリークが少なく、信頼性の高い低消費
電力のディスプレイが形成できる。
又は疑似黒色顔料の調合に使用する顔料としてはカラー
インデックスナンバーで、C.I.PigmentYe
llow 20、C.I.Pigment Yello
w 24、C.I.Pigment Yellow 8
3、C.I.Pigment Yellow86、C.
I.Pigment Yellow 93、C. I.
Pigment Yellow 109、C.I.Pi
gmentYellow 110、C.I.Pigme
nt Yellow 117、C.I.Pigment
Yellow 125、C.I.PigmentYe
llow 137、C.I.Pigment Yell
ow 138、C.I.Pigment Yellow
139、C.I.PigmentYellow 14
7、C.I.Pigment Yellow 148、
C.I.Pigment Yellow 153、C.
I.PigmentYellow 154、C.I.P
igment Yellow 166、C.I.Pig
ment Yellow 168、C.I.Pigme
ntOrange 36、C.I.Pigment O
range 43、C.I.Pigment Oran
ge 51、C.I.PigmentOrange 5
5、C.I.Pigment Orange 59、
C. I.Pigment Orange 61、C.
I.PigmentRed 9、C.I.Pigmen
t Red 97、C.I.PigmentRed12
2、C.I.Pigment Red 123、C.
I.Pigment Red 149、C.I.Pig
ment Red 168、C.I.Pigment
Red 177、C.I.Pigment Red18
0、C.I.Pigment Red 192、C.
I.PigmentRed 215、C.I.Pigm
ent Red 216、C.I.Pigment R
ed 217、C.I.Pigment Red 22
0、C.I.Pigment Red 223、C.
I.Pigment Red224、C.I.Pigm
ent Red 226、C.I.PigmentRe
d 227、C.I.Pigment Red 22
8、C.I.Pigment Red 240、C.
I.Pigment Violet19、C.I.Pi
gment Violet 23、C.I.Pigme
ntViolet29、C.I.Pigment Vi
olet 30、C.I.Pigment Viole
t 37、C.I.Pigment Violet4
0、C.I.Pigment Violet 50、
C.I.PigmentBlue 15、C.I.Pi
gment Blue 15−6、C.I.Pigme
nt Blue 22、C.I.Pigment Bl
ue 60、C.I.Pigment Blue 6
4、C.I.PigmentGreen 7、C.I.
Pigment Green 36、C.I.Pigm
ent Brown 23、C.I.Pigment
Brown25、C.I.Pigment Brown
26などを挙げることができる。
(e)成分の総和100重量部に対して10〜70重量
部の範囲が選ばれる。前記(c)成分が10重量部未満
では形成したブラックマトリックスの遮光性能が低くな
る、或は形成したカラーフィルターの透過領域以外の可
視光の透過率が上昇することが起ることがある。また、
(c)成分が70重量部を超えると露光時に硬化不良を
起こすことがあり好ましくない。
分という)としては、アミノ化合物が用いられるが、特
にアルコキシメチル化メラミン樹脂やアルコキシメチル
化尿素樹脂等のアルコキシメチル化アミノ樹脂等が好適
に使用できる。前記アルコキシメチル化アミノ樹脂は、
例えば、沸騰水溶液中でメラミンまたは尿素をホルマリ
ンと反応させて得た縮合物を、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール等の低級アルコール類でエ
ーテル化させ、次いで反応液を冷却して析出させること
で製造できる。前記アルコキシメチル化アミノ樹脂とし
ては、具体的にメトキシメチル化メラミン樹脂、エトキ
シメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン
樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂、メトキシメチル
化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメ
チル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹脂等が挙げら
れる。前記アルコキシメチル化アミノ樹脂の単独、また
は2種以上の組合わせが用いられる。特にアルコキシメ
チル化メラミン樹脂は、放射線の照射量の変化に対する
レジストパターンの寸法変化量が小さく安定したレジス
トパターンを形成できて好ましい。中でも、メトキシメ
チル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、
プロポキシメチル化メラミン樹脂およびブトキシメチル
化メラミン樹脂が好適である。
分の総量100重量部に対して1〜30重量部の範囲で
含有することができる。前記(d)成分が1重量部未満
では、得られた色フィルタの耐熱性、耐薬品性、耐候
性、密着性が低下することがあり好ましくなく、また3
0重量部を超えると現像時に現像不良を起こすことがあ
り好ましくない。
成分という)としては、熱または光により直接若しくは
間接的に酸を発生する化合物であれば特に限定されない
が、具体的には、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェ
ニルスルホニウム塩、フェニルジアゾニウム塩、ベンジ
ルトシレート、ニトロベンジルトシレート、ジニトロベ
ンジルトシレート、ベンジルスルホネート、ニトロベン
ジルスルホネート、ベンジルカルボネート、ニトロベン
ジルカルボネート、ジニトロベンジルカルボネートや、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(2−
