JPH10227368A - 流体制御装置 - Google Patents
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- JPH10227368A JPH10227368A JP9029996A JP2999697A JPH10227368A JP H10227368 A JPH10227368 A JP H10227368A JP 9029996 A JP9029996 A JP 9029996A JP 2999697 A JP2999697 A JP 2999697A JP H10227368 A JPH10227368 A JP H10227368A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 主構成要素である開閉弁の種類数を増加させ
ることなく、集積化を実現した流体制御装置を提供す
る。 【解決手段】 流体制御器の出入口に配置される遮断開
放器は、１つの２ポート弁101 を備えた遮断開放器91
と、１つの２ポート弁101 および１つの３ポート弁102
を備えた遮断開放器92と、１つの２ポート弁101 および
２つの３ポート弁102 を備えた遮断開放器93と、２つの
３ポート弁102 を備えた遮断開放器94と、３つの３ポー
ト弁102 を備えた遮断開放器95の５種類のうちのいずれ
かとされる。すべての型の遮断開放器91,92,93の２ポー
ト弁101 の弁本体101aが、入口103 および出口104 が下
面に設けられた同一形状のものとされ、すべての型の遮
断開放器92,93,94,95 の３ポート弁102 の弁本体102a
が、常時連通している入口107 および出口106 に加えて
さらに副出入口105 が下面に設けられた同一形状のもの
とされている。
ることなく、集積化を実現した流体制御装置を提供す
る。 【解決手段】 流体制御器の出入口に配置される遮断開
放器は、１つの２ポート弁101 を備えた遮断開放器91
と、１つの２ポート弁101 および１つの３ポート弁102
を備えた遮断開放器92と、１つの２ポート弁101 および
２つの３ポート弁102 を備えた遮断開放器93と、２つの
３ポート弁102 を備えた遮断開放器94と、３つの３ポー
ト弁102 を備えた遮断開放器95の５種類のうちのいずれ
かとされる。すべての型の遮断開放器91,92,93の２ポー
ト弁101 の弁本体101aが、入口103 および出口104 が下
面に設けられた同一形状のものとされ、すべての型の遮
断開放器92,93,94,95 の３ポート弁102 の弁本体102a
が、常時連通している入口107 および出口106 に加えて
さらに副出入口105 が下面に設けられた同一形状のもの
とされている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造装置
等に用いられる流体制御装置に関する。
等に用いられる流体制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置における流体制御装置
は、図９に示すように、複数（図示は３つ）のマスフロ
ーコントローラ(3) と、各マスフローコントローラ(3)
の入口側および出口側に配置された１または複数の開閉
弁(111)(112)とを主構成要素とし、さらに、フィルター
(113) や逆止弁(114) 等が付加されたものである。
は、図９に示すように、複数（図示は３つ）のマスフロ
ーコントローラ(3) と、各マスフローコントローラ(3)
の入口側および出口側に配置された１または複数の開閉
弁(111)(112)とを主構成要素とし、さらに、フィルター
(113) や逆止弁(114) 等が付加されたものである。
【０００３】最も左のマスフローコントローラ(3) を含
むライン（第１ライン）(115) は、マスフローコントロ
ーラ(3) の入口側にフィルター(113) が設けられ、同出
口側に開閉弁(111) が設けられたものであり、入口と出
口とが１つずつとされている。左から２番目のマスフロ
ーコントローラ(3) を含むライン（第２ライン）(116)
は、マスフローコントローラ(3) の入口側に、ブロック
化された２つの開閉弁(112) および１つの逆止弁(114)
と１つのフィルター(113) とが設けられ、同出口側に、
３つの開閉弁(111) が設けられ、さらに、マスフローコ
ントローラ(3)の入口側と出口側との間に、マスフロー
コントローラ(3) を通らないバイパス通路(118) が設け
られたものである。最も右のマスフローコントローラ
(3) を含むライン（第３ライン）(117) は、マスフロー
コントローラ(3) の入口側に、ブロック化された２つの
開閉弁(112) および１つの逆止弁(114) と１つのフィル
ター(113) とが設けられ、同出口側に、２つの開閉弁(1
11) が設けられたものである。そして、３つのマスフロ
ーコントローラ(3) の入口側で、ライン(115)(116)(11
7) 同士が接続され、また、第１ライン(115) の出口と
第２ライン(116) の出口の１つとが接続されている。
むライン（第１ライン）(115) は、マスフローコントロ
ーラ(3) の入口側にフィルター(113) が設けられ、同出
口側に開閉弁(111) が設けられたものであり、入口と出
口とが１つずつとされている。左から２番目のマスフロ
ーコントローラ(3) を含むライン（第２ライン）(116)
は、マスフローコントローラ(3) の入口側に、ブロック
化された２つの開閉弁(112) および１つの逆止弁(114)
と１つのフィルター(113) とが設けられ、同出口側に、
３つの開閉弁(111) が設けられ、さらに、マスフローコ
ントローラ(3)の入口側と出口側との間に、マスフロー
コントローラ(3) を通らないバイパス通路(118) が設け
られたものである。最も右のマスフローコントローラ
(3) を含むライン（第３ライン）(117) は、マスフロー
コントローラ(3) の入口側に、ブロック化された２つの
開閉弁(112) および１つの逆止弁(114) と１つのフィル
ター(113) とが設けられ、同出口側に、２つの開閉弁(1
11) が設けられたものである。そして、３つのマスフロ
ーコントローラ(3) の入口側で、ライン(115)(116)(11
7) 同士が接続され、また、第１ライン(115) の出口と
第２ライン(116) の出口の１つとが接続されている。
【０００４】同図に示すように、マスフローコントロー
ラ(3) と開閉弁(111)(112)との接続および開閉弁(111)
同士の接続はチューブ(119) を介して行われており、チ
ューブ(119) 同士がＬ型の管継手(120) やＴ型の管継手
(121) により接続されている。
ラ(3) と開閉弁(111)(112)との接続および開閉弁(111)
同士の接続はチューブ(119) を介して行われており、チ
ューブ(119) 同士がＬ型の管継手(120) やＴ型の管継手
(121) により接続されている。
【０００５】なお、図９に示すものは流体制御装置のほ
んの一例であって、流体制御装置は種々のラインにより
構成されるが、流体の数およびその流れを考慮すると、
流体制御装置を構成するラインは、図１０に示す５種類
にほぼ限定される。
んの一例であって、流体制御装置は種々のラインにより
構成されるが、流体の数およびその流れを考慮すると、
流体制御装置を構成するラインは、図１０に示す５種類
にほぼ限定される。
【０００６】図１０において、最も左に示しているの
が、マスフローコントローラ等の流体制御器(3) に１種
類の流体が流されるライン(131) で、左から２番目に示
しているのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流され
るライン(132) で、左から３番目に示しているのが、流
体制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体
制御器(3) の出口側に真空引き通路(133a)が接続される
ライン(133) で、左から４番目に示しているのが、流体
制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体制
御器(3) の入口側と出口側との間に流体制御器(3) を通
らないバイパス通路(134a)が設けられるライン(134)
で、最も左に示しているのが、流体制御器(3) に２種類
の流体が流されるとともに、流体制御器(3) の出口側に
真空引き通路(135a)が接続され、さらに、流体制御器
(3) の入口側と出口側との間に流体制御器(3) を通らな
いバイパス通路(135b)が設けられるライン(135) であ
る。
が、マスフローコントローラ等の流体制御器(3) に１種
類の流体が流されるライン(131) で、左から２番目に示
しているのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流され
るライン(132) で、左から３番目に示しているのが、流
体制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体
制御器(3) の出口側に真空引き通路(133a)が接続される
ライン(133) で、左から４番目に示しているのが、流体
制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体制
御器(3) の入口側と出口側との間に流体制御器(3) を通
らないバイパス通路(134a)が設けられるライン(134)
で、最も左に示しているのが、流体制御器(3) に２種類
の流体が流されるとともに、流体制御器(3) の出口側に
真空引き通路(135a)が接続され、さらに、流体制御器
(3) の入口側と出口側との間に流体制御器(3) を通らな
いバイパス通路(135b)が設けられるライン(135) であ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造装置におけ
る流体制御装置には、装置の占有スペースの減少および
通路のボリュームの減少が要求されており、このため、
マスフローコントローラと開閉弁との接続および開閉弁
同士の接続をチューブを介さずに継手部材により行うこ
と（集積化）が提案されている。
る流体制御装置には、装置の占有スペースの減少および
通路のボリュームの減少が要求されており、このため、
マスフローコントローラと開閉弁との接続および開閉弁
同士の接続をチューブを介さずに継手部材により行うこ
と（集積化）が提案されている。
【０００８】集積化は、図１０に示した５種類のライン
を構成する開閉弁同士をあらかじめブロック化してお
き、これらのブロック化された弁同士をさらにチューブ
を介さずに接続することにより達成されるが、この集積
化にさいしては、部品種類数の増加とりわけ主構成要素
である開閉弁の種類数の増加が、実用上大きな問題とな
る。
を構成する開閉弁同士をあらかじめブロック化してお
き、これらのブロック化された弁同士をさらにチューブ
を介さずに接続することにより達成されるが、この集積
化にさいしては、部品種類数の増加とりわけ主構成要素
である開閉弁の種類数の増加が、実用上大きな問題とな
る。
【０００９】この発明の目的は、流体制御装置の主構成
要素である開閉弁の種類数を増加させることなく、集積
化を実現した流体制御装置を提供することにある。
要素である開閉弁の種類数を増加させることなく、集積
化を実現した流体制御装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】この発
明による流体制御装置は、複数の流体制御器と、各流体
制御器の入口側および出口側にそれぞれ配置された複数
の遮断開放器とを備え、各遮断開放器が、隣り合う弁同
士がチューブを介さずに接続された複数の弁または１つ
の弁よりなり、各遮断開放器が、１つの２ポート弁を備
えた２型の遮断開放器と、１つの２ポート弁および１つ
の３ポート弁を備えた２−３型の遮断開放器と、１つの
２ポート弁および２つの３ポート弁を備えた２−３−３
型の遮断開放器と、２つの３ポート弁を備えた３−３型
の遮断開放器と、３つの３ポート弁を備えた３−３−３
型の遮断開放器の５種類のうちのいずれかとされてお
り、すべての型の遮断開放器の２ポート弁の弁本体が、
入口および出口が下面に設けられた同一形状のものとさ
れ、すべての型の遮断開放器の３ポート弁の弁本体が、
常時連通している入口および出口に加えてさらに副出入
口が下面に設けられた同一形状のものとされていること
を特徴とするものである。
明による流体制御装置は、複数の流体制御器と、各流体
制御器の入口側および出口側にそれぞれ配置された複数
の遮断開放器とを備え、各遮断開放器が、隣り合う弁同
士がチューブを介さずに接続された複数の弁または１つ
の弁よりなり、各遮断開放器が、１つの２ポート弁を備
えた２型の遮断開放器と、１つの２ポート弁および１つ
の３ポート弁を備えた２−３型の遮断開放器と、１つの
２ポート弁および２つの３ポート弁を備えた２−３−３
型の遮断開放器と、２つの３ポート弁を備えた３−３型
の遮断開放器と、３つの３ポート弁を備えた３−３−３
型の遮断開放器の５種類のうちのいずれかとされてお
り、すべての型の遮断開放器の２ポート弁の弁本体が、
入口および出口が下面に設けられた同一形状のものとさ
れ、すべての型の遮断開放器の３ポート弁の弁本体が、
常時連通している入口および出口に加えてさらに副出入
口が下面に設けられた同一形状のものとされていること
を特徴とするものである。
【００１１】この明細書において、上下は図３および図
４の上下をいうものとするが、この上下は便宜的なもの
であり、流体制御装置は、図３および図４の上下の状態
で水平面に取り付けられるほか、上下が逆になって水平
面に取り付けられたり、垂直面に取り付けられたりする
ことがある。
４の上下をいうものとするが、この上下は便宜的なもの
であり、流体制御装置は、図３および図４の上下の状態
で水平面に取り付けられるほか、上下が逆になって水平
面に取り付けられたり、垂直面に取り付けられたりする
ことがある。
【００１２】この発明の流体制御装置によると、遮断開
放器は全部で５種類となるが、各遮断開放器を構成する
弁本体の形状は、２種類だけでよい。各弁本体には、常
時開型のアクチュエータまたは常時閉型のアクチュエー
タが取付けられ、アクチュエータの型を含めると、弁の
種類は４つとなる。
放器は全部で５種類となるが、各遮断開放器を構成する
弁本体の形状は、２種類だけでよい。各弁本体には、常
時開型のアクチュエータまたは常時閉型のアクチュエー
タが取付けられ、アクチュエータの型を含めると、弁の
種類は４つとなる。
【００１３】上記構成とすることにより、弁本体の形状
が２種類だけである５種類の遮断開放器により、種々の
流体制御装置が構成される。これを、図２を参照して以
下に説明する。
が２種類だけである５種類の遮断開放器により、種々の
流体制御装置が構成される。これを、図２を参照して以
下に説明する。
【００１４】流体制御器(3) に１種類の流体（メインガ
