JPH1022817A - 論理回路及び半導体集積回路配列 - Google Patents
論理回路及び半導体集積回路配列Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ジャンクション容量の影響による各入力に対
する出力の遅延時間を平均化でき、且つ、多入力の場合
にも容易に適用できるNAND回路及びNOR回路など
の論理回路を提供すること。 【解決手段】 本発明の提案する論理回路は、2以上の
入力信号を受けて論理動作を行う論理回路において、論
理部は、前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが
直列に接続されてなるトランジスタ列を4列有してお
り、階層的なイメージに従い出力差を生じないように各
列に含まれるMOS型トランジスタのゲートが互いに接
続されて構成されている。
する出力の遅延時間を平均化でき、且つ、多入力の場合
にも容易に適用できるNAND回路及びNOR回路など
の論理回路を提供すること。 【解決手段】 本発明の提案する論理回路は、2以上の
入力信号を受けて論理動作を行う論理回路において、論
理部は、前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが
直列に接続されてなるトランジスタ列を4列有してお
り、階層的なイメージに従い出力差を生じないように各
列に含まれるMOS型トランジスタのゲートが互いに接
続されて構成されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の入力を有す
るNAND回路又はNOR回路などの回路において用い
られる複数のトランジスタが直列接続された回路に関
し、特に、該回路を半導体を用いて集積化するための半
導体集積回路配列に関する。
るNAND回路又はNOR回路などの回路において用い
られる複数のトランジスタが直列接続された回路に関
し、特に、該回路を半導体を用いて集積化するための半
導体集積回路配列に関する。
【0002】
【従来の技術】MOS型トランジスタで構成されたN入
力否定論理積(以下、NAND)回路のように、nチャ
ネルMOS型トランジスタがN個直列に接続されてなる
論理部を備えた論理回路、及びn入力否定論理和(以
下、NOR)回路のようにpチャネルMOS型トランジ
スタがN個直列に接続されてなる論理部を備えた論理回
路においては、その入力の違いによる入力配線(ゲート
を含む)のアンバランス、並びに、出力に見える対ゲー
ト容量、ジャンクション容量、及び配線のアンバランス
等により夫々の出力間に時間差が生じないように設計す
ることが望まれている。
力否定論理積(以下、NAND)回路のように、nチャ
ネルMOS型トランジスタがN個直列に接続されてなる
論理部を備えた論理回路、及びn入力否定論理和(以
下、NOR)回路のようにpチャネルMOS型トランジ
スタがN個直列に接続されてなる論理部を備えた論理回
路においては、その入力の違いによる入力配線(ゲート
を含む)のアンバランス、並びに、出力に見える対ゲー
ト容量、ジャンクション容量、及び配線のアンバランス
等により夫々の出力間に時間差が生じないように設計す
ることが望まれている。
【0003】この種の例としては、従来、特開昭62−
202616号(以下、従来例)に開示されているもの
が挙げられる。
202616号(以下、従来例)に開示されているもの
が挙げられる。
【0004】従来例は、NAND回路およびNOR回路
においてスイッチング動作をする論理部、nチャネルM
OS型トランジスタおよびがN個直列に接続されている
トランジスタ列をN個又はN!個並列接続して構成して
おり、更に、各列のnチャネル又はpチャネルMOS型
トランジスタのゲートが、サイクリックに接続されてい
る。
においてスイッチング動作をする論理部、nチャネルM
OS型トランジスタおよびがN個直列に接続されている
トランジスタ列をN個又はN!個並列接続して構成して
おり、更に、各列のnチャネル又はpチャネルMOS型
トランジスタのゲートが、サイクリックに接続されてい
る。
【0005】このような構成を有する従来例のNAND
回路およびNOR回路は、N入力の夫々に対する出力間
の遅延時間の時間差をなくすことができる。
回路およびNOR回路は、N入力の夫々に対する出力間
の遅延時間の時間差をなくすことができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例においては、論理部に用いられる素子数が多く
面積が大きくなり、夫々を接続する配線の引き回しが複
雑になる。例えば、4又は5入力になると、論理部に用
いられるトランジスタの数は、4!又は5!と膨大な数
になってしまう。
た従来例においては、論理部に用いられる素子数が多く
面積が大きくなり、夫々を接続する配線の引き回しが複
雑になる。例えば、4又は5入力になると、論理部に用
いられるトランジスタの数は、4!又は5!と膨大な数
になってしまう。
【0007】また、従来例においては、電気的な回路図
だけしか示されていないため、従来例に示された回路を
具体的に集積回路化した場合における問題点については
何等記述されていない。従って、従来例に示された回路
例をそのまま集積化した場合、素子数の増加に伴う面積
の拡大は避けることができない。
だけしか示されていないため、従来例に示された回路を
具体的に集積回路化した場合における問題点については
何等記述されていない。従って、従来例に示された回路
例をそのまま集積化した場合、素子数の増加に伴う面積
の拡大は避けることができない。
【0008】ここで、面積の拡大は、そのままチップ面
積の増加に結び付き、チップ縮小化に支障をきたす。ま
た、素子数の増加に伴い、引き回される配線も長く複雑
になり、そこでのアンバランスもつきやすくなってしま
う。
積の増加に結び付き、チップ縮小化に支障をきたす。ま
た、素子数の増加に伴い、引き回される配線も長く複雑
になり、そこでのアンバランスもつきやすくなってしま
う。
【0009】そこで、本発明の目的は、ジャンクション
容量の影響による各入力に対する出力の遅延時間を平均
化でき、且つ、多入力の場合にも容易に適用できるNA
ND回路およびNOR回路などの論理回路を提供するこ
とにある。
容量の影響による各入力に対する出力の遅延時間を平均
化でき、且つ、多入力の場合にも容易に適用できるNA
ND回路およびNOR回路などの論理回路を提供するこ
とにある。
【0010】本発明の他の目的は集積回路を構成するの
に適した半導体集積回路配列を提供することにある。
に適した半導体集積回路配列を提供することにある。
【0011】本発明の他の目的は、前記NAND回路お
よびNOR回路などに適したレイアウトパターンを有す
る半導体集積回路配列を提供することにある。
よびNOR回路などに適したレイアウトパターンを有す
る半導体集積回路配列を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するために以下に示す手段を提供する。
解決するために以下に示す手段を提供する。
【0013】即ち、本発明によれば、2以上の入力信号
を受けて論理動作を行う論理回路において、論理部は、
前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが直列に接
続されてなるトランジスタ列を4列有しており、出力差
を生じないように各列に含まれるMOS型トランジスタ
のゲートが互いに接続されていることを特徴とする論理
回路が得られる。
を受けて論理動作を行う論理回路において、論理部は、
前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが直列に接
続されてなるトランジスタ列を4列有しており、出力差
を生じないように各列に含まれるMOS型トランジスタ
のゲートが互いに接続されていることを特徴とする論理
回路が得られる。
【0014】また、本発明によれば、3以上の入力信号
を受けて論理動作を行う論理回路において、論理部は、
前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが直列に接
続されてなるトランジスタ列を2列有しており、出力差
を生じないように各列に含まれるMOS型トランジスタ
のゲートが互いに接続されていることを特徴とする論理
回路が得られる。
を受けて論理動作を行う論理回路において、論理部は、
前記入力信号と同数のMOS型トランジスタが直列に接
続されてなるトランジスタ列を2列有しており、出力差
を生じないように各列に含まれるMOS型トランジスタ
のゲートが互いに接続されていることを特徴とする論理
回路が得られる。
【0015】更に、本発明によれば、所定方向に長さを
備え且つ該長さ方向に直角な方向に幅を備え、前記長さ
方向の中央部に中央領域を有し且つ当該中央領域を挟む
両側に2つの端部領域を有する素子領域に対して、複数
のMOS型トランジスタを配列した半導体集積回路配列
において、前記中央領域上に前記幅方向において延在す
る第1の電極リードと、前記2つの端部領域上から夫々
引き出された第2のリードと、前記2つの端部領域上の
前記第1のリードと各第2のリードとの間の領域に、前
記第1の電極リードを挟んで対称的に、且つ、前記第1
の電極リードと前記幅方向において並行に延在する複数
のMOS型トランジスタ用のゲート電極リードとを備え
ており、前記第2のリードは、前記第1の電極リードと
重ならないように、互いに接続されて第2の電極リード
を構成していることを特徴とする半導体集積回路配列が
得られる。
備え且つ該長さ方向に直角な方向に幅を備え、前記長さ
方向の中央部に中央領域を有し且つ当該中央領域を挟む
両側に2つの端部領域を有する素子領域に対して、複数
のMOS型トランジスタを配列した半導体集積回路配列
において、前記中央領域上に前記幅方向において延在す
る第1の電極リードと、前記2つの端部領域上から夫々
引き出された第2のリードと、前記2つの端部領域上の
前記第1のリードと各第2のリードとの間の領域に、前
記第1の電極リードを挟んで対称的に、且つ、前記第1
の電極リードと前記幅方向において並行に延在する複数
のMOS型トランジスタ用のゲート電極リードとを備え
ており、前記第2のリードは、前記第1の電極リードと
重ならないように、互いに接続されて第2の電極リード
を構成していることを特徴とする半導体集積回路配列が
得られる。
【0016】また、本発明によれば、同様の原理にて2
つの素子領域から構成された半導体集積回路配列が得ら
れる。
つの素子領域から構成された半導体集積回路配列が得ら
れる。
【0017】更に、本発明のよれば、上記いずれかの半
導体集積回路配列において、電源に接続される電源端子
を有する電源供給部を更に備えており、前記第1及び第
2の電極リードの一方は、前記電源供給部に接続されて
おり、該第1及び第2の電極リードの一方と前記電源供
給部との接続点は、出力端子であり、前記第1及び第2
の電極リードの他方は、グラウンドに接続されるアース
端子であり、前記複数のゲート電極リードは、前記2つ
の端部領域において夫々一つずつを一対として接続され
ており、一の前記一対のゲート電極リードと出力端子と
の間に介挿されている前記MOS型トランジスタの総数