フリル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[2−(5−メチル−2−
フリル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[2−(5−エチル−2−
フリル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[2−(5−プロピル−2
−フリル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[2−(3,5−ジメトキ
シフェニル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−ビ
ス(トリクロロメチル)−6−[2−(3,5−ジエト
キシフェニル)エテニル]−s−トリアジン、2,4−
ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(3,5−ジプ
ロポキシフェニル)エテニル]−s−トリアジン、2,
4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(3−メト
キシ−5−エトキシフェニル)エテニル]−s−トリア
ジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−
(3−メトキシ−5−プロポキシフェニル)エテニル]
−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)
−6−[2−(3,4−メチレンジオキシフェニル)エ
テニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロ
メチル)−6−(3,4−メチレンジオキシフェニル)
−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−
6−(3−ブロモ−4メトキシ)フェニル−s−トリア
ジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブ
ロモ−4メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4
−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4メト
キシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビ
ス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4メトキ
シ)スチリルフェニル−s−トリアジン等のトリアジン
化合物、α−(p−トルエンスルホニルオキシイミノ)
−フェニルアセトニトリル、α−(ベンゼンスルホニル
オキシイミノ)−2,4−ジクロロフェニルアセトニト
リル、α−(ベンゼンスルホニルオキシイミノ)−2,
6−ジクロロフェニルアセトニトリル、α−(2−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシフ
ェニルアセトニトリル、α−(エチルスルホニルオキシ
イミノ)−1−シクロペンテニルアセトニトリル等のオ
キシムスルホネート化合物等が挙げられる。特に、トリ
アジン化合物は光または熱による酸発生剤としての性能
が高く、光重合開始剤としての性能も有し、かつ溶剤を
用いる場合においても溶解性が良好であることから好ま
しく用いることができる。中でも、2,4−ビス−トリ
クロロメチル−6−(3−ブロモ−4メトキシ)フェニ
ル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル
−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリル−s−ト
リアジンが好適に使用できる。
総和100重量部に対して0.1〜15重量部の範囲で
含有することができる。(e)成分が0.1重量部未満
では、熱や光による架橋硬化が十分に行われず色フィル
タの耐熱性、耐薬品性、耐候性、密着性が低下すること
があり、また15重量部を超えると現像時に現像不良を
起こしたりスカムが発生することがある上に、色フィル
タの遮光性を低下し好ましくない。
用感光性組成物は、塗布時の基材への塗膜性を調整する
ために、高分子バインダーを含有することができる。前
記高分子バインダーとしては、アクリル酸、メタクリル
酸のいずれか1種以上と、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステルのいずれか1種以上との共重合体などが
挙げられる。前記アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステルとしては、具体的には、メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert
−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシ
メタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボル
ニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチ
レン、アクリルアミド、メタアクリルアミド、アクリロ
ニトリル、メタアクリロニトリル等が挙げられる。前記
アクリル酸、メタクリル酸のいずれか1種以上と、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステルのいずれか1種
以上との共重合体は、慣用の方法で製造される。また、
側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース変性物、
ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン、ポリ酢
酸ビニル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、
