JPH10227695A - パルス光測光装置 - Google Patents

パルス光測光装置

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Publication number
JPH10227695A
JPH10227695A JP3052197A JP3052197A JPH10227695A JP H10227695 A JPH10227695 A JP H10227695A JP 3052197 A JP3052197 A JP 3052197A JP 3052197 A JP3052197 A JP 3052197A JP H10227695 A JPH10227695 A JP H10227695A
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JP
Japan
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pulse
distribution
photoelectron
height distribution
wave height
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Pending
Application number
JP3052197A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Osuga
慎二 大須賀
Hisanobu Takamoto
尚宜 高本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bunshi Biophotonics Kenkyusho KK
Original Assignee
Bunshi Biophotonics Kenkyusho KK
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Publication date
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Priority to JP3052197A priority Critical patent/JPH10227695A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光検出器の光電変換面から放出される光電子
の個数の平均値を高精度に推定してパルス光の光量を精
度よく測定する。 【解決手段】 被測定光束が光検出器10に入射すると
光電子が放出され増倍されて電流信号が出力される。こ
の電流信号は、電荷有感型前置増幅器20および波形整
形増幅器30からなる積分手段により電圧信号とされ
る。この電圧信号のピーク値は、積分手段が非飽和状態
にある期間だけ、ピークホールド回路40から出力さ
れ、AD変換器50によりデジタル値に変換され、電圧
信号の波高分布n(h) がヒストメモリ60により生成さ
れる。光電子数分布推定手段73により、波高分布n
(h) と単一光電子事象波高分布とk-光電子事象波高分布
(k=1,2,3,…)とに基づいて、被測定光束が光検出器1
0に入射して放出された光電子の個数分布が推定され、
さらに被測定光束の光量が求められる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、パルス状の被測定
光束の光子数を計数するパルス光測光装置に関するもの
であり、例えば生化学等の分野においてパルス光源で励
起された試料から発生する蛍光を光子計数してその試料
中の蛍光分子数を定量測定するために利用されるもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、試料中の蛍光物質(或いは、蛍光
分子)を定量測定するために、その試料に励起光を照射
し、蛍光物質から発生する蛍光の強度を測定している。
このような測定に用いられる装置として、蛍光光度計が
ある。この蛍光光度計には、光源として例えばキセノン
ランプが用いられ、また、蛍光検出器として光電子増倍
管が用いられる。一般には、キセノンランプは、パルス
点灯ではなく連続点灯され、また、光電子増倍管は、蛍
光物質で発生した蛍光を受光して、その蛍光強度に応じ
た出力電流を連続的に出力する。このようにして、蛍光
強度が測定され、光電子増倍管の出力値に基づいて蛍光
物質が定量される。
【0003】しかし、試料中の蛍光物質の量が微量であ
り蛍光強度が検出限界以下である場合には、蛍光光度計
を用いることができない。そこで、このような場合に
は、励起光源としてレーザ光源が用いられる。この場合
も同様にレーザ光で励起された試料中の蛍光物質から発
生した蛍光の強度が光電子増倍管で測定され、光電子増
倍管の出力値に基づいて蛍光物質が定量される。
【0004】レーザ光源から出力されたパルスレーザ光
で試料中の蛍光物質を励起し、蛍光強度測定結果すなわ
ち光電子増倍管からの出力値から試料中の蛍光物質を定
量する方法として、光電子増倍管からの出力パルスの計
数値を利用するいわゆる光子計数法によるものと、光電
子増倍管からの出力パルスの波高値を利用する方法とが
ある。更に、光子計数法による定量法には、計数値に比
例した蛍光物質があるものと推定する方法と、1パルス
のレーザ光の試料照射につき光電子増倍管の光電変換面
から放出される光電子の個数が0個である確率p(0) か
ら蛍光物質の量を推定する方法とがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光子計
数法による定量方法で計数値に比例した量の蛍光物質が
あると推定すると以下のような問題がある。1パルスの
レーザ光の試料照射につき光電子増倍管の光電変換面か
ら放出される光電子の個数は、入射光量に応じた光電子
数分布に従う。この光電子数分布に従って放出される光
電子の個数が1個である確率をp(1) とし、また、その
個数が2個以上である確率をp(x≧2)とする。また、光
電変換面における光電子数分布がポアソン分布に従うも
のとする。この時、例えば、1パルスのパルスレーザ光
によって励起された蛍光物質から発生した蛍光を光電子
増倍管が受光して光電変換面から放出される光電子の個
数の平均値λが 0.1を越えると、p(x≧2)/p(1) は5
%以上になる。この比が大きい程、光電子増倍管に入射
した蛍光の光量と光電子増倍管からの出力パルスの計数
値とは比例関係から大きく外れるので、光電子増倍管か
らの出力パルスの計数値から蛍光物質を定量すると誤差
が大きくなる。
【0006】また、ゼロ確率を利用する定量方法では以
下のような問題がある。この定量方法では、光電変換面
における光電子数分布がポアソン分布に従うものとし
て、光電子数の平均値λを
【数1】 なる式で推定し、これに比例するものとして蛍光物質を
定量する。ここで、パルスレーザ光による励起回数をN
とし、光電子増倍管からの出力パルスの計数値をnとす
ると、
【数2】 であるので、(1)式は、
【数3】 となる。上式でλ値を推定する場合であっても、λ値が
大きくなると(例えば、λ>1.5 )、すなわち、nがN
に近付くと、λ値の推定誤差は大きくなる。
【0007】また、光電子増倍管からの出力パルスの波
高値を利用する従来方法では以下のような問題点があ
る。この方法では、1回のパルス励起当たり光電変換面
から放出される平均光電子数が、出力パルスの波高値の
平均値<h>に比例するとして、蛍光物質を定量する。
ここで、<h>は、
【数4】 なる式で与えられ、Nは励起回数であり、n(h) は波高
値がhである光電子増倍管の出力パルスの計数値であ
り、hmax は、波高値をデジタル値に変換するAD変換
器のビット数で決まる最大波高値であり、hmin は、平
均波高値の計算に使用する最小の波高値である。hmin
=0であることが望ましいが、光電子増倍管からの出力
パルスに重畳する増幅器系のノイズの為に、hmin =0
とすることはできない。それ故、(4)式で計算した平
均波高値は真の値とは異なるものとなる。また、平均光
電子数が大きくなると、hmax よりも大きな波高値のパ
ルスが出力される頻度が増えてくるが、このような波高
値のパルスは計数されないので、(4)式で平均波高値
を計算して蛍光物質を定量すると過小評価することにな
る。
【0008】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、光検出器の光電変換面で2個以上の光
電子が放出される確率が高くても、あるいは、光検出器
の光電変換面から放出される光電子の個数の平均値λが
大きくても、λを高精度に推定して、光量を精度よく測
定することができるパルス光測光装置を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第1のパル
ス光測光装置は、パルス信号に同期して発生するパルス
状の被測定光束の光量を測定するパルス光測光装置であ
って、(1) 入射した被測定光束の光量に応じた光電子数
分布に従った個数の光電子を放出し、光電子を増倍して
電流信号を出力する光検出器と、(2) 電流信号を積分し
て電圧信号に変換する積分手段と、(3) 電圧信号の波高
分布を生成する波高分布生成手段と、(4) パルス信号の
パルス数を計数するパルス計数手段と、(5) 積分手段が
飽和状態にあるか否かを判定し、飽和状態にあると判定
したときにはパルス計数手段および波高分布生成手段そ
れぞれの動作を禁止するゲート手段と、(6) 光検出器で
放出される光電子が1個の場合に波高分布生成手段で生
成される波高分布を単一光電子事象波高分布として獲得