スだけ）が流される場合には、流体制御器(3) の入口側
および出口側にそれぞれ２型の遮断開放器(91)(91)が配
置される。
スだけ）が流される場合には、流体制御器(3) の入口側
および出口側にそれぞれ２型の遮断開放器(91)(91)が配
置される。
【００１５】流体制御器(3) に２種類の流体が流される
場合には、流体制御器(3) の入口側および出口側にそれ
ぞれ２−３型の遮断開放器(92)(92)が配置される。そし
て、第１の流体（例えばメインガス）は、３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、３ポート弁(102) を経て次のライン（例えば
プロセスチャンバ）に至る。また、第２の流体（例えば
パージガス）は、２ポート弁(101) および３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、３ポート弁(102) および２ポート弁(101) を
経て次のライン（例えばベントライン）に至る。
場合には、流体制御器(3) の入口側および出口側にそれ
ぞれ２−３型の遮断開放器(92)(92)が配置される。そし
て、第１の流体（例えばメインガス）は、３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、３ポート弁(102) を経て次のライン（例えば
プロセスチャンバ）に至る。また、第２の流体（例えば
パージガス）は、２ポート弁(101) および３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、３ポート弁(102) および２ポート弁(101) を
経て次のライン（例えばベントライン）に至る。
【００１６】流体制御器(3) に２種類の流体が流される
とともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(98
a) が設けられる場合には、流体制御器(3) の入口側に
２−３型の遮断開放器(92)が、流体制御器(3) の出口側
に２−３−３型の遮断開放器(93)が配置される。そし
て、第１の流体（例えばメインガス）は、３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、いずれか一方の３ポート弁を経て次のライン
（例えばプロセスチャンバ）に至る。第２の流体（例え
ばパージガス）は、２ポート弁(101) および３ポート弁
(102) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を
通過した後、２つの３ポート弁(102)(102)を経て次のラ
イン（例えばベントライン）に至る。２−３−３型の遮
断開放器(93)の２ポート弁(101) には、真空引き通路(9
8a) が接続される。
とともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(98
a) が設けられる場合には、流体制御器(3) の入口側に
２−３型の遮断開放器(92)が、流体制御器(3) の出口側
に２−３−３型の遮断開放器(93)が配置される。そし
て、第１の流体（例えばメインガス）は、３ポート弁(1
02) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通
過した後、いずれか一方の３ポート弁を経て次のライン
（例えばプロセスチャンバ）に至る。第２の流体（例え
ばパージガス）は、２ポート弁(101) および３ポート弁
(102) を経て流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を
通過した後、２つの３ポート弁(102)(102)を経て次のラ
イン（例えばベントライン）に至る。２−３−３型の遮
断開放器(93)の２ポート弁(101) には、真空引き通路(9
8a) が接続される。
【００１７】流体制御器(3) に２種類の流体が流される
とともに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に流
体制御器(3) を通らないバイパス通路(99a) が設けられ
る場合には、流体制御器(3) の入口側および出口側にそ
れぞれ３−３型の遮断開放器(94)(94)が配置される。第
１の流体（例えばメインガス）は、入口側３−３型の遮
断開放器(94)のいずれか一方の３ポート弁(102) を経て
流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通過した後、
出口側３−３型の遮断開放器(94)のいずれか一方の３ポ
ート弁(102) を経て次のライン（例えばプロセスチャン
バ）に至る。また、第２の流体（例えばパージガス）
は、２つの３ポート弁(102)(102)を経て流体制御器(3)
に入り、流体制御器(3) を通過した後、２つの３ポート
弁(102)(102)を経て次のライン（例えばベントライン）
に至る。そして、入口側および出口側の３−３型の遮断
開放器(94)の他方の３ポート弁(102)(102)同士が、開閉
弁を備えたバイパス通路(99a) により接続される。
とともに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に流
体制御器(3) を通らないバイパス通路(99a) が設けられ
る場合には、流体制御器(3) の入口側および出口側にそ
れぞれ３−３型の遮断開放器(94)(94)が配置される。第
１の流体（例えばメインガス）は、入口側３−３型の遮
断開放器(94)のいずれか一方の３ポート弁(102) を経て
流体制御器(3) に入り、流体制御器(3) を通過した後、
出口側３−３型の遮断開放器(94)のいずれか一方の３ポ
ート弁(102) を経て次のライン（例えばプロセスチャン
バ）に至る。また、第２の流体（例えばパージガス）
は、２つの３ポート弁(102)(102)を経て流体制御器(3)
に入り、流体制御器(3) を通過した後、２つの３ポート
弁(102)(102)を経て次のライン（例えばベントライン）
に至る。そして、入口側および出口側の３−３型の遮断
開放器(94)の他方の３ポート弁(102)(102)同士が、開閉
弁を備えたバイパス通路(99a) により接続される。
【００１８】流体制御器(3) に２種類の流体が流される
とともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(100
a)が設けられ、さらに、流体制御器(3) の入口側と出口
側との間に流体制御器(3) を通らないバイパス通路(100
b)が設けられる場合には、流体制御器(3) の入口側に３
−３型の遮断開放器(94)が、流体制御器(3) の出口側に
３−３−３型の遮断開放器(95)が配置される。第１の流
体（例えばプロセスチャンバ）は、３−３型の遮断開放
器(94)のいずれか一方の３ポート弁(102) を経て流体制
御器(3) に入り、流体制御器(3) を通過した後、３−３
−３型の遮断開放器(95)のいずれかの３ポート弁(102)
を経て次のライン（例えばプロセスチャンバ）に至る。
また、第２の流体（例えばパージガス）は、２つの３ポ
ート弁(102)(102)を経て流体制御器(3) に入り、流体制
御器(3) を通過した後、２つの３ポート弁(102)(102)を
経て次のライン（例えばベントライン）に至る。そし
て、３−３型の遮断開放器(94)の他方の３ポート弁(10
2) と３−３−３型の遮断開放器(95)の残っている３ポ
ート弁(102) とが、バイパス通路(100b)により接続さ
れ、さらに、この３ポート弁(102) に真空引き通路(100
a)が接続される。
とともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(100
a)が設けられ、さらに、流体制御器(3) の入口側と出口
側との間に流体制御器(3) を通らないバイパス通路(100
b)が設けられる場合には、流体制御器(3) の入口側に３
−３型の遮断開放器(94)が、流体制御器(3) の出口側に
３−３−３型の遮断開放器(95)が配置される。第１の流
体（例えばプロセスチャンバ）は、３−３型の遮断開放
器(94)のいずれか一方の３ポート弁(102) を経て流体制
御器(3) に入り、流体制御器(3) を通過した後、３−３
−３型の遮断開放器(95)のいずれかの３ポート弁(102)
を経て次のライン（例えばプロセスチャンバ）に至る。
また、第２の流体（例えばパージガス）は、２つの３ポ
ート弁(102)(102)を経て流体制御器(3) に入り、流体制
御器(3) を通過した後、２つの３ポート弁(102)(102)を
経て次のライン（例えばベントライン）に至る。そし
て、３−３型の遮断開放器(94)の他方の３ポート弁(10
2) と３−３−３型の遮断開放器(95)の残っている３ポ
ート弁(102) とが、バイパス通路(100b)により接続さ
れ、さらに、この３ポート弁(102) に真空引き通路(100
a)が接続される。
【００１９】このようにして、２種類の弁本体(101)(10
2)だけから構成された５種類の遮断開放器(91)(92)(93)
(94)(95)により、種々の流体制御装置が構成される。
2)だけから構成された５種類の遮断開放器(91)(92)(93)
(94)(95)により、種々の流体制御装置が構成される。
【００２０】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、以下図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００２１】以下の説明において、左右については、図
の左右をいうものとする。
の左右をいうものとする。
【００２２】図１は、この発明の流体制御装置の一具体
例を示すもので、図９に示した従来の流体制御装置と同
じ機能を有している。すなわち、最も左のマスフローコ
ントローラ(3) を含むラインを第１ライン(85)とし、左
から２番目のマスフローコントローラ(3) を含むライン
を第２ライン(86)とし、最も右のマスフローコントロー
ラ(3) を含むラインを第３ライン(87)とすると、第１ラ
イン(85)は、マスフローコントローラ(3) の入口側にフ
ィルター(83)が設けられ、同出口側に開閉弁(81)が設け
られたものであり、第２ライン(86)は、マスフローコン
トローラ(3) の入口側に、２種類計３つの開閉弁(81)(8
2)、１つの逆止弁(84)および１つのフィルター(83)が設
けられ、同出口側に、２種類計３つの開閉弁(81)(82)が
設けられ、さらに、マスフローコントローラ(3) の入口
側と出口側との間に、マスフローコントローラ(3) を通
らないバイパス通路(88)が設けられたものであり、第３
ライン(87)は、マスフローコントローラ(3) の入口側
に、互いに異なる種類の２つの開閉弁(81)(82)、１つの
逆止弁(84)および１つのフィルター(83)が設けられ、同
出口側に、互いに異なる種類の２つの開閉弁(81)(82)が
設けられたものである。そして、マスフローコントロー
ラ(3) の入口側で、各ライン(85)(86)(87)同士が接続さ
れ、また、第１ライン(85)の出口と第２ライン(86)の出
口の１つとが接続されている。
例を示すもので、図９に示した従来の流体制御装置と同
じ機能を有している。すなわち、最も左のマスフローコ
ントローラ(3) を含むラインを第１ライン(85)とし、左
から２番目のマスフローコントローラ(3) を含むライン
を第２ライン(86)とし、最も右のマスフローコントロー
ラ(3) を含むラインを第３ライン(87)とすると、第１ラ
イン(85)は、マスフローコントローラ(3) の入口側にフ
ィルター(83)が設けられ、同出口側に開閉弁(81)が設け
られたものであり、第２ライン(86)は、マスフローコン
トローラ(3) の入口側に、２種類計３つの開閉弁(81)(8
2)、１つの逆止弁(84)および１つのフィルター(83)が設
けられ、同出口側に、２種類計３つの開閉弁(81)(82)が
設けられ、さらに、マスフローコントローラ(3) の入口
側と出口側との間に、マスフローコントローラ(3) を通
らないバイパス通路(88)が設けられたものであり、第３
ライン(87)は、マスフローコントローラ(3) の入口側
に、互いに異なる種類の２つの開閉弁(81)(82)、１つの
逆止弁(84)および１つのフィルター(83)が設けられ、同
出口側に、互いに異なる種類の２つの開閉弁(81)(82)が
設けられたものである。そして、マスフローコントロー
ラ(3) の入口側で、各ライン(85)(86)(87)同士が接続さ
れ、また、第１ライン(85)の出口と第２ライン(86)の出
口の１つとが接続されている。
【００２３】図１に示した流体制御装置では、マスフロ
ーコントローラ(3) と開閉弁(82)との接続および開閉弁
(81)(82)同士の接続は、チューブを介さずに（図面の裏
側において）継手部材により行われており、これによ
り、図９に示した制御装置に比べて、縦が６１％、横が
４２％、面積が２６％にまで減少し、大幅な集積化が達
成されている。
ーコントローラ(3) と開閉弁(82)との接続および開閉弁
(81)(82)同士の接続は、チューブを介さずに（図面の裏
側において）継手部材により行われており、これによ
り、図９に示した制御装置に比べて、縦が６１％、横が
４２％、面積が２６％にまで減少し、大幅な集積化が達
成されている。
【００２４】しかも、後述するように、開閉弁(81)(82)
の弁本体の形状は２種類だけとされ、部品数の増加が抑
えられて標準化も達成されている。
の弁本体の形状は２種類だけとされ、部品数の増加が抑
えられて標準化も達成されている。
【００２５】標準化は、次のＡからＣまでの構成により
達成されたものであり、以下に、これらの構成について
詳述する。
達成されたものであり、以下に、これらの構成について
詳述する。
【００２６】Ａ．流体制御器(3) と、これの入口側およ
び出口側に配置された遮断開放器(91)(92)(93)(94)(95)
とにより、すべてのラインを構成する。
び出口側に配置された遮断開放器(91)(92)(93)(94)(95)
とにより、すべてのラインを構成する。
【００２７】Ｂ．入口(103) および出口(104) が下面に
設けられた弁本体(101a)を有する２ポート弁(101) と、
常時連通している入口(107) および出口(106) に加えて
さらに副出入口(105) が下面に設けられた弁本体(102a)
を有する３ポート弁(102) と、所要の継手部材(30)(31)
(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)とにより、すべての遮断
開放器(91)(92)(93)(94)(95)を構成する。継手部材(30)
(31)(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)は、後述するように