アクリロニトリルとスチレン、ブタジエンとの共重合
体、ポリビニルアルキルエーテル、ポリビニルアルキル
ケトン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポ
リエチレンテレフタレートイソフタレート、アセチルセ
ルロースおよびポリビニルブチラールなども含有でき
る。前記高分子バインダーは、重量平均分子量が5,0
00〜100,000の範囲の重合体が好ましく、より
好ましくは7,000〜80,000の範囲の重合体が
よい。重量平均分子量が低すぎると膜形成能に乏しく、
現像時に膜減りが大きくなり、また、重量平均分子量が
高すぎると現像時間が長時間となり、基板に悪影響を及
ぼすことがある。
成分の総和100重量部に対して100重量部を超えな
い範囲で含有することができる。
物は粘度調整のため有機溶剤を適宜配合することができ
る。前記有機溶剤としては、具体的にはエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテ
ル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノフェニルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、2−メト
キシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテー
ト、4−メトキシブチルアセテート、2−メチル−3−
メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシ
ブチルアセテート、3−エチル−3−メトキシブチルア
セテート、2−エトキシブチルアセテート、4−エトキ
シブチルアセテート、4−プロポキシブチルアセテー
ト、2−メトキシペンチルアセテート、3−メトキシペ
ンチルアセテート、4−メトキシペンチルアセテート、
2−メチル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メ
チル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メチル−
4−メトキシペンチルアセテート、4−メチル−4−メ
トキシペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケ
トン、ジエチルケトン、メチルシソブチルケトン、エチ
ルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキ
サノン、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プ
ロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、2−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチル、メチル−
3−メトキシプロピオネート、エチル−3−メトキシプ
ロピオネート、エチル−3−エトキシプロピオネート、
エチル−3−プロポキシプロピオネート、プロピル−3
−メトキシプロピオネート、イソプロピル−3−メトキ
シプロピオネート、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エ
チル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸メチル、炭酸エ
チル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブ
チル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンジル
メチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシル
エーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジ
エチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキ
サノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリンなどを挙げることが
できる。
和100重量部に対して2000重量部以下、好ましく
は1000重量部以下の範囲で配合することができる。
剤、その他の添加剤を添加することができる。前記可塑
剤としては、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレ
ート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチ
ルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、
ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセ
チルグリセリンなどが挙げられ、また界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系の各種活性剤
が挙げられる。消泡剤としてはシリコーン系、フッ素系
各種消泡剤などが挙げられる。
づいて以下に説明する。図1において、1は基板、2は
色フィルタ用感光性組成物層、3はマスクパターン、4
は色フィルタパターン、5は色フィルタである。
を有する高分子バインダー、熱重合禁止剤、消泡剤、界
面活性剤、有機溶剤等を3本ロールミル、ボールミル、
サンドミル等でよくかくはんして色フィルタ用感光性組
成物を調製する。
ー、リバースコーター、バーコーターなどの接触転写型
塗布装置やスピンナー、カーテンフローコータなどの非
接触型塗布装置を用いて基板1上に塗布し、乾燥して色
フィルタ感光性組成物層2を形成する(図1(a))。
次いで、所定のマスクパターン3を介して、色フィルタ
用感光性組成物層2を選択的に露光したのち(図1
(b))、基板1を現像液に浸漬し、未露光部を選択的
に溶解除去する(図1(c))。前記基板としては例え
ば液晶パネルの製造においては偏光板が用いられるが、