する単一光電子事象波高分布生成手段と、(7) 光検出器
で放出される光電子の個数kが2以上かつ所定数以下の
それぞれの場合におけるk-光電子事象波高分布を、単一
光電子事象波高分布に基づいて漸化的にコンボリューシ
ョン計算によって算出するk-光電子事象波高分布生成手
段と、(8) 被測定光束が光検出器に入射して波高分布生
成手段で生成された波高分布と単一光電子事象波高分布
と光電子の個数kそれぞれの場合におけるk-光電子事象
波高分布とパルス計数手段による計数結果とに基づい
て、被測定光束が光検出器に入射した場合の光電子数分
布を推定することによって被測定光束の光量を求める光
電子数分布推定手段と、を備えることを特徴とする。
【0010】この第1のパルス光測光装置によれば、パ
ルス状の被測定光束が光検出器に入射すると、その光量
に応じた光電子数分布に従った個数の光電子が放出さ
れ、その光電子が増倍されて電流信号が出力される。こ
の電流信号は、積分手段により積分されて電圧信号とな
り、この電圧信号は、波高分布生成手段によりその波高
分布が生成される。このパルス状の被測定光束は、パル
ス信号に同期して発生するものであり、そのパルス信号
は、パルス計数手段により計数される。これらパルス計
数手段および波高分布生成手段それぞれは、ゲート手段
により、積分手段が飽和状態にあるときには、動作が禁
止される。
【0011】一方、光検出器で放出される光電子が1個
の場合に波高分布生成手段で生成される波高分布は、単
一光電子事象波高分布として、単一光電子事象波高分布
生成手段により獲得され、また、光検出器で放出される
光電子の個数kが2以上かつ所定数以下のそれぞれの場
合におけるk-光電子事象波高分布は、k-光電子事象波高
分布生成手段により、単一光電子事象波高分布に基づい
て漸化的にコンボリューション計算によって算出され
る。そして、光電子数分布推定手段により、被測定光束
が光検出器に入射して波高分布生成手段で生成された波
高分布と単一光電子事象波高分布と光電子の個数kそれ
ぞれの場合におけるk-光電子事象波高分布とパルス計数
手段による計数結果とに基づいて、被測定光束が光検出
器に入射した場合の光電子数分布を推定することによっ
て被測定光束の光量が求められる。
【0012】本発明に係る第2のパルス光測光装置は、
パルス信号に同期して発生するパルス状の被測定光束の
光量を測定するパルス光測光装置であって、(1) 入射し
た被測定光束の光量に応じた光電子数分布に従った個数
の光電子を放出し、光電子を増倍して電流信号を出力す
る光検出器と、(2) 電流信号を積分して電圧信号に変換
する積分手段と、(3) 電圧信号の波高分布を生成する波
高分布生成手段と、(4) 電圧信号を互いに異なる所定の
参照電圧それぞれと比較して、電圧信号が所定の参照電
圧それぞれより大きい場合に論理パルス信号をそれぞれ
出力する所定数の比較手段と、(5) 所定数の比較手段そ
れぞれから出力された論理パルス信号をそれぞれ計数す
る所定数の計数手段と、(6) パルス信号のパルス数を計
数するパルス計数手段と、(7) 積分手段が飽和状態にあ
るか否かを判定し、飽和状態にあると判定したときには
パルス計数手段および波高分布生成手段それぞれの動作
を禁止するゲート手段と、(8) 光検出器で放出される光
電子が1個の場合に波高分布生成手段で生成される波高
分布を単一光電子事象波高分布として獲得する単一光電
子事象波高分布生成手段と、(9) 光検出器で放出される
光電子の個数kが2以上かつ所定数以下のそれぞれの場
合におけるk-光電子事象波高分布を、単一光電子事象波
高分布に基づいて漸化的にコンボリューション計算によ
って算出するk-光電子事象波高分布生成手段と、(10)被
測定光束が光検出器に入射して所定数の計数手段それぞ
れで得られた計数結果と単一光電子事象波高分布と光電
子の個数kそれぞれの場合におけるk-光電子事象波高分
布とパルス計数手段による計数結果とに基づいて、被測
定光束が光検出器に入射した場合の光電子数分布を推定
することによって被測定光束の光量を求める光電子数分
布推定手段と、を備えることを特徴とする。
【0013】この第2のパルス光測光装置によれば、パ
ルス状の被測定光束が光検出器に入射すると、その光量
に応じた光電子数分布に従った個数の光電子が放出さ
れ、その光電子が増倍されて電流信号が出力される。こ
の電流信号は、積分手段により積分されて電圧信号とな
り、この電圧信号は、所定数の比較手段により、互いに
異なる所定の参照電圧それぞれと比較されて、電圧信号
が所定の参照電圧それぞれより大きい場合に論理パルス
信号がそれぞれ出力され、その論理パルス信号は所定数
の計数手段それぞれにより計数される。このパルス状の
被測定光束は、パルス信号に同期して発生するものであ
り、そのパルス信号は、パルス計数手段により計数され
る。これらパルス計数手段および所定数の計数手段手段
それぞれは、ゲート手段により、積分手段が飽和状態に
あるときには、動作が禁止される。
【0014】一方、光検出器で放出される光電子が1個
の場合の積分手段からの電圧信号の波高分布は、波高分
布生成手段により生成され、単一光電子事象波高分布と
して単一光電子事象波高分布生成手段により獲得され、
また、光検出器で放出される光電子の個数kが2以上か
つ所定数以下のそれぞれの場合におけるk-光電子事象波
高分布は、k-光電子事象波高分布生成手段により、単一
光電子事象波高分布に基づいて漸化的にコンボリューシ
ョン計算によって算出される。そして、光電子数分布推
定手段により、その所定数の計数手段それぞれで得られ
た計数結果と単一光電子事象波高分布と光電子の個数k
それぞれの場合におけるk-光電子事象波高分布とパルス
計数手段による計数結果とに基づいて、被測定光束が光
検出器に入射した場合の光電子数分布を推定することに
よって被測定光束の光量が求められる。
【0015】上記何れのパルス光測光装置においても、
光検出器として、(1) 入射した光束の光量に応じた光電
子数分布に従った個数の光電子を放出する光電変換面
と、(2) アノードとカソードとの間に逆バイアス電圧が
印加され、且つ、光電変換面に対向する部位が光電変換
面の電位よりも高電位に設定されて、光電子を入力して
生成された電子・正孔対をアバランシェ増倍し、アバラ
ンシェ増倍された電子・正孔対の数に応じた電流信号を
出力するアバランシェフォトダイオードと、(3)光束を
透過させる入射窓を備えて光電変換面およびアバランシ
ェフォトダイオードを内部に含む真空容器と、を備える
ものが好適に用いられる。この場合、光検出器から出力
される電流信号の波高分布において、光束が入射して放
出される光電子の個数がk個であるk-光電子事象それぞ
れに対応するピークを明瞭に識別することができるの
で、入射した光束の光量に応じた光電子数分布およびそ
の光束の光量を精度よく測定することができる。
【0016】また同様に上記何れのパルス光測光装置に
おいても、光電子数分布推定手段は、最尤法により光電
子数分布を推定してもよい。また、光電子数分布として
ポアソン分布を仮定してもよい。何れの場合でも、入射
した光束の光量に応じた光電子数分布およびその光束の
光量を精度よく測定することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。
【0018】まず、本発明に係るパルス光測光装置の構
成要素の1つとして好適に用いられる光検出器につい
て、図1を参照しながら説明する。
【0019】本発明に係るパルス光測光装置の1構成要
素である光検出器としては、入射光束の光量に応じた光
電子数分布に従った個数の光電子を放出し、その光電子
を増倍して電流信号を出力するものが用いられ、例え
ば、アバランシェフォトダイオード(以下、APD)を
利用した光検出器(参考文献 : Shawn J. Fagen, "Vac
uum avalanche photodiodes can count single photon
s", Laser Focus World,Nov. (1993) pp.125-132)が好
適に用いられる。
【0020】図1に示す光検出器10は、内部が真空に
保たれている真空容器11の一部に入射窓12が設けら
れており、入射光束Aは、その入射窓12を透過して、
光電変換面13に到達する。光電変換面13には、AP
D15のアノード16に対して例えば−10kVないし
−15kVの高電圧が、高圧電源によって印加されてい
るので、入射光束Aが光電変換面13に入射すると、そ
の入射光束Aの光量に応じた光電子数分布に従った個数
の光電子Bが放出される。そして、その光電子Bは、光
電変換面13とAPD15との間の電界によって加速さ
れ、中央部に開口を有し所定電位に設定された集束電極
14によって集束されて、APD15に入射する。
【0021】このAPD15は、アノード16とカソー
ド17との間に、逆バイアス電源によって逆バイアス電
圧(例えば、145V)が印加され、且つ、光電変換面
13に対向するアノード16の電位は光電変換面13の
電位よりも高電位に設定されている。このAPD15に
光電子Bが衝突すると、電離作用により光電子BがAP
D15中で失ったエネルギ3.6eV当たり1対の電子
および正孔が生成され、そして、この電子・正孔対は、
APD15内で、逆バイアス電圧に対して図2に示すよ
うな関係にあるアバランシェ増倍率でアバランシェ増倍
され、アノード端子16aおよびカソード端子17aの
間に電流信号として出力される。但し、光電子BがAP
D15内で失うエネルギは一定値ではなく或る分布に従
うため、また、APD15の増倍率も一定値ではなく或
る増倍率分布に従うため、1個の光電子Bの入射により
出力される電流信号の大きさも或る分布を有する。