は、他の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間
に介挿されているMOS型トランジスタの総数と等しく
なる様に構成されていることを特徴とする半導体集積回
路配列が得られる。
導体集積回路配列において、電源に接続される電源端子
を有する電源供給部を更に備えており、前記第1及び第
2の電極リードの一方は、前記電源供給部に接続されて
おり、該第1及び第2の電極リードの一方と前記電源供
給部との接続点は、出力端子であり、前記第1及び第2
の電極リードの他方は、グラウンドに接続されるアース
端子であり、前記複数のゲート電極リードは、前記2つ
の端部領域において夫々一つずつを一対として接続され
ており、一の前記一対のゲート電極リードと出力端子と
の間に介挿されている前記MOS型トランジスタの総数
は、他の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間
に介挿されているMOS型トランジスタの総数と等しく
なる様に構成されていることを特徴とする半導体集積回
路配列が得られる。
【0018】また、本発明によれば、上記いずれかの半
導体集積回路配列において、グラウンドに接続されるア
ース端子を有する接地制御部を更に備えており、前記第
1及び第2の電極リードの一方は、前記接地制御部に接
続されており、該第1及び第2の電極リードの一方と前
記接地制御部との接続点は、出力端子であり、前記第1
及び第2の電極リードの他方は、電源に接続される電源
端子であり、前記複数のゲート電極リードは、前記2つ
の端部領域において夫々一つずつを一対として接続され
ており、一の前記一対のゲート電極リードと出力端子と
の間に介挿されている前記MOS型トランジスタの総数
は、他の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間
に介挿されているMOS型トランジスタの総数と等しく
なる様に構成されていることを特徴とする半導体集積回
路配列が得られる。
導体集積回路配列において、グラウンドに接続されるア
ース端子を有する接地制御部を更に備えており、前記第
1及び第2の電極リードの一方は、前記接地制御部に接
続されており、該第1及び第2の電極リードの一方と前
記接地制御部との接続点は、出力端子であり、前記第1
及び第2の電極リードの他方は、電源に接続される電源
端子であり、前記複数のゲート電極リードは、前記2つ
の端部領域において夫々一つずつを一対として接続され
ており、一の前記一対のゲート電極リードと出力端子と
の間に介挿されている前記MOS型トランジスタの総数
は、他の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間
に介挿されているMOS型トランジスタの総数と等しく
なる様に構成されていることを特徴とする半導体集積回
路配列が得られる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の論理回路及び半
導体集積回路配列に関して、様々な実施の形態を図面を
用いて説明する。
導体集積回路配列に関して、様々な実施の形態を図面を
用いて説明する。
【0020】ここで、本発明の論理回路とは、複数の入
力を有するNAND回路又はNOR回路などであり、入
力の数と同数のトランジスタが直列接続されてなるトラ
ンジスタ列を備える論理部に特徴を有するものである。
力を有するNAND回路又はNOR回路などであり、入
力の数と同数のトランジスタが直列接続されてなるトラ
ンジスタ列を備える論理部に特徴を有するものである。
【0021】(第1の実施の形態)以下に、本発明の第
1の実施の形態の論理回路について、図面を用いて説明
する。
1の実施の形態の論理回路について、図面を用いて説明
する。
【0022】本発明の第1の実施の形態の論理回路は、
図1に示されるような構成を備えている。
図1に示されるような構成を備えている。
【0023】即ち、A及びB入力の2つの入力と同数の
トランジスタが直列接続されてなるトランジスタ列が4
列並列に接続された論理部を備えている。
トランジスタが直列接続されてなるトランジスタ列が4
列並列に接続された論理部を備えている。
【0024】この論理部は、2つの電源端子2及び3を
備えており、後述するように、該2つの電源端子2及び
3が、夫々、電源制御部や接地制御部、又は電源やグラ
ンドに接続されてNAND回路又はNOR回路の論理動
作を行うものである。
備えており、後述するように、該2つの電源端子2及び
3が、夫々、電源制御部や接地制御部、又は電源やグラ
ンドに接続されてNAND回路又はNOR回路の論理動
作を行うものである。
【0025】以下に、図1を参照して、更に詳細に説明
する。
する。
【0026】尚、以下において、第1のトランジスタと
は、図1において最左のトランジスタ列のことを呼び、
また、最左のトランジスタ列から右にいくにしたがっ
て、第2のトランジスタ列から順に第nのトランジスタ
列と呼ぶことにする。
は、図1において最左のトランジスタ列のことを呼び、
また、最左のトランジスタ列から右にいくにしたがっ
て、第2のトランジスタ列から順に第nのトランジスタ
列と呼ぶことにする。
【0027】また、図1において、各トランジスタ列を
構成するMOS型トランジスタの内で電源端子2に最も
近いものを第1のトランジスタと呼び、以下電源端子3
に近付くに従って第nのトランジスタと呼ぶ。
構成するMOS型トランジスタの内で電源端子2に最も
近いものを第1のトランジスタと呼び、以下電源端子3
に近付くに従って第nのトランジスタと呼ぶ。
【0028】第1のトランジスタ列の第1のMOS型ト
ランジスタのゲートには、入力Aが入力されている。ま
た、第1のトランジスタ列の第1のMOS型トランジス
タのゲートは、第2のトランジスタ列の第2のMOS型
トランジスタのゲートに接続されている。
ランジスタのゲートには、入力Aが入力されている。ま
た、第1のトランジスタ列の第1のMOS型トランジス
タのゲートは、第2のトランジスタ列の第2のMOS型
トランジスタのゲートに接続されている。
【0029】更に、第2のトランジスタ列の第2のMO
S型トランジスタのゲートは、第3のトランジスタ列の
第2のMOS型トランジスタのゲートに接続されてお
り、また、第3のトランジスタ列の第2のMOS型トラ
ンジスタのゲートは、第4のトランジスタ列の第1のM
OS型トランジスタのゲートに接続されている。
S型トランジスタのゲートは、第3のトランジスタ列の
第2のMOS型トランジスタのゲートに接続されてお
り、また、第3のトランジスタ列の第2のMOS型トラ
ンジスタのゲートは、第4のトランジスタ列の第1のM
OS型トランジスタのゲートに接続されている。
【0030】同様にして、第1のトランジスタ列の第2
のMOS型トランジスタは、入力Bが入力されていると
共に、第2乃至第4のトランジスタ列の順に、第1のM
OS型トランジスタ、第1のMOS型トランジスタ、及
び第2のMOS型トランジスタの夫々のゲートに接続さ
れている。
のMOS型トランジスタは、入力Bが入力されていると
共に、第2乃至第4のトランジスタ列の順に、第1のM
OS型トランジスタ、第1のMOS型トランジスタ、及
び第2のMOS型トランジスタの夫々のゲートに接続さ
れている。
【0031】このようにして構成された論理部を有する
論理回路においては、各電源端子2又は3から数えて、
あるゲートが接続されたMOS型トランジスタとの間に
介挿されている他のMOS型トランジスタの総数は、他
のゲートが接続されたMOS型トランジスタとの間に介
挿されているたのMOS型トランジスタの総数と等し
い。即ち、各入力に関係する寄生容量が等しいため、各
入力に対する出力に差が生じない。
論理回路においては、各電源端子2又は3から数えて、
あるゲートが接続されたMOS型トランジスタとの間に
介挿されている他のMOS型トランジスタの総数は、他
のゲートが接続されたMOS型トランジスタとの間に介
挿されているたのMOS型トランジスタの総数と等し
い。即ち、各入力に関係する寄生容量が等しいため、各
入力に対する出力に差が生じない。
【0032】次にこのような論理回路を半導体集積回路
として集積化する際のレイアウトである半導体集積回路
配列について、図2を用いて説明する。
として集積化する際のレイアウトである半導体集積回路
配列について、図2を用いて説明する。
【0033】図2を参照すると、所定方向に長さ(図2
におけるx方向)を有し、且つ、該長さ方向に直角な方
向に幅(図2におけるy方向)を有する第1及び第2の
素子領域11及び12が幅方向に並べられた構成を備え
ている。
におけるx方向)を有し、且つ、該長さ方向に直角な方
向に幅(図2におけるy方向)を有する第1及び第2の
素子領域11及び12が幅方向に並べられた構成を備え
ている。
【0034】また、第1及び第2の素子領域11及び1
2の夫々は、長さ方向(図2におけるx方向)の中央部
に中央領域11a及び12aを有し、且つ、中央領域1
1a及び12aを挟む両側に2つの端部領域11b及び
12bを有している。
2の夫々は、長さ方向(図2におけるx方向)の中央部
に中央領域11a及び12aを有し、且つ、中央領域1
1a及び12aを挟む両側に2つの端部領域11b及び
12bを有している。
【0035】この第1及び第2の素子領域11及び12
は、夫々中央領域11a及び12a上に幅方向(図2に
おけるy方向)に延びるように第1及び第2のリード2
1及び31が設けられている。また、第1及び第2の素
子領域11及び12は、夫々2つの端部領域11b及び
12bから各々引き出されて第1及び第2の素子領域1
1及び12の夫々の長さ方向の両端を接続するように、
且つ、第1及び第2のリード21及び31と重ならない
ように第3及び第4のリード22及び32が設けられて
いる。
は、夫々中央領域11a及び12a上に幅方向(図2に
おけるy方向)に延びるように第1及び第2のリード2
1及び31が設けられている。また、第1及び第2の素
子領域11及び12は、夫々2つの端部領域11b及び
12bから各々引き出されて第1及び第2の素子領域1
1及び12の夫々の長さ方向の両端を接続するように、
且つ、第1及び第2のリード21及び31と重ならない
ように第3及び第4のリード22及び32が設けられて
いる。
【0036】更に、第1及び第2の素子領域11及び1
2の夫々2つの端部領域11b及び12bの各々には、
夫々第1及び第2のリード21及び31を挟んで対称的
に、所定の間隔をあけて幅方向に並行に延びるように複
数のゲート電極リード41及び42が設けられている。
2の夫々2つの端部領域11b及び12bの各々には、
夫々第1及び第2のリード21及び31を挟んで対称的
に、所定の間隔をあけて幅方向に並行に延びるように複
数のゲート電極リード41及び42が設けられている。
【0037】この複数のゲート電極リード41及び42
は、夫々前述した論理回路の入力数と同数である。即
ち、本実施の形態の論理回路は、2入力であるため、ゲ
ート電極リード41及び42は、第1及び第2の素子領
域11及び12の夫々の2つの端部領域11b及び12
b毎に夫々2本ずつ設けられている。また、複数のゲー
ト電極リード41及び42の夫々と、複数のゲート電極