他に必要によりブラックマトリックス層やカラーフィル
タ層を設け、その上に透明導電回路層を設けたガラス基
板なども有用に使用される。また、露光には、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、エキ
シマレーザー発生装置などを用いて、ネガ画像が形成さ
れるに十分な量のエネルギー線が照射される。前記現像
処理においては浸漬法、スプレー法などが用いられ、使
用する現像液として、リチウム、ナトリウム、カリウム
等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸
塩、ピロリン酸塩;ベンジルアミン、ブチルアミン等の
第1級アミン;ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジ
エタノールアミン等の第2級アミン;トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第3
級アミン;モルホリン、ピペラジン、ピリジン等の環状
アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等
のポリアミン;テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、ト
リメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシド等
のアンモニウムヒドロキシド類;トリメチルスルホニウ
ムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキ
シド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシド等な
どスルホニウムヒドロキシド類;その他コリンなどの1
〜10重量%水溶液が挙げられる。
トプレート上などで加熱し架橋硬化する。前記加熱温度
および時間は、色フィルタパターン4が硬化するに十分
な温度および時間であればよく、とくに限定されない
が、通常は125〜250℃、特に160〜195℃で
1〜60分間程度が採用される。前記加熱により、架橋
剤と酸発生剤とが反応して架橋硬化し、密着性に優れ、
強靱な色フィルタ5が製造される(図1(d))。
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
トリックス用感光性組成物を調製した。
清浄な表面を有するガラス基板上にリバースコーター
(大日本スクリーン社製「ラウンドコーター」)を用い
て乾燥膜厚1μmとなるように塗布し80℃で1分間乾
燥させた。次いで超高圧水銀灯により1200mJ/c
m2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレート上
で200℃、15分間加熱した。前記基板のOD値(光
学濃度)を測定器「PDA−65」(コニカ社製)で測
定したところ2.8であった。しかる後、該基板上にス
ピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日本合成ゴム
社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜厚が2μm
となるように塗布、乾燥し、さらにホットプレート上で
200℃、15分間加熱した。この基板を湿度95%、
80℃の恒温室内で100時間保持したのち、JISD
0202の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカット
を入れて100個の桝目を作り、次いでセロハンテープ
を用いてピーリング試験を3回行い、桝目の剥離状態を
拡大鏡を用い観察し、併せてJIS0202に準じて1
00個の桝目中剥離した桝目の数を調べて評価した。結
果を表1に示す。
を上記ガラス基板上にリバースコーターを用いて乾燥膜
厚1μmとなるように塗布し、乾燥した後、60μmラ
イン/60μmスペースを再現できるネガマスクを介
し、800mJ/cm2の紫外線を照射して露光し、そ
れを25℃、0.5%炭酸ナトリウム水溶液により90
秒間スプレー現像し、500mJ/cm2の紫外線を全
面照射しホットプレート上で200℃、15分間加熱し
た。得られた基板を3枚用意し、N−メチルビロリド
ン、γ−ブチロラクトンおよび4%NaOH水溶液にそ
れぞれ40℃、1時間浸漬しパターンの欠け、剥がれに
ついて観察した。その結果を表1に示す。
タ用感光性組成物を調製した。
してガラス基板上に乾燥膜厚1μmとなるように塗布し
80℃で1分間乾燥させ、超高圧水銀灯により800m
J/cm2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレ
ート上で200℃、15分間加熱した。しかる後、前記
基板上にスピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日
本合成ゴム社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜
厚が2μmとなるように塗布、乾燥し、さらにホットプ
レート上で200℃、15分間加熱した。得られた赤色
フィルタの透過率を測定器「MCPD−1000」(大
塚電子社製)で測定したところ、波長620nmにおい
て90.8%であった。この基板を湿度95%、80℃
の恒温室内で100時間保持したのち、JISD020
2の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカットを入れ
て100個の桝目を作り、次いでセロハンテープを用い
てピーリング試験を3回行い、桝目の剥離状態を拡大鏡
を用い観察し、併せてJISD0202に準じて100
個の桝目中剥離した桝目の数を調べて評価した。結果を
表1に示す。
組成物をガラス基板上にリバースコーターを用いて乾燥
膜厚1μmとなるように塗布、乾燥した後、60μmラ
イン/60μmスペースを再現し得るネガマスクを介
し、500mJ/cm2の紫外線を照射して露光した。
露光後基板を、それを25℃、0.5%炭酸ナトリウム