【0022】したがって、光検出器10が一定光量の光
束Aを多数回測定すると、光電変換面13で放出される
光電子Bの個数分布(光電子数分布)は、光量に応じた
或る平均値の周りに広がった分布となり、光検出器10
から出力される電流信号は、光電子1個によりAPD1
5から出力される電子・正孔対の個数の分布に従って更
に広がりのある分布となる。
【0023】このAPDを利用した光検出器10は、光
電子増倍管と同様に単一光子をも計数でき、さらに、光
電子増倍管と比較して増倍雑音が小さいため、一定光量
の光束を多数回測定して得られる電流信号の波高分布に
おいて、k-光電子事象すなわち光電変換面13に光束が
入射して放出される光電子の個数がk個である事象(k=
1,2,3,…)それぞれに対応するピークを識別することが
できるという優れた特徴を有する。このような特徴を有
することから、本発明に係るパルス光測光装置に用いる
に好適なものである。
【0024】(第1の実施形態)次に、第1の実施形態
に係るパルス光測光装置の構成について説明する。図3
は、第1の実施形態に係るパルス光測光装置を用いた蛍
光測定システムの構成図である。この図は、第1の実施
形態に係るパルス光測光装置1の他に、パルスレーザ光
を出射するパルスレーザ光源80、パルスレーザ光が照
射されると蛍光を発生する試料90、ならびに、励起光
照射および蛍光検出のための光学系をも示している。
【0025】パルスレーザ光源80から出力された蛍光
物質励起の為のパルスレーザ光は、レンズ84および8
5により所定の光束径にコリメートされ、反射鏡83に
より反射され、レンズ86により集光されて試料90に
照射され、試料90中の蛍光物質を励起する。この試料
90中の蛍光物質から発生したパルス状の蛍光は、レン
ズ91、バリアフィルタ92およびレンズ93を経て、
パルス光測光装置100の光検出器10の入射窓12に
入射する。バリアフィルタ92は、蛍光を透過させる
が、試料90で散乱されて光検出器10の入射窓12の
方向に向かうパルスレーザ光を遮断するものである。
【0026】光検出器10は、図1で説明したものであ
り、高圧電源19により光電変換面13に高電圧が印加
され、逆バイアス電源18によりAPD15に逆バイア
ス電圧が印加されている。光検出器10は、試料90か
ら到達した蛍光を光電変換面13に受光すると、入射し
た蛍光の光量に応じた光電子数分布に従った個数の光電
子を光電変換面13から放出し、その光電子をAPD1
5によりアバランシェ増倍して2次電子を生成し、そし
て、電流信号を出力する。
【0027】この光検出器10から出力された電流信号
は、放射線検出の分野で一般的に用いられている電荷有
感型前置増幅器20および波形整形増幅器30からなる
積分手段により、積分されて電圧信号に変換される。す
なわち、電荷有感型前置増幅器20は、その電流信号を
積分して電圧信号に変換する。この電圧信号は、光検出
器10から電流が出力されると立ち上がり、電荷有感型
前置増幅器20が有する時定数(数百μ秒)で減衰す
る。また、波形整形増幅器30は、その内部に微分・積
分回路を有し、電荷有感型前置増幅器20から出力され
る電圧信号を入力し、後段のピークホールド回路40や
AD変換器50における動作に際して適当な値となるよ
う増幅して電圧信号を出力する。この波形整形増幅器3
0から出力される電圧信号は、波形整形増幅器30の設
定で定まるパルス幅(一般的には、100n秒程度から
数μ秒)を有し、入力電圧信号の立ち上がりに対し或る
遅延をもって出力される。
【0028】電荷有感型前置増幅器20の出力電圧信号
を波形整形増幅器30に通すことにより、被測定パルス
光の間隔が電荷有感型前置増幅器20の時定数よりも短
く出力電圧信号が重畳する場合であっても、被測定パル
ス光によって光検出器10から出力された電荷量に比例
した電圧信号が得られる。以下では、この状態を非飽和
状態と呼ぶ。一方、被測定パルス光の光量と比較して大
きな光量のパルス状の外乱光が光検出器10に入射した
場合等のように、電荷有感型前置増幅器20から被測定
パルス光による電圧信号の変化よりも大きな電圧信号変
化が現れる場合には、波形整形増幅器30からは、被測
定パルス光に対応した電圧信号は出力されない。以下で
は、この状態を飽和状態と呼ぶ。
【0029】この電荷有感型前置増幅器20から出力さ
れ波形整形増幅器30により増幅された電圧信号は、ピ
ークホールド回路40、AD変換器50およびヒストメ
モリ60からなる波高分布生成手段により、その波高値
の分布が蓄積される。すなわち、ピークホールド回路4
0は、波形整形増幅器30から出力された電圧信号のピ
ーク値をホールドして出力し、AD変換器50は、その
電圧信号のピーク値に応じたデジタル値に変換する。そ
して、ヒストメモリ60は、そのデジタル値に応じた番
地に所定値(例えば、1)を累積加算する。これらピー
クホールド回路40およびAD変換器50それぞれは、
ゲート信号発生回路133から出力されたゲート信号が
非飽和状態にあることを示している期間だけ、トリガ回
路82から出力されるトリガ信号により、光検出器10
へ蛍光が入射するタイミング、すなわち、パルスレーザ
光源80からパルスレーザ光が出射されるタイミングに
同期して動作する。
【0030】また、電荷有感型前置増幅器20から出力
された電圧信号は、比較器131、参照電圧発生器13
2および比較器132からなるゲート手段130に入力
する。比較器131の一方の入力端子には、電荷有感型
前置増幅器20から出力された電圧信号が入力され、他
方の入力端子には、参照電圧発生器132から出力され
た一定電圧が入力されている。比較器131は、電荷有
感型前置増幅器20から出力された電圧信号と参照電圧
発生器132から出力された一定電圧とを大小比較し、
ゲート信号発生回路133は、比較器131からの出力
値に基づいてゲート信号を出力する。ここで、参照電圧
発生器132から出力される一定電圧の値は、飽和状態
に達する手前の電荷有感型前置増幅器20から出力され
る電圧信号の値である。したがって、ゲート信号発生回
路133から出力されるゲート信号は、積分手段が飽和
状態および非飽和状態の何れであるかを示すものであ
る。
【0031】また、パルスレーザ光源80には、カウン
タ81およびトリガ回路82それぞれが接続されてい
る。カウンタ81は、ゲート信号発生回路133から出
力されたゲート信号が非飽和状態であることを示してい
る期間だけ、パルスレーザ光源80から出力されるパル
スレーザ光のパルス数を計数するものである。また、ト
リガ回路82は、そのパルスレーザ光の出射タイミング
に同期したトリガ信号を出力するものである。これらカ
ウンタ81およびトリガ回路82それぞれは、パルスレ
ーザ光源80のパルスレーザ光出射を制御するタイミン
グ信号を入力してもよいし、あるいは、パルスレーザ光
源80から出力されるパルスレーザ光を受光してもよ
く、何れに基づいてパルス計数あるいはトリガ信号の発
生をしてもよい。
【0032】このトリガ回路82およびゲート信号発生
回路133と接続されているゲート回路134は、ゲー
ト信号の指示に基づいて、非飽和状態にある期間だけ、
トリガ信号をピークホールド回路40およびAD変換器
50それぞれに出力し、そうでないときには、トリガ信
号をピークホールド回路40およびAD変換器50に出
力しない。したがって、ピークホールド回路40および
AD変換器50それぞれは、ゲート信号が非飽和状態に
あることを示している期間だけ、トリガ信号によりタイ
ミング制御されて動作する。
【0033】演算部70は、ヒストメモリ60により得
られた波高分布に基づいて、光検出器10の光電変換面
13で放出された光電子の個数の分布(光電子数分布)
を推定し、この推定された光電子数分布に基づいて被測
定光束である蛍光の光量を求める。演算部70として例
えばコンピュータが用いられる。なお、光電子数分布の
推定方法については後述する。
【0034】次に、パルス光測光装置1におけるゲート
信号によるゲーティング動作について説明する。図4
は、本実施形態に係るパルス光測光装置における各信号
を示すタイミングチャートである。
【0035】この例では、時刻t1にパルス状の外乱光
が光検出器10に入射し、電荷有感型前置増幅器20か
ら大きな電圧信号変化が現れている(図4(a))。こ
の電圧信号は、比較器131により、参照電圧発生器1
32から出力される一定電圧と大小比較され、積分手段
すなわち電荷有感型前置増幅器20が飽和状態にある非
飽和状態にあるが判定される。図4(a)では、時刻t
1から時刻t2までが飽和状態にあると判定され、ゲー
ト信号がゲート信号発生回路133から出力される。こ
のゲート信号は、正の電圧値であるときに飽和状態であ
ることを示し、ゼロ値である時に非飽和状態であること
を示す(図4(b))。なお、被測定パルス光に起因す
る電圧信号変化は、外乱パルス光による電圧信号変化に
比して小さいので、図4(a)では、時刻t1以前およ
び時刻t2以降それぞれの積分手段が非飽和状態にある
時間域において図示されていない。
【0036】一方、パルスレーザ光源80からパルスレ
ーザ光が出射されるタイミングを表すタイミング信号
は、一定繰り返し周期のパルス信号である(図4
(c))。また、前置有感型前置増幅器20から出力さ
れた電圧信号(図4(a))は、波形整形増幅器30に
より増幅され出力される。しかし、飽和状態にあるとき
には、波形整形増幅器30から出力される電圧信号に
は、光検出器10による被測定光束の受光に応じたパル
スがない。そのパルスが出力されない期間は、ゲート信
号が示す飽和状態の期間と略一致している(図4
(d))。ただし、ゲート信号が示す飽和状態の期間の