種々の型があり得るが、隣り合う弁(101)(102)の隣り合
う入口と出口とを連通する通路(108) を有するものであ
ればよい。
設けられた弁本体(101a)を有する２ポート弁(101) と、
常時連通している入口(107) および出口(106) に加えて
さらに副出入口(105) が下面に設けられた弁本体(102a)
を有する３ポート弁(102) と、所要の継手部材(30)(31)
(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)とにより、すべての遮断
開放器(91)(92)(93)(94)(95)を構成する。継手部材(30)
(31)(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)は、後述するように
種々の型があり得るが、隣り合う弁(101)(102)の隣り合
う入口と出口とを連通する通路(108) を有するものであ
ればよい。
【００２８】Ｃ．遮断開放器(91)(92)(93)(94)(95)は、
１つの２ポート弁(101) を備えた２型の遮断開放器(91)
と、１つの２ポート弁(101) および１つの３ポート弁(1
02)を備えた２−３型の遮断開放器(92)、１つの２ポー
ト弁(101) および２つの３ポート弁(102)(102)を備えた
２−３−３型の遮断開放器(93)と、２つの３ポート弁(1
02)(102)を備えた３−３型の遮断開放器(94)と、３つの
３ポート弁(102)(102)(102) を備えた３−３−３型遮断
開放器(95)の５種類とする。
１つの２ポート弁(101) を備えた２型の遮断開放器(91)
と、１つの２ポート弁(101) および１つの３ポート弁(1
02)を備えた２−３型の遮断開放器(92)、１つの２ポー
ト弁(101) および２つの３ポート弁(102)(102)を備えた
２−３−３型の遮断開放器(93)と、２つの３ポート弁(1
02)(102)を備えた３−３型の遮断開放器(94)と、３つの
３ポート弁(102)(102)(102) を備えた３−３−３型遮断
開放器(95)の５種類とする。
【００２９】図２は、図１０に示した５種類のラインを
本発明の特徴を示すように書き換えたもので、同図にお
いて、最も左に示しているのが、流体制御器(3) に１種
類の流体が流されるライン(96)であり、流体制御器(3)
と、流体制御器(3) の入口側および出口側にそれぞれ配
置された２型の遮断開放器(91)とよりなる。左から２番
目に示しているのが、流体制御器に２種類の流体が流さ
れるライン(97)であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側および出口側にそれぞれ配置された２−３
型の遮断開放器(92)とよりなる。左から３番目に示して
いるのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流されると
ともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(98a)
が接続されるライン(98)であり、流体制御器(3) と、流
体制御器(3) の入口側に配置された２−３型の遮断開放
器(92)と、流体制御器(3) の出口側に配置された２−３
−３型の遮断開放器(93)とよりなる。左から４番目に示
しているのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流され
るとともに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に
流体制御器(3) を通らないバイパス通路(99a) が設けら
れるライン(99)であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側に配置された３−３型の遮断開放器(94)
と、流体制御器(3) の出口側に配置された３−３型の遮
断開放器(94)とよりなる。最も右に示しているのが、流
体制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体
制御器(3) の出口側に真空引き通路(100a)が接続され、
さらに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に流体
制御器(3) を通らないバイパス通路(100b)が設けられる
ライン(100) であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側に配置された３−３型の遮断開放器(94)
と、流体制御器(3) の出口側に配置された３−３−３型
遮断開放器(95)とよりなる。
本発明の特徴を示すように書き換えたもので、同図にお
いて、最も左に示しているのが、流体制御器(3) に１種
類の流体が流されるライン(96)であり、流体制御器(3)
と、流体制御器(3) の入口側および出口側にそれぞれ配
置された２型の遮断開放器(91)とよりなる。左から２番
目に示しているのが、流体制御器に２種類の流体が流さ
れるライン(97)であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側および出口側にそれぞれ配置された２−３
型の遮断開放器(92)とよりなる。左から３番目に示して
いるのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流されると
ともに、流体制御器(3) の出口側に真空引き通路(98a)
が接続されるライン(98)であり、流体制御器(3) と、流
体制御器(3) の入口側に配置された２−３型の遮断開放
器(92)と、流体制御器(3) の出口側に配置された２−３
−３型の遮断開放器(93)とよりなる。左から４番目に示
しているのが、流体制御器(3) に２種類の流体が流され
るとともに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に
流体制御器(3) を通らないバイパス通路(99a) が設けら
れるライン(99)であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側に配置された３−３型の遮断開放器(94)
と、流体制御器(3) の出口側に配置された３−３型の遮
断開放器(94)とよりなる。最も右に示しているのが、流
体制御器(3) に２種類の流体が流されるとともに、流体
制御器(3) の出口側に真空引き通路(100a)が接続され、
さらに、流体制御器(3) の入口側と出口側との間に流体
制御器(3) を通らないバイパス通路(100b)が設けられる
ライン(100) であり、流体制御器(3) と、流体制御器
(3) の入口側に配置された３−３型の遮断開放器(94)
と、流体制御器(3) の出口側に配置された３−３−３型
遮断開放器(95)とよりなる。
【００３０】次いで、図３を参照して、５種類の遮断開
放器(91)(92)(93)(94)(95)について説明する。なお、図
２および図３において、白抜きの三角形は、アクチュエ
ータにより開閉されるポート(103)(105)を意味し、白抜
きの三角形に１本線を付け加えたものは、常時開いてい
るポート(104)(106)(107) を意味している。また、複数
の弁(101)(102)を備えた遮断開放器(92)(93)(94)(95)に
ついては、弁(101)(102)同士は、左右に隣り合うように
直列に接続されるものとし、かつ、隣り合うポート(10
4)(106)(107) 同士は、継手部材内通路(108) により連
通させられるものとする。
放器(91)(92)(93)(94)(95)について説明する。なお、図
２および図３において、白抜きの三角形は、アクチュエ
ータにより開閉されるポート(103)(105)を意味し、白抜
きの三角形に１本線を付け加えたものは、常時開いてい
るポート(104)(106)(107) を意味している。また、複数
の弁(101)(102)を備えた遮断開放器(92)(93)(94)(95)に
ついては、弁(101)(102)同士は、左右に隣り合うように
直列に接続されるものとし、かつ、隣り合うポート(10
4)(106)(107) 同士は、継手部材内通路(108) により連
通させられるものとする。
【００３１】図３において、最も左に示しているのが、
２型の遮断開放器(91)、左から２番目に示しているの
が、２−３型の遮断開放器(92)、左から３番目に示して
いるのが、２−３−３型の遮断開放器(93)、左から４番
目に示しているのが、３−３型の遮断開放器(94)、最も
右に示しているのが、３−３−３型遮断開放器(95)であ
る。
２型の遮断開放器(91)、左から２番目に示しているの
が、２−３型の遮断開放器(92)、左から３番目に示して
いるのが、２−３−３型の遮断開放器(93)、左から４番
目に示しているのが、３−３型の遮断開放器(94)、最も
右に示しているのが、３−３−３型遮断開放器(95)であ
る。
【００３２】次に、図３を参照して、各遮断開放器(91)
(92)(93)(94)(95)のそれぞれの作用について説明する。
なお、図３において、２ポート弁(101) の２つのポート
(103)(104)のうち、アクチュエータで直接開閉される方
を第１ポート(103) とし、他方を第２ポート(104) とす
る。また、３ポート弁(102) の３つのポート(105)(106)
(107) のうち、アクチュエータで直接開閉される方を第
１ポート(105) とし、残る２つのポート(106)(107)のう
ち、図の左の方を第２ポート(106) 、同右の方を第３ポ
ート(107) とする。
(92)(93)(94)(95)のそれぞれの作用について説明する。
なお、図３において、２ポート弁(101) の２つのポート
(103)(104)のうち、アクチュエータで直接開閉される方
を第１ポート(103) とし、他方を第２ポート(104) とす
る。また、３ポート弁(102) の３つのポート(105)(106)
(107) のうち、アクチュエータで直接開閉される方を第
１ポート(105) とし、残る２つのポート(106)(107)のう
ち、図の左の方を第２ポート(106) 、同右の方を第３ポ
ート(107) とする。
【００３３】２型の遮断開放器(91)によると、アクチュ
エータが開の時、２ポート弁(101)の第１ポート(103)
から流入した流体は、第２ポート(104) から流出す
る。
エータが開の時、２ポート弁(101)の第１ポート(103)
から流入した流体は、第２ポート(104) から流出す
る。
【００３４】２−３型の遮断開放器(92)によると、３ポ
ート弁(102) のアクチュエータが開で２ポート弁(101)
のアクチュエータが閉の時、３ポート弁(102) の第１ポ
ート(105) から流入した流体は、３ポート弁(102) の
第２ポート(106) から流出する。他方、３ポート弁(10
2) のアクチュエータが閉で２ポート弁(101) のアクチ
ュエータが開の時、２ポート弁(101) の第１ポート(10
3) から流入した流体は、同第２ポート(104) および
継手部材内通路(108) を経て３ポート弁(102) の第３ポ
ート(107) に至り、この第３ポート(107) に常時連通し
ている第２ポート(106) から流出する。
ート弁(102) のアクチュエータが開で２ポート弁(101)
のアクチュエータが閉の時、３ポート弁(102) の第１ポ
ート(105) から流入した流体は、３ポート弁(102) の
第２ポート(106) から流出する。他方、３ポート弁(10
2) のアクチュエータが閉で２ポート弁(101) のアクチ
ュエータが開の時、２ポート弁(101) の第１ポート(10
3) から流入した流体は、同第２ポート(104) および
継手部材内通路(108) を経て３ポート弁(102) の第３ポ
ート(107) に至り、この第３ポート(107) に常時連通し
ている第２ポート(106) から流出する。
【００３５】２−３−３型の遮断開放器(93)によると、
左方の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の３
ポート弁(102) および２ポート弁(101) のアクチュエー
タがいずれも閉の時、左方の３ポート弁(102) の第２ポ
ート(106) から流入した流体は、３ポート弁(102) の
第１ポート(105) から流出する。他方、左方の３ポート
弁(102) のアクチュエータが閉、他の３ポート弁(102)
のアクチュエータが開、２ポート弁(101) のアクチュエ
ータが閉の時、左方の３ポート弁(102) の第２ポート(1
06) から流入した流体は、この第２ポート(106) に常
時連通している左方の３ポート弁(102) の第３ポート(1
07) に至り、継手部材内通路(108) および他の３ポート
弁(102) の第２ポート(106) を経て、この３ポート弁(1
02) の第１ポート(105) から流出する。さらに、２つの
３ポート弁(102)(102)のアクチュエータがいずれも閉で
２ポート弁(101) のアクチュエータが開の時、２ポート
弁(101) の第１ポート(103) から吸引すると、左方の３
ポート弁(102) の第２ポート(106) から、同第３ポート
(107) 、継手部材内通路(108) 、他の３ポート弁(102)
の第２ポート(106) 、同第３ポート(107) および２ポー
ト弁(101) の第２ポート(104) を経て、２ポート弁(10
1) の第１ポート(103) に至る通路中にある流体およ
び／または流体が吸引される。
左方の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の３
ポート弁(102) および２ポート弁(101) のアクチュエー
タがいずれも閉の時、左方の３ポート弁(102) の第２ポ
ート(106) から流入した流体は、３ポート弁(102) の
第１ポート(105) から流出する。他方、左方の３ポート
弁(102) のアクチュエータが閉、他の３ポート弁(102)
のアクチュエータが開、２ポート弁(101) のアクチュエ
ータが閉の時、左方の３ポート弁(102) の第２ポート(1
06) から流入した流体は、この第２ポート(106) に常
時連通している左方の３ポート弁(102) の第３ポート(1
07) に至り、継手部材内通路(108) および他の３ポート
弁(102) の第２ポート(106) を経て、この３ポート弁(1
02) の第１ポート(105) から流出する。さらに、２つの
３ポート弁(102)(102)のアクチュエータがいずれも閉で
２ポート弁(101) のアクチュエータが開の時、２ポート
弁(101) の第１ポート(103) から吸引すると、左方の３
ポート弁(102) の第２ポート(106) から、同第３ポート
(107) 、継手部材内通路(108) 、他の３ポート弁(102)
の第２ポート(106) 、同第３ポート(107) および２ポー
ト弁(101) の第２ポート(104) を経て、２ポート弁(10