水溶液により90秒間スプレー現像し、500mJ/c
m2の紫外線を全面照射しホットプレート上で200
℃、15分間加熱した。得られた基板を3枚用意し、N
−メチルビロリドン、γ−ブチロラクトン、および4%
NaOH水溶液にそれぞれ40℃、1時間浸漬しパター
ンの欠け、剥がれについて観察した。その結果を表1に
示す。
タ用感光性組成物を調製した。
してガラス基板上に乾燥膜厚1μmとなるように塗布し
80℃で1分間乾燥させ、超高圧水銀灯により800m
J/cm2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレ
ート上で200℃、15分間加熱した。しかる後、前記
基板上にスピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日
本合成ゴム社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜
厚が2μmとなるように塗布、乾燥し、さらにホットプ
レート上で200℃、15分間加熱した。得られた緑色
フィルタの透過率を測定器「MCPD−1000」(大
塚電子社製)で測定したところ、波長530nmにおい
て83.5%であった。この基板を湿度95%、80℃
の恒温室内で100時間保持したのち、JISD020
2の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカットを入れ
て100個の桝目を作り、次いでセロハンテープを用い
てピーリング試験を3回行い、桝目の剥離状態を拡大鏡
を用い観察し、併せてJISD0202に準じて100
個の桝目中剥離した桝目の数を調べて評価した。その結
果を表1に示す。
成物をガラス基板上にリバースコーターを用いて乾燥膜
厚1μmとなるように塗布、乾燥した。その後60μm
ライン/60μmスペースを再現し得るネガマスクを介
し、500mJ/cm2の紫外線を照射して露光し、そ
れを25℃、0.5%炭酸ナトリウム水溶液により90
秒間スプレー現像したのち、500mJ/cm2の紫外
線を全面照射しホットプレート上で200℃、15分間
加熱した。この基板を3枚用意し、N−メチルビロリド
ン、γ−ブチロラクトン、および4%NaOH水溶液に
それぞれ40℃、1時間浸漬しパターンの欠け、剥がれ
について観察した。結果を表1に示す。
タ用感光性組成物を調製した。
してガラス基板上に乾燥膜厚1μmとなるように塗布し
80℃で1分間乾燥させ、超高圧水銀灯により800m
J/cm2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレ
ート上で200℃、15分間加熱した。しかる後、基板
上にスピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日本合
成ゴム社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜厚が
2μmとなるように塗布、乾燥し、さらにホットプレー
ト上で200℃、15分間加熱した。得られた青色フィ
ルタの透過率を測定器「MCPD−1000」(大塚電
子社製)により測定したところ、波長460nmにおい
て88.7%であった。この基板を湿度95%、80℃
の恒温室内で100時間保持したのち、JISD020
2の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカットを入れ
て100個の桝目を作り、次いでセロハンテープを用い
てピーリング試験を3回行い、桝目の剥離状態を拡大鏡
を用い観察し、併せてJISD0202に準じて100
個の桝目中剥離した桝目の数を調べて評価した。結果を
表1に示す。
ガラス基板上にリバースコーターを用いて乾燥膜厚1μ
mとなるように塗布、乾燥した後、60μmライン/6
0μmスペースを再現し得るネガマスクを介し、500
mJ/cm2の紫外線を照射して露光し、それを25
℃、0.5%炭酸ナトリウム水溶液により90秒間スプ
レー現像し、500mJ/cm2の紫外線を全面照射し
ホットプレート上で200℃、15分間加熱した。得ら
れた基板を3枚用意し、N−メチルビロリドン、γ−ブ
チロラクトン、および4%NaOH水溶液にそれぞれ4
0℃、1時間浸漬しパターンの欠け、剥がれについて観
察した。その結果を表1に示す。
重量部および2,4−ビス−トリクロロメチル−6−
(4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン5重量部を
添加しない以外実施例1と同様にしてボールミルを用い
て2時間分散、混練してブラックマトリックス用感光性
組成物を調製した。
清浄な表面を有するガラス基板上にリバースコーター
(大日本スクリーン社製「ラウンドコーター」)を用い
て乾燥膜厚1μmとなるように塗布し80℃で1分間乾
燥させた。次いで超高圧水銀灯により1200mJ/c
m2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレート上
で200℃、15分間加熱した。得られた基板のOD値
(光学濃度)を測定器「PDA−65」(コニカ社製)
を用いて測定したところ2.8であった。しかる後、該
基板上にスピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日
本合成ゴム社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜
厚が2μmとなるように塗布、乾燥し、さらにホットプ
レート上で200℃、15分間加熱した。この基板を湿
度95%、80℃の恒温室内で100時間保持したの
ち、JISD0202の試験方法に従って、碁盤目状に
クロスカットを入れて100個の桝目を作り、次いでセ
ロハンテープを用いてピーリング試験を3回行い、桝目
の剥離状態を拡大鏡を用い観察し、併せてJIS020
2に準じて100個の桝目中剥離した桝目の数を調べて
評価した。その結果を表1に示す。
成物を上記ガラス基板上にリバースコーターを用いて乾
燥膜厚1μmとなるように塗布、乾燥した後、60μm
ライン/60μmスペースを再現し得るネガマスクを介