リード41及び42の夫々の長さ方向における両端と
は、各々MOS型トランジスタを形成している。このこ
とから理解されるように、第1及び第2の素子領域11
及び12において、複数のゲート電極リード41及び4
2の夫々の長さ方向における両端は、ドレイン領域又は
ソース領域である。また、各々のMOS型トランジスタ
のドレイン領域及び/又はソース領域は、各々のMOS
型トランジスタと長さ方向において隣り合うMOS型ト
ランジスタのソース領域及び/又はドレイン領域と共用
されている。
は、夫々前述した論理回路の入力数と同数である。即
ち、本実施の形態の論理回路は、2入力であるため、ゲ
ート電極リード41及び42は、第1及び第2の素子領
域11及び12の夫々の2つの端部領域11b及び12
b毎に夫々2本ずつ設けられている。また、複数のゲー
ト電極リード41及び42の夫々と、複数のゲート電極
リード41及び42の夫々の長さ方向における両端と
は、各々MOS型トランジスタを形成している。このこ
とから理解されるように、第1及び第2の素子領域11
及び12において、複数のゲート電極リード41及び4
2の夫々の長さ方向における両端は、ドレイン領域又は
ソース領域である。また、各々のMOS型トランジスタ
のドレイン領域及び/又はソース領域は、各々のMOS
型トランジスタと長さ方向において隣り合うMOS型ト
ランジスタのソース領域及び/又はドレイン領域と共用
されている。
【0038】更に、第1の素子領域11の各ゲート電極
リード41は、夫々第2の素子領域12の各ゲート電極
リード42と接続されて、各々ゲート電極リード4を構
成している。ここで、各ゲート電極リード4は、互いに
重ならないように構成されている。
リード41は、夫々第2の素子領域12の各ゲート電極
リード42と接続されて、各々ゲート電極リード4を構
成している。ここで、各ゲート電極リード4は、互いに
重ならないように構成されている。
【0039】また、第1の素子領域11の第1のリード
21は、第2の素子領域12の第4のリード32と、第
1の素子領域11と第2の素子領域12との間で接続さ
れて第1の電極リード2を構成している。
21は、第2の素子領域12の第4のリード32と、第
1の素子領域11と第2の素子領域12との間で接続さ
れて第1の電極リード2を構成している。
【0040】更に、第1の素子領域11の第3のリード
22は、第2の素子領域12の第2のリード31と、第
1の電極リード2と重ならないように接続されて第2の
電極リード3を構成している。
22は、第2の素子領域12の第2のリード31と、第
1の電極リード2と重ならないように接続されて第2の
電極リード3を構成している。
【0041】このような構成を有する半導体集積回路配
列においては、プロセスなどの条件により素子領域の右
側及び左側の各端部領域において、形状若しくは、注入
されるイオンの量の差により、各端部領域の容量に差が
ついてしまうといった予期せぬ場合においても、4つの
端部領域を有しているため、ある程度平滑化されてほぼ
一定の出力波形が得られることになる。
列においては、プロセスなどの条件により素子領域の右
側及び左側の各端部領域において、形状若しくは、注入
されるイオンの量の差により、各端部領域の容量に差が
ついてしまうといった予期せぬ場合においても、4つの
端部領域を有しているため、ある程度平滑化されてほぼ
一定の出力波形が得られることになる。
【0042】また、設計通りに集積化された半導体集積
回路が熱源の存在によって異なる出力波形が得られると
いった問題も、同様に、4つの端部領域を有しているた
め、熱源の影響を分散することができることにより解消
されている。
回路が熱源の存在によって異なる出力波形が得られると
いった問題も、同様に、4つの端部領域を有しているた
め、熱源の影響を分散することができることにより解消
されている。
【0043】更に、このような4つのトランジスタ列が
並列接続されてなる論理部を集積化した半導体集積回路
を用いてNAND回路を構成するには、図3に示される
ように、電源に接続される電源端子VDDを有する電源制
御部5を4つのトランジスタ列が並列接続されてなる論
理部の一端(例えば、第1の電極リード2)に接続する
ようにして、また、2つのトランジスタ列が並列接続さ
れた回路の他端(例えば、第2の電極リード3)をグラ
ンドに接続するようにすればよい。
並列接続されてなる論理部を集積化した半導体集積回路
を用いてNAND回路を構成するには、図3に示される
ように、電源に接続される電源端子VDDを有する電源制
御部5を4つのトランジスタ列が並列接続されてなる論
理部の一端(例えば、第1の電極リード2)に接続する
ようにして、また、2つのトランジスタ列が並列接続さ
れた回路の他端(例えば、第2の電極リード3)をグラ
ンドに接続するようにすればよい。
【0044】その際、複数のゲート電極リード4は、第
1の素子領域11の2つの端部領域11b(又は、第2
の素子領域12の2つの端部領域12b)において夫々
一つずつを一対として接続する。また、任意の一対のゲ
ート電極リード4間に存在する他のゲート電極リード4
の総数は、他の一対のゲート電極リード4間に存在する
他のゲート電極リード4の総数と等しくなるように接続
する。
1の素子領域11の2つの端部領域11b(又は、第2
の素子領域12の2つの端部領域12b)において夫々
一つずつを一対として接続する。また、任意の一対のゲ
ート電極リード4間に存在する他のゲート電極リード4
の総数は、他の一対のゲート電極リード4間に存在する
他のゲート電極リード4の総数と等しくなるように接続
する。
【0045】即ち、任意の一対のゲート電極リード4と
出力端子(例えば、第1の電極リード2)との間に介挿
されているMOS型トランジスタの総数が、他の一対の
ゲート電極リード4と出力端子(例えば、第1の電極リ
ード2)との間に介挿されているMOS型トランジスタ
の総数とが、等しくなるように構成されている。
出力端子(例えば、第1の電極リード2)との間に介挿
されているMOS型トランジスタの総数が、他の一対の
ゲート電極リード4と出力端子(例えば、第1の電極リ
ード2)との間に介挿されているMOS型トランジスタ
の総数とが、等しくなるように構成されている。
【0046】また、このようにして接続された各一対の
ゲート電極リード4を、NAND回路における各入力端
子とし、前述の4つのトランジスタ列が並列接続された
回路の一端(例えば、第1の電極リード2)と電源制御
部5との接続点をNAND回路における出力端子とす
る。
ゲート電極リード4を、NAND回路における各入力端
子とし、前述の4つのトランジスタ列が並列接続された
回路の一端(例えば、第1の電極リード2)と電源制御
部5との接続点をNAND回路における出力端子とす
る。
【0047】このように構成されたNAND回路は、任
意の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介挿され
ているMOS型トランジスタの総数が、他の一対のゲー
ト電極リード4と出力端子間に介挿されているMOS型
トランジスタの総数と等しくなるように構成されている
ため、任意の入力端子に入力された場合に出力に関与す
るMOS型トランジスタのジャンクション容量が等しく
なり、バランスのとれた遅延特性を有するNAND回路
が得られる。
意の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介挿され
ているMOS型トランジスタの総数が、他の一対のゲー
ト電極リード4と出力端子間に介挿されているMOS型
トランジスタの総数と等しくなるように構成されている
ため、任意の入力端子に入力された場合に出力に関与す
るMOS型トランジスタのジャンクション容量が等しく
なり、バランスのとれた遅延特性を有するNAND回路
が得られる。
【0048】ここで、電源制御部5の一例としては、図
4に示される様に、各トランジスタ列のnチャネルMO
S型トランジスタの数、即ちNAND回路の入力数と同
数のpチャネルMOS型トランジスタから構成されるも
のが挙げられる。各pチャネルMOS型トランジスタ
は、夫々のソースを互いに接続されて電源端子VDDとし
ている。また、各pチャネルMOS型トランジスタは、
夫々のドレインを互いに接続されて、更に、前述のトラ
ンジスタ列の一端(例えば、第1の電極リード2)に接
続されている。また、各pチャネルMOS型トランジス
タのゲートは、夫々NAND回路の各入力となる各ゲー
ト電極リード4に接続されている。
4に示される様に、各トランジスタ列のnチャネルMO
S型トランジスタの数、即ちNAND回路の入力数と同
数のpチャネルMOS型トランジスタから構成されるも
のが挙げられる。各pチャネルMOS型トランジスタ
は、夫々のソースを互いに接続されて電源端子VDDとし
ている。また、各pチャネルMOS型トランジスタは、
夫々のドレインを互いに接続されて、更に、前述のトラ
ンジスタ列の一端(例えば、第1の電極リード2)に接
続されている。また、各pチャネルMOS型トランジス
タのゲートは、夫々NAND回路の各入力となる各ゲー
ト電極リード4に接続されている。
【0049】また、電源制御部5の他の例としては、図
5に示される様に、一つのデプレッションタイプのnチ
ャネルMOS型トランジスタで構成されるものが挙げら
れる。このデプレッションタイプのnチャネルMOS型
トランジスタは、ゲート及びソースを前述のトランジス
タ列の一端(例えば、第1の電極リード2)に接続さ
れ、ドレインを電源端子VDDとしている。尚、この場合
において、4つのトランジスタ列を構成している各MO
S型トランジスタは、全てエンハンスドタイプのnチャ
ネルMOS型トランジスタであるとする。
5に示される様に、一つのデプレッションタイプのnチ
ャネルMOS型トランジスタで構成されるものが挙げら
れる。このデプレッションタイプのnチャネルMOS型
トランジスタは、ゲート及びソースを前述のトランジス
タ列の一端(例えば、第1の電極リード2)に接続さ
れ、ドレインを電源端子VDDとしている。尚、この場合
において、4つのトランジスタ列を構成している各MO
S型トランジスタは、全てエンハンスドタイプのnチャ
ネルMOS型トランジスタであるとする。
【0050】次に、本実施の形態の4つのトランジスタ
列が並列接続されてなる論理部を集積化した半導体集積
回路を用いてNOR回路を構成する場合について説明す
る。
列が並列接続されてなる論理部を集積化した半導体集積
回路を用いてNOR回路を構成する場合について説明す
る。
【0051】尚、4つのトランジスタ列を構成する各M
OS型トランジスタは、pチャネルMOS型トランジス
タである。
OS型トランジスタは、pチャネルMOS型トランジス
タである。
【0052】本実施の形態の半導体集積回路配列で構成
された半導体集積回路を用いてNOR回路を構成するに
は、図6に示されるように、グウンドに接続されるアー
ス端子を有する接地制御部6を4つのトランジスタ列が
並列接続されてなる論理部の一端(例えば、第2の電極
リード3)に接続するようにして、また、論理部の他端
(例えば、第1の電極リード2)を電源に接続する電源
端子VDDとすればよい。
された半導体集積回路を用いてNOR回路を構成するに