末期においては、電荷有感型前置増幅器20から出力さ
れる電圧信号が小さくなり非飽和状態に近づいているの
で、波形整形増幅器30から出力される電圧信号には、
光検出器10による被測定光束の受光に応じたパルスが
存在し得る。
【0037】ピークホールド回路40およびAD変換器
50それぞれには、ゲート信号が非飽和状態にあること
を示している期間だけトリガ信号が入力し(図4
(e),(f))、ピークホールド回路40およびAD
変換器50それぞれは、その期間だけ動作する。
【0038】次に、本実施形態に係るパルス光測光装置
を用いた蛍光測定システムの動作について説明するとと
もに、光検出器10の光電変換面13に被測定光束が入
射して放出される光電子数分布の推定方法について説明
する。なお、この光電子数分布の推定は、演算部70に
おいて行われるものである。
【0039】被測定光束の光量測定に先立って、先ず、
演算部70内の単一光電子事象波高分布生成手段71
は、単一光電子事象の場合にヒストメモリ60で生成さ
れる単一光電子事象波高分布を獲得する。ここで、単一
光電子事象とは、光検出器10の光電変換面13に光束
が入射して1個の光電子が放出される事象をいい、単一
光電子事象波高分布とは、その事象が発生した場合にヒ
ストメモリ60で生成される波高分布である。すなわ
ち、単一光電子事象波高分布は、光電変換面13で放出
された1個の光電子がAPD15に入射したことにより
APD15から出力される電子・正孔対の個数の分布を
表すものである。
【0040】図5は、本実施形態に係るパルス光測光装
置における単一光電子事象分布を獲得する際の動作を示
すタイミングチャートである。この図は、パルスレーザ
光の1パルスが出射された時刻付近のみ示している。こ
の単一光電子事象波高分布は以下のようにして求める。
すなわち、パルスレーザ光源80は、一定強度のパルス
レーザ光を出射して試料90に照射し(図5(a))、
光検出器10は、試料90で発生した蛍光を受光し(図
5(b))、電流信号を出力する(図5(c))。この
とき、試料90から発生する蛍光は、単一光電子事象が
発生する確率が圧倒的に支配的となるようなものとす
る。
【0041】電荷有感型前置増幅器20は、光検出器1
0から出力された電流信号を入力し積分して電圧信号を
出力する。この電荷有感型前置増幅器20から出力され
る電圧信号は、光検出器10から電流信号が出力される
と立ち上がり、電荷有感型前置増幅器20が有する時定
数(数百μ秒)で減衰する負極性の信号である(図5
(d))。波形整形増幅器30は、この電荷有感型前置
増幅器20から出力された電圧信号を増幅する。この波
形整形増幅器30から出力される電圧信号は、波形整形
増幅器30の設定で定まるパルス幅(一般的には、10
0n秒程度から数μ秒)を有し、入力電圧信号の立ち上
がりに対し或る遅延をもって出力される(図5
(e))。
【0042】トリガ回路82から出力されゲート回路1
34を経てピークホールド回路40へ入力するトリガ信
号は、波形整形増幅器30から出力される電圧信号の立
ち上がり時刻以前に立ち上がり、その電圧信号の立ち下
がり時刻以降に立ち下がる信号である(図5(f))。
ピークホールド回路40は、このトリガ信号(図5
(f))が示す期間だけ動作して、その期間内に波形整
形増幅器30から出力された電圧信号の最大値をホール
ドし出力する(図5(g))。
【0043】また、トリガ回路82から出力されゲート
回路134を経てAD変換器50に入力するトリガ信号
は、ピークホールド回路40へ入力するトリガ信号(図
5(f))の立ち下がり時刻前に立ち上がり、ピークホ
ールド回路40へ入力するトリガ信号(図5(f))の
立ち下がり時刻と同時あるいは直前に立ち下がる信号で
ある(図5(h))。AD変換器50は、このトリガ信
号(図5(h))の立ち下がり時刻において波形整形増
幅器40から出力されている電圧信号を、その電圧値に
応じたデジタル値に変換する。
【0044】以上の動作は、パルスレーザ光源80から
パルスレーザ光が出射される度に行われ、AD変換器5
0から出力されたデジタル値に対応したヒストメモリ6
0の番地に所定値が累積加算されて波高値分布が得られ
る。このようにして得られた波高値分布が、単一光電子
事象波高分布である。この単一光電子事象波高分布を、
波高値hの関数としてp1(h)で表す。hは、AD変換器
50から出力されたデジタル値であり、電荷有感型前置
増幅器20から出力される電圧信号の波高値と1対1に
対応している。
【0045】なお、このp1(h)の低波高部には増幅器系
のノイズが重畳しているので、実データを使用すること
ができない。そこで、低波高部では実データを用いるこ
となく、ノイズが重畳していない隣接した波高域のデー
タから外挿して求める。また、p1(h)は、
【数5】 で規格化しておく。hmax は、波高値をデジタル値に変
換するAD変換器50のビット数で決まる最大波高値で
ある。
【0046】続いて、k-光電子事象波高分布生成手段7
2は、k-光電子事象波高分布、すなわち、光検出器10
の光電変換面13に光束が入射してk個の光電子が放出
される場合の波高分布pk(h)を、
【数6】 なるコンボリューション計算によって漸化的に算出する
(k=2,3,…,K)。Kは2以上である。光電子数分布を推
定する際に任意の分布を仮定する場合には、p1(h)のピ
ーク値を与える波高値をhpeak1 として、K=hmax /
hpeak1 とする。hmax =4095、hpeak1 =400
であれば、Kは10程度である。また、光電子数分布と
してポアソン分布を仮定する場合には、Kは、hmax /
hpeak1 の2ないし3倍程度、すなわち、hmax =40
95、hpeak1 =400であれば、Kは30程度にす
る。なお、以上のようにして波高分布pk-1(h)とp1(h)
とのコンボリューション計算から波高分布pk(h)を求め
ることができることの根拠は、光電変換面13で放出さ
れAPD15に入射したk個の光電子が、それぞれ独立
に電子・正孔対をアバランシェ増倍することに基づく。
【0047】なお、光検出器10、電荷有感型前置増幅
器20および波形整形増幅器30において発生するノイ
ズに起因する波高分布の広がりが無視できない場合に
は、波高分布p1(h)からそのノイズの影響をデコンボリ
ューション計算によって取り除いたものに基づいて、
(6)式で波高分布pk(h)それぞれを算出し、その後、
波高分布pk(h)それぞれにノイズの影響をコンボリュー
ション計算によって重畳しておく(k=2,3,…,K)。
【0048】以上のようにして、パルス光測光装置が固
有的に有しているノイズの影響を考慮した波高分布p
k(h)(k=1,2,3,…,K)を、被測定光束の光量測定に先立
って用意しておく。図6は、このようにして求められた
k-光電子事象の波高分布pk(h)それぞれを示す図であ
る。なお、この図では、K=8としてある。
【0049】そして次に、試料90からの蛍光を被測定
光束として受光して、その波高分布n(h) を得る。図7
は、本実施形態に係るパルス光測光装置における被測定
光束に対する波高分布を獲得する際の動作を示すタイミ
ングチャートである。パルスレーザ光源80は、一定強
度のパルスレーザ光を一定周期で出射して試料90に照
射し(図7(a))、光検出器10は、その試料90か
ら生じたパルス状の蛍光である被測定光束を受光して
(図7(b))、パルス状の電流信号を出力する(図7
(c))。電荷有感型前置増幅器20は、このパルス状
の電流信号を積分して電圧信号を出力し(図7
(d))、波形整形増幅器30は、その電圧信号を増幅
する(図7(e))。
【0050】ピークホールド回路40は、トリガ回路8
2から出力されゲート回路134を経て入力するトリガ
信号(図7(f))が示す期間だけ動作して、その期間
内に波形整形増幅器30から出力された電圧信号の最大
値をホールドし出力する(図7(g))。AD変換器5
0は、同じくトリガ回路82から出力されゲート回路1
34を経て力するトリガ信号(図7(h))の立ち下が
り時刻において波形整形増幅器40から出力されている
電圧信号を、その電圧値に応じたデジタル値に変換す
る。なお、ピークホールド回路40に入力するトリガ信
号およびAD変換器50に入力するトリガ信号それぞれ
は、図5で説明したタイミングと同一のタイミングのも
のである。
【0051】以上の動作は、パルスレーザ光源80から
パルスレーザ光が出射される度に行われ、AD変換器5
0から出力されたデジタル値に対応したヒストメモリ6
0の番地に所定値が累積加算されて波高値分布n(h) が
得られる。ただし、このようにしてヒストメモリ60が
波高分布を蓄積するのは、ゲート信号発生回路133か
ら出力されるゲート信号が非飽和状態であることを示し
ている期間だけである。また、カウンタ81がパルスレ
ーザ光源80から出射されたパルスの数を計数するの
も、ゲート信号発生回路133から出力されるゲート信
号が非飽和状態であることを示している期間だけであ
る。
【0052】以上のようにして、被測定光束に対する波
高分布n(h) がヒストメモリ60に蓄積されると、光電
子数分布推定手段73は、そのヒストメモリ60に蓄積
された波高分布n(h) を獲得する。そして、光電子数分
布推定手段73は、この波高分布n(h) 、上述した単一
光電子事象およびk-光電子事象それぞれ場合の波高分布
pk(h)(k=1,2,3,…,K)、ならびに、カウンタ81によ
り計数されたパルス計数値Nから、被測定光束である蛍
光を受光して光電変換面13から放出された光電子の個
数の平均値すなわち被測定光束の光量を、以下の要領で
推定する。
【0053】この波高分布n(h) は、規格化する必要は
