JPH10274848A - 感放射線性組成物およびカラーフィルター用感放射線性組成物 - Google Patents

感放射線性組成物およびカラーフィルター用感放射線性組成物

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JPH10274848A
JPH10274848A JP8125397A JP8125397A JPH10274848A JP H10274848 A JPH10274848 A JP H10274848A JP 8125397 A JP8125397 A JP 8125397A JP 8125397 A JP8125397 A JP 8125397A JP H10274848 A JPH10274848 A JP H10274848A
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radiation
formula
bis
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JP8125397A
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English (en)
Inventor
Shigeo Kawamura
繁生 河村
Shigeru Abe
慈 阿部
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
Koji Kumano
厚司 熊野
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特定構造の不飽和基およびカルボキシル基含
有化合物を含むことを特徴とする、感放射線性組成物の
提供。 【解決手段】 式(1)[式中、R1 は、4価の有機
基。]で表されるテトラカルボン酸二無水物と、式
(2)[式中R2 は少なくとも一つの放射線性重合可能
な不飽和結合を有する一価の有機基、R3 は水酸基およ
びアミノ基より選ばれる一価の基]で表される化合物を
反応させることにより得られる不飽和基およびカルボキ
シル基含有化合物を含む感放射線性組成物。 【化28】 【化29】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定構造を有する
不飽和基およびカルボキシル基含有化合物を含有する感
放射線性組成物に関する。さらに詳しくは、カラー液晶
表示装置やカラー撮像管素子等に用いられる、前記不飽
和基およびカルボキシル基含有化合物を含有するカラー
フィルター用感放射線性組成物に関する。
【0002】さらには、この組成物を用いたカラーフィ
ルターにも関連する。
【0003】
【従来の技術】液晶表示素子や固体撮像素子をカラー化
する際には、一般に微細加工された着色画素で構成され
るカラーフィルターが用いられる。このようなカラーフ
ィルターを形成する各画素の着色剤としては、染料また
は顔料が用いられるが、特に近年、耐熱性、耐光性及び
耐薬品性に優れるという理由から、顔料を用いる方法が
主流になりつつある。
【0004】また、カラーフィルターを製造する方法と
しては、フォトリソグラフィー法、印刷法、電着法等の
方法があるが、得られる製品の品質の点、及び、製造コ
ストの点等から、フォトリソグラフィー法が主流となっ
ている。
【0005】フォトリソグラフィー法では、感放射線性
の着色組成物を材料として使用するが、これは、一般
に、顔料と分散剤と溶媒とからなる顔料分散液に、バイ
ンダーポリマー、多官能モノマー、光重合開始剤等を添
加して調製したものである。使用されるバインダーポリ
マーとしては、アクリル系のポリマーが主に使用されて
いる。また、多官能モノマーとしては、室温で液体状で
ある多官能アクリル化合物が広く使用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】最近、フォトリソグラ
フィー法によるカラーフィルターの製造において、更な
る製造コストの低減を目的として、露光時間の短縮化が
検討されている。しかしながら、従来の感放射線性着色
組成物を使用した場合、フォトリソグラフィー工程にお
ける露光量が少ないと、光架橋が十分に進まず、うまく
パターニングができなかったり、得られるカラーフィル
ターの硬度が不足するという問題点があった。
【0007】上記問題点に関しては、例えば、光重合成
分である多官能モノマーを増やす等の改良手法がとられ
る。しかしながら、あまり多く導入すると、露光前の膜
にタックが生じ、パターニングするためのフォトマスク
を汚すという問題が新たに生じる。また、通常使用され
る多官能モノマーは、現像液に対する溶解性が低いた
め、現像性の点からも、多官能モノマーの増量は、前述
の問題点に関しては有効な改良方法とはならない。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、新規な
不飽和基およびカルボキシル基含有化合物含有の感放射
線性組成物を提供することにある。
【0009】本発明の他の目的は、少ない露光量でも硬
度の高いカラーフィルターを製造することが可能な、感
放射線性組成物を提供することにある。
【0010】上記問題点につき、鋭意検討した結果、特
定構造を有する不飽和基およびカルボキシル基含有化合
物を感放射線性組成物に加えることで、少ない露光量で
も、パターニング特性が優れ、さらに、硬度の高いカラ
ーフィルターを得ることが可能となることを見いだし
た。
【0011】すなわち、本発明では、式(1)
【0012】
【化5】
【0013】[式中、R1 は4価の有機基を示す。]で
表されるテトラカルボン酸二無水物と、式(2)
【0014】
【化6】
【0015】[式中、R2 は、少なくとも、一つの放射
線重合可能な不飽和結合を有する1価の有機基を示し、
3 は、水酸基およびアミノ基より選ばれる1価の有機
基を示す。]で表される化合物を反応させることにより
得られる、不飽和基およびカルボキシル基含有化合物
(以下、「特定反応物a.」と呼ぶ)、及び/または、
式(3)
【0016】
【化7】
【0017】[式中、R4 は2価の有機基を示し、R5
は、水酸基およびアミノ基より選ばれる1価の有機基を
示す。]で表される化合物と、式(4)
【0018】
【化8】
【0019】[式中、R6 は、少なくとも、一つの放射
線重合可能な不飽和結合を有する、1価の有機基を示
す。]で表される酸無水物を反応させることにより得ら
れる、不飽和基およびカルボキシル基含有化合物(以
下、「特定反応物b.」と呼ぶ)を含む感放射線性組成
物を提供する。
【0020】また、(A)特定反応物a.および/また
は特定反応物b.と、(B)着色剤と、(C)バインダ
ーポリマーおよび多官能性モノマーと、(D)光重合開
始剤と、(E)溶剤と、を含有することを特徴とするカ
ラーフィルター用感放射線性着色組成物を提供する。
【0021】さらのこの組成物を含むカラーフィルター
にも関連する。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルター
用感放射線性着色組成物の各成分について詳細に説明す
る。
【0023】(A)不飽和基およびカルボキシル基含有
化合物 「特定反応物a.」本発明に用いられる、特定反応物
a.は、テトラカルボン酸二無水物と、不飽和基含有の
化合物(アルコール、フェノール、およびアミンより選
ばれる化合物)を反応させることで、容易に得ることが
できる。
【0024】本発明の特定反応物a.の主体は、実質的
に、式(5)
【0025】
【化9】
【0026】[式中、R7 は4価の有機基を示し、R8
は、−o−、−N(R10)−、より選ばれる2価の有機
基を示し、R9 は、少なくとも一つの放射線重合可能な
不飽和結合を有する、1価の有機基を示す。また、R10
は、水素原子、あるいは、アルキル基を示す。]で表さ
れる化合物である。本発明においては、この化合物を単
離して使用することもできるし、混合物の状態でも使用
できる。また、単離した化合物は、1種単独でまたは2
種以上組み合わせて用いることが可能である。
【0027】かかる、テトラカルボン酸二無水物の具体
例としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボ
キシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカ
ルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,
