JPH10244424A - 放電加工機の加工屑分離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気吸着力を大きくして確実に吸着させると
ともに、吸着円盤の全面で加工屑が吸着でき、かつコン
パクトな放電加工機の加工屑分離装置を提供すること。 【解決手段】 加工屑を含む加工液が分離タンク５に流
入し、分離タンク５内で回転している複数枚の吸着円盤
１１に加工屑が磁気吸着され、加工屑が分離される。こ
の吸着円盤１１は磁性体でなり、複数個の磁石９が埋め
込まれている。加工屑が分離された加工液は、分離タン
ク5 からクリーンタンク７流入し、放電加工機の加工槽
や別置の加工液タンクに送出される。吸着円盤１１に吸
着した加工屑は吸着円盤１１の回転方向下流にあるスク
レーパ１７のフォーク部１７ａで掻き落とされ、加工屑
バケット１９へ排出される。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、形彫り放電加工機
やワイヤ放電加工機などの加工屑分離装置に関し、特に
加工液中で磁性体のワークに放電加工を施した時に発生
する加工屑を磁気吸着して分離する放電加工機の加工屑
分離装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】一般に放電加工は、油などの通常の加工
液中で荒加工したり、荒加工後、加工液中に非磁性体で
なる導体または半導体物質の粉体、例えばクロム、シリ
コンなどを混入し、その粉体混入加工液中で仕上げ加工
を行うものである。従来は、加工液中から加工屑を分離
する装置として例えば下記のものが提案されている。ま
た、粉体混入加工液中から加工屑を分離したい場合は、
加工液供給装置に備えられたフィルタ装置を通して粉体
とともに回収していたが、この方法だと加工屑と粉体を
分けて回収することができなかった。また、フィルタの
清掃が大変で、頻繁なフィルタ交換が必要であった。 【０００３】実公平７−３３８８２号公報には、円弧状
仕切板９の上面に設けた永久磁石１と、回転ドラム4 間
に懸濁クーラントａが流入され、懸濁クーラントａ中の
磁性体スラッジが所定間隔をあけて両端方向に設けた永
久磁石１の端面を摺動するドーナツ状フィン２に吸着分
離される。フィン２に吸着された磁性体スラッジは回転
ドラム4 の回転とともに永久磁石1 部分から外れるが、
フィン２及び回転ドラム４に付着して液面上に引き上げ
られて、掻き落とし板によって掻き落とされ回収される
磁気吸着式スラッジ分離装置が開示されている。 【０００４】また、特開平６−７１１９５号公報には、
磁気凝集処理槽内に付設した回転軸の両端に回転板を固
定し、回転板の相対する側面の全面に複数個の磁石を間
隔を置いて取り付け、磁石表面に非磁性体の付着板を設
け、液体中の磁性スラッジを磁気凝集させて磁石に吸着
する磁場を形成し、さらに磁石表面に付着した磁気凝集
物を剥離するスクレーパを磁気凝集処理槽内に付設し
た、液体中の不純物の磁気凝集処理装置が開示されてい
る。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかし、実公平７−３
３８８２号公報に記載されているような磁気吸着式スラ
ッジ分離装置では、フィン2 が回転ドラム4 とともに回
転して永久磁石１部分から外れるので、吸着したスラッ
ジが再びクーラント中に落ちることがある。また、永久
磁石１の端面をフィン２が摺動するので、永久磁石1 と
フィン2 との間にスラッジが侵入、吸着してフィン2 が
摩耗したり、焼付いたりする恐れがある。 【０００６】特開平６−７１１９５号公報に記載されて
いるような液体中の不純物の磁気凝集処理装置では、回
転板の表面に磁石を貼り付けているので、磁力線が空気
中を走行する距離が長いため磁力が弱くなり、スラッジ
の吸着力もその分減少することになる。また、磁石の周
辺部だけにしか吸着力はなく、付着板全面にスラッジは
吸着しない。更に、回転板の外側に磁石が取り付けられ
ているので、磁石と回転板との合計の厚みが増し、装置
全体が大きくなってしまう傾向がある。 【０００７】以上の問題に鑑みて本発明の課題は、磁気
吸着力を大きくして確実に加工屑を吸着し、吸着円盤の
全面で加工屑が吸着でき、かつコンパクトな放電加工機
の加工屑分離装置を提供することである。 【０００８】 【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め本発明は、磁性体でなるワークを加工液中で放電加工
したとき発生する加工屑を加工液中から分離する放電加
工機の加工屑分離装置において、基台と、前記基台に回
転可能に設けられ、所定間隔をあけて平行に取り付けら
れた磁性体でなる複数枚の吸着円盤と、前記各吸着円盤
と同一の厚さで、円盤面の両側と同一の高さとなるよう