なく、ヒストメモリ60に蓄積されたままの値でよい。
すなわち、波高分布n(h) は、波高値hが得られた事象
の分布を表す。被測定光束を受光して光検出器10の光
電変換面13で放出される光電子の個数の分布(光電子
数分布)の推定に際しては例えば最尤法を用いる。すな
わち、k-光電子事象それぞれが生起する確率をqk (k=
1,2,3,…,K)として、
【数7】 なる式で表される対数尤度が最大になるqk を求め、こ
れを推定光電子数分布とする。ここで、Nは、カウンタ
81によるパルス計数値であり、hmin は、解析に使用
できる最小の波高値hである。波高値hが小さい場合に
は、光検出器10や波形整形増幅器30などに因るノイ
ズが重畳されているので解析には使用できないので、波
高値hmin 以上についてのみ解析する。また、p(h) お
よびpNDは、
【数8】
【数9】 である。このp(h) は、k-光電子事象(k=1,2,3,…,K)
それぞれの生起確率(光電子数分布)をも考慮した波高
値hの発生確率分布を表す。(7)式の対数尤度を最大
とするqk を求めるには、例えば最適化問題に対して使
われる準ニュートン法等の数値計算法を適用する。
【0054】光電子数分布としてポアソン分布を仮定す
る場合には、k-光電子事象それぞれが生起する確率qk
(k=1,2,3,…,K)は、
【数10】 で表される。ここで、λは、光電変換面13から放出さ
れる光電子の個数の平均値である。この場合、対数尤度
を最大とする光電子数分布を求めることは、対数尤度を
最大とするλ値を求めることであり、例えば黄金分割法
等の数値計算により求めることができる。以下では、光
電子数分布としてポアソン分布を仮定する。図8は、被
測定光束を光検出器10で受光してヒストメモリ60に
生成された波高分布(破線)と、最尤法で推定されたλ
値に基づいて計算された波高分布(実線)との1例を示
す。両者は、波高値hmin (=150)以上の範囲で良
い一致を示している。なお、このとき推定された光電子
数の平均値λは、1.03であった。
【0055】次に、光電子数の平均値λの推定誤差に関
して第1の実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術
(ゼロ確率を利用する推定法)との理論的比較について
述べる。図9は、本実施形態による推定法とゼロ確率を
利用する推定法との比較の結果を示す図である。
【0056】光検出器の光電変換面から放出される光電
子数の平均値λ0 を 0.1、0.2、0.4、1.0、2.0、3.0 と
し、それぞれにつき500個の波高分布をシミュレーシ
ョン計算で生成し、これを用いてそれぞれの手法で光電
子数の平均値λを推定し、その推定値の分布の標準偏差
を求めた。図9中の◇印は、第1の実施形態に係るパル
ス光測光装置を用いた場合の推定λ値の分布の標準偏差
の理論値であり、□印は、ゼロ確率を利用する推定法の
場合の推定λ値の分布の標準偏差の理論値である。
【0057】この図より、ゼロ確率を利用する推定法に
よる推定よりも、第1の実施形態に係るパルス光測光装
置を用いた方が、光電子数の平均値λを精度よく推定で
きることがわかる。特に、光電子数の平均値λが 0.4を
越えると、この平均値λが大きい程、それぞれの推定法
による推定λ値の分布の標準偏差の差が大きくなる。す
なわち、第1の実施形態に係るパルス光測光装置を用い
れば、被測定光束が光検出器10に入射して光電変換面
13から放出される光電子数の平均値λが大きい場合で
あっても、その平均値λを精度良く推定することがで
き、つまりは、その被測定光束の光量を精度良く求める
ことができる。
【0058】次に、光電子数の平均値λの推定誤差に関
して第1の実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術
(平均波高値を利用する推定法)との理論的比較につい
て述べる。図10は、本実施形態による推定法と平均波
高値を利用する推定法との比較の結果を示す図である。
【0059】光検出器の光電変換面から放出される光電
子数の平均値λ0 を 0.1、0.2、0.4、1.0、2.0、3.0、
7.0、10.0、12.5、15.0、17.5、20.0とし、それぞれに
つき500個の波高分布をシミュレーション計算で生成
し、これを用いてそれぞれの手法で光電子数の平均値λ
を推定し、500個の推定λ値の平均値<λ>とシミュ
レーションで波高分布を生成する際に与えたλ0 との比
<λ>/λ0 を求めた。図10中の◇印は、第1の実施
形態に係るパルス光測光装置を用いた場合の<λ>/λ
0 であり、□印は、平均波高値を利用する推定法の場合
の<λ>/λ0 である。
【0060】この図より、平均波高値を利用する従来技
術では、平均光電子数λ0 が7より大きくなると、h
max よりも大きな波高値の事象の発生が無視できないほ
どの頻度となり、推定値は真の値よりも小さくなってい
る。すなわち、この推定法に基づいて蛍光物質を定量す
ると過小評価することになる。λ0 =20の場合、光電
子増倍管からの出力パルスのうち僅かに5%のみが、波
高値がhmin からhmaxまでの間に入って検出される。
一方、第1の実施形態に係るパルス光測光装置による推
定法では、λ0 値が20になっても真の値と略等しい推
定値が得られている。
【0061】(第2の実施形態)次に、第2の実施形態
に係るパルス光測光装置の構成について説明する。図1
1は、第2の実施形態に係るパルス光測光装置を用いた
蛍光測定システムの構成図である。この図は、第2の実
施形態に係るパルス光測光装置1Aの他に、パルスレー
ザ光を出射するパルスレーザ光源80、パルスレーザ光
が照射されると蛍光を発生する試料90、ならびに、励
起光照射および蛍光検出のための光学系をも示してい
る。
【0062】本実施形態に係るパルス光測光装置1Aに
おける光検出器10、逆バイアス電源18、高圧電源1
9、電荷有感型前置増幅器20、波形整形増幅器30、
ピークホールド回路40、AD変換器50、ヒストメモ
リ60、カウンタ81、トリガ回路82およびゲート手
段130それぞれは、第1の実施形態の場合と同様のも
のであり、同様のタイミングで作用をする。また、パル
スレーザ光源80、励起光照射光学系および蛍光検出光
学系も、第1の実施形態の場合と同様である。
【0063】ただし、本実施形態に係るパルス光測光装
置1Aは、第1の実施形態に係るパルス光測光装置1が
有していたゲート回路134を有さず、トリガ回路82
は、ピークホールド回路40およびAD変換器50それ
ぞれに直接に接続されており、トリガ回路82から出力
されるトリガ信号は、ピークホールド回路40およびA
D変換器50それぞれを直接に制御する。
【0064】また、本実施形態では、第1の実施形態と
比べて以下の点で異なる。すなわち、所定数対(ここで
は6対)の比較器11kとカウンタ12kとが波形整形
増幅器30と演算部70Aとの間に並列に配されている
(k=1,2,3,…,6)。比較器111ないし116それぞれ
は、波形整形増幅器30から出力されて一方の入力端子
に入力された電圧信号と、参照電圧発生器110から出
力されて他方の入力端子に入力された互いに異なる値の
参照電圧それぞれとを大小比較して、前者の値が大きい
場合に論理パルス信号を出力する。カウンタ121ない
し126それぞれは、比較器111ないし116それぞ
れ及びゲート信号発生回路133と接続されていて、ゲ
ート信号発生回路133から出力されたゲート信号が非
飽和状態であることを示している期間だけ、比較器11
1ないし116それぞれから出力された論理パルス信号
を計数する。また、演算部70Aにおける処理内容は、
第1の実施形態の演算部70の処理内容とは異なる(詳
細は後述する)。
【0065】パルスレーザ光源80から出射されたパル
スレーザ光は、レンズ84,85、反射鏡83およびレ
ンズ86を経て試料90に照射され、その試料90から
生じたパルス状の蛍光は、レンズ91、バリアフィルタ
92およびレンズ93を経て光検出器10の光電変換面
13に入射する。被測定光束である蛍光を受光して光検
出器10から出力された電流信号は、電荷有感型前置増
幅器20により積分されて電圧信号に変換され、この電
荷有感型前置増幅器20から出力された電圧信号は、波
形整形増幅器30により増幅される。その増幅された電
圧信号は、単一光電子事象波高分布生成手段71Aが単
一光電子事象波高分布を獲得する際には、ピークホール
ド回路40により、そのピーク値がホールドされて出力
され、更に、AD変換器50により、その電圧信号のピ
ーク値に応じたデジタル値に変換される。このデジタル
値は、ヒストメモリ60に入力され、そのデジタル値に
応じた番地に所定値(例えば、1)が累積加算され、A
D変換器50から出力された電圧信号の波高値の分布が
得られる。
【0066】一方、電荷有感型前置増幅器20から出力
された電圧信号は、参照電圧発生器132から出力され
た一定電圧とともに、比較器131に入力して両者の値
が比較される。そして、その比較結果に応じて、飽和状
態および非飽和状態の何れにあるかを示すゲート信号が
ゲート信号発生回路133から出力される。
【0067】また、カウンタ81は、ゲート信号発生回
路133から出力されたゲート信号が非飽和状態である
ことを示している期間だけ、パルスレーザ光源80から
出射されるパルスレーザ光のパルス数を計数し、そのパ
ルス計数値を演算部70Aに出力する。また、トリガ回
路82は、パルスレーザ光源80から出射されるパルス
レーザ光に同期したタイミングでトリガ信号を出力し、
そのトリガ信号は、ピークホールド回路40およびAD
変換器50それぞれに入力する。
【0068】以上の構成と作用とは、第1の実施形態の