4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水
物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸
二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン
−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,4
−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカルボキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル−1−ナフ
タレンコハク酸無水物、などの脂肪族酸二無水物;ピロ
メリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、3,3′,4,4′−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′,
4,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水
物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4′−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3′,
4,4′−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二
無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオ
キサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニ
ルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフ
ェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル
酸)−4,4′−ジフェニルエーテル二無水物、ビス
(トリフェニルフタル酸)−4,4′−ジフェニルメタ
ン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;式
(6)
【0028】
【化10】
【0029】式(7)
【0030】
【化11】
【0031】で示される芳香環含有脂肪族テトラカルボ
ン酸二無水物;式(8)
【0032】
【化12】
【0033】[式中、R11は2価の有機基を示す。];
シリコンを含有する式(9)
【0034】
【化13】
【0035】を挙げることができる。
【0036】これらのうちでは、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ
フラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オク
ト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無
水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカ
ルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル
−1−ナフタレンコハク酸無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3′,4,4′−パーフルオロイソプロピリデンジフタ
ル酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカ
ルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロ
ブタンテトラカルボン酸、式(6)で表される化合物、
式(8)で示される化合物のうち、式(10)
【0037】
【化14】
【0038】式(11)
【0039】
【化15】
【0040】式(12)
【0041】
【化16】
【0042】式(13)
【0043】
【化17】
【0044】[式中、Rは水素またはアルキル基を示
す。]で示される化合物および式(9)を好ましい例と
して挙げることができる。
【0045】さらに好ましい例としては、得られる反応
物の溶剤に対する溶解性を考慮して、ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペ
ンチル酢酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,
3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水
物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒ
ドロ−6−メチル−1−ナフタレンコハク酸無水物、
3,3′4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物、3,3′,4,4′−パーフルオロイソプロピ
リデンジフタル酸二無水物、1,2,3,4−シクロブ
タンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,
3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、式(9)、お
よび式(10)を挙げることができる。
【0046】一般式(2)で表される不飽和基を含有す
る化合物の中では、アルコール系の化合物が、得られる
反応物の溶解性の点、及び、着色が少ない点で、最も好
ましい。
【0047】かかる、アルコール化合物としては、例え
ば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリ
レート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシ
プロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルアクリレート、2−アクリロイロキシエチル−
2−ヒドロキシエチルフタル酸、グリセリンジアクリレ
ート、以上の化合物のメタクリレート物、2−ヒドロキ
シ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、などを好ましい
例として挙げることができる。これらは1種単独でまた
は2種以上組み合わせて用いられる。
【0048】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、一般式(2)で表される不飽和基を含有する化合物
の一部を、不飽和基を含有しない同様の化合物で置き換
えることも可能である。
【0049】テトラカルボン酸二無水物と一般式(2)
で表される不飽和基含有化合物の使用割合は、テトラカ
ルボン酸二無水物1当量に対して、0.4〜3.0当量
とするのが好ましく、より好ましくは1.6〜2.4当
量である。 「特定反応物b.」本発明に用いられる、特定反応物
b.は、式(3)で表される化合物と、光重合可能な不
飽和基を含有する酸無水物を反応させることで、容易に
得ることができる。
【0050】本発明の特定反応物b.の主体は、実質的
に、式(14)
【0051】
【化18】
【0052】[式中、R12は2価の有機基を示し、R13
は、−o−または−N(R)−を示し、R14は、光重合
性基を少なくとも1つ有する1価の有機基を示す。ま
た、Rは、水素原子またはアルキル基を示す。]で表さ
れる化合物である。本発明においては、この化合物を単
離して使用することもできる。また、単離した化合物
は、1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いること
が可能である。
【0053】式(3)で表される化合物の中では、ジオ
ール、ジアミンが、酸無水物に対する反応性の点で有利
である。
【0054】かかる、ジオール化合物としては、通常の
ポリエステルや、ポリカーボネートの原料として使用さ
れる各種ジオールが、特に制限なく適用可能である。
【0055】具体例としては、ヘキサンジオール、オク
タンジオール、3,3−ビス(ヒドロキシメチル)ヘプ
タン、などのアルカンジオール類;エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