は、図6に示されるように、グウンドに接続されるアー
ス端子を有する接地制御部6を4つのトランジスタ列が
並列接続されてなる論理部の一端(例えば、第2の電極
リード3)に接続するようにして、また、論理部の他端
(例えば、第1の電極リード2)を電源に接続する電源
端子VDDとすればよい。
【0053】また、4つのトランジスタ列が並列接続さ
れた回路の一端(例えば、第2の電極リード3)と接地
制御部6との接続点を出力端子とする。
れた回路の一端(例えば、第2の電極リード3)と接地
制御部6との接続点を出力端子とする。
【0054】その際、複数のゲート電極リード4の接続
は、上述のNAND回路の場合の接続と同様とする。即
ち、NOR回路は、任意の一対のゲート電極リード4と
出力端子間に介挿されているMOS型トランジスタの総
数が、他の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介
挿されているMOS型トランジスタの総数と等しくなる
ように構成されている。
は、上述のNAND回路の場合の接続と同様とする。即
ち、NOR回路は、任意の一対のゲート電極リード4と
出力端子間に介挿されているMOS型トランジスタの総
数が、他の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介
挿されているMOS型トランジスタの総数と等しくなる
ように構成されている。
【0055】ここで、接地制御部6の一例としては、図
7に示される様に、各トランジスタ列のpチャネルMO
S型トランジスタの数、即ちNOR回路の入力数と同数
のnチャネルMOS型トランジスタから構成されるもの
が挙げられる。各nチャネルMOS型トランジスタは、
夫々のソースを互いに接続されてアース端子としてい
る。また、各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々
のドレインを互いに接続されて、更に、前述のトランジ
スタ列の一端(例えば、第2の電極リード3)に接続さ
れている。また、各nチャネルMOS型トランジスタの
ゲートは、夫々NOR回路の各入力となる各ゲート電極
リード4に接続されている。
7に示される様に、各トランジスタ列のpチャネルMO
S型トランジスタの数、即ちNOR回路の入力数と同数
のnチャネルMOS型トランジスタから構成されるもの
が挙げられる。各nチャネルMOS型トランジスタは、
夫々のソースを互いに接続されてアース端子としてい
る。また、各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々
のドレインを互いに接続されて、更に、前述のトランジ
スタ列の一端(例えば、第2の電極リード3)に接続さ
れている。また、各nチャネルMOS型トランジスタの
ゲートは、夫々NOR回路の各入力となる各ゲート電極
リード4に接続されている。
【0056】尚、以上説明してきた第1の実施の形態に
おいて、4つのトランジスタ列が並列接続されてなる論
理部をNAND回路又はNOR回路に適用する場合、第
1の電極リード2と第2の電極リード3とは、どちらを
出力端子としてもよいことは言うまでもないことであ
る。
おいて、4つのトランジスタ列が並列接続されてなる論
理部をNAND回路又はNOR回路に適用する場合、第
1の電極リード2と第2の電極リード3とは、どちらを
出力端子としてもよいことは言うまでもないことであ
る。
【0057】また、上記説明において、例として挙げた
電源供給部5及び接地制御部6は夫々一般的なものであ
るため、集積化のための配列は省略してあるが、該電源
供給部5及び接地制御部6の一般的な配列と本実施の形
態の回路配列(2つのトランジスタ列が並列接続されて
なる回路の配列)と組み合わせてNAND回路又はNO
R回路を集積化することは、容易に可能である。
電源供給部5及び接地制御部6は夫々一般的なものであ
るため、集積化のための配列は省略してあるが、該電源
供給部5及び接地制御部6の一般的な配列と本実施の形
態の回路配列(2つのトランジスタ列が並列接続されて
なる回路の配列)と組み合わせてNAND回路又はNO
R回路を集積化することは、容易に可能である。
【0058】次に、上述した論理部、即ち2入力の論理
部の回路構成に基づいて、多入力(N入力)の論理部の
回路を階層的なイメージで構成する方法を説明し、実際
に3入力、4入力、及び5入力の回路を例として挙げ、
図面を用いて説明する。
部の回路構成に基づいて、多入力(N入力)の論理部の
回路を階層的なイメージで構成する方法を説明し、実際
に3入力、4入力、及び5入力の回路を例として挙げ、
図面を用いて説明する。
【0059】まず、ここで言う階層的なイメージとは、
例えば、3入力の場合においては、1入力と2入力の組
み合わせとして考えるように、N入力を(N−n)入力
とn入力とに分けて、一旦、(N−n)入力の論理部と
n入力の論理部とを構成し、図8に示されるように、夫
々をたすき掛けするようにしてN入力の論理部を構成す
ることをいう。
例えば、3入力の場合においては、1入力と2入力の組
み合わせとして考えるように、N入力を(N−n)入力
とn入力とに分けて、一旦、(N−n)入力の論理部と
n入力の論理部とを構成し、図8に示されるように、夫
々をたすき掛けするようにしてN入力の論理部を構成す
ることをいう。
【0060】寄生容量の総和といった観点からすると、
このような階層的なイメージに囚われることなく、前述
したように、任意の一対のゲート電極リード4と出力端
子間に介挿されているMOS型トランジスタの総数が、
他の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介挿され
ているMOS型トランジスタの総数と等しくなるように
論理部を構成すれば良い。
このような階層的なイメージに囚われることなく、前述
したように、任意の一対のゲート電極リード4と出力端
子間に介挿されているMOS型トランジスタの総数が、
他の一対のゲート電極リード4と出力端子間に介挿され
ているMOS型トランジスタの総数と等しくなるように
論理部を構成すれば良い。
【0061】しかしながら、このような条件だけに基づ
いて回路を構成しようとすると、入力数が多くなるに従
って、回路構成が複雑になり、間違った接続をしてしま
う恐れもある。
いて回路を構成しようとすると、入力数が多くなるに従
って、回路構成が複雑になり、間違った接続をしてしま
う恐れもある。
【0062】そこで、本実施の形態においては、このよ
うな階層的なイメージに基づいて、論理部の回路構成を
することを推奨する。
うな階層的なイメージに基づいて、論理部の回路構成を
することを推奨する。
【0063】以下に、3入力乃至5入力の論理部につい
て、図9乃至図11を用いて順次説明していく。
て、図9乃至図11を用いて順次説明していく。
【0064】まず、3入力の論理部は、図9に示される
ように、2入力の論理部と1入力の論理部とをたすき掛
けして構成されている。尚、図9においては、図8にお
けるαを2入力、βを1入力として描かれてあるが、逆
であっても変わらないことは言うまでもない。
ように、2入力の論理部と1入力の論理部とをたすき掛
けして構成されている。尚、図9においては、図8にお
けるαを2入力、βを1入力として描かれてあるが、逆
であっても変わらないことは言うまでもない。
【0065】次に、4入力の論理部は、図10に示され
るように、2つの2入力の論理部をたすき掛けして構成
されている。ここで、1入力の論理部と3入力の論理部
とをたすき掛けして構成しても良いことは言うまでもな
い。
るように、2つの2入力の論理部をたすき掛けして構成
されている。ここで、1入力の論理部と3入力の論理部
とをたすき掛けして構成しても良いことは言うまでもな
い。
【0066】同様に、5入力の論理部は、図11に示さ
れるように、1入力の論理部と4入力の論理部とをたす
き掛けして構成さている。尚、2入力の論理部と3入力
の論理部との組み合わせとして構成しても良いことは言
うまでもない。
れるように、1入力の論理部と4入力の論理部とをたす
き掛けして構成さている。尚、2入力の論理部と3入力
の論理部との組み合わせとして構成しても良いことは言
うまでもない。
【0067】次に、このようにして構成された多入力の
論理部をレイアウトする場合の半導体集積回路配列を、
3入力の場合を例にとり説明する。
論理部をレイアウトする場合の半導体集積回路配列を、
3入力の場合を例にとり説明する。
【0068】図12を参照すると、3入力の論理部を集
積化する際の半導体集積回路配列の一例が示されてい
る。前述の図2に示される2入力の論理部に関する半導
体集積回路配列と比較すると、容易に理解されるよう
に、ゲート電極リード4の数だけが異なっている。
積化する際の半導体集積回路配列の一例が示されてい
る。前述の図2に示される2入力の論理部に関する半導
体集積回路配列と比較すると、容易に理解されるよう
に、ゲート電極リード4の数だけが異なっている。
【0069】即ち、本実施の形態において説明した半導
体集積回路配列は、N入力の論理部を集積化する際に対
応しているものであり、単に入力と同数ずつのゲート電
極リード4を第1及び第2の素子領域11及び12の2
つの端部領域11b及び12bに設ければ良いことが理
解される。
体集積回路配列は、N入力の論理部を集積化する際に対
応しているものであり、単に入力と同数ずつのゲート電
極リード4を第1及び第2の素子領域11及び12の2
つの端部領域11b及び12bに設ければ良いことが理
解される。
【0070】また、各ゲート電極リード4は、4つの端
部領域11b及び12bのいずれか一つを論理部の第1
乃至第4のトランジスタ列のいずれかに対応させて考え
ると理解しやすい。
部領域11b及び12bのいずれか一つを論理部の第1
乃至第4のトランジスタ列のいずれかに対応させて考え
ると理解しやすい。
【0071】(第2の実施の形態)以下に、本発明の第
2の実施の形態について図面を用いて説明する。
2の実施の形態について図面を用いて説明する。
【0072】第2の実施の形態の論理回路は、図13に
示されるように2つのトランジスタ列を有する論理部を
備えている。
示されるように2つのトランジスタ列を有する論理部を
備えている。
【0073】更に詳しくは、論理部は、A〜E入力に夫
々対応した5つのMOS型トランジスタが直列に接続さ
れてなるトランジスタ列を2列並列に接続して構成され
ている。また、第1のトランジスタ列における第1のM
OS型トランジスタのゲートは、第2のトランジスタ列
における電源端子3から数えて1番目のMOS型トラン
ジスタのゲートと接続されている。同様に、第1のトラ
ンジスタ列における第2のMOS型トランジスタのゲー
トは、第2のトランジスタ列における電源端子3から数
えて2番目のMOS型トランジスタのゲートと接続され
ている。このようにして第1のトランジスタ列における
第nのMOS型トランジスタのゲートは、第2のトラン
ジスタ列における電源端子3から数えてn番目のMOS
型トランジスタのゲートと接続されている。
々対応した5つのMOS型トランジスタが直列に接続さ
れてなるトランジスタ列を2列並列に接続して構成され
ている。また、第1のトランジスタ列における第1のM
OS型トランジスタのゲートは、第2のトランジスタ列