場合と略同様である。しかし、以下に述べる事項は、本
実施形態に係るパルス光測光装置1Aの特徴的な事項で
ある。
【0069】波形整形増幅器30から出力された電圧信
号は、ピークホールド回路40に入力するだけでなく、
6個の比較器111ないし116それぞれの一方の入力
端子に入力する。また、比較器111ないし116それ
ぞれの他方の入力端子には、参照電圧発生器110から
出力された一定の参照電圧Vr1ないしVr6それぞれ
が入力される。比較器111ないし116それぞれは、
波形整形増幅器30から出力された電圧信号と参照電圧
発生器110から出力された参照電圧Vr1ないしVr
6それぞれとを大小比較して、波形整形増幅器30から
出力された電圧信号の方が大きい場合に論理パルス信号
を出力する。カウンタ121ないし126それぞれは、
比較器111ないし116それぞれから出力された論理
パルス信号を計数する。なお、カウンタ121ないし1
26それぞれは、ゲート信号発生回路133から出力さ
れたゲート信号が非飽和状態であることを示している期
間だけ動作する。また、参照信号発生器110から出力
される参照電圧Vr1ないしVr6それぞれは、k-光電
子事象の波高分布pk(h)(k=1,2,3,…,K)に基づいて設
定される。
【0070】演算部70Aは、ヒストメモリ60により
生成された波高分布およびカウンタ121ないし126
それぞれによる計数値に基づいて、光検出器10の光電
変換面13で放出された光電子の個数の分布(光電子数
分布)を推定し、この推定された光電子数分布に基づい
て被測定光束の光量を求める。演算部70Aとして例え
ばコンピュータが用いられる。
【0071】次に、パルス光測光装置1Aにおけるゲー
ト信号によるゲーティング動作について説明する。図1
2は、本実施形態に係るパルス光測光装置における各信
号を示すタイミングチャートである。
【0072】本実施形態においても、電荷有感型前置増
幅器20から出力される電圧信号(図12(a))、ゲ
ート信号発生回路133から出力されるゲート信号(図
12(b))、パルスレーザ光源80から出力されるタ
イミング信号(図12(c))、波形整形増幅器30か
ら出力される電圧信号(図示せず)、ピークホールド回
路40に入力するトリガ信号(図示せず)、および、A
D変換器50に入力するトリガ信号(図示せず)それぞ
れは、第1の実施形態の場合(図4(a)〜(f))と
同様である。これに加えて本実施形態においては、カウ
ンタ121ないし126それぞれには、ゲート信号発生
回路133から出力されたゲート信号が入力され、その
ゲート信号が積分手段が非飽和状態にあることを示して
いる期間だけ動作する。ただし、ゲート信号が示す積分
手段の飽和状態の末期においては、被測定パルス光に対
応した電圧信号が波形整形増幅器30から出力され得る
ので、図12(d),(e)に示すように、比較器11
1ないし116からも論理パルス信号が出力され得る
が、これらの論理パルス信号は、カウンタ121ないし
126により計数されることはない。
【0073】次に、光検出器10の光電変換面13に被
測定光束が入射して放出される光電子数分布の推定方
法、および、参照電圧Vr1ないしVr6それぞれの設
定値の決定方法について詳細に説明する。この光電子数
分布の推定は、演算部70Aにおいて行われるものであ
る。
【0074】被測定光束の光量測定に先立って、演算部
70A内の単一光電子事象波高分布生成手段71Aは、
単一光電子事象波高分布p1(h)を獲得し、続いて、k-光
電子事象波高分布生成手段72Aは、k-光電子事象波高
分布pk(h)を求める(k=2,3,…,K)。この単一光電子事
象波高分布p1(h)およびk-光電子事象波高分布pk(h)
(k=2,3,…,K)それぞれの獲得方法、および、光検出器
10、電荷有感型前置増幅器20および波形整形増幅器
30において発生するノイズに起因する波高分布の広が
りに対する対処は、第1の実施形態の場合と同様であ
る。
【0075】以上のようにして、パルス光測光装置1A
が固有的に有しているノイズの影響を考慮した波高分布
pk(h)(k=1,2,3,…,K)を、被測定光束の光量測定に先
立って用意しておく。図13は、このようにして求めら
れたk-光電子事象の波高分布pk(h)(k=1,2,3,…,K)そ
れぞれを示す図である。なお、この図では、K=10と
してある。また、この図には、参照電圧Vr1ないしV
r6それぞれに対応する波高値を破線で示してある。
【0076】続いて、被測定光束の光量を測定する。図
14は、本実施形態に係るパルス光測光装置における被
測定光束に対する波高分布を獲得する際の動作を示すタ
イミングチャートである。なお、この図では、パルスレ
ーザ光源80から出射されるパルスレーザ光の2パルス
分について示しており、また、その2パルスそれぞれの
発生時刻近傍のみを示している。
【0077】パルスレーザ光源80は、一定強度のパル
スレーザ光を一定周期で出射して試料90に照射し(図
14(a))、光検出器10は、その試料90から生じ
たパルス状の蛍光である被測定光束を受光して(図14
(b))、パルス状の電流信号を出力する(図14
(c))。電荷有感型増幅器20は、このパルス状の電
流信号を積分して電圧信号を出力し(図14(d))、
波形整形増幅器30は、その電圧信号を増幅する(図1
4(e))。以上は、第1の実施形態の場合と同様であ
る。なお、図14(e)には、波形整形増幅器30から
出力された電圧信号の波形に加えて、参照電圧発生器1
10から出力される参照電圧Vr3およびVr4それぞ
れの電圧値レベルをも示している。
【0078】比較器111ないし116それぞれは、波
形整形増幅器30から出力された電圧信号と、参照電圧
発生器11から出力される参照電圧Vr1ないしVr6
それぞれと大小比較して、前者が大きいときに論理パル
ス信号を出力する(図14(f),(g))。すなわ
ち、例えば、比較器114は、波形整形増幅器30から
出力された電圧信号が参照電圧Vr3より大きい期間だ
け論理パルス信号を出力し(図14(f))、比較器1
15は、波形整形増幅器30から出力された電圧信号が
参照電圧Vr4より大きい期間だけ論理パルス信号を出
力する(図14(g))。そして、カウンタ121ない
し126それぞれは、比較器111ないし116それぞ
れから出力された論理パルス信号を入力して、そのパル
ス数を計数する。
【0079】以上の動作は、パルスレーザ光源80から
パルスレーザ光が出射される度に行われ、波形整形増幅
器30から出力された電圧信号のパルスのピーク値に応
じて比較器111ないし116それぞれから出力された
論理パルス信号は、カウンタ121ないし126それぞ
れにより計数される。ただし、このようにしてカウンタ
121ないし126が計数するのは、ゲート信号発生回
路133から出力されるゲート信号が非飽和状態である
ことを示している期間だけである。また、カウンタ81
がパルスレーザ光源80から出射されたパルスの数を計
数するのも、ゲート信号発生回路133から出力される
ゲート信号が非飽和状態であることを示している期間だ
けである。
【0080】参照電圧発生器110から出力され比較器
111ないし116それぞれの一方の入力端子に入力さ
れる参照電圧Vr1ないしVr6それぞれは、k-光電子
事象の波高分布pk(h)(k=1,2,3,…,K)に基づいて、例
えば以下のようにして決定される。すなわち、比較器1
11に入力される参照電圧Vr1は、単一光電子事象波
高分布p1(h)の低波高部に重畳するノイズ成分より大き
く、且つ、単一光電子事象波高分布p1(h)のピークの低
波高側の裾よりも小さい波高値に対応する電圧値に設定
される。比較器112に入力される参照電圧Vr2は、
単一光電子事象波高分布p1(h)の高波高側の裾付近の波
高値に対応する電圧値に設定される。比較器113に入
力される参照電圧Vr3は、2-光電子事象波高分布p
2(h)の高波高側の裾付近の波高値に対応する電圧値に設
定される。比較器114に入力される参照電圧Vr4
は、4-光電子事象波高分布p4(h)の高波高側の裾付近の
波高値に対応する電圧値に設定される。比較器115に
入力される参照電圧Vr5は、7-光電子事象波高分布p
7(h)の高波高側の裾付近の波高値に対応する電圧値に設
定される。比較器116に入力される参照電圧Vr6
は、 10-光電子事象波高分布p10(h) の高波高側の裾付
近の波高値に対応する電圧値に設定される。
【0081】波高値hと波形整形増幅器30の出力電圧
Vout との関係をVout=V(h)で表し、参照電圧Vr1
ないしVr6を図13に示すk-光電子事象波高分布p
k(h)(k=1,2,3,…,10 )に基づいて求めると、Vr1=
V(h1=151)、Vr2=V(h2=438)、Vr3=V(h3=84
7)、Vr4=V(h4=1650) 、Vr5=V(h5=2839) 、V
r6=V(h6=4001) である。このようにして設定された
参照電圧Vr1ないしVr6それぞれが、参照信号発生
器110から出力され、比較器111ないし116それ
ぞれの一方の入力端子に入力される。
【0082】そして、光電子数分布推定手段73Aは、
被測定光束を光検出器10で受光したときのカウンタ1
21ないし126それぞれの計数値N1 ないしN6 を獲
得し、これらの計数値N1 ないしN6 ならびに上述した
単一光電子事象およびk-光電子事象それぞれ場合の波高
分布pk(h)(k=1,2,3,…,K)に基づいて、被測定光束を
受光して光電変換面13から放出された光電子の個数の
平均値すなわち被測定光束の光量を、以下の要領で推定
する。
【0083】被測定光束を受光して光検出器10の光電