などのアルキレングリコール類;ビス(ヒドロキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、
1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、
3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,
5]ウンデカン、などの脂環族含有のジオール類;m−
キシリレングリコール、p−キシリレングリコール、
1,3−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、
1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、ビ
ス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルフ
ォン、ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5
−ブロモフェニル]スルフォン、テレフタル酸ビス(2
−ヒドロキシエチル)エステル、テトラブロモビスフェ
ノールAビス(2−ヒドロキシエチル)エステル、2,
6−ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール、2,
6−ビス(ヒドロキシメチル)ピリジン、9.9−ビス
(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレ
ン、2,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,5−ビス(ヒド
ロキシメチル)イミダゾール、2,3−ビス(ヒドロキ
シメチル)ナフタレン、などの芳香族含有のジオール
類;N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−アミ
ノエタンスルホン酸、N,N−ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−3−アミノプロピオニトリル、N,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−ビス(2
−ヒドロキシエチル)−3−クロロアニリン、N,N−
ビス(2−ヒドロキシエチル)ジスルフィド、N,N−
ビス(2−ヒドロキシエチル)−n−ドデシルアミン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチルアミン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)グリシン、N,
N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)オキサマイド、
1,3−ビス[1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ピ
ペリジル]プロパン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−m−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒドロキ
シエチル)−p−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒド
ロキシプロピル)アニリンなどの3級アミン含有のジオ
ール類;式(15)
【0056】
【化19】
【0057】で表される2重結合を含有するジオール
類;1,2−ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)エタ
ン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチル
シロキサン、2,2′−ビス(ヒドロキシメチル)ジフ
ェニルエーテル、3,6−ビス(ヒドロキシメチル)ド
ュレン、2−(2,2−ジエトキシエチル)−1,3−
プロパンジオール、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)
プロピオン酸などを挙げることができる。
【0058】これらのジオール化合物は、用途、状況に
応じて、適宜選択される。例えば、特定重合体の透明性
を向上させたい場合には、脂肪族、脂環族のジオールが
有効であり、特定重合体の耐熱性アップには、芳香族含
有ジオールが有効である。
【0059】本発明で使用されるジオールの好ましい例
としては、トリエチレングリコール、ビス(ヒドロキシ
メチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパ
ン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサ
ン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシ
エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカン、m−キシリレングリコール、p
−キシリレングリコール、1,3−ビス(2−ヒドロキ
シエトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシ
エトキシ)ベンゼン、テレフタル酸ビス(2−ヒドロキ
シエチル)エステル、テトラブロモビスフェノールAビ
ス(2−ヒドロキシエチル)エステル、2,6−ビス
(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール、9.9−ビス
(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレ
ン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチル
シロキサン、2,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、式(15)
で表される化合物のうち、式(16)〜(18)
【0060】
【化20】
【0061】
【化21】
【0062】
【化22】
【0063】で表される化合物などを挙げることができ
る。
【0064】さらに好ましくは、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートや、シクロヘキサノンな
どの汎用のレジスト溶媒に対する溶解性の点から、フル
オレン骨格を有するものが好ましい。具体例としては、
9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)フルオレンを挙げることができる。これらは1種単
独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
【0065】式(4)で示される、酸無水物としては、
式(19)
【0066】
【化23】
【0067】式(20)
【0068】
【化24】
【0069】で示される化合物を好ましい例として挙げ
ることができる。この形の酸無水物は、通常、不飽和基
を含有するアルコール化合物と、塩化トリメリット酸無
水物を反応させることにより合成される。アルコール化
合物としては、特定反応物a.を製造する際に使用した
前述のアルコールがそのまま使用できるので、バリエー
ションのある類似化合物を得ることが可能である。これ
らは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられ
る。
【0070】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、式(4)で表される不飽和基を含有する酸無水物の
一部を、不飽和基を含有しない酸無水物で置き換えるこ
とも可能である。
【0071】一般式(3)の化合物と酸無水物の使用割
合は、式(3)の1当量に対して、酸無水物を0.4〜
3.0当量とするのが好ましく、より好ましくは1.6
〜2.4当量である。
【0072】なお、特定化合物a.、特定化合物b.と
もに、それぞれの原料となる化合物(テトラカルボン酸
二無水物、アルコール、ジオール、およびカルボン酸無
水物など)の分子量を変更することで、特定化合物中の
カルボキシル基濃度(分子中のカルボキシル基の重量
%)が、ある程度制御できるので、アルカリ可溶性をコ
ントロールする上で有効である。
【0073】本発明の特定反応物a.、特定反応物b.