における電源端子3から数えて1番目のMOS型トラン
ジスタのゲートと接続されている。同様に、第1のトラ
ンジスタ列における第2のMOS型トランジスタのゲー
トは、第2のトランジスタ列における電源端子3から数
えて2番目のMOS型トランジスタのゲートと接続され
ている。このようにして第1のトランジスタ列における
第nのMOS型トランジスタのゲートは、第2のトラン
ジスタ列における電源端子3から数えてn番目のMOS
型トランジスタのゲートと接続されている。
【0074】次に、このような構成の論理部を集積化す
る際の半導体集積回路配列の例を2つ説明する。
る際の半導体集積回路配列の例を2つ説明する。
【0075】一方の例は、図14に示されるような構成
を備えている。
を備えている。
【0076】即ち、所定方向に長さ(図14におけるx
方向)を有し、且つ、該長さ方向に直角な方向に幅(図
14におけるy方向)を有する素子領域1を備えてい
る。
方向)を有し、且つ、該長さ方向に直角な方向に幅(図
14におけるy方向)を有する素子領域1を備えてい
る。
【0077】また、素子領域1は長さ方向(図14にお
けるx方向)の中央部に中央領域1aを有し、且つ、中
央領域1aを挟む両側に2つの端部領域1bを有してい
る。
けるx方向)の中央部に中央領域1aを有し、且つ、中
央領域1aを挟む両側に2つの端部領域1bを有してい
る。
【0078】この素子領域1の中央領域1a上には幅方
向(図14におけるy方向)に延びるように第1の電極
リード2が設けられている。また、素子領域1の2つの
端部領域1bから夫々引き出された第1及び第2のリー
ド3a及び3bが設けられている。更に、第1及び第2
のリード3a及び3bは、第1の電極リード2と重なら
ない様に互いに接続されて第2の電極リード3を構成し
ている。
向(図14におけるy方向)に延びるように第1の電極
リード2が設けられている。また、素子領域1の2つの
端部領域1bから夫々引き出された第1及び第2のリー
ド3a及び3bが設けられている。更に、第1及び第2
のリード3a及び3bは、第1の電極リード2と重なら
ない様に互いに接続されて第2の電極リード3を構成し
ている。
【0079】更に、2つの端部領域上の第1の電極リー
ド2と第1及び第2のリード3a及び3bとの間の夫々
の領域には、第1の電極リード2を挟んで対称的に、所
定の間隔をあけて幅方向に並行に延びるように複数のゲ
ート電極リード4が設けられている。
ド2と第1及び第2のリード3a及び3bとの間の夫々
の領域には、第1の電極リード2を挟んで対称的に、所
定の間隔をあけて幅方向に並行に延びるように複数のゲ
ート電極リード4が設けられている。
【0080】この複数のゲート電極リード4は、前述し
た論理回路の入力数と同数である。また、複数のゲート
電極リード4の夫々と、複数のゲート電極リード4の夫
々の長さ方向における両端とは、各々MOS型トランジ
スタを形成している。このことから理解されるように、
素子領域1において、複数のゲート電極リード4の夫々
の長さ方向における両端は、ドレイン領域又はソース領
域である。また、各々のMOS型トランジスタのドレイ
ン領域及び/又はソース領域は、各々のMOS型トラン
ジスタと長さ方向において隣り合うMOS型トランジス
タのソース領域及び/又はドレイン領域と共用されてい
る。
た論理回路の入力数と同数である。また、複数のゲート
電極リード4の夫々と、複数のゲート電極リード4の夫
々の長さ方向における両端とは、各々MOS型トランジ
スタを形成している。このことから理解されるように、
素子領域1において、複数のゲート電極リード4の夫々
の長さ方向における両端は、ドレイン領域又はソース領
域である。また、各々のMOS型トランジスタのドレイ
ン領域及び/又はソース領域は、各々のMOS型トラン
ジスタと長さ方向において隣り合うMOS型トランジス
タのソース領域及び/又はドレイン領域と共用されてい
る。
【0081】もう一方の例は、図15に示されるような
構成を備えている。
構成を備えている。
【0082】即ち、所定方向に長さ(図15におけるx
方向)を有し、且つ、該長さ方向に垂直な方向に幅(図
15におけるy方向)を有する第1及び第2の素子領域
13及び14を幅方向に並べた構成を備えている。
方向)を有し、且つ、該長さ方向に垂直な方向に幅(図
15におけるy方向)を有する第1及び第2の素子領域
13及び14を幅方向に並べた構成を備えている。
【0083】また、第1及び第2の素子領域13及び1
4は、夫々、長さ方向の両端部に2つの最端部領域13
c及び14cを有している。
4は、夫々、長さ方向の両端部に2つの最端部領域13
c及び14cを有している。
【0084】第1の素子領域13の最端部領域13cの
一方から引き出された第1のリード23と、長さ方向に
おいて第1のリード23と反対側に位置する第2の素子
領域14の最端部領域14cの一方から引き出された第
2のリード24とを、第1の素子領域13と第2の素子
領域14との間で電気的に接続するようにして構成され
た第1の電極リード2が設けられている。
一方から引き出された第1のリード23と、長さ方向に
おいて第1のリード23と反対側に位置する第2の素子
領域14の最端部領域14cの一方から引き出された第
2のリード24とを、第1の素子領域13と第2の素子
領域14との間で電気的に接続するようにして構成され
た第1の電極リード2が設けられている。
【0085】更に、第1の素子領域13の最端部領域1
3cの他方から引き出された第3のリード33と、第2
の素子領域14の最端部領域14cの他方から引き出さ
れた第4のリード34とを、第1の電極リード2と重な
らないように電気的に接続する第2の電極リード3が設
けられている。
3cの他方から引き出された第3のリード33と、第2
の素子領域14の最端部領域14cの他方から引き出さ
れた第4のリード34とを、第1の電極リード2と重な
らないように電気的に接続する第2の電極リード3が設
けられている。
【0086】また、第1及び第2の素子領域13及び1
4上の夫々2つの最端部領域13c及び14cで挟まれ
た各々の領域には、所定の間隔をあけて幅方向に並行に
延びるように複数のゲート電極リード44及び45が設
けられている。
4上の夫々2つの最端部領域13c及び14cで挟まれ
た各々の領域には、所定の間隔をあけて幅方向に並行に
延びるように複数のゲート電極リード44及び45が設
けられている。
【0087】この複数のゲート電極リード44及び45
は、夫々、前述した論理回路の入力数と同数である。ま
た、複数のゲート電極リード44及び45の夫々と、複
数のゲート電極リード44及び45の夫々の長さ方向に
おける両端とは、各々MOS型トランジスタを形成して
いる。このことから理解されるように、第1及び第2の
素子領域13及び14において、複数のゲート電極リー
ド44及び45の夫々の長さ方向における両端は、ドレ
イン領域又はソース領域である。また、各々のMOS型
トランジスタのドレイン領域及び/又はソース領域は、
各々のMOS型トランジスタと長さ方向において隣り合
うMOS型トランジスタのソース領域及び/又はドレイ
ン領域と共用されている。
は、夫々、前述した論理回路の入力数と同数である。ま
た、複数のゲート電極リード44及び45の夫々と、複
数のゲート電極リード44及び45の夫々の長さ方向に
おける両端とは、各々MOS型トランジスタを形成して
いる。このことから理解されるように、第1及び第2の
素子領域13及び14において、複数のゲート電極リー
ド44及び45の夫々の長さ方向における両端は、ドレ
イン領域又はソース領域である。また、各々のMOS型
トランジスタのドレイン領域及び/又はソース領域は、
各々のMOS型トランジスタと長さ方向において隣り合
うMOS型トランジスタのソース領域及び/又はドレイ
ン領域と共用されている。
【0088】更に、第1の素子領域13の各ゲート電極
リード44は、夫々第2の素子領域14の各ゲート電極
リード45と接続されて、ゲート電極リード4を構成し
ている。ここで、各ゲート電極リード4は、互いに重な
らないように構成されている。
リード44は、夫々第2の素子領域14の各ゲート電極
リード45と接続されて、ゲート電極リード4を構成し
ている。ここで、各ゲート電極リード4は、互いに重な
らないように構成されている。
【0089】このような半導体集積回路配列で構成され
た論理部を有する論理回路は、素子数は少ないものの、
第1の実施の形態において説明したような半導体集積回
路特有の問題の影響を受けやすい。
た論理部を有する論理回路は、素子数は少ないものの、
第1の実施の形態において説明したような半導体集積回
路特有の問題の影響を受けやすい。
【0090】その他、各入力に対する出力差をなくす原
理や、NAND回路及びNOR回路の構成等に関しては
第1の実施の形態と同様である。
理や、NAND回路及びNOR回路の構成等に関しては
第1の実施の形態と同様である。
【0091】尚、本実施の形態は、5入力の場合のみに
ついて説明するが、例えば3入力や4入力等、他の多入
力の場合に関しても有効なのは言うまでもない。
ついて説明するが、例えば3入力や4入力等、他の多入
力の場合に関しても有効なのは言うまでもない。
【0092】
【発明の効果】以上説明してきた様に、本発明によれ
ば、ジャンクション容量の影響による各入力に対する出
力の遅延時間を平均化でき、且つ、多入力の場合にも容
易に適用できるNAND回路及びNOR回路などの論理
回路を得ることができる。
ば、ジャンクション容量の影響による各入力に対する出
力の遅延時間を平均化でき、且つ、多入力の場合にも容
易に適用できるNAND回路及びNOR回路などの論理
回路を得ることができる。
【0093】また、本発明によれば、該論理回路を集積
化するのに適した半導体集積回路配列を得ることができ
る。
化するのに適した半導体集積回路配列を得ることができ
る。
【図1】本発明の第1の実施の形態の4つのトランジス
タ列が並列接続されてなる論理部を示す回路図である。
タ列が並列接続されてなる論理部を示す回路図である。
【図2】図1に示される回路を集積化する際の配列を示
す図である。
す図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態の論理部をNAND
回路に適用した回路を示す回路図である。
回路に適用した回路を示す回路図である。
【図4】図3における電源制御部の一例を示す回路図で
ある。
ある。
【図5】図3における電源制御部の他の例を示す回路図
である。
である。
【図6】本発明の第1の実施の形態の論理部をNOR回
路に適用した回路を示す回路図である。
路に適用した回路を示す回路図である。
【図7】図6における接地制御部の一例を示す回路図で
ある。
ある。
【図8】多入力の論理部の構成の際に利用する階層的な
イメージを示す図である。
イメージを示す図である。
【図9】図8に示される階層的なイメージを利用して構
成した3入力の論理部を示す図である。
成した3入力の論理部を示す図である。
【図10】図8に示される階層的なイメージを利用して
構成した4入力の論理部を示す図である。
構成した4入力の論理部を示す図である。
【図11】図8に示される階層的なイメージを利用して
構成した5入力の論理部を示す図である。