1) の第１ポート(103) に至る通路中にある流体およ
び／または流体が吸引される。
【００３６】３−３型の遮断開放器(94)によると、左方
の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の３ポー
ト弁(102) のアクチュエータが閉の時、左方の３ポート
弁(102) の第１ポート(105) から流入した流体は、同
第２ポート(106) から流出する。そして、他の３ポート
弁(102) の第３ポート(107) の出口側が開の状態のとき
は、この流体は、左方の３ポート弁(102) の第３ポー
ト(107) および他の３ポート弁(102) の第２ポート(10
6) を経て、同第３ポート(107) から流出することがで
きる。他方、左方の３ポート弁(102) のアクチュエータ
が閉で他の３ポート弁(102) のアクチュエータが開の
時、他の３ポート弁(102) の第１ポート(105) から流入
した流体は、同第２ポート(106) から、継手部材内通
路(108) 、左方の３ポート弁(102) の第３ポート(107)
および第２ポート(106) を経て流出する。そして、他の
３ポート弁(102) の第３ポート(107) の出口側が開の状
態のときは、流体は、この第３ポート(107) から流出
することができる。
の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の３ポー
ト弁(102) のアクチュエータが閉の時、左方の３ポート
弁(102) の第１ポート(105) から流入した流体は、同
第２ポート(106) から流出する。そして、他の３ポート
弁(102) の第３ポート(107) の出口側が開の状態のとき
は、この流体は、左方の３ポート弁(102) の第３ポー
ト(107) および他の３ポート弁(102) の第２ポート(10
6) を経て、同第３ポート(107) から流出することがで
きる。他方、左方の３ポート弁(102) のアクチュエータ
が閉で他の３ポート弁(102) のアクチュエータが開の
時、他の３ポート弁(102) の第１ポート(105) から流入
した流体は、同第２ポート(106) から、継手部材内通
路(108) 、左方の３ポート弁(102) の第３ポート(107)
および第２ポート(106) を経て流出する。そして、他の
３ポート弁(102) の第３ポート(107) の出口側が開の状
態のときは、流体は、この第３ポート(107) から流出
することができる。
【００３７】３−３−３型遮断開放器(95)によると、左
端の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の２つ
の３ポート弁(102) のアクチュエータがいずれも閉の
時、左方の３ポート弁(102) の第２ポート(106) から流
入した流体は、同第１ポート(105) から流出する。他
方、左端の３ポート弁(102) のアクチュエータが閉、中
央の３ポート弁(102) のアクチュエータが開、右端の３
ポート弁(102) のアクチュエータが閉の時、左端の３ポ
ート弁(102) の第２ポート(106) から流入した流体
は、左端の３ポート弁(102) の第３ポート(107) に至
り、さらに、継手部材内通路(108) および中央の３ポー
ト弁(102) の第２ポート(106) を経て、この３ポート弁
(102) の第１ポート(105) から流出する。また、左端お
よび中央の３ポート弁(102)(102)のアクチュエータがい
ずれも閉で右端の３ポート弁(102) のアクチュエータが
開の時、右端の３ポート弁(102) の第１ポート(105) か
ら吸引すると、左端の３ポート弁(102) の第２ポート(1
06) から、同第３ポート(107) 、中央の３ポート弁(10
2) の第２ポート(106) 、同第３ポート(107) および右
端の３ポート弁(102) の第２ポート(106) を経て、右端
の３ポート弁(102) の第１ポート(105) に至る通路中に
ある流体および／または流体が吸引される。そし
て、右端の３ポート弁(102) の第３ポート(107) から
は、さらに他の流体を流入させ、これをいずれかの３
ポート弁(102) の第１ポート(105) から流出させること
ができる。
端の３ポート弁(102) のアクチュエータが開で他の２つ
の３ポート弁(102) のアクチュエータがいずれも閉の
時、左方の３ポート弁(102) の第２ポート(106) から流
入した流体は、同第１ポート(105) から流出する。他
方、左端の３ポート弁(102) のアクチュエータが閉、中
央の３ポート弁(102) のアクチュエータが開、右端の３
ポート弁(102) のアクチュエータが閉の時、左端の３ポ
ート弁(102) の第２ポート(106) から流入した流体
は、左端の３ポート弁(102) の第３ポート(107) に至
り、さらに、継手部材内通路(108) および中央の３ポー
ト弁(102) の第２ポート(106) を経て、この３ポート弁
(102) の第１ポート(105) から流出する。また、左端お
よび中央の３ポート弁(102)(102)のアクチュエータがい
ずれも閉で右端の３ポート弁(102) のアクチュエータが
開の時、右端の３ポート弁(102) の第１ポート(105) か
ら吸引すると、左端の３ポート弁(102) の第２ポート(1
06) から、同第３ポート(107) 、中央の３ポート弁(10
2) の第２ポート(106) 、同第３ポート(107) および右
端の３ポート弁(102) の第２ポート(106) を経て、右端
の３ポート弁(102) の第１ポート(105) に至る通路中に
ある流体および／または流体が吸引される。そし
て、右端の３ポート弁(102) の第３ポート(107) から
は、さらに他の流体を流入させ、これをいずれかの３
ポート弁(102) の第１ポート(105) から流出させること
ができる。
【００３８】なお、図１に示した流体制御装置は、第１
ライン(85)が、フィルター(83)、流体制御器(3) および
２型の遮断開放器(91)からなり、第２ライン(96)が、フ
ィルター(83)、逆止弁(84)、２−３−３型の遮断開放器
(93)、流体制御器(3) および３−３−３型の遮断開放器
(95)からなり、第３ライン(87)が、フィルター(83)、逆
止弁(84)、２−３型の遮断開放器(92)、流体制御器(3)
および２−３型の遮断開放器(92)からなっている。
ライン(85)が、フィルター(83)、流体制御器(3) および
２型の遮断開放器(91)からなり、第２ライン(96)が、フ
ィルター(83)、逆止弁(84)、２−３−３型の遮断開放器
(93)、流体制御器(3) および３−３−３型の遮断開放器
(95)からなり、第３ライン(87)が、フィルター(83)、逆
止弁(84)、２−３型の遮断開放器(92)、流体制御器(3)
および２−３型の遮断開放器(92)からなっている。
【００３９】次に、図２の中央に示したライン(98)を流
体制御装置に具体的に適用する場合の構成について、特
に弁同士を接続するための継手部材の構成について、図
４から図６までを参照して説明する。同図において、マ
スフローコントローラの入口側（左方）の遮断開放器
(1) は、図２および図３において(92)で示す２−３型の
遮断開放器とされ、同出口側（右方）の遮断開放器(2)
は、図２および図３において(93)で示す２−３−３型の
遮断開放器とされている。
体制御装置に具体的に適用する場合の構成について、特
に弁同士を接続するための継手部材の構成について、図
４から図６までを参照して説明する。同図において、マ
スフローコントローラの入口側（左方）の遮断開放器
(1) は、図２および図３において(92)で示す２−３型の
遮断開放器とされ、同出口側（右方）の遮断開放器(2)
は、図２および図３において(93)で示す２−３−３型の
遮断開放器とされている。
【００４０】入口側の遮断開放器(1) は、左方に配置さ
れた第１開閉弁(6) および右方に配置された第２開閉弁
(7) と、第１開閉弁(6) および第２開閉弁(7) が取り付
けられている第１弁取付基部(28)とを備えている。第１
開閉弁(6) は、図２および図３において(101) で示す２
ポート弁であり、第２開閉弁(7) は、図２および図３に
おいて(102) で示す３ポート弁である。第１弁取付基部
(28)は、後述するように複数の継手部材(30)(31)(32)(3
3)により形成されている。入口側の遮断開放器(1) の左
方には、第１逆止弁(5) が設けられている。
れた第１開閉弁(6) および右方に配置された第２開閉弁
(7) と、第１開閉弁(6) および第２開閉弁(7) が取り付
けられている第１弁取付基部(28)とを備えている。第１
開閉弁(6) は、図２および図３において(101) で示す２
ポート弁であり、第２開閉弁(7) は、図２および図３に
おいて(102) で示す３ポート弁である。第１弁取付基部
(28)は、後述するように複数の継手部材(30)(31)(32)(3
3)により形成されている。入口側の遮断開放器(1) の左
方には、第１逆止弁(5) が設けられている。
【００４１】また、出口側の遮断開放器(2) は、左方に
配置された第３開閉弁(8) 、中間に配置された第４開閉
弁(9) および右方に配置された第５開閉弁(10)と、第３
開閉弁(8) 、第４開閉弁(9) および第５開閉弁(10)が取
り付けられている第２弁取付基部(29)とを備えている。
第３開閉弁(8) および第４開閉弁(9) は、図２および図
３において(102) で示す３ポート弁であり、第５開閉弁
(10)は、図２および図３において(101) で示す２ポート
弁である。第２弁取付基部(29)は、後述するように複数
の継手部材(34)(35)(36)(37)(38)(39)により形成されて
いる。出口側の遮断開放器(2) の右方には、第２逆止弁
(11)が設けられている。
配置された第３開閉弁(8) 、中間に配置された第４開閉
弁(9) および右方に配置された第５開閉弁(10)と、第３
開閉弁(8) 、第４開閉弁(9) および第５開閉弁(10)が取
り付けられている第２弁取付基部(29)とを備えている。
第３開閉弁(8) および第４開閉弁(9) は、図２および図
３において(102) で示す３ポート弁であり、第５開閉弁
(10)は、図２および図３において(101) で示す２ポート
弁である。第２弁取付基部(29)は、後述するように複数
の継手部材(34)(35)(36)(37)(38)(39)により形成されて
いる。出口側の遮断開放器(2) の右方には、第２逆止弁
(11)が設けられている。
【００４２】各開閉弁(6)(7)(8)(9)(10)は、それぞれ、
弁本体(12)(14)(16)(18)(20)およびこれに上方から取り
付けられて弁本体(12)(14)(16)(18)(20)内の流路を適宜
遮断開放するアクチュエータ(13)(15)(17)(19)(21)より
なる。各開閉弁(6)(7)(8)(9)(10)の弁本体(12)(14)(16)
(18)(20)の下端部には、上から見て方形のフランジ部(1
2a)(14a)(16a)(18a)(20a) が設けられており、このフラ
ンジ部(12a)(14a)(16a)(18a)(20a) が上方からねじ込ま
れたねじにより弁取付基部(28)(29)に結合されている。
弁本体(12)(14)(16)(18)(20)およびこれに上方から取り
付けられて弁本体(12)(14)(16)(18)(20)内の流路を適宜
遮断開放するアクチュエータ(13)(15)(17)(19)(21)より
なる。各開閉弁(6)(7)(8)(9)(10)の弁本体(12)(14)(16)
(18)(20)の下端部には、上から見て方形のフランジ部(1
2a)(14a)(16a)(18a)(20a) が設けられており、このフラ
ンジ部(12a)(14a)(16a)(18a)(20a) が上方からねじ込ま
れたねじにより弁取付基部(28)(29)に結合されている。
【００４３】各逆止弁(5)(11) は、それぞれ、下面に入
口が設けられた左側弁本体(22)(25)と、左側弁本体(22)
(25)とねじで接続された中央弁本体(23)(26)と、中央弁
本体(23)(26)とねじで接続されかつ下面に出口が設けら
れた右側弁本体(24)(27)とを備えている。
口が設けられた左側弁本体(22)(25)と、左側弁本体(22)
(25)とねじで接続された中央弁本体(23)(26)と、中央弁
本体(23)(26)とねじで接続されかつ下面に出口が設けら
れた右側弁本体(24)(27)とを備えている。
【００４４】マスフローコントローラ(3) の下端部左面
には、下面に入口が設けられた直方体状左方張出部(49)
が設けられ、同右面には、下面に出口が設けられた直方
体状右方張出部(50)が設けられている。
には、下面に入口が設けられた直方体状左方張出部(49)
が設けられ、同右面には、下面に出口が設けられた直方
体状右方張出部(50)が設けられている。
【００４５】図６に拡大して示すように、第１開閉弁
(6) の弁本体(12)には、弁本体(12)の下面のほぼ中央に
位置する入口(62)と、同右寄りに位置する出口(63)とが
設けられており、弁本体(12)内に、入口(62)から弁室(6
6)に通じている流入通路(64)と、出口(63)から弁室(66)
に通じている流出通路(65)とが形成されている。弁アク
チュエータ(13)は、ダイヤフラムの弁体(67)を作動させ
るもので、弁アクチュエータ(13)の操作により、流入通
路(64)が弁体(67)により遮断開放されるようになされて
いる。
(6) の弁本体(12)には、弁本体(12)の下面のほぼ中央に
位置する入口(62)と、同右寄りに位置する出口(63)とが
設けられており、弁本体(12)内に、入口(62)から弁室(6
6)に通じている流入通路(64)と、出口(63)から弁室(66)
に通じている流出通路(65)とが形成されている。弁アク
チュエータ(13)は、ダイヤフラムの弁体(67)を作動させ
るもので、弁アクチュエータ(13)の操作により、流入通
路(64)が弁体(67)により遮断開放されるようになされて
いる。
【００４６】また、第２開閉弁(7) の弁本体(14)には、
弁本体(14)の下面の左寄りに位置する入口(68)と、同左
寄りに位置する出口(69)と、同ほぼ中央に位置しており
他の流体の入口または出口とされる副出入口(70)とが設
けられており、弁本体(14)内に、入口(68)から弁室(74)
に通じている流入通路(71)と、副出入口(70)から弁室(7
4)に通じている副通路(73)と、出口(69)から弁室(74)に
通じている流出通路(72)とが形成されている。弁アクチ
ュエータ(15)は、ダイヤフラムの弁体(75)を作動させる
もので、弁アクチュエータ(15)の操作により、副通路(7
3)が弁体(75)により遮断開放されるようになされてい
る。一方、入口(68)に通じる流入通路(71)と出口(69)に
通じる流出通路(72)とは、弁室(74)を介して常時連通す