は、前述した各原料を、通常、有機溶媒中で、加熱する
ことで容易に得ることができる。例えば、反応部位が、
酸無水物基と、水酸基の反応の場合は、80〜130
℃、好ましくは90〜120℃の反応温度で、含有する
不飽和基が熱重合しないように注意しながら行われる。
また、酸無水物基と、アミノ基の反応の場合は、0〜1
00℃、好ましくは30〜60℃の反応温度で行われ
る。
【0074】有機溶媒の使用量は、通常、反応に使用す
る原料の総量が、反応溶液の全量に対して10〜50重
量%になるようにするのが好ましいが、特に制限される
ものではない。
【0075】本発明の特定反応物を得る際の上記反応に
おいて、反応をより低温で、より短い時間で行う目的
で、酸触媒、塩基触媒等を使用することができる。
【0076】また、放射線重合性の不飽和基の熱重合を
防ぐ目的で、ハイドロキノンなどの各種熱重合禁止剤を
使用しても、何ら問題はない。
【0077】このようにして得られた、特定反応物
a.、特定物反応物b.は、適度に堅く、また、光重合
可能な不飽和基を持つため、露光時に光架橋が起こり、
パターニング特性の向上、カラーフィルター膜の硬度ア
ップに有効である。さらに、カルボン酸を同時に含有し
ているため、多量に導入しても現像性を損なうことがな
く、感放射線性組成物の成分として最適である。また、
低分子化合物であるため、ポリマーのように溶解速度に
差が生じにくいという利点もある。
【0078】本発明のカラーフィルター用感放射線性着
色組成物は、上記の特定反応物a.、及び/または特定
反応物b.を含有することを特徴とする。
【0079】本発明における、この不飽和基およびカル
ボキシル基含有化合物の使用割合は、後述する着色剤1
00重量部に対して、通常5〜500重量部、好ましく
は、10〜300重量部である。
【0080】この場合、不飽和基およびカルボキシル基
含有化合物の使用割合が5重量部未満では、得られるカ
ラーフィルターの硬度が不十分となる傾向があり、一
方、500重量部を越えると、相対的に着色剤濃度が低
下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成するこ
とが困難となる場合がある。
【0081】(B)着色剤 本発明における着色剤は、色調が特に限定されるもので
はなく、カラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、
また有機着色剤でも無機着色剤でもよい。
【0082】前記有機着色剤とは、具体的には染料、有
機顔料、天然色素等を意味し、また前記無機着色剤と
は、具体的には無機顔料のほか、体質顔料と呼ばれる無
機塩をも意味するものであるが、カラーフィルタには高
精密な発色と耐熱性が求められることから、本発明にお
ける着色剤としては、発色性が高く、且つ耐熱性の高い
着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常
有機着色剤、特に有機顔料が好ましい。
【0083】前記有機顔料としては、例えばカラーイン
デックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourist
s 社発行) においてピグメント(Pigment )に分類され
ている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデ
ックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることが
できる。
【0084】C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメ
ントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.
ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー2
0、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエ
ロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメン
トイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピ
グメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー11
0、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイ
エロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピ
グメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー16
6、C.I.ピグメントイエロー168; C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ
43、C.I.ピグメントオレンジ51; C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、
C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド1
23、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレ
ッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメ
ントレッド180、C.I.ピグメントレッド215; C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイ
オレット23、C.I.ピグメントバイオレット29; C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー1
5:3、C.I.ピグメントブルー15:6; C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン3
6; C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン
25; C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。
【0085】また、前記無機着色剤としては、具体的に
は、例えば酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸
鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カ
ドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、
アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラッ
ク等を挙げることができる。
【0086】本発明における着色剤は、所望により、分
散剤とともに使用することができる。このような分散剤
としては、具体的に、例えばカチオン系、アニオン系、
ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活
性剤を挙げることができる。
【0087】前記界面活性剤としては、具体的に、例え
ば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレン
グリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジス
テアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;
ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル
類;3級アミン変性ポリウレタン類;等を挙げることが
でき、さらに具体的に商品名で、例えばKP(信越化学
工業製)、ポリフロー(共栄社油脂化学工業製)、エフ
トップ(トーケムプロダクツ製)メガファック(大日本
インキ化学工業製)、フロラード(住友スリーエム
製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子製)等を挙げ
ることができる。
【0088】これらの界面活性剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
【0089】前記界面活性剤は、着色剤100重量部に
対して、通常、30重量部以下、好ましくは0〜20重
量部使用する。
【0090】さらに本発明における着色剤は、所望によ
り、顔料粒子の表面をポリマーで改質したものを使用す
ることもできる。改質用のポリマーとしては、例えば、
特願平7−66514などに記載されているポリマー
や、市販の各種分散用ポリマー/オリゴマーを挙げるこ
とができる。
【0091】なお、上記に示した着色剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
【0092】(C)バインダーポリマーおよび多官能性
モノマー 〈バインダーポリマー〉本発明におけるバインダーポリ
マーとしては、着色剤に対してバインダーとして作用
し、かつカラーフィルタ製造時の現像処理工程において
用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可
溶性である限り、適宜のポリマーを使用することができ
る。
【0093】本発明における好ましいバインダーポリマ
ーは、カルボキシル基を含有するポリマーであり、特
に、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽
和単量体(以下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量
体」という。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単
量体(以下、単に「他の不飽和単量体」という。)とか
らなる単量体混合物の共重合体(以下、単に「カルボキ
シル基含有共重合体」とう。)が好ましい。
【0094】前記カルボキシル基含有不飽和単量体とし