構成した5入力の論理部を示す図である。
【図12】図9に示される回路を集積化する際の配列を
示す図である。
示す図である。
【図13】本発明の第2の実施の形態の論理部を示す回
路図である。
路図である。
【図14】図13に示される回路を集積化する際の配列
を示す図である。
を示す図である。
【図15】図13に示される回路を集積化する際の他の
配列を示す図である。
配列を示す図である。
【符号の説明】 1 素子領域 1a 中央領域 1b 端部領域 2 第1の電極リード(電源端子) 3 第2の電極リード(電源端子) 4 ゲート電極リード 5 電源制御部 VDD 電源端子 6 接地制御部 11 第1の素子領域 11a 中央領域 11b 端部領域 12 第2の素子領域 12a 中央領域 12b 端部領域 21 第1のリード 31 第2のリード 22 第3のリード 32 第4のリード 41 ゲート電極リード 42 ゲート電極リード 13 第1の素子領域 13c 最端部領域 14 第2の素子領域 14c 最端部領域 23 第1のリード 24 第2のリード 33 第3のリード 34 第4のリード
Claims (28)
- 【請求項1】 2以上の入力端子を備えており、夫々の
入力端子へ入力された入力信号を受けて、当該入力信号
に従い論理動作を行い、該論理動作の結果を出力信号と
して出力する論理回路であって、 2つの電源端子間に接続されて前記論理動作を行う論理
部を備える論理回路において、 前記論理部は、前記2つの電源端子間に接続された第1
乃至第4のトランジスタ列を備えており、 前記第1乃至第4のトランジスタ列は、夫々、前記入力
端子と同数のMOS型トランジスタが直列に接続されて
構成されており、 前記第1のトランジスタ列に含まれる一つの前記MOS
型トランジスタのゲートと、前記第2乃至第4の夫々の
トランジスタ列の内に含まれる一つの前記MOS型トラ
ンジスタのゲートとが接続されており、 第1の総数と第2の総数とが等しくなるように構成され
ており、 前記第1の総数は、前記第1のトランジスタ列に含まれ
る第1のMOS型トランジスタと前記2つの電源端子の
内の一方の電源端子との間に介挿されているMOS型ト
ランジスタの数と、前記第2乃至第4の夫々のトランジ
スタ列に含まれるMOS型トランジスタであって該第1
のMOS型トランジスタのゲートと夫々ゲートが接続さ
れた第2乃至第4のMOS型トランジスタと前記一方の
電源端子との間に夫々介挿されているMOS型トランジ
スタの数との和であり、 前記第2の総数は、前記第1のトランジスタ列に含まれ
る第1のMOS型トランジスタとは別のMOS型トラン
ジスタである第5のMOS型トランジスタと前記一方の
電源端子との間に介挿されているMOS型トランジスタ
の数と、前記第2乃至第4の夫々トランジスタ列に含ま
れるMOS型トランジスタであって該第5のMOS型ト
ランジスタのゲートと夫々ゲートが接続された第6乃至
第8のMOS型トランジスタと前記一方の電源端子との
間に夫々介挿されているMOS型トランジスタの数との
和であることを特徴とする論理回路。 - 【請求項2】 3以上の入力端子を備えており、夫々の
入力端子へ入力された入力信号を受けて、当該入力信号
に従い論理動作を行い、該論理動作の結果を出力信号と
して出力する論理回路であって、 2つの電源端子間に接続されて前記論理動作を行う論理
部を備える論理回路において、 前記論理部は、前記2つの電源端子間に接続された第1
及び第2のトランジスタ列を備えており、 前記第1及び第2のトランジスタ列は、夫々、前記入力
端子と同数のMOS型トランジスタが直列に接続されて
構成されており、 前記第1のトランジスタ列に含まれる一つの前記MOS
型トランジスタのゲートと、前記第2のトランジスタ列
の内に含まれる一つの前記MOS型トランジスタのゲー
トとが接続されており、 第1の総数と第2の総数とが等しくなるように構成され
ており、 前記第1の総数は、前記第1のトランジスタ列に含まれ
る第1のMOS型トランジスタと前記2つの電源端子の
内の一方の電源端子との間に介挿されているMOS型ト
ランジスタの数と、前記第2のトランジスタ列に含まれ
るMOS型トランジスタであって該第1のMOS型トラ
ンジスタのゲートとゲートが接続された第2のMOS型
トランジスタと前記一方の電源端子との間に介挿されて
いるMOS型トランジスタの数との和であり、 前記第2の総数は、前記第1のトランジスタ列に含まれ
る第1のMOS型トランジスタとは別のMOS型トラン
ジスタである第3のMOS型トランジスタと前記一方の
電源端子との間に介挿されているMOS型トランジスタ
の数と、前記第2のトランジスタ列に含まれるMOS型
トランジスタであって該第3のMOS型トランジスタの
ゲートとゲートが接続された第4のMOS型トランジス
タと前記一方の電源端子との間に介挿されているMOS
型トランジスタの数との和であることを特徴とする論理
回路。 - 【請求項3】 所定方向に長さを備え且つ該長さ方向に
直角な方向に幅を備え、前記長さ方向の中央部に中央領
域を有し且つ当該中央領域を挟む両側に2つの端部領域
を有する素子領域に対して、複数のMOS型トランジス
タを配列した半導体集積回路配列において、 前記中央領域上に前記幅方向において延在する第1のリ
ードと、 前記2つの端部領域上から夫々引き出された第2のリー
ドと、 前記2つの端部領域上の前記第1のリードと各第2のリ
ードとの間の領域に、前記第1のリードを挟んで対称的
に、且つ、前記第1のリードと前記幅方向において並行
に延在する複数のMOS型トランジスタ用のゲート電極
リードとを備えていることを特徴とする半導体集積回路
配列。 - 【請求項4】 請求項3に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 前記素子領域は、前記各MOS型トランジスタのドレイ
ン領域及びソース領域を形成する複数の拡散領域を備え
ており、 前記第1のリードの両側に位置する少なくとも2つの前
記MOS型トランジスタは、前記拡散領域の一つを共用
していることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項5】 請求項3に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 互いに隣接した前記ゲート電極を有する前記MOS型ト
ランジスタは、前記拡散領域を共用するように構成され
ていることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項6】 請求項3に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 前記第1のリードは、第1の電極リードであり、 前記第2のリードは、前記第1の電極リードと重ならな
いように、互いに接続されて第2の電極リードを構成し
ていることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項7】 請求項6に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 電源に接続される電源端子を有する電源供給部を更に備
えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記電源供給
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記電源供給部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、グラウンドに
接続されるアース端子であり、 前記複数のゲート電極リードは、前記2つの端部領域に
おいて夫々一つずつを一対として接続されており、 一の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間に介
挿されている前記MOS型トランジスタの総数は、他の
前記一対のゲート電極リードと出力端子との間に介挿さ
れているMOS型トランジスタの総数と等しくなる様に
構成されていることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項8】 請求項7に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 前記MOS型トランジスタは、全てnチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記電源供給部は、前記各端部領域に存在する前記ゲー
ト電極リードの数と同数のpチャネルMOS型トランジ
スタで構成されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記電源端子としており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記一対のゲート電極リードに接続されていること
を特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項9】 請求項7に記載の半導体集積回路配列に
おいて、 前記MOS型トランジスタは、全てエンハンスドタイプ
のnチャネルMOS型トランジスタであり、 前記電源供給部は、一つのデプレッションタイプのnチ
ャネルMOS型トランジスタで構成されており、 該デプレッションタイプのnチャネルMOS型トランジ
スタのゲート及びソースは、前記第1及び第2の電極リ
ードの一方と接続されており、 前記デプレッションタイプのnチャネルMOS型トラン
ジスタのドレインは、前記電源端子であることを特徴と
する半導体集積回路配列。 - 【請求項10】 請求項6に記載の半導体集積回路配列
において、 グラウンドに接続されるアース端子を有する接地制御部
を更に備えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記接地制御
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記接地制御部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、電源に接続さ
れる電源端子であり、 前記複数のゲート電極リードは、前記2つの端部領域に
おいて夫々一つずつを一対として接続されており、 一の前記一対のゲート電極リードと出力端子との間に介
挿されている前記MOS型トランジスタの総数は、他の
前記一対のゲート電極リードと出力端子との間に介挿さ
れているMOS型トランジスタの総数と等しくなる様に
構成されていることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項11】 請求項10に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てpチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記接地制御部は、前記各端部領域に存在する前記ゲー
ト電極リードの数と同数のnチャネルMOS型トランジ
スタで構成されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記アース端子としており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記一対のゲート電極リードに接続されていること