るようになされている。
弁本体(14)の下面の左寄りに位置する入口(68)と、同左
寄りに位置する出口(69)と、同ほぼ中央に位置しており
他の流体の入口または出口とされる副出入口(70)とが設
けられており、弁本体(14)内に、入口(68)から弁室(74)
に通じている流入通路(71)と、副出入口(70)から弁室(7
4)に通じている副通路(73)と、出口(69)から弁室(74)に
通じている流出通路(72)とが形成されている。弁アクチ
ュエータ(15)は、ダイヤフラムの弁体(75)を作動させる
もので、弁アクチュエータ(15)の操作により、副通路(7
3)が弁体(75)により遮断開放されるようになされてい
る。一方、入口(68)に通じる流入通路(71)と出口(69)に
通じる流出通路(72)とは、弁室(74)を介して常時連通す
るようになされている。
【００４７】マスフローコントローラ(3) の左方にある
各弁本体(22)(23)(24)(12)(14)の下面およびマスフロー
コントローラ(3) の左方張出部(49)の下面は、すべて面
一となされており、マスフローコントローラ(3) の右方
張出部(50)およびマスフローコントローラ(3) の右方に
ある各弁本体(16)(18)(20)(25)(26)(27)の下面も、すべ
て面一となされている。
各弁本体(22)(23)(24)(12)(14)の下面およびマスフロー
コントローラ(3) の左方張出部(49)の下面は、すべて面
一となされており、マスフローコントローラ(3) の右方
張出部(50)およびマスフローコントローラ(3) の右方に
ある各弁本体(16)(18)(20)(25)(26)(27)の下面も、すべ
て面一となされている。
【００４８】第１逆止弁(5) の左側弁本体(22)の入口に
は、直方体状継手保持部材(40)に保持された継手部(41)
が設けられている。この継手部(41)は、パージガス導入
通路に接続されている。
は、直方体状継手保持部材(40)に保持された継手部(41)
が設けられている。この継手部(41)は、パージガス導入
通路に接続されている。
【００４９】第１逆止弁(5) の右側弁本体(24)の出口お
よび第１開閉弁(6) の弁本体(12)の入口には、それぞれ
直方体状継手保持部材(42)(44)に保持された継手部(43)
(45)が設けられている。継手部(43)(45)同士は短筒状突
出部(46)を介して接続されている。これらの継手保持部
材(42)(44)、継手部(43)(45)および短筒状突出部(46)に
よって、入口側の遮断開放器(1) に流体を導入する通路
を有する第１流入路形成部材(30)が形成されている。
よび第１開閉弁(6) の弁本体(12)の入口には、それぞれ
直方体状継手保持部材(42)(44)に保持された継手部(43)
(45)が設けられている。継手部(43)(45)同士は短筒状突
出部(46)を介して接続されている。これらの継手保持部
材(42)(44)、継手部(43)(45)および短筒状突出部(46)に
よって、入口側の遮断開放器(1) に流体を導入する通路
を有する第１流入路形成部材(30)が形成されている。
【００５０】第１開閉弁(6) の弁本体(12)の右寄り部分
下面と第２開閉弁(7) の弁本体(14)の左寄り部分下面と
にまたがって、第１開閉弁(6) の出口と第２開閉弁(7)
の入口とを連通するＶ字状通路(31a) を有する直方体状
第１連通路形成部材(31)が設けられている。
下面と第２開閉弁(7) の弁本体(14)の左寄り部分下面と
にまたがって、第１開閉弁(6) の出口と第２開閉弁(7)
の入口とを連通するＶ字状通路(31a) を有する直方体状
第１連通路形成部材(31)が設けられている。
【００５１】第２開閉弁(7) の弁本体(14)の副出入口に
は、直方体状継手保持部材(47)に保持された継手部(48)
が設けられている。この継手部(48)は、プロセスガス導
入通路に接続されている。これらの継手保持部材(47)お
よび継手部(48)によって、第２開閉弁(7) の副出入口に
通じる通路を有する第１副通路形成部材(32)が形成され
ている。
は、直方体状継手保持部材(47)に保持された継手部(48)
が設けられている。この継手部(48)は、プロセスガス導
入通路に接続されている。これらの継手保持部材(47)お
よび継手部(48)によって、第２開閉弁(7) の副出入口に
通じる通路を有する第１副通路形成部材(32)が形成され
ている。
【００５２】第２開閉弁(7) の弁本体(14)の右寄り部分
下面とマスフローコントローラ(3)の左方張出部(49)下
面とにまたがって、第２開閉弁(7) の出口から流体を排
出してマスフローコントローラ(3) に送り込むＶ字状通
路(33a) を有する直方体状第１流出路形成部材(33)が設
けられている。
下面とマスフローコントローラ(3)の左方張出部(49)下
面とにまたがって、第２開閉弁(7) の出口から流体を排
出してマスフローコントローラ(3) に送り込むＶ字状通
路(33a) を有する直方体状第１流出路形成部材(33)が設
けられている。
【００５３】マスフローコントローラ(3) の左方にある
第１流入路形成部材(30)、第１連通路形成部材(31)、第
１副通路形成部材(32)および第１流出路形成部材(33)に
より、入口側の遮断開放器(1) の第１弁取付基部(28)が
形成されている。したがって、入口側の遮断開放器(1)
には、逆止弁(5) を経て導入されたパージガスが、第１
流入路形成部材(30)、第１開閉弁(6) の弁本体(12)、第
１連通路形成部材(31)、第２開閉弁(7) の弁本体(14)お
よび第１流出路形成部材(33)を通って排出されるパージ
ガス用通路と、第１副通路形成部材(32)の下面より導入
されたプロセスガスが、第１副通路形成部材(32)、第２
開閉弁(7) の弁本体(14)および第１流出路形成部材(33)
を通って排出されるプロセスガス用通路とが形成されて
いる。
第１流入路形成部材(30)、第１連通路形成部材(31)、第
１副通路形成部材(32)および第１流出路形成部材(33)に
より、入口側の遮断開放器(1) の第１弁取付基部(28)が
形成されている。したがって、入口側の遮断開放器(1)
には、逆止弁(5) を経て導入されたパージガスが、第１
流入路形成部材(30)、第１開閉弁(6) の弁本体(12)、第
１連通路形成部材(31)、第２開閉弁(7) の弁本体(14)お
よび第１流出路形成部材(33)を通って排出されるパージ
ガス用通路と、第１副通路形成部材(32)の下面より導入
されたプロセスガスが、第１副通路形成部材(32)、第２
開閉弁(7) の弁本体(14)および第１流出路形成部材(33)
を通って排出されるプロセスガス用通路とが形成されて
いる。
【００５４】マスフローコントローラ(3) の右方張出部
(50)下面と第３開閉弁(8) の弁本体(16)の左寄り部分下
面とにまたがって、マスフローコントローラ(3) から排
出された流体を出口側の遮断開放器(2) に導入するＶ字
状通路(34a) を有する直方体状第２流入路形成部材(34)
が設けられている。
(50)下面と第３開閉弁(8) の弁本体(16)の左寄り部分下
面とにまたがって、マスフローコントローラ(3) から排
出された流体を出口側の遮断開放器(2) に導入するＶ字
状通路(34a) を有する直方体状第２流入路形成部材(34)
が設けられている。
【００５５】第３開閉弁(8) の弁本体(16)の副出入口に
は、直方体状継手保持部材(51)に保持された継手部(52)
が設けられている。この継手部(52)は、真空引き通路に
接続されている。これらの継手保持部材(51)および継手
部(52)によって、第３開閉弁(8) の副出入口に通じる通
路を有する第２副通路形成部材(35)が形成されている。
は、直方体状継手保持部材(51)に保持された継手部(52)
が設けられている。この継手部(52)は、真空引き通路に
接続されている。これらの継手保持部材(51)および継手
部(52)によって、第３開閉弁(8) の副出入口に通じる通
路を有する第２副通路形成部材(35)が形成されている。
【００５６】第３開閉弁(8) の弁本体(16)の右寄り部分
下面と第４開閉弁(9) の弁本体(18)の左寄り部分下面と
にまたがって、第３開閉弁(8) の出口と第４開閉弁(9)
の入口とを連通するＶ字状通路(36a) を有する直方体状
第２連通路形成部材(36)が設けられている。
下面と第４開閉弁(9) の弁本体(18)の左寄り部分下面と
にまたがって、第３開閉弁(8) の出口と第４開閉弁(9)
の入口とを連通するＶ字状通路(36a) を有する直方体状
第２連通路形成部材(36)が設けられている。
【００５７】第４開閉弁(9) の弁本体(18)の副出入口に
は、直方体状継手保持部材(53)に保持された継手部(54)
が設けられている。この継手部(54)は、プロセスガス送
り込み通路に接続されている。これらの継手保持部材(5
3)および継手部(54)によって、第４開閉弁(9) の副出入
口に通じる通路を有する第３副通路形成部材(37)が形成
されている。
は、直方体状継手保持部材(53)に保持された継手部(54)
が設けられている。この継手部(54)は、プロセスガス送
り込み通路に接続されている。これらの継手保持部材(5
3)および継手部(54)によって、第４開閉弁(9) の副出入
口に通じる通路を有する第３副通路形成部材(37)が形成
されている。
【００５８】第４開閉弁(9) の弁本体(18)の出口および
第５開閉弁(10)の弁本体(20)の入口には、それぞれ直方
体状継手保持部材(55)(57)に保持された継手部(56)(58)
が設けられている。継手部(56)(58)同士は短筒状突出部
(59)を介して接続されている。これらの継手保持部材(5
5)(57)、継手部(56)(58)および短筒状突出部(59)によっ
て、第４開閉弁(9) の出口と第５開閉弁(10)の入口とを
連通する第３連通路形成部材(38)が形成されている。
第５開閉弁(10)の弁本体(20)の入口には、それぞれ直方
体状継手保持部材(55)(57)に保持された継手部(56)(58)
が設けられている。継手部(56)(58)同士は短筒状突出部
(59)を介して接続されている。これらの継手保持部材(5
5)(57)、継手部(56)(58)および短筒状突出部(59)によっ
て、第４開閉弁(9) の出口と第５開閉弁(10)の入口とを
連通する第３連通路形成部材(38)が形成されている。
【００５９】第５開閉弁(10)の弁本体(20)の右寄り部分
下面と第２逆止弁(11)の左側弁本体(25)の下面とにまた
がって、第５開閉弁(10)の出口と第２逆止弁(11)の入口
とを連通するＶ字状通路(39a) を有する直方体状第２流
出路形成部材(39)が形成されている。
下面と第２逆止弁(11)の左側弁本体(25)の下面とにまた
がって、第５開閉弁(10)の出口と第２逆止弁(11)の入口
とを連通するＶ字状通路(39a) を有する直方体状第２流
出路形成部材(39)が形成されている。
【００６０】マスフローコントローラ(3) の右方にある
第２流入路形成部材(34)、第２副通路形成部材(35)、第
２連通路形成部材(36)、第３副通路形成部材(37)、第３
連通路形成部材(38)および第２流出路形成部材(39)によ
り、出口側の遮断開放器(2)の弁取付基部(29)が形成さ
れている。したがって、出口側の遮断開放器(2) には、
マスフローコントローラ(3) を経て導入されたパージガ
スが、第２流入路形成部材(34)、第２連通路形成部材(3
6)、第３連通路形成部材(38)および第２流出路形成部材
(39)を通って排出されるパージガス用通路と、マスフロ
ーコントローラ(3) を経て導入されたプロセスガスが、
第２流入路形成部材(34)、第２連通路形成部材(36)およ
び第３副通路形成部材(37)を通ってプロセスチャンバー
に送り込まれるプロセスガス通路と、これらの通路内の
ガスが第２副通路形成部材(35)から抜き出される真空引
き用通路とが形成されている。
第２流入路形成部材(34)、第２副通路形成部材(35)、第
２連通路形成部材(36)、第３副通路形成部材(37)、第３
連通路形成部材(38)および第２流出路形成部材(39)によ
り、出口側の遮断開放器(2)の弁取付基部(29)が形成さ
れている。したがって、出口側の遮断開放器(2) には、
マスフローコントローラ(3) を経て導入されたパージガ
スが、第２流入路形成部材(34)、第２連通路形成部材(3
6)、第３連通路形成部材(38)および第２流出路形成部材
(39)を通って排出されるパージガス用通路と、マスフロ
ーコントローラ(3) を経て導入されたプロセスガスが、
第２流入路形成部材(34)、第２連通路形成部材(36)およ
び第３副通路形成部材(37)を通ってプロセスチャンバー
に送り込まれるプロセスガス通路と、これらの通路内の
ガスが第２副通路形成部材(35)から抜き出される真空引
き用通路とが形成されている。
【００６１】第２逆止弁(11)の右側弁本体(27)の出口に
は、直方体状継手保持部材(60)に保持された継手部(61)
が設けられている。この継手部(61)は、パージガス排出
通路に接続されている。
は、直方体状継手保持部材(60)に保持された継手部(61)
が設けられている。この継手部(61)は、パージガス排出
通路に接続されている。
【００６２】第１逆止弁(5) の左側弁本体(22)と継手保
持部材(40)とは、左側弁本体(22)の上方からねじ込まれ
たねじにより接続され、同右側弁本体(24)と継手保持部
材(42)とは、右側弁本体(24)の上方からねじ込まれたね
じにより接続されている。したがって、これらのねじを
外すことにより、第１逆止弁(5) は上方に取り外すこと
ができる。第２逆止弁(11)も同様であり上方に取り外す
ことができる。
持部材(40)とは、左側弁本体(22)の上方からねじ込まれ
たねじにより接続され、同右側弁本体(24)と継手保持部
材(42)とは、右側弁本体(24)の上方からねじ込まれたね
じにより接続されている。したがって、これらのねじを
外すことにより、第１逆止弁(5) は上方に取り外すこと
ができる。第２逆止弁(11)も同様であり上方に取り外す
ことができる。
【００６３】なお、各弁本体(22)(23)(24)(12)(14)(16)
(18)(20)(25)(26)(27)とこれらに突き合わされている各
部材(41)(30)(31)(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)(39)(6
1)との間には、図６に示すようなシール部(76)がそれぞ
れ設けられている。
(18)(20)(25)(26)(27)とこれらに突き合わされている各
部材(41)(30)(31)(32)(33)(34)(35)(36)(37)(38)(39)(6
1)との間には、図６に示すようなシール部(76)がそれぞ
れ設けられている。
【００６４】この流体制御装置(4) によると、第１開閉
弁(6) を閉、第２開閉弁(7) を開、第３開閉弁(8) を