変換面13で放出される光電子の個数の分布(光電子数
分布)の推定に際しては例えば最尤法を用いる。すなわ
ち、k-光電子事象それぞれが生起する確率をqk (k=1,
2,3,…,K)、また、光電変換面13から光電子が放出さ
れない確率(ゼロ確率)をq0 として、
【数11】 なる式で表される対数尤度が最大になるqk (k=0,1,2,
…,K)を求め、これを推定光電子数分布とする。ここ
で、Nは、カウンタ81によるパルス計数値である。ま
た、nm 、pNDおよびpm それぞれは、
【数12】
【数13】
【数14】 である。
【0084】ここで、光電子数分布の形として、母数の
数がカウンタの個数(今の場合は6)を超えない任意の
形を仮定することができるが、以下ではポアソン分布を
仮定する。光電子数分布としてポアソン分布を仮定する
場合には、k-光電子事象それぞれが生起する確率qk
(k=1,2,3,…,K)は、(10)式で表される。ここで、
λは、光電変換面13から放出される光電子の個数の平
均値である。この場合、対数尤度を最大とする光電子数
分布を求めることは、対数尤度を最大とするλ値を求め
ることであり、例えば黄金分割法等の数値計算により求
めることができる。
【0085】なお、ここでは、比較器111ないし11
6それぞれにおいて、入力する電圧信号の波高値hと論
理パルス信号が出力される確率との関係としてステップ
関数を仮定した。しかし、電圧信号の波高値hに対して
論理パルス信号が出力される確率が、より一般的にη
m(h)(m=1,2,3,…,M))で与えられる場合には、上記
(13)式および(14)式に替えて、
【数15】
【数16】 が用いられる。
【0086】次に、光電子数の平均値λの推定誤差に関
して第2の実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術
(ゼロ確率を利用する推定法)との理論的比較について
述べる。図15は、本実施形態による推定法とゼロ確率
を利用する推定法との比較の結果を示す図である。
【0087】光検出器の光電変換面から放出される光電
子数の平均値λ0 を 0.1、0.2、0.3、0.6、1.0、2.0、
3.0、6.0 とし、また、カウンタ81によるパルス計数
値Nを10000として、それぞれにつき500個の波
高分布をシミュレーション計算で生成し、これを用いて
それぞれの手法で光電子数の平均値λを推定し、その推
定値の分布の標準偏差を求めた。図15中の◇印は、第
2の実施形態に係るパルス光測光装置を用いた場合の推
定λ値の分布の標準偏差の理論値であり、□印は、ゼロ
確率を利用する推定法の場合の推定λ値の分布の標準偏
差の理論値である。
【0088】この図より、ゼロ確率を利用する推定法に
よる推定よりも、第2の実施形態に係るパルス光測光装
置を用いた方が、光電子数の平均値λを精度よく推定で
きることがわかる。特に、光電子数の平均値λが 0.6を
越えると、この平均値λが大きい程、それぞれの推定法
による推定λ値の分布の標準偏差の差が大きくなる。す
なわち、第2の実施形態に係るパルス光測光装置を用い
れば、入射光束が光検出器10に入射して光電変換面1
3から放出される光電子数の平均値λが大きい場合であ
っても、その平均値λを精度良く推定することができ、
つまりは、その入射光束の光量を精度良く求めることが
できる。
【0089】以上のように、この第2の実施形態に係る
パルス光測光装置1Aは、被測定光束の光量測定に際し
て、高速動作が不可能なAD変換器50を用いないの
で、第1の実施形態に係るパルス光測光装置1と比較し
て、パルスレーザ光源80による試料90の励起の繰り
返しを高速にすることができる。この励起の繰り返し率
の最大値は、試料90中に含まれる蛍光物質の蛍光寿
命、および、波形整形増幅器30の出力電圧信号のパル
ス幅により決まる。
【0090】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく種々の変形が可能である。波高分布生成手段
は、AD変換器とヒストメモリとを備えるものに限られ
るものではない。例えば、1個の比較器の一方の入力端
子に参照電圧Vrを入力し、他方の入力端子に、波形整
形増幅器30から出力された電圧信号を入力する。そし
て、この参照電圧Vrを走査し、参照電圧の各値Vri
に対するカウンタの一定時間の計数値Ni を求め、この
計数値Ni の差分Ni−Ni+1をもって波高分布とする。
この場合、波高値hには、(Vri+Vri+1)/2が対
応する(i=1,2,3,…)。
【0091】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり本発明に係
る第1のパルス光測光装置によれば、パルス状の被測定
光束が光検出器に入射すると、その光量に応じた光電子
数分布に従った個数の光電子が放出され、その光電子が
増倍されて電流信号が出力される。この電流信号は、積
分手段により積分されて電圧信号となり、この電圧信号
は、波高分布生成手段によりその波高分布が生成され
る。このパルス状の被測定光束は、パルス信号に同期し
て発生するものであり、そのパルス信号は、パルス計数
手段により計数される。これらパルス計数手段および波
高分布生成手段それぞれは、ゲート手段により、積分手
段が飽和状態にあるときには、動作が禁止される。一
方、光検出器で放出される光電子が1個の場合に波高分
布生成手段で生成される波高分布は、単一光電子事象波
高分布として、単一光電子事象波高分布生成手段により
獲得され、また、光検出器で放出される光電子の個数k
が2以上かつ所定数以下のそれぞれの場合におけるk-光
電子事象波高分布は、k-光電子事象波高分布生成手段に
より、単一光電子事象波高分布に基づいて漸化的にコン
ボリューション計算によって算出される。そして、光電
子数分布推定手段により、被測定光束が光検出器に入射
して波高分布生成手段で生成された波高分布と単一光電
子事象波高分布と光電子の個数kそれぞれの場合におけ
るk-光電子事象波高分布とパルス計数手段による計数結
果とに基づいて、被測定光束が光検出器に入射した場合
の光電子数分布を推定することによって被測定光束の光
量が求められる。
【0092】また、本発明に係る第2のパルス光測光装
置によれば、パルス状の被測定光束が光検出器に入射す
ると、その光量に応じた光電子数分布に従った個数の光
電子が放出され、その光電子が増倍されて電流信号が出
力される。この電流信号は、積分手段により積分されて
電圧信号となり、この電圧信号は、波高分布生成手段に
よりその波高分布が生成される。また、積分手段から出
力された電圧信号は、所定数の比較手段により、互いに
異なる所定の参照電圧それぞれと比較されて、電圧信号
が所定の参照電圧それぞれより大きい場合に論理パルス
信号がそれぞれ出力され、その論理パルス信号は所定数
の計数手段それぞれにより計数される。このパルス状の
被測定光束は、パルス信号に同期して発生するものであ
り、そのパルス信号は、パルス計数手段により計数され
る。これらパルス計数手段および所定数の計数手段手段
それぞれは、ゲート手段により、積分手段が飽和状態に
あるときには、動作が禁止される。一方、光検出器で放
出される光電子が1個の場合に波高分布生成手段で生成
される波高分布は、単一光電子事象波高分布として、単
一光電子事象波高分布生成手段により獲得され、また、
光検出器で放出される光電子の個数kが2以上かつ所定
数以下のそれぞれの場合におけるk-光電子事象波高分布
は、k-光電子事象波高分布生成手段により、単一光電子
事象波高分布に基づいて漸化的にコンボリューション計
算によって算出される。そして、光電子数分布推定手段
により、その所定数の計数手段それぞれで得られた計数
結果と単一光電子事象波高分布と光電子の個数kそれぞ
れの場合におけるk-光電子事象波高分布とパルス計数手
段による計数結果とに基づいて、被測定光束が光検出器
に入射した場合の光電子数分布を推定することによって
被測定光束の光量が求められる。
【0093】これらのパルス光測光装置に用いられる光
検出器として、アバランシェフォトダイオードを利用し
たものが好適であり、また、光電子の個数分布を推定す
るに際しては、ポアソン分布を仮定して最尤法によるの
が好適である。
【0094】このような構成としたので、大きな強度の
背景光が光検出器に入射した場合等のように積分手段が
飽和したとしても、ゲート手段により、飽和状態である
ときには波高分布の蓄積動作が禁止され、非飽和状態に
あるときだけ波高分布が蓄積されるので、パルス状の外
乱光等の影響が最小限に抑えられ、被測定光束の光量が
S/N比よく測定され得る。さらに、上述の光検出器を
用いて、その光検出器の光電変換面から放出される光電
子を上述の光電子数分布推定手段により推定することと
したので、光検出器の光電変換面で2個以上の光電子が
放出される確率が高くても、あるいは、光検出器の光電
変換面から放出される光電子の個数の平均値λが大きく
ても、平均値λが高精度に推定されて、被測定光束の光
量が精度よく測定され得る。
【0095】特に、本発明に係る第2のパルス光測光装
置では、被測定光束の光量測定に際して、高速動作が可
能な比較器とカウンタとが用いられるので、光量測定を
迅速に行うことができる。例えば、試料中の蛍光物質の
2次元的な分布を求めるレーザ走査型蛍光顕微鏡におい
て、このパルス光測光装置を用いれば、試料励起の繰り
返し率を高くすることができるので、走査範囲全体を走
査するのに要する時間を短縮することができる。
【0096】したがって、本発明に係るパルス測光装置
は、例えば生化学等の分野において、パルスレーザ光源
で励起された試料から発生する蛍光を光子計数してその