し、800mJ/cm2の紫外線を照射して露光し、そ
れを25℃、0.5%炭酸ナトリウム水溶液により90
秒間スプレー現像し、500mJ/cm2の紫外線を全
面照射しホットプレート上で200℃、15分間加熱し
た。得られた基板を3枚用意し、N−メチルビロリド
ン、γ−ブチロラクトン、および4%NaOH水溶液に
それぞれ40℃、1時間浸漬しパターンの欠け、剥がれ
について観察した。その結果を表1に示す。
重量部の代わりに、o−クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(「N−673」大日本インキ化学工業社製)2
5重量部、および2,4−ビス−トリクロロメチル−6
−(4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン5重量部
の代わりにトリフェニルスルホニウム塩5重量部を加え
た他は以下実施例2と同様にして、ボールミルを用いて
2時間分散、混練して赤色フィルタ用感光性組成物を調
製した。
してガラス基板上に乾燥膜厚1μmとなるように塗布し
80℃で1分間乾燥させ、超高圧水銀灯により800m
J/cm2の紫外線を全面照射して露光し、ホットプレ
ート上で200℃、15分間加熱した。しかる後、該基
板上にスピンナーを用いて保護膜「オプトマー」(日本
合成ゴム社製、アクリル−エポキシ系樹脂)を乾燥膜厚
が2μmとなるように塗布、乾燥し、さらにホットプレ
ート上で200℃、15分間加熱した。得られた赤色フ
ィルタの透過率を測定器「MCPD−1000」(大塚
電子社製)により測定したところ、波長620nmにお
いて78.1%であった。この基板を湿度95%、80
℃の恒温室内で100時間保持したのち、JISD02
02の試験方法に従って、碁盤目状にクロスカットを入
れて100個の桝目を作り、次いでセロハンテープを用
いてピーリング試験を3回行い、桝目の剥離状態を拡大
鏡を用い観察し、併せてJISD0202に準じて10
0個の桝目中剥離した桝目の数を調べて評価した。結果
を表1に示す。
成物をガラス基板上にリバースコーターを用いて乾燥膜
厚1μmとなるように塗布、乾燥した後、60μmライ
ン/60μmスペースを再現し得るネガマスクを介し、
500mJ/cm2の紫外線を照射して露光し、それを
25℃、0.5%炭酸ナトリウム水溶液により90秒間
スプレー現像し、500mJ/cm2の紫外線を全面照
射しホットプレート上で200℃、15分間加熱した。
得られた基板を3枚用意し、N−メチルビロリドン、γ
−ブチロラクトン、および4%NaOH水溶液にそれぞ
れ40℃、1時間浸漬しパターンの欠け、剥がれについ
て観察した。その結果を表1に示す。
は、耐熱性、密着性、耐薬品性に優れた色フィルタ用感
光性樹脂組成物であり、該感光性組成物で作成した色フ
ィルタは高輝度でかつコントラストに優れ、TFT型液
晶パネル、STN型液晶パネル用フィルタとして有用で
ある。
図である。
Claims (9)
- 【請求項1】(a)光重合性化合物、(b)光重合開始
剤、(c)顔料、(d)架橋剤および(e)酸発生剤を
含有することを特徴とする色フィルタ用感光性組成物。 - 【請求項2】(a)成分が一般式化1 【化1】 [式中、R1、R2はそれぞれ独立して水素原子、炭素数
1〜5のアルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、R
3は水素原子又はメチル基であり、Xは側鎖に炭素数1
〜3のアルキル基を有してもよい炭素数1〜5のアルキ
レン基、−CO−、−O−、−CH2−、−C(CH3)
−、−SO2−又は下記化2 【化2】 で表わされる残基、若しくは不存在を示し、Yは無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタ
ル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸などの酸無水物残基を示し、nは1〜20の整数を表
わす。]で表わされる化合物から選ばれた少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1記載の色フィルタ用
感光性組成物。 - 【請求項3】(c)成分が樹脂被覆カーボンブラックで
あることを特徴とする請求項1記載の色フィルタ用感光
性組成物。 - 【請求項4】(c)成分が黄色有機顔料、橙色有機顔
料、赤色有機顔料、紫色有機顔料、青色有機顔料、緑色
有機顔料および茶色有機顔料から選ばれた少なくとも一
種であることを特徴とする請求項1記載の色フィルタ用
感光性組成物。 - 【請求項5】(d)成分がアルコキシメチル化アミノ樹
脂であることを特徴とする請求項5記載の色フィルタ用
感光性組成物。 - 【請求項6】アルコキシメチル化アミノ樹脂がメトキシ
メチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹
脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂およびブトキシメ
チル化メラミン樹脂から選ばれた少なくとも一種である
ことを特徴とする請求項6記載の色フィルタ用感光性組
成物。 - 【請求項7】(e)成分がトリアジン化合物であること
を特徴とする請求項1記載の色フィルタ用感光性組成
物。 - 【請求項8】トリアジン化合物が2,4−ビス(トリク
ロロメチル)−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェ
ニル−s−トリアジンおよび2,4−ビス(トリクロロ
メチル)−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリル
−s−トリアジンから選ばれた少なくとも一種であるこ
とを特徴とする請求項5記載の色フィルタ用感光性組成
物。 - 【請求項9】請求項1ないし9のいずれか1に記載の色
フィルタ用感光性組成物を基材上に塗布、乾燥したの
ち、ネガマスクを介して露光、現像し、次いで加熱し架
橋硬化することを特徴とする色フィルタの製造方法。
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