閉、第４開閉弁(9) を開、第５開閉弁(10)を閉として、
入口側の遮断開放器(1) の第１副通路形成部材(32)にプ
ロセスガスを導入すると、プロセスガスは、第２開閉弁
(7) の弁本体(14)および第１流出路形成部材(33)を通っ
てマスフローコントローラ(3) に至り、ここでその流量
を調整されて、出口側の遮断開放器(2) に導入される。
そして、第２流入路形成部材(34)、第３開閉弁(8) の弁
本体(16)、第２連通路形成部材(36)、第４開閉弁(9) の
弁本体(18)および第３副通路形成部材(37)を通ってプロ
セスチャンバーに送り込まれる。この後、第１開閉弁
(6) を開、第２開閉弁(7) を閉、第３開閉弁(8) を閉、
第４開閉弁(9) を閉、第５開閉弁(10)を開として、第１
逆止弁(5) からパージガスを導入すると、パージガス
は、第１流入路形成部材(30)、第１開閉弁(6) の弁本体
(12)、第１連通路形成部材(31)、第２開閉弁(7) の弁本
体(14)および第１流出路形成部材(33)を通ってマスフロ
ーコントローラ(3) に至り、さらに、第２流入路形成部
材(34)、第３開閉弁(8) の弁本体(16)、第２連通路形成
部材(36)、第４開閉弁(9)の弁本体(18)、第３連通路形
成部材(38)、第５開閉弁(10)の弁本体(20)、第２流出路
形成部材(39)および第２逆止弁(11)を流れて排出され
る。このとき、パージガスは、自身の圧力によって第２
開閉弁(7) の弁本体(14)、第１流出路形成部材(33)、第
２流入路形成部材(34)および第２連通路形成部材(36)に
残っているプロセスガスを追い出し、これにより、短時
間でパージガスだけが流れるようになる。この流体制御
装置において、パージガスの通路とプロセスガスの通路
とは、逆にしてもよい。この場合は、プロセスガスを流
したとき、これがパージガスに素早く置き換わることに
なる。
弁(6) を閉、第２開閉弁(7) を開、第３開閉弁(8) を
閉、第４開閉弁(9) を開、第５開閉弁(10)を閉として、
入口側の遮断開放器(1) の第１副通路形成部材(32)にプ
ロセスガスを導入すると、プロセスガスは、第２開閉弁
(7) の弁本体(14)および第１流出路形成部材(33)を通っ
てマスフローコントローラ(3) に至り、ここでその流量
を調整されて、出口側の遮断開放器(2) に導入される。
そして、第２流入路形成部材(34)、第３開閉弁(8) の弁
本体(16)、第２連通路形成部材(36)、第４開閉弁(9) の
弁本体(18)および第３副通路形成部材(37)を通ってプロ
セスチャンバーに送り込まれる。この後、第１開閉弁
(6) を開、第２開閉弁(7) を閉、第３開閉弁(8) を閉、
第４開閉弁(9) を閉、第５開閉弁(10)を開として、第１
逆止弁(5) からパージガスを導入すると、パージガス
は、第１流入路形成部材(30)、第１開閉弁(6) の弁本体
(12)、第１連通路形成部材(31)、第２開閉弁(7) の弁本
体(14)および第１流出路形成部材(33)を通ってマスフロ
ーコントローラ(3) に至り、さらに、第２流入路形成部
材(34)、第３開閉弁(8) の弁本体(16)、第２連通路形成
部材(36)、第４開閉弁(9)の弁本体(18)、第３連通路形
成部材(38)、第５開閉弁(10)の弁本体(20)、第２流出路
形成部材(39)および第２逆止弁(11)を流れて排出され
る。このとき、パージガスは、自身の圧力によって第２
開閉弁(7) の弁本体(14)、第１流出路形成部材(33)、第
２流入路形成部材(34)および第２連通路形成部材(36)に
残っているプロセスガスを追い出し、これにより、短時
間でパージガスだけが流れるようになる。この流体制御
装置において、パージガスの通路とプロセスガスの通路
とは、逆にしてもよい。この場合は、プロセスガスを流
したとき、これがパージガスに素早く置き換わることに
なる。
【００６５】上記の入口側および出口側の遮断開放器
(1)(2)において、第１流入路形成部材(30)および第３連
通路形成部材(38)が共通の部材とされ、また、第１連通
路形成部材(31)、第１流出路形成部材(33)、第２流入路
形成部材(34)、第２連通路形成部材(36)および第２流出
路形成部材(39)が共通の部材とされ、各副通路形成部材
(32)(35)(37)も共通の部材とされている。すなわち、入
口側の遮断開放器(1) に３ポートの開閉弁を１つ付加す
るとともに、その弁取付基部(28)に、第１連通路形成部
材(31)および第１副通路形成部材(32)と同じものを付加
するだけで、出口側の遮断開放器(2) が得られている。
ここで、付加する開閉弁が２ポートのものであるとき
は、出口側の遮断開放器(2) の第４開閉弁(9) を２ポー
トの弁に置き換えるとともに、その取付基部(29)から第
３副通路形成部材(37)を除去すればよい。また、これに
伴って、弁同士の間隔が広くなる場合は、第３連通路形
成部材(38)を形成する短筒状突出部(59)の長さだけを変
更することによって対応できる。
(1)(2)において、第１流入路形成部材(30)および第３連
通路形成部材(38)が共通の部材とされ、また、第１連通
路形成部材(31)、第１流出路形成部材(33)、第２流入路
形成部材(34)、第２連通路形成部材(36)および第２流出
路形成部材(39)が共通の部材とされ、各副通路形成部材
(32)(35)(37)も共通の部材とされている。すなわち、入
口側の遮断開放器(1) に３ポートの開閉弁を１つ付加す
るとともに、その弁取付基部(28)に、第１連通路形成部
材(31)および第１副通路形成部材(32)と同じものを付加
するだけで、出口側の遮断開放器(2) が得られている。
ここで、付加する開閉弁が２ポートのものであるとき
は、出口側の遮断開放器(2) の第４開閉弁(9) を２ポー
トの弁に置き換えるとともに、その取付基部(29)から第
３副通路形成部材(37)を除去すればよい。また、これに
伴って、弁同士の間隔が広くなる場合は、第３連通路形
成部材(38)を形成する短筒状突出部(59)の長さだけを変
更することによって対応できる。
【００６６】しかも、各通路形成部材(30)(31)(32)(33)
(34)(35)(36)(37)(38)(39)同士は、互いに直接に連通す
る通路を持っていないから、これらをシール部を介さな
いで結合することが可能であり、第１および第２弁取付
基部(28)(29)が複数の部材から構成されているにもかか
わらず、シール性を確保することができる。
(34)(35)(36)(37)(38)(39)同士は、互いに直接に連通す
る通路を持っていないから、これらをシール部を介さな
いで結合することが可能であり、第１および第２弁取付
基部(28)(29)が複数の部材から構成されているにもかか
わらず、シール性を確保することができる。
【００６７】なお、第１流入路形成部材(30)および第３
連通路形成部材(38)をＶ字状通路を有する直方体状部材
で形成してもよく、逆に、第１連通路形成部材(31)等を
２つの継手保持部材、２つの継手部および短筒状突出部
によって形成してもよい。上記の流体制御装置(4) は、
プロセスガスが通る第１流出路形成部材(33)、第２流入
路形成部材(34)および第２連通路形成部材(36)をＶ字状
通路(33a)(34a)(36a)を有する直方体状部材で形成する
ことにより、これらの部材(33)(34)(36)を両側からヒー
ターで挟んで加熱することができ、プロセスガスを加熱
しやすいという利点を有している。また、１つの継手部
材が、２つの継手保持部材、２つの継手部および短筒状
突出部によって形成されているものでは、ブロック状の
継手部材に比べて軽量化できるという利点を有してい
る。
連通路形成部材(38)をＶ字状通路を有する直方体状部材
で形成してもよく、逆に、第１連通路形成部材(31)等を
２つの継手保持部材、２つの継手部および短筒状突出部
によって形成してもよい。上記の流体制御装置(4) は、
プロセスガスが通る第１流出路形成部材(33)、第２流入
路形成部材(34)および第２連通路形成部材(36)をＶ字状
通路(33a)(34a)(36a)を有する直方体状部材で形成する
ことにより、これらの部材(33)(34)(36)を両側からヒー
ターで挟んで加熱することができ、プロセスガスを加熱
しやすいという利点を有している。また、１つの継手部
材が、２つの継手保持部材、２つの継手部および短筒状
突出部によって形成されているものでは、ブロック状の
継手部材に比べて軽量化できるという利点を有してい
る。
【００６８】詳細な図は省略したが、２型の遮断開放器
(91)は、入口側の遮断開放器(1) から第２開閉弁(7) を
取り除いた構成とされ、３−３型の遮断開放器(94)は、
出口側の遮断開放器(2) から第５開閉弁(11)を取り除い
た構成とされ、３−３−３型の遮断開放器(95)は、出口
側の遮断開放器(2) の第５開閉弁(11)を３ポート弁で置
き換えた構成とされる。そして、２型の遮断開放器(9
1)、３−３型の遮断開放器(92)、２−３−３型の遮断開
放器(93)、３−３型の遮断開放器(94)および３−３−３
型遮断開放器(95)のうちのいずれかの遮断開放器がマス
フローコントローラの左方および右方に設けられるとと
もに、これがさらに並列状に配置されて、半導体製造装
置用の種々の流体制御装置が構成される。
(91)は、入口側の遮断開放器(1) から第２開閉弁(7) を
取り除いた構成とされ、３−３型の遮断開放器(94)は、
出口側の遮断開放器(2) から第５開閉弁(11)を取り除い
た構成とされ、３−３−３型の遮断開放器(95)は、出口
側の遮断開放器(2) の第５開閉弁(11)を３ポート弁で置
き換えた構成とされる。そして、２型の遮断開放器(9
1)、３−３型の遮断開放器(92)、２−３−３型の遮断開
放器(93)、３−３型の遮断開放器(94)および３−３−３
型遮断開放器(95)のうちのいずれかの遮断開放器がマス
フローコントローラの左方および右方に設けられるとと
もに、これがさらに並列状に配置されて、半導体製造装
置用の種々の流体制御装置が構成される。
【００６９】上記の流体制御装置を構成するのに、継手
部材も極力標準化が図られており、継手部材としては、
図６に示した入口側の遮断開放器(1) に用いられた第１
流入路形成部材(30)、第１連通路形成部材(31)および第
１副通路形成部材(32)と全く同じ寸法の部材と、これら
の寸法を若干変更した部材とだけより構成される。
部材も極力標準化が図られており、継手部材としては、
図６に示した入口側の遮断開放器(1) に用いられた第１
流入路形成部材(30)、第１連通路形成部材(31)および第
１副通路形成部材(32)と全く同じ寸法の部材と、これら
の寸法を若干変更した部材とだけより構成される。
【００７０】なお、継手部材として、図４から図６まで
に示したもののほか、さらに、図７および図８に示した
ものを用いることにより、隣り合うライン同士の接続が
よりやりやすくなる。
に示したもののほか、さらに、図７および図８に示した
ものを用いることにより、隣り合うライン同士の接続が
よりやりやすくなる。
【００７１】図７に示す直方体状継手部材(141) は、上
面に３つの開口(142)(143)(144) を有し、かつ左端の開
口(142) と中央の開口(143) とを連通する第１Ｖ字状通
路(145) と、中央の開口(143) と右端の開口(144) とを
連通する第２Ｖ字状通路(146) とを有している。この継
手部材(141) によると、隣り合う２つのラインの入口ま
たは出口同士を連通して、さらに他のラインに接続する
ことができる。
面に３つの開口(142)(143)(144) を有し、かつ左端の開
口(142) と中央の開口(143) とを連通する第１Ｖ字状通
路(145) と、中央の開口(143) と右端の開口(144) とを
連通する第２Ｖ字状通路(146) とを有している。この継
手部材(141) によると、隣り合う２つのラインの入口ま
たは出口同士を連通して、さらに他のラインに接続する
ことができる。
【００７２】また、図８に示す継手部材(151) は、３つ
以上のポートを連通させる連通路形成用継手部材であ
る。この継手部材(151) は、同一形状の３つの継手保持
部材(152)(153)(154) と、第１の継手保持部材(152) に
保持されかつ上向き流路(158)および右向き流路(159)
を備えた第１継手(155) と、第２の継手保持部材(153)
に保持されかつ上向き流路(160) 、左向き流路(161) お
よび右向き流路(162) を備えた第２継手(156) と、第３
の継手保持部材(154) に保持されかつ上向き流路(163)
、左向き流路(164) および右向き流路(165) を備えた
第３継手(157) とよりなり、第１継手(155) の右向き流
路(159) と第２継手(156) の左向き流路(161) とが連通
され、第２継手(156) の右向き流路(162) と第３継手(1
57) の左向き流路(164) とが連通されており、第３継手
(157) の右向き流路(165) が他のラインに接続されるよ
うになされている。この継手部材(151) によると、隣り
合う３つのラインの入口または出口同士を連通して、他
のラインに接続することができる。
以上のポートを連通させる連通路形成用継手部材であ
る。この継手部材(151) は、同一形状の３つの継手保持
部材(152)(153)(154) と、第１の継手保持部材(152) に
保持されかつ上向き流路(158)および右向き流路(159)
を備えた第１継手(155) と、第２の継手保持部材(153)
に保持されかつ上向き流路(160) 、左向き流路(161) お
よび右向き流路(162) を備えた第２継手(156) と、第３
の継手保持部材(154) に保持されかつ上向き流路(163)
、左向き流路(164) および右向き流路(165) を備えた
第３継手(157) とよりなり、第１継手(155) の右向き流
路(159) と第２継手(156) の左向き流路(161) とが連通
され、第２継手(156) の右向き流路(162) と第３継手(1
57) の左向き流路(164) とが連通されており、第３継手
(157) の右向き流路(165) が他のラインに接続されるよ
うになされている。この継手部材(151) によると、隣り
合う３つのラインの入口または出口同士を連通して、他
のラインに接続することができる。
【図１】この発明による流体制御装置の一具体例を示す
平面図である。
平面図である。
【図２】この発明による流体制御装置を構成する５種類
のラインを示すフロー図である。
のラインを示すフロー図である。
【図３】図２の５種類のラインで使用される遮断開放器
のすべての種類を示す図である。
のすべての種類を示す図である。
【図４】この発明による流体制御装置の１つのラインの
一例を示す正面図である。
一例を示す正面図である。
【図５】同分解斜視図であり、一部はその断面を示して
いる。
いる。
【図６】同流体制御装置の拡大斜視図であり、一部はそ
の断面を示している。
の断面を示している。