ては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、α−クロルアクリル酸、エタクリル酸、けい皮酸等
の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカル
ボン酸(無水物)類;3価以上の不飽和多価カルボン酸
(無水物)類等を挙げることができる。
【0095】これらのカルボキシル基含有不飽和単量体
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
【0096】また、前記他の不飽和単量体としては、例
えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
クロルスチレン、メトキシスチレン、式(21)
【0097】
【化25】
【0098】式(22)
【0099】
【化26】
【0100】等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリル
メタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェ
ノキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレ
ート、ジシクロペンタジエニルメタクリレート、等の不
飽和カルボン酸エステル類;アミノエチルアクリレー
ト、アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアク
リレート、アミノプロピルメタクリレート等の不飽和カ
ルボン酸アミノアルキルエステル類;グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン
酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニ
ルエステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシ
ジルエーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリ
ル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;ア
クリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリル
アミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルメタクリルアミド、マレイミド、N−フ
ェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の
不飽和アミドあるいは不飽和イミド類;1,3−ブタジ
エン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン
類;ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリブチ
ルメタクリレート、ポリシリコーン等の重合体分子鎖末
端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基
を有するマクロモノマー類等を挙げることができる。
【0101】これらの他の不飽和単量体は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
【0102】カルボキシル基含有共重合体としては、 アクリル酸および/またはメタクリル酸と メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、
ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリ
レートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも1種
の他の不飽和単量体との共重合体が好ましい。
【0103】好ましいカルボキシル基含有共重合体の具
体例としては、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル
(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/
ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)
アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、等を挙げることができる。
【0104】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。こ
の場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合
が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のアル
カリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、また
50重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時
に、形成された画素の基板からの脱落や画素表面の膜荒
れを来たしやすくなる傾向がある。
【0105】本発明におけるバインダーポリマーの使用
割合は、(B)着色剤100重量部に対して、通常、1
0〜1000重量部、好ましくは20〜500重量部で
ある。
【0106】この場合、バインダーポリマーの使用割合
が10重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下
したり、画素が形成される部分以外の領域での地汚れや
膜残りが発生するおそれがあり、一方1000重量部を
超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜と
して目的とする色濃度を達成することが困難となる場合
がある。
【0107】〈多官能性モノマー〉本発明における多官
能性モノマーとしては、例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジア
クリレートまたはジメタクリレート類;ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類;グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多
価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタクリレ
ート類;ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリ
ゴアクリレートまたはオリゴメタクリレート類;両末端
ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソ
プレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末
端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート
類;、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェー
ト、トリスメタクリロイルオキシエチルフォスフェート
等を挙げることができる。
【0108】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類が好ましく、具体的には式(23)
【0109】
【化27】
【0110】で表される化合物、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等
を挙げることができ、特に、上記に示した式(23)、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートが、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優
れ、かつ画素が形成される部分以外の領域での地汚れ、
膜残り等を発生し難い点で好ましい。
【0111】本発明において使用される多官能性モノマ
ーは、本発明の効果が損なわない限り、その一部が単官
能性モノマーに置き換えられても良い。このような単官
能性モノマーとしては、前述したバインダーポリマーの
原料として使用したモノマーがそのまま適用できるほ
か、更に、例えばω−カルボキシ−ポリカプロラクトン
モノ(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリ
コール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレング
リコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリ
ロイロキシエチルこはく酸、を挙げることができる。
【0112】前記単官能性モノマーの多官能性モノマー
に対する使用割合は、多官能性モノマーと単官能性モノ
マーの合計100に対して、単官能性モノマーが0〜9
0重量%、好ましくは0〜50重量%である。
【0113】本発明における多官能性モノマーの使用割
合は、上記に示したバインダーポリマー100重量部に
対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜3
00重量部である。
【0114】この場合、多官能性モノマーの使用割合が
5重量部未満では、画素強度あるいは画素表面の平滑性
が不十分となる傾向があり、一方500重量部を超える
と、例えば、アルカリ現像性が低下したり、画素が形成
される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやす
くなる傾向がある。
【0115】(D)光重合開始剤 本発明における光重合開始剤とは、光の照射により分解
又は結合が解裂し、ラジカル種、カチオン種、アニオン
種等の前記多官能性モノマーの重合を開始することがで
きる活性種を発生する化合物を意味する。
【0116】このような光重合開始剤としては、イミダ
ゾール環を有する化合物、ベンゾイン結合を有する化合