を特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項12】 請求項3に記載の半導体集積回路配列
であって、 前記長さ方向に長さを備え且つ該長さ方向に直角な方向
に幅を備え、前記長さ方向の中央部に中央領域を有し、
当該中央領域を挟む両側に2つの端部領域を有する付加
的な素子領域である付加的素子領域を更に備え、該付加
的素子領域に対して、前記複数と同数の付加的MOS型
トランジスタを更に配列した半導体集積回路配列におい
て、 前記付加的素子領域の中央領域上に前記幅方向において
延在する第1の付加的リードと、 前記付加的素子領域の2つの端部領域から引き出された
第2の付加的リードと、 前記付加的素子領域の前記2つの端部領域上の前記第1
の付加的リードと第2の付加的リードとの間の領域に、
前記第1の付加的リードを挟んで対称的に、且つ、前記
第1の付加的リードと前記幅方向において並行に延在す
る前記複数と同数のMOS型トランジスタ用の付加的ゲ
ート電極リードとを備えていることを特徴とする半導体
集積回路配列。 - 【請求項13】 請求項12に記載の半導体集積回路配
列において、 前記付加的素子領域は、前記各付加的MOS型トランジ
スタのドレイン領域及びソース領域を形成する複数の付
加的拡散領域によって構成され、 前記第1の付加的リードの両側に位置する少なくとも2
つの前記付加的MOS型トランジスタは、前記付加的拡
散領域の一つを共用しており、 互いに隣接した前記付加的ゲート電極リードを有する前
記付加的MOS型トランジスタは、前記付加的拡散領域
を共用するように構成されていることを特徴とする半導
体集積回路配列。 - 【請求項14】 請求項12に記載の半導体集積回路配
列において、 前記第1のリードと前記第2の付加的リードの夫々と
を、前記素子領域と前記付加的素子領域との間で接続す
るようにして構成された第1の電極リードと、 前記第2のリードの夫々と前記第1の付加的リードと
を、前記第1の電極リードと重ならないように接続して
構成された第2の電極リードとを備えることを特徴とす
る半導体集積回路配列。 - 【請求項15】 請求項14に記載の半導体集積回路配
列において、 前記素子領域の各ゲート電極リードと、夫々対応する前
記付加的素子領域の各ゲート電極リードとは、各々連続
して形成されたゲート電極リード線であり、 各ゲート電極リード線は、互いに重ならない様に構成さ
れていることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項16】 請求項15に記載の半導体集積回路配
列において、 電源に接続される電源端子を有する電源供給部を更に備
えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記電源供給
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記電源供給部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、グラウンドに
接続されるアース端子であり、 前記複数のゲート電極リード線は、前記素子領域の前記
2つの端部領域において夫々一つずつを一対として接続
されており、 一の前記一対のゲート電極リード線と出力端子との間に
介挿されている前記MOS型トランジスタの総数は、他
の前記一対のゲート電極リード線と出力端子との間に介
挿されているMOS型トランジスタの総数と等しくなる
様に構成されていることを特徴とする半導体集積回路配
列。 - 【請求項17】 請求項16に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てnチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記電源供給部は、前記素子領域の前記各端部領域に存
在する前記ゲート電極リード線の数と同数のpチャネル
MOS型トランジスタで構成されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記電源端子としており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記一対のゲート電極リード線に接続されているこ
とを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項18】 請求項17に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てエンハンスドタイプ
のnチャネルMOS型トランジスタであり、 前記電源供給部は、一つのデプレッションタイプのnチ
ャネルMOS型トランジスタで構成されており、 該デプレッションタイプのnチャネルMOS型トランジ
スタのゲート及びソースは、前記第1及び第2の電極リ
ードの一方と接続されており、 前記デプレッションタイプのnチャネルMOS型トラン
ジスタのドレインは、前記電源端子であることを特徴と
する半導体集積回路配列。 - 【請求項19】 請求項15に記載の半導体集積回路配
列において、 グラウンドに接続されるアース端子を有する接地制御部
を更に備えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記接地制御
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記接地制御部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、電源に接続さ
れる電源端子であり、 前記複数のゲート電極リード線は、前記2つの端部領域
において夫々一つずつを一対として接続されており、 一の前記一対のゲート電極リード線と出力端子との間に
介挿されている前記MOS型トランジスタの総数は、他
の前記一対のゲート電極リード線と出力端子との間に介
挿されているMOS型トランジスタの総数と等しくなる
様に構成されていることを特徴とする半導体集積回路配
列。 - 【請求項20】 請求項19に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てpチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記接地制御部は、前記素子領域の前記各端部領域に存
在する前記ゲート電極リード線の数と同数のnチャネル
MOS型トランジスタで構成されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記アース端子としており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記一対のゲート電極リード線に接続されているこ
とを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項21】 所定方向に長さを備え且つ該長さ方向
に直角な方向に幅を備え、前記長さ方向の両端部に2つ
の最端部領域を有する第1及び第2の素子領域に対し
て、夫々所定数のMOS型トランジスタを配列した半導
体集積回路配列において、 前記第1及び第2の素子領域は、前記幅方向に並べられ
ており、 前記第1の素子領域の前記最端部領域の一方から引き出
された第1のリードと、前記長さ方向において前記第1
のリードと反対側に位置する前記第2の素子領域の前記
最端部領域の一方から引き出された第2のリードとを、
前記第1の素子領域と第2の素子領域との間で電気的に
接続するように配された第1の電極リードと、 前記第1の素子領域の前記最端部領域の他方から引き出
された第3のリードと、前記第2の素子領域の前記最端
部領域の他方から引き出された第4のリードとを、前記
第1の電極リードと重ならないように電気的に接続する
第2の電極リードと、 前記第1及び第2の各素子領域上において、夫々2つの
前記最端部領域間に、所定の間隔をあけて前記幅方向に
並行に延在する前記各MOS型トランジスタ用のゲート
電極リードを備えており、 前記第1の素子領域上に設けられた前記各MOS型トラ
ンジスタ用のゲート電極リードは、夫々前記第2の素子
領域上に設けられた前記各MOS型トランジスタ用のゲ
ート電極リードの一つと電気的に接続されて、夫々ゲー
ト電極リード線を構成しており、 前記各ゲート電極リード線の夫々は、互いに重ならない
様に構成されていることを特徴とする半導体集積回路配
列。 - 【請求項22】 請求項21に記載の半導体集積回路配
列において、 電源に接続される電源端子を有する電源供給部を更に備
えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記電源供給
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記電源供給部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、グラウンドに
接続されるアース端子であり、 前記複数のゲート電極リード線の内の一つと前記出力端
子との間に介挿されている前記MOS型トランジスタの
総数は、前記複数のゲート電極リード線の内の他の一つ
と前記出力端子との間に介挿されているMOS型トラン
ジスタの総数と等しくなる様に構成されていることを特
徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項23】 請求項22に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てnチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記電源供給部は、前記素子領域に存在する前記ゲート
電極リード線の数と同数のpチャネルMOS型トランジ
スタで構成されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記電源端子としており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各pチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記各ゲート電極リード線に接続されていることを
特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項24】 請求項22に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てエンハンスドタイプ
のnチャネルMOS型トランジスタであり、 前記電源供給部は、一つのデプレッションタイプのnチ
ャネルMOS型トランジスタで構成されており、 該デプレッションタイプのnチャネルMOS型トランジ
スタのゲート及びソースは、前記第1及び第2の電極リ
ードの一方と接続されており、 前記デプレッションタイプのnチャネルMOS型トラン
ジスタのドレインは、前記電源端子であることを特徴と
する半導体集積回路配列。 - 【請求項25】 請求項21に記載の半導体集積回路配