試料中の蛍光分子数を定量測定するパルス光測光装置と
して好適に用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るパルス光測光装置の構成要素の1
つとして好適に用いられる光検出器の断面図である。
【図2】光検出器内のAPDにおける逆バイアス電圧と
アバランシェ増倍率との関係を示す図である。
【図3】第1の実施形態に係るパルス光測光装置を用い
た蛍光測定システムの構成図である。
【図4】第1の実施形態に係るパルス光測光装置におけ
る各信号を示すタイミングチャートである。
【図5】第1の実施形態に係るパルス光測光装置におけ
る単一光電子事象分布を獲得する際の動作を示すタイミ
ングチャートである。
【図6】k-光電子事象の波高分布pk(h)を示す図であ
る。
【図7】第1の実施形態に係るパルス光測光装置におけ
る被測定光束に対する波高分布を獲得する際の動作を示
すタイミングチャートである。
【図8】被測定光束を実際に測定して得られた波高分布
(破線)と、最尤法で推定されたλ値に基づいて計算さ
れた波高分布(実線)とを示す図である。
【図9】光電子数の平均値λの推定誤差に関して第1の
実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術(ゼロ確率
を利用する推定法)との理論的比較の結果を示す図であ
る。
【図10】光電子数の平均値λの推定誤差に関して第1
の実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術(平均波
高値を利用する推定法)との理論的比較の結果を示す図
である。
【図11】第2の実施形態に係るパルス光測光装置を用
いた蛍光測定システムの構成図である。
【図12】第2の実施形態に係るパルス光測光装置にお
ける各信号を示すタイミングチャートである。
【図13】k-光電子事象の波高分布pk(h)および参照電
圧Vr1ないしVr6を示す図である。
【図14】第2の実施形態に係るパルス光測光装置にお
ける被測定光束に対する波高分布を獲得する際の動作を
示すタイミングチャートである。
【図15】光電子数の平均値λの推定誤差に関して第2
の実施形態に係るパルス光測光装置と従来技術(ゼロ確
率を利用する推定法)との理論的比較の結果を示す図で
ある。
【符号の説明】
1,1A…パルス光測光装置、10…光検出器、11…
真空容器、12…入射窓、13…光電変換面、14…集
束電極、15…アバランシェフォトダイオード(AP
D)、16…アノード、16a…アノード端子、17…
カソード、17a…カソード端子、18…逆バイアス電
源、19…高圧電源、20…電荷有感型前置増幅器、3
0…波形整形増幅器、40…ピークホールド回路、50
…AD変換器、60…ヒストメモリ、70,70A…演
算部、71,71A…単一光電子事象波高分布生成手
段、72,72A…k-光電子事象波高分布生成手段、7
3,73A…光電子数分布推定手段、80…パルスレー
ザ光源、81…カウンタ、82…トリガ回路、83…反
射鏡、84,85,86…レンズ、90…試料、91…
レンズ、92…バリアフィルタ、93…レンズ、110
…参照信号発生器、111,112,113,114,
115,116…比較器、121,122,123,1
24,125,126…カウンタ、130…ゲート手
段、131…比較器、132…参照電圧発生器、133
…ゲート信号発生回路、134…ゲート回路。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パルス信号に同期して発生するパルス状
    の被測定光束の光量を測定するパルス光測光装置であっ
    て、 入射した前記被測定光束の光量に応じた光電子数分布に
    従った個数の光電子を放出し、前記光電子を増倍して電
    流信号を出力する光検出器と、 前記電流信号を積分して電圧信号に変換する積分手段
    と、 前記電圧信号の波高分布を生成する波高分布生成手段
    と、 前記パルス信号のパルス数を計数するパルス計数手段
    と、 前記積分手段が飽和状態にあるか否かを判定し、飽和状
    態にあると判定したときには前記パルス計数手段および
    前記波高分布生成手段それぞれの動作を禁止するゲート
    手段と、 前記光検出器で放出される光電子が1個の場合に前記波
    高分布生成手段で生成される波高分布を単一光電子事象
    波高分布として獲得する単一光電子事象波高分布生成手
    段と、 前記光検出器で放出される光電子の個数kが2以上かつ
    所定数以下のそれぞれの場合におけるk-光電子事象波高
    分布を、前記単一光電子事象波高分布に基づいて漸化的
    にコンボリューション計算によって算出するk-光電子事
    象波高分布生成手段と、 前記被測定光束が前記光検出器に入射して前記波高分布
    生成手段で生成された波高分布と前記単一光電子事象波
    高分布と前記光電子の個数kそれぞれの場合における前
    記k-光電子事象波高分布と前記パルス計数手段による計
    数結果とに基づいて、前記被測定光束が前記光検出器に
    入射した場合の前記光電子数分布を推定することによっ
    て前記被測定光束の光量を求める光電子数分布推定手段
    と、 を備えることを特徴とするパルス光測光装置。
  2. 【請求項2】 パルス信号に同期して発生するパルス状
    の被測定光束の光量を測定するパルス光測光装置であっ
    て、 入射した前記被測定光束の光量に応じた光電子数分布に
    従った個数の光電子を放出し、前記光電子を増倍して電
    流信号を出力する光検出器と、 前記電流信号を積分して電圧信号に変換する積分手段
    と、 前記電圧信号の波高分布を生成する波高分布生成手段
    と、 前記電圧信号を互いに異なる所定の参照電圧それぞれと
    比較して、前記電圧信号が前記所定の参照電圧それぞれ
    より大きい場合に論理パルス信号をそれぞれ出力する所
    定数の比較手段と、 前記所定数の比較手段それぞれから出力された論理パル
    ス信号をそれぞれ計数する所定数の計数手段と、 前記パルス信号のパルス数を計数するパルス計数手段
    と、 前記積分手段が飽和状態にあるか否かを判定し、飽和状
    態にあると判定したときには前記パルス計数手段および
    前記波高分布生成手段それぞれの動作を禁止するゲート
    手段と、 前記光検出器で放出される光電子が1個の場合に前記波
    高分布生成手段で生成される波高分布を単一光電子事象
    波高分布として獲得する単一光電子事象波高分布生成手
    段と、 前記光検出器で放出される光電子の個数kが2以上かつ
    所定数以下のそれぞれの場合におけるk-光電子事象波高
    分布を、前記単一光電子事象波高分布に基づいて漸化的
    にコンボリューション計算によって算出するk-光電子事
    象波高分布生成手段と、 前記被測定光束が前記光検出器に入射して前記所定数の
    計数手段それぞれで得られた計数結果と前記単一光電子
    事象波高分布と前記光電子の個数kそれぞれの場合にお
    ける前記k-光電子事象波高分布と前記パルス計数手段に
    よる計数結果とに基づいて、前記被測定光束が前記光検
    出器に入射した場合の前記光電子数分布を推定すること
    によって前記被測定光束の光量を求める光電子数分布推
    定手段と、 を備えることを特徴とするパルス光測光装置。
  3. 【請求項3】 前記光検出器は、入射した光束の光量に
    応じた光電子数分布に従った個数の光電子を放出する光
    電変換面と、 アノードとカソードとの間に逆バイアス電圧が印加さ
    れ、且つ、前記光電変換面に対向する部位が前記光電変
    換面の電位よりも高電位に設定されて、前記光電子を入
    力して生成された電子・正孔対をアバランシェ増倍し、
    アバランシェ増倍された電子・正孔対の数に応じた前記
    電流信号を出力するアバランシェフォトダイオードと、 前記光束を透過させる入射窓を備えて前記光電変換面お
    よび前記アバランシェフォトダイオードを内部に含む真
    空容器と、 を備えることを特徴とする請求項1または2記載のパル
    ス光測光装置。
  4. 【請求項4】 前記光電子数分布推定手段は、最尤法に
    より前記光電子数分布を推定する、ことを特徴とする請
    求項1または2記載のパルス光測光装置。
  5. 【請求項5】 前記光電子数分布推定手段は、前記光電
    子数分布がポアソン分布であると仮定して前記光電子数
    分布を推定する、ことを特徴とする請求項1または2記
    載のパルス光測光装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960771B1 (en) 1999-03-26 2005-11-01 Hamamatsu Photonics K.K. Optical measurement apparatus and method for optical measurement
JP2020041812A (ja) * 2018-09-06 2020-03-19 キヤノン株式会社 光電変換装置及び撮像システム
JP2022541036A (ja) * 2019-07-15 2022-09-21 ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 光信号パラメータを測定するための方法および装置ならびに不揮発性記憶媒体

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