【図７】この発明による流体制御装置で使用される継手
部材の変形例を示す斜視図である。
部材の変形例を示す斜視図である。
【図８】この発明による流体制御装置で使用される継手
部材の他の変形例を示す斜視図である。
部材の他の変形例を示す斜視図である。
【図９】図１に示した流体制御装置に対応する従来の流
体制御装置を示す平面図である。
体制御装置を示す平面図である。
【図１０】流体制御装置を構成する５種類のラインを示
すフロー図である。
すフロー図である。
(3) 流体制御器 (91) ２型の遮断開放器 (92) ２−３型の遮断開放器 (93) ２−３−３型の遮断開放器 (94) ３−３型の遮断開放器 (95) ３−３−３型遮断開放器 (101) ２ポート弁 (101a) 弁本体 (102) ３ポート弁 (103) 入口 (104) 出口 (105) 副出入口 (106) 出口 (107) 入口 (108) 継手部材内通路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 唐士 裕司 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 山路 道雄 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 田中 林明 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 平尾 圭志 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 川野 裕司 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 廣瀬 隆 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 横山 光祐 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 倉持 道生 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 波多野 雅之 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 池田 信一 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の流体制御器と、各流体制御器の入
口側および出口側にそれぞれ配置された複数の遮断開放
器とを備え、各遮断開放器が、隣り合う弁同士がチュー
ブを介さずに接続された複数の弁または１つの弁よりな
り、 各遮断開放器は、１つの２ポート弁を備えた２型の遮断
開放器と、１つの２ポート弁および１つの３ポート弁を
備えた２−３型の遮断開放器と、１つの２ポート弁およ
び２つの３ポート弁を備えた２−３−３型の遮断開放器
と、２つの３ポート弁を備えた３−３型の遮断開放器
と、３つの３ポート弁を備えた３−３−３型の遮断開放
器の５種類のうちのいずれかとされており、 すべての型の遮断開放器の２ポート弁の弁本体が、入口
および出口が下面に設けられた同一形状のものとされ、
すべての型の遮断開放器の３ポート弁の弁本体が、常時
連通している入口および出口に加えてさらに副出入口が
下面に設けられた同一形状のものとされていることを特
徴とする流体制御装置。
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|---|---|
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| SG (1) | SG77161A1 (ja) |
| TW (1) | TW372328B (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002089798A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ulvac Japan Ltd | 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置 |
| JP2003021262A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Fujikin Inc | 流体制御装置 |
| JP2005539375A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-22 | セレリティ・インコーポレイテッド | 共通の平面にマニホルド接続を有するモジュール式基板ガスパネル |
| JP2006022926A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Ckd Corp | 集積弁用下部ブロック |
| WO2006115084A1 (ja) | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Fujikin Incorporated | 流体制御装置 |
| US8220495B2 (en) | 2007-05-31 | 2012-07-17 | Fujikin Incorporated | Fluid control apparatus and method for assembling the same |
| US8281816B2 (en) | 2007-05-31 | 2012-10-09 | Fujikin Incorporated | Fluid control apparatus |
| JP2012197941A (ja) * | 2012-05-21 | 2012-10-18 | Ulvac Japan Ltd | 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置 |
| US8434522B2 (en) | 2007-05-31 | 2013-05-07 | Tokyo Electron Limited | Fluid control apparatus |
| US9080238B2 (en) | 2010-12-28 | 2015-07-14 | Tokyo Electron Limited | Raw material supplying device and film forming apparatus |
| WO2018180373A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2018-10-04 | 株式会社フジキン | 変換継手、その変換継手を有する集積型流体供給装置および流体用パーツの取付け方法 |
| KR20190075100A (ko) | 2016-10-24 | 2019-06-28 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체제어장치 및 이 유체제어장치를 사용한 제품 제조방법 |
| KR20200015691A (ko) | 2017-08-31 | 2020-02-12 | 가부시키가이샤 후지킨 | 조인트 블록 및 그 제조방법 |
| JP2021006654A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-21 | 株式会社フジキン | ガス供給装置および半導体製造装置 |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6629546B2 (en) | 1998-03-05 | 2003-10-07 | Swagelok Company | Modular surface mount manifold assemblies |
| US7048007B2 (en) | 1998-03-05 | 2006-05-23 | Swagelok Company | Modular surface mount manifold assemblies |
| CN1289851C (zh) | 1998-03-05 | 2006-12-13 | 斯瓦戈洛克公司 | 歧管系统 |
| US7036528B2 (en) | 1998-05-18 | 2006-05-02 | Swagelok Company | Modular surface mount manifold assemblies |
| JP4200245B2 (ja) * | 1998-11-11 | 2008-12-24 | 株式会社フジキン | 流体継手 |
| US7222636B2 (en) * | 2002-08-20 | 2007-05-29 | Applied Materials, Inc. | Electronically actuated valve |
| JP3854555B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2006-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| CA2507589A1 (en) | 2002-11-26 | 2004-06-10 | Swagelok Company | Modular surface mount fluid system |
| JP2004183771A (ja) * | 2002-12-03 | 2004-07-02 | Fujikin Inc | 流体制御装置 |
| EP1486707B1 (en) * | 2003-06-11 | 2007-11-21 | Asm International N.V. | Gas supply system, valve assembly and method of forming reactant pulses by operating a valve assembly |
| US7048008B2 (en) | 2004-04-13 | 2006-05-23 | Ultra Clean Holdings, Inc. | Gas-panel assembly |
| JP4677805B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2011-04-27 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
| US7299825B2 (en) | 2005-06-02 | 2007-11-27 | Ultra Clean Holdings, Inc. | Gas-panel assembly |
| US7320339B2 (en) | 2005-06-02 | 2008-01-22 | Ultra Clean Holdings, Inc. | Gas-panel assembly |
| JP2007046697A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Fujikin Inc | 継手付き流体制御器 |
| JP4780555B2 (ja) * | 2005-09-12 | 2011-09-28 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
| US7575616B2 (en) * | 2006-02-10 | 2009-08-18 | Entegris, Inc. | Low-profile surface mount filter |
| JP5096696B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2012-12-12 | サーパス工業株式会社 | 流体機器ユニット構造 |
| US20070224708A1 (en) * | 2006-03-21 | 2007-09-27 | Sowmya Krishnan | Mass pulse sensor and process-gas system and method |
| CN101438091B (zh) * | 2006-06-02 | 2012-05-23 | 喜开理株式会社 | 气体供给单元和气体供给系统 |
| JP2007327542A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Surpass Kogyo Kk | 流体機器ユニット構造 |
| US20080009977A1 (en) * | 2006-07-10 | 2008-01-10 | Ultra Clean Holdings | Apparatus and Method for Monitoring a Chemical-Supply System |
| US20100112814A1 (en) * | 2006-09-06 | 2010-05-06 | Sowmya Krishnan | Pre-certified process chamber and method |
| US7607641B1 (en) * | 2006-10-05 | 2009-10-27 | Microfluidic Systems, Inc. | Microfluidic valve mechanism |
| JP2008291941A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Surpass Kogyo Kk | 流体機器ユニット構造 |
| US20080302426A1 (en) * | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Greg Patrick Mulligan | System and method of securing removable components for distribution of fluids |
| US20090078324A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Ultra Clean Technology, Inc. | Gas-panel system |
| US8322380B2 (en) * | 2007-10-12 | 2012-12-04 | Lam Research Corporation | Universal fluid flow adaptor |
| US20090114295A1 (en) * | 2007-11-06 | 2009-05-07 | Ultra Clean Holdings, Inc. | Gas-panel assembly |
| ES1068601Y (es) * | 2008-08-08 | 2009-02-01 | Istobal Sa | Panel central para control y distribucion de fluidos en instalaciones de lavado de vehiculos |