物、その他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物等を例示することができる。
【0117】前記イミダゾール環を有する化合物として
は、例えば、特願平7−66514に記載の化合物が有
効である。
【0118】これらのうち、特に2,2′−ビス(2−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、
2,2′−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾールお
よび2,2′−ビス(2,4,6−トリブロモフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ールが好ましい。
【0119】ベンゾイン結合を有する化合物、その他の
光ラジカル発生剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォ
リノ−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタ
ン−1−オン、ベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフ
ェノン、4−アジドベンズアルデヒド、4−アジドアセ
トフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノン、アジ
ドピレン、4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メ
トキシジフェニルアミン、ビス(2,6−ジメトキシベ
ンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチル
エーテル、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート、その他、製品名で、チバガ
イギー社製のイルガキュアシリーズ、ダロキュアシリー
ズ等を挙げることができる。
【0120】これらの中では、製品名CGI−369
(チバガイギー社製;(2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−
オン)、製品名CGI−1700(チバガイギー社製)
などが特に好ましい。
【0121】前記トリハロメチル基を有する化合物等と
しては、具体的に、例えば、1,3,5−トリス(トリ
クロロメチル)トリアジン、等を挙げることができる。
【0122】これらの光ラジカル発生剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
【0123】本発明においては、(D)光重合開始剤成
分として、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン結合を
有する化合物、その他の光ラジカル発生剤またはトリハ
ロメチル基を有する化合物を含有するが必要に応じて、
増感剤、硬化促進剤等や、高分子化合物からなる光架橋
剤あるいは光増感剤(以下、「高分子光架橋・増感剤」
という。)の1種以上を併用することもできる。
【0124】前記増感剤としては、例えば、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルア
ミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェ
ノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−
エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンザル)シ
クロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエ
チルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミ
ノ)カルコン、等を挙げることができる。
【0125】これらの増感剤は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
【0126】前記硬化促進剤としては、例えば、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5
−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メ
ルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、1−フェ
ニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3−メル
カプト−4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール
等を挙げることができる。
【0127】これらの硬化促進剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
【0128】さらに、前記高分子光架橋・増感剤等は、
光架橋剤および/または光増感剤として機能しうる官能
基を主鎖および/または側鎖中に有する高分子化合物で
あり、その例としては、4−アジドベンズアルデヒドと
ポリビニルアルコールとの縮合物、4−アジドベンズア
ルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、4−
アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合
体あるいは共重合体、1,4−ポリブタジエン、1,2
−ポリブタジエン等を挙げることができる。
【0129】これらの高分子光架橋・増感剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。
【0130】前記他の光ラジカル発生剤、増感剤および
硬化促進剤のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−(4−メチ
ルチオフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−
1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンおよび2
−メルカプトベンゾチアゾールなどを組み合わせて使用
するとことが、形成された画素が現像時に基板から脱落
し難く、画素強度および感度も高い点で好ましい。
【0131】本発明における(D)光重合開始剤の使用
割合は、(C)多官能性モノマー100重量部に対し
て、通常、0.01〜200重量部、好ましくは1〜1
20重量部、特に好ましくは1〜50重量部である。
【0132】この場合、これらの化合物の合計の使用割
合が0.01重量部未満では、放射線照射による硬化が
不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカット
を生じるおそれがあり、一方200重量部を超えると、
形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、
またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜
残り等を生じやすくなる。
【0133】本発明における他の光ラジカル発生剤の使
用割合は、(D)光重合開始剤全体の80重量%以下で
あることが好ましく、また増感剤および/または硬化促
進剤の使用割合は、(D)光重合開始剤全体の80重量
%以下であることが好ましい。
【0134】本発明における高分子光架橋・増感剤の使
用割合は、(D)光重合開始剤全体の50重量%以下で
あることが好ましい。
【0135】(E)溶剤 本発明における溶剤としては、前記(A)、(B)、
(C)および(D)成分や、後述する所望により添加さ
れる他の添加剤成分を溶解または分散し、かつこれらの
成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限
り、適宜に選択して使用することができる。
【0136】このような溶剤としては、例えば、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチル
エーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケ
トン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル
類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、
3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピ
オン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−
エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタ
ン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテー
ト、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸イソアミ
ル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプ
ロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メ
チル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等
の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の含窒素
(アミド系)溶剤類;などを挙げることができる。
【0137】これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
【0138】さらに、前記溶剤とともに、ベンジルエチ
ルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセト
ン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタ
ノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベ
ンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン
酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸
プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点
溶剤を併用することもできる。
【0139】これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
【0140】前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メト
キシブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸
イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪
酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸
エチル等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチ
ロラクトン等が好ましい。
【0141】本発明における溶剤の使用割合には、特に
制限はないが、通常、(A)、(B)、(C)、
(D)、及び、後述するその他各種添加剤を足し合わせ
た総量が重量%濃度で、5〜50%になるように、さら
には、10〜40%になるように調整するのが、塗布性
の点、組成物の安定性の点などから好ましい。
【0142】本発明の感放射線性組成物は、前述した通
り、成分として、(A)〜(E)を含むものであるが、
アルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像
処理後の未溶解物の残存をより少なくするために、有機
酸を含有するこもできる。
【0143】このような有機酸としては、分子量が10
00以下である、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基
含有カルボン酸が好ましい。
【0144】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、(E)溶剤に対する
溶解性、画素が形成される部分以外の領域での地汚れの
防止等の観点から好ましい。
【0145】前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
【0146】本発明における有機酸の使用割合は、組成
物全体に対して、通常、10重量%以下、好ましくは
0.001〜10重量%、さらに好ましくは0.01〜
1重量%である。
【0147】この場合、有機酸の使用割合が10重量%
を超えると、形成された画素の基板に対する密着性が低
下する傾向がある。
【0148】さらに、本発明の感放射線性組成物は、必
要に応じて種々の添加剤を含有することもできる。
【0149】このような添加剤としては、例えば、ガラ
ス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ
エチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロ
アルキルアクリレート等の高分子化合物;ノニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエト
キシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルプロピル
トリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメト
キシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノ
ール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収
剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;エポキ
シ化合物、メラミン化合物、ビスアジド化合物等の熱架
橋剤;を挙げることができる。
【0150】〈カラーフィルターの形成方法〉次に、本
発明の感放射線性組成物を用いて、カラーフィルターを
形成する方法について説明する。
【0151】まず、透明基板の表面上の画素パターンを
形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基
板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成
物を塗布したのち、プリベークを行って溶剤を蒸発さ
せ、塗膜を形成する。
【0152】次いで、この塗膜にフォトマスクを介して
放射線を照射したのち、現像処理を行い、塗膜の放射線
未照射部を溶解除去することによって、赤色の画素が所
定のパターンで配置された画素アレイを形成する。
【0153】その後、緑色または青色の顔料が分散され
た各感放射線性組成物を用い、上記と同様にして、各組
成物の塗布、プリベーク、放射線照射および現像処理を
行い、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一
基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青
色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフ
ィルタを得る。
【0154】カラーフィルタを形成する際に使用される
透明基板としては、例えばガラス、シリコン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。これら
の透明基板には、所望により、シランカップリング剤等
による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティン
グ、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の
前処理を施しておくこともできる。
【0155】感放射線性組成物を透明基板に塗布する際
には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布
法を採用することができる。
【0156】塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、
0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.0μm、特
に好ましくは0.2〜3.0μmである。
【0157】カラーフィルタを形成する際に使用される
放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、X線等を使用することができるが、波長が190〜
450nmの範囲にある放射線が好ましい。
【0158】放射線の照射エネルギー量は、好ましくは
1〜1000mJ/cm2 である。
【0159】前記アルカリ現像液としては、例えば炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テト
ラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、
1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデ
セン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−
ノネン等の水溶液が好ましい。
【0160】また、前記アルカリ現像液には、例えばメ
タノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤
等を適量添加することもできる。
【0161】なお、アルカリ現像後は、通常、水洗す
る。
【0162】現像処理法としては、シャワー現像法、ス
プレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛
り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温
で5〜300秒が好ましい。
【0163】このようにして形成されたカラーフィルタ
は、例えばカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カ
ラーセンサー等に極めて有用である。
【0164】
【実施例】以下、実施例をもって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0165】〈特定反応物a.の合成例〉 合成例1 500mlの四つ口フラスコ中に、テトラカルボン酸二
無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物69.41g(310mmol)、アル
コール化合物として2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト80.59g(619mmol)、溶媒としてプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート150
g、触媒として、テトラエチルアンモニウムブロマイド
0.62g(2.9mmol)を仕込み、撹拌しなが
ら、110℃で加熱した。この反応液は当初白鐸してい
たが、次第に溶解し、2時間後完全に溶解した。溶解
後、4時間、そのまま反応させることで、目的とする特
定反応物a.(a1)の溶液を得た。
【0166】合成例2〜5 原料の化合物を変更した以外は、合成例1に示した方法
で同様に反応させ、目的とする化合物 (a2)〜(a5)を得た。合成結果を表1にまとめ
た。
【0167】
【表1】
【0168】〈特定反応物b.の合成例〉 合成例6 500mlの四つ口フラスコ中に、ジオール化合物とし