列において、 グラウンドに接続されるアース端子を有する接地制御部
を更に備えており、 前記第1及び第2の電極リードの一方は、前記接地制御
部に接続されており、 該第1及び第2の電極リードの一方と前記接地制御部と
の接続点は、出力端子であり、 前記第1及び第2の電極リードの他方は、電源に接続さ
れる電源端子であり、 前記複数のゲート電極リード線の内の一つと前記出力端
子との間に介挿されている前記MOS型トランジスタの
総数は、前記複数のゲート電極リード線の内の他の一つ
と前記出力端子との間に介挿されているMOS型トラン
ジスタの総数と等しくなる様に構成されていることを特
徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項26】 請求項25に記載の半導体集積回路配
列において、 前記MOS型トランジスタは、全てpチャネルMOS型
トランジスタであり、 前記接地制御部は、前記素子領域に存在する前記ゲート
電極リード線の数と同数のnチャネルMOS型トランジ
スタで構成されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のソー
スを互いに接続されて前記アース端子としており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタは、夫々のドレ
インを互いに接続されて、且つ、前記第1及び第2の電
極リードの一方と接続されており、 前記各nチャネルMOS型トランジスタのゲートは、夫
々、前記ゲート電極リード線に接続されていることを特
徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項27】 複数のMOS型トランジスタを配列し
た半導体集積回路配列において、 予め定められた方向に延びる第1の電極リードと、 該第1の電極リードに対して間隔を置き、且つ、前記第
1の電極リードを挟むように配列された一対の第2の電
極リードとを有し、 前記第1及び各第2の電極リード間に前記予め定められ
た方向に延びる前記複数のMOS型トランジスタのゲー
ト電極リードを配列した構成を備え、 前記複数のゲート電極リードは、前記第1及び各第2の
電極リードからの距離に応じた間隔を置いて配列されて
いることを特徴とする半導体集積回路配列。 - 【請求項28】 所定数のMOS型トランジスタが直列
に接続されてなるトランジスタ列を複数備えており、 前記複数のトランジスタ列の夫々は、前記各MOS型ト
ランジスタのソース領域及び/又はドレイン領域が、該
MOS型トランジスタと隣り合う前記各MOS型トラン
ジスタのドレイン領域及び/又はソース領域を共用して
おり、 前記複数のトランジスタ列の一端を接続するように配さ
れた第1の電極リードと、 前記第1の電極リードと重ならないように、且つ、前記
複数のトランジスタ列の他端を接続するように配された
第2の電極リードと、 前記複数のトランジスタ列の内の各トランジスタ列に含
まれる一つの前記MOS型トランジスタのゲート電極
と、前記一つのMOS型トランジスタのゲート電極に対
応する前記複数のトランジスタ列の内の他のトランジス
タ列に含まれる一つの前記MOS型トランジスタのゲー
ト電極とを電気的に接続するゲート配線とを有してお
り、 前記各トランジスタ列において一のゲート配線により接
続された前記各MOS型トランジスタと前記第1の電極
リードとの間に介挿されているMOS型トランジスタの
総数が、前記各トランジスタ列において他のゲート配線
により接続された前記各MOS型トランジスタと前記第
1の電極リードとの間に介挿されているMOS型トラン
ジスタの総数と等しくなるように構成されており、 前記各ゲート配線は、互いに重ならないように構成され
ていることを特徴とする半導体集積回路配列。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17118596A JP3202601B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 論理回路及び半導体集積回路配列 |
| EP97110667A EP0817388A3 (en) | 1996-07-01 | 1997-06-30 | Logical circuit capable of uniformizing output delays for different inputs |
| KR1019970031758A KR100231806B1 (ko) | 1996-07-01 | 1997-07-01 | 출력 지연 균일화 논리 회로 및 이를 구비한 반도체 집적 회로 배열 |
| US08/886,463 US5986478A (en) | 1996-07-01 | 1997-07-01 | Logical circuit capable of uniformizing output delays for different inputs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17118596A JP3202601B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 論理回路及び半導体集積回路配列 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1022817A true JPH1022817A (ja) | 1998-01-23 |
| JP3202601B2 JP3202601B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=15918587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17118596A Expired - Fee Related JP3202601B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 論理回路及び半導体集積回路配列 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5986478A (ja) |
| EP (1) | EP0817388A3 (ja) |
| JP (1) | JP3202601B2 (ja) |
| KR (1) | KR100231806B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9903253D0 (en) * | 1999-02-12 | 1999-04-07 | Sgs Thomson Microelectronics | Logic circuit |
| US6396307B1 (en) * | 1999-05-19 | 2002-05-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor integrated circuit and method for designing the same |
| JP2001077308A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-03-23 | Ando Electric Co Ltd | 論理積回路 |
| US9564430B2 (en) * | 2011-11-14 | 2017-02-07 | Intel Corporation | Macro-transistor devices |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3986043A (en) * | 1974-12-20 | 1976-10-12 | International Business Machines Corporation | CMOS digital circuits with active shunt feedback amplifier |
| JPS58101525A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-16 | Fujitsu Ltd | 論理回路 |
| DE3376721D1 (de) * | 1982-07-30 | 1988-06-23 | Toshiba Kk | Mos logic circuit |
| JPS6028327A (ja) * | 1983-07-27 | 1985-02-13 | Toshiba Corp | 論理回路 |
| JPS62202616A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Sharp Corp | 論理回路 |
| US5391941A (en) * | 1993-09-23 | 1995-02-21 | Cypress Semiconductor Corporation | Decoder circuitry with balanced propagation delay and minimized input capacitance |
| JPH07131335A (ja) * | 1993-11-02 | 1995-05-19 | Olympus Optical Co Ltd | 多入力論理ゲート回路 |
| JPH0818437A (ja) * | 1994-01-25 | 1996-01-19 | Texas Instr Inc <Ti> | 立ち上り時間及び立ち下がり時間を一致させた論理ゲート及びその構築方法 |
-
1996
- 1996-07-01 JP JP17118596A patent/JP3202601B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-06-30 EP EP97110667A patent/EP0817388A3/en not_active Withdrawn
- 1997-07-01 KR KR1019970031758A patent/KR100231806B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-01 US US08/886,463 patent/US5986478A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0817388A2 (en) | 1998-01-07 |
| KR980012920A (ko) | 1998-04-30 |
| JP3202601B2 (ja) | 2001-08-27 |
| KR100231806B1 (ko) | 1999-12-01 |
| US5986478A (en) | 1999-11-16 |
| EP0817388A3 (en) | 1999-05-12 |
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Legal Events
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|
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