| US20100102261A1 (en) * | 2008-10-28 | 2010-04-29 | Microfluidic Systems, Inc. | Microfluidic valve mechanism |
| US8307854B1 (en) | 2009-05-14 | 2012-11-13 | Vistadeltek, Inc. | Fluid delivery substrates for building removable standard fluid delivery sticks |
| WO2010144541A2 (en) | 2009-06-10 | 2010-12-16 | Vistadeltek, Llc | Extreme flow rate and/or high temperature fluid delivery substrates |
| DE102010043865A1 (de) * | 2009-11-30 | 2011-07-14 | Horiba Stec Co., Ltd. | Fluid device |
| US8950433B2 (en) | 2011-05-02 | 2015-02-10 | Advantage Group International Inc. | Manifold system for gas and fluid delivery |
| JP5785813B2 (ja) * | 2011-08-10 | 2015-09-30 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
| JP5576991B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2014-08-20 | 株式会社フジキン | ガス供給装置 |
| KR101940325B1 (ko) | 2011-10-05 | 2019-01-18 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유체 기구 및 상기 유체 기구를 구성하는 지지 부재 및 유체 제어 시스템 |
| JP6012247B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2016-10-25 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
| US9454158B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
| US9639094B2 (en) * | 2014-11-12 | 2017-05-02 | Michael D. Palmer | Electronic pneumatic pressure controller |
| DE102015100762A1 (de) * | 2015-01-20 | 2016-07-21 | Infineon Technologies Ag | Behälterschalteinrichtung und Verfahren zum Überwachen einer Fluidrate |
| US10983537B2 (en) | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
| US10400332B2 (en) * | 2017-03-14 | 2019-09-03 | Eastman Kodak Company | Deposition system with interlocking deposition heads |
| JP7389461B2 (ja) * | 2019-10-31 | 2023-11-30 | 株式会社フジキン | バルブ装置および流体制御装置 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3525363A (en) | 1968-08-02 | 1970-08-25 | Chicago Specialty Mfg Co | Means for controlling the direction of the flow of a liquid or fluid through a selected outlet |
| US3536100A (en) | 1968-12-05 | 1970-10-27 | Olin Corp | Valve |
| US3556153A (en) | 1968-12-24 | 1971-01-19 | Quality Controls Co Inc | Rotor valve |
| JPS603375U (ja) | 1983-06-22 | 1985-01-11 | ハウス食品工業株式会社 | 三方バルブの洗浄用配管 |
| US5313982A (en) * | 1988-07-08 | 1994-05-24 | Tadahiro Ohmi | Gas supply piping device for a process apparatus |
| JPH02284638A (ja) * | 1989-04-26 | 1990-11-22 | Tadahiro Omi | 高性能プロセスガス供給装置 |
| FR2664671B1 (fr) * | 1990-07-12 | 1992-10-09 | Centre Nat Rech Scient | Vanne et dispositif de distribution multivoies, notamment pour fluides corrosifs. |
| US5065794A (en) * | 1990-11-26 | 1991-11-19 | Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation | Gas flow distribution system |
| US5368062A (en) * | 1992-01-29 | 1994-11-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gas supplying system and gas supplying apparatus |
| JP3055998B2 (ja) * | 1992-01-29 | 2000-06-26 | 株式会社東芝 | ガス供給装置 |
| US5246026A (en) | 1992-05-12 | 1993-09-21 | Proudman Systems, Inc. | Fluid measuring, dilution and delivery system |
| US5205322A (en) | 1992-06-17 | 1993-04-27 | Puritan-Bennett Corporation | Method and apparatus for flow control for sensor calibration |
| EP0619450A1 (en) | 1993-04-09 | 1994-10-12 | The Boc Group, Inc. | Zero Dead-Leg Gas Cabinet |
| JPH07122500A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-12 | Fujitsu Ltd | ガス機器及びこれを利用したガス供給装置 |
| US5749389A (en) | 1993-12-22 | 1998-05-12 | Liquid Air Corporation | Purgeable connection for gas supply cabinet |
| US5605179A (en) * | 1995-03-17 | 1997-02-25 | Insync Systems, Inc. | Integrated gas panel |
| US5590686A (en) * | 1995-05-02 | 1997-01-07 | Dober Chemical Corp. | Liquid delivery systems |
| AU5386396A (en) * | 1995-05-05 | 1996-11-21 | Insync Systems, Inc. | Mfc-quick change method and apparatus |
| JP3546275B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2004-07-21 | 忠弘 大見 | 流体制御装置 |
| KR100232112B1 (ko) * | 1996-01-05 | 1999-12-01 | 아마노 시게루 | 가스공급유닛 |
| US5992463A (en) * | 1996-10-30 | 1999-11-30 | Unit Instruments, Inc. | Gas panel |
-
1997
- 1997-02-14 JP JP02999697A patent/JP3997338B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-02-13 EP EP98102554A patent/EP0859155B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-13 KR KR10-1998-0004289A patent/KR100517424B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-13 CA CA002229476A patent/CA2229476C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-13 TW TW087102012A patent/TW372328B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-02-13 DE DE69822689T patent/DE69822689T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-13 US US09/023,416 patent/US20010003287A1/en not_active Abandoned
- 1998-02-14 SG SG1998000329A patent/SG77161A1/en unknown
- 1998-02-15 IL IL12330598A patent/IL123305A/xx not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-10-22 US US10/277,147 patent/US6615871B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002089798A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ulvac Japan Ltd | 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置 |
| JP2003021262A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Fujikin Inc | 流体制御装置 |
| JP2005539375A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-22 | セレリティ・インコーポレイテッド | 共通の平面にマニホルド接続を有するモジュール式基板ガスパネル |
| JP2006022926A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Ckd Corp | 集積弁用下部ブロック |
| WO2006115084A1 (ja) | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Fujikin Incorporated | 流体制御装置 |
| US8434522B2 (en) | 2007-05-31 | 2013-05-07 | Tokyo Electron Limited | Fluid control apparatus |
| US8281816B2 (en) | 2007-05-31 | 2012-10-09 | Fujikin Incorporated | Fluid control apparatus |
| US8220495B2 (en) | 2007-05-31 | 2012-07-17 | Fujikin Incorporated | Fluid control apparatus and method for assembling the same |
| US9080238B2 (en) | 2010-12-28 | 2015-07-14 | Tokyo Electron Limited | Raw material supplying device and film forming apparatus |
| JP2012197941A (ja) * | 2012-05-21 | 2012-10-18 | Ulvac Japan Ltd | 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置 |
| KR20190075100A (ko) | 2016-10-24 | 2019-06-28 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체제어장치 및 이 유체제어장치를 사용한 제품 제조방법 |
| US11091837B2 (en) | 2016-10-24 | 2021-08-17 | Fujikin Incorporated | Fluid control system and product manufacturing method using fluid control system |
| WO2018180373A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2018-10-04 | 株式会社フジキン | 変換継手、その変換継手を有する集積型流体供給装置および流体用パーツの取付け方法 |
| TWI681141B (zh) * | 2017-03-29 | 2020-01-01 | 日商富士金股份有限公司 | 轉換接頭、具有此轉換接頭的整合型流體供給裝置以及流體零件的安裝方法 |
| JPWO2018180373A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2020-02-06 | 株式会社フジキン | 変換継手、その変換継手を有する集積型流体供給装置および流体用パーツの取付け方法 |
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