て、9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル)フルオレン64.80g(148mmol)、
酸無水物化合物として、式(19)で示される化合物8
5.20g(296mmol)、溶媒としてプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート150g、触
媒として、テトラエチルアンモニウムブロマイド0.5
9g(2.8mmol)を仕込み、撹拌しながら、11
0℃で加熱した。この反応液は当初白鐸していたが、次
第に溶解した。完全に溶解してから、4時間、そのまま
反応させることで、目的とする特定反応物b.(b1)
の溶液を得た。
【0169】合成例7 500mlの四つ口フラスコ中に、ジアミン化合物とし
て、9.9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン2
2.60g(65mmol)、酸無水物化合物として、
式(17)で示される化合物37.40g(130mm
ol)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート240g、触媒として、テトラエチル
アンモニウムブロマイド0.26g(1.2mmol)
を仕込み、撹拌しながら、60℃で加熱した。この反応
液は当初白鐸していたが、次第に溶解した。完全に溶解
してから、4時間、そのまま反応させることで、目的と
する特定反応物b.(b2)の溶液を得た。
【0170】〈実施例1〉(A)成分として、合成例1
で合成した特定反応物(a1):40重量部の溶解した
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶
液、(B)成分として、赤色顔料(C.I.PigmentRed17
7):100重量部を分散剤を用いて分散させた顔料分散
液、(C)成分として、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:15
/60/15/10、重量平均分子量:28000):
40重量部、および、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート:40重量部、(D)成分として、2,2′
−ビス(2−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラフェニルビイミダゾール:10重量部と4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン:10重量
部、(E)成分として、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート:800重量部(ただし、特定反
応物 a1の溶媒、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロ
ヘキサノン:100重量部を混合して感放射線性組成物
を調製した。次いで、表面にナトリウムイオンの溶出を
防止するシリカ(SiO2 )膜が形成されたソーダガラ
ス製透明基板の表面上に、画素パターンを形成する部分
を区画するように遮光層を設けたのち、スピンコーター
を用いて前記感放射線性組成物を塗布し、80℃のホッ
トプレートで2分間プリベークを行ない、膜厚1.5μ
mの塗膜を形成した。
【0171】その後、基板を冷却したのち、高圧水銀ラ
ンプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長365
nm、405nmおよび436nmの光を含む50mJ
/cm2 の紫外線を照射した。
【0172】次いで、基板を後述する条件で現像処理を
行い、風乾したのち、さらに180℃で30分間ポスト
ベークを行なって、各辺20μm×20μmの大きさの
赤色の画素パターンが形成された画素アレイを作製し
た。
【0173】得られた画素アレイにはパターンの欠落や
欠損は認められず、パターン断面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、アンダーカットは認められなかった。
また画素アレイを光学顕微鏡で観察したところ、基板上
のパターンが形成されていない領域に未溶解物の残存は
認められなかった。また、得られた画素の鉛筆硬度を測
定したところ、5Hであった。
【0174】〈現像条件〉 現像液:0.2重量%濃度のテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液(25℃) 現像装置:シャワー現像装置 現像時間:1分間 リンス時間:1分間(超純水) シャワー圧:0.2kg/cm2 〈実施例2〜7〉(A)成分として、特定反応物(a
1)の代わりに、合成例2〜7で得られた特定反応物
(a2)〜(a5)および(b1)〜(b2)を用いた
以外は、実施例1と同様に、感放射線組成物を調製し、
画素アレイを作製した。評価結果を表2に示した。
【0175】
【表2】
【0176】〈比較例1〉(B)成分として、赤色顔
(C.I.PigmentRed177):100重量部を分散剤を用いて
分散させた顔料分散液、(C)成分として、メタクリル
酸/ベンジルメタクリレート/2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体
(共重合重量比:15/60/15/10、重量平均分
子量:28000):60重量部、および、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート:60重量部、(D)
成分として、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール:
10重量部と4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン:10重量部、(E)成分として、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート:800重量
部(ただし、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロヘキサ
ノン:100重量部を混合して感放射線性組成物を調製
した。
【0177】この感放射線性組成物を用い、実施例1と
同様にして、基板上に赤色の画素パターンが形成された
画素アレイを作製した。得られた画素アレイは、パター
ンの大部分が欠落しており、また、残存した部分の鉛筆
硬度を測定したところ、3Hとカラーフィルター用の硬
化膜としては、かなり柔らかいものであった。
【0178】〈比較例2〉実施例1において、バインダ
ーポリマーとして、メタクリル酸/メチルメタクリレー
ト/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:15/60
/15/10、重量平均分子量:29000)を用いた
以外は、比較例1と同様にして感放射線性組成物を調製
し、基板上に赤色の画素パターンが形成された画素アレ
イを作製した。得られた画素アレイはパターンが一部欠
落しており、残存した部分の鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、3Hとカラーフィルター用の硬化膜としては、柔ら
かいものであった。
【0179】〈比較例3〉比較例1において、(C)成
分の、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体(共重合重量比:15/60/15/1
0、重量平均分子量:28000)を40重量部、およ
び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを80
重量部に変更した以外は、比較例1と同様にして感放射
線性組成物を調製した。
【0180】この感放射線性組成物を用い、実施例1と
同様にして、基板上に塗布し、プリベークしたが、塗膜
にタック(粘着性)が生じたため、露光できなかった。
【0181】
【発明の効果】本発明によれば、特定構造の不飽和基お
よびカルボキシル基含有化合物を用いることで、少ない
露光量でも、パターニング可能で、かつ、硬度の高いカ
ラーフィルターを得ることが可能な、フォトリソグラフ
ィー用の感放射線性着色組成物が得られる。本発明の感
放射線性着色組成物を用いて形成したカラーフィルター
は、信頼性に優れ、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に有効に用いられ
る。
【0182】また、本発明の特定構造の不飽和基および
カルボキシル基含有化合物は、感光剤の種類、添加物の
種類を選択すれば、レジスト用、オーバーコート膜用、
感光性スペーサー用などにも、広く適用可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1) 【化1】 [式中、R1 は4価の有機基を示す。]で表されるテト
    ラカルボン酸二無水物と、式(2) 【化2】 [式中、R2 は、少なくとも、一つの放射線重合可能な
    不飽和結合を有する1価の有機基を示し、R3 は、水酸
    基およびアミノ基より選ばれる1価の有機基を示す。]
    で表される化合物を反応させることにより得られる、不
    飽和基およびカルボキシル基含有化合物、及び/また
    は、式(3) 【化3】 [式中、R4 は2価の有機基を示し、R5 は、水酸基お
    よびアミノ基より選ばれる1価の有機基を示す。]で表
    される化合物と、式(4) 【化4】 [式中、R6 は、少なくとも、一つの放射線重合可能な
    不飽和結合を有する、1価の有機基を示す。]で表され
    る酸無水物を反応させることにより得られる、不飽和基
    およびカルボキシル基含有化合物を含むことを特徴とす
    る感放射線性組成物。
  2. 【請求項2】 (A)請求項1に記載の不飽和基および
    カルボキシル基含有化合物、(B)着色剤、(C)バイ
    ンダーポリマー、及び多官能性モノマー、(D)光重合
    開始剤、および(E)溶剤を含有することを特徴とする
    カラーフィルター用感放射線性組成物。
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