に前記各吸着円盤に埋め込まれた複数個の磁石と、前記
基台に取り付けられ、前記加工屑を含んだ加工液を受容
するとともに、前記吸着円盤の下方部を若干の隙間をあ
けて覆う半円筒状の底面を有し、一方の側から前記加工
屑を含んだ加工液が流入し、他方の側から前記吸着円盤
により加工屑が分離された加工液が流出する分離タンク
と、前記各吸着円盤の円盤面の両側と接するように設け
られ、前記吸着円盤の回転により前記分離タンク内に収
容されている加工液の液面上に引き上げられた前記吸着
円盤の各円盤面に磁気吸着した加工屑を掻き落とし、加
工屑を回収するスクレーパとを具備した放電加工機の加
工屑分離装置が提供される。 【０００９】また、前記複数個の磁石が埋め込まれた前
記各吸着円盤の円盤面両側は保護用薄板で覆われ、前記
スクレーパは前記保護用薄板と接するように設けられる
のが好ましい。 【００１０】 【作用】本発明は、加工屑を含んだ加工液を分離タンク
に流入し、加工液中に混在する磁性体の加工屑を回転し
ている吸着円盤の両円盤面に吸着させ、吸着円盤が加工
液上に出たとき、非磁性体のスクレーパで吸着円盤の両
円盤面に吸着している加工屑を連続的に掻き落して外に
排出し、加工液中から加工屑を分離する。 【００１１】 【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
ながら説明する。図１は、本発明の実施の形態を示す放
電加工機の加工屑分離装置の側断面図、図２は、図１に
おけるＡ−Ａ断面図である。加工屑分離装置は、基台１
に取り付けらたダーティタンク３、分離タンク５、クリ
ーンタンク７を有する。ダーティタンク３は、放電加工
機の加工槽から排出された磁性体の加工屑を含む加工液
を受けて、ダーティタンク３の流出口３１から分離タン
ク５の流入口５１に加工屑を含んだ加工液を流出する。
分離タンク５は、半円筒状の底面を有し、ダーティタン
ク３の流出口３１から分離タンク５の流入口５１に流入
した、磁性体の加工屑を含んだ加工液を受容し、加工屑
を分離した加工液を分離タンク５の流出口５３からクリ
ーンタンク７の流入口７１を通ってクリーンタンク７に
流出する。 【００１２】磁性体でなる吸着円盤１１が、所定間隔を
あけて平行になるように軸１３に複数枚取り付けられて
いる。吸着円盤１１と同一の厚さで、吸着円盤１１の両
円盤面と同じ高さとなるように複数個の磁石９が各吸着
円盤１１に埋め込まれている。各吸着円盤１１に埋め込
まれた複数個の磁石９は、隣設する磁石9 の磁極がＮ，
Ｓ，Ｎ，Ｓと交互になるように取り付けられ、対向した
円盤面の磁石９の磁極は対極となるように設けられてい
る。また、磁石９の磁極の配列は、Ｎ，Ｎ，Ｓ，Ｓ，
Ｎ，Ｎ，Ｓ，Ｓとなるように設けても良い。複数枚の吸
着円盤１１が所定間隔をあけて平行に取り付けられてい
る軸１３は、軸受１５を介して基台１に回転可能に取り
付けられ、軸13の一端はベルトなどを介してモータ（図
示せず）に接続され、吸着円盤１１を回転させるように
構成されている。この複数枚の吸着円盤１１は、図1 に
示すように分離タンク５の円筒内面とわずかな隙間をあ
けて、加工液中に浸漬されている。また図示を省略して
あるが、各吸着円盤１１の円盤面の両側には保護のため
のステンレスの薄板が貼り付けられているのが好まし
い。 【００１３】スクレーパ１７は、非磁性体からなり、各
吸着円盤１１の円盤面の両側に接するようにフォーク部
１７ａが設けられている。そして、吸着円盤１１の回転
方向下流で吸着円盤１１の回転により分離タンク５に収
容されている加工液の液面上に引き上げられ、吸着円盤
１１の円盤面両側のステンレス板の表面に吸着している
磁性体の加工屑を掻き落とす。加工屑は、スクレーパ１
７の斜面を下方へ移動し、加工屑バケット１９に回収さ
れる。 【００１４】クリーンタンク７は基台１に取り付けら
れ、分離タンク５の流出口５３からクリーンタンク７の
流入口７１に、分離タンク５で磁性体の加工屑を分離し
た加工液が流れ込み、その加工液は、放電加工機の加工
槽や別置の加工液タンク等に送出される。 【００１５】次に、加工液中から磁性体の加工屑を分離
する加工屑分離装置の作用を説明する。放電加工機の加
工槽から排出された磁性体の加工屑を含む加工液がダー
ティタンク３に流入し、一時的にダーティタンク３に溜
められる。ダーティタンク３に溜められた磁性体の加工
屑を含む加工液は、所定の水位を超えるとダーティタン
ク３の流出口３１から流入口５１を通って分離タンク５
に流入し、分離タンク５内で回転している複数枚の吸着
円盤１１に加工屑が磁気吸着され、分離タンク５内の加
工液から加工屑が分離される。加工屑が分離された加工
液は、分離タンク5 の流出口５３からクリーンタンク７
の流入口７１を通ってクリーンタンク７に一時的に溜め
られて、放電加工機の加工槽や別置の加工液タンクに送
出される。加工液タンクに送出された加工液は加工液供
給装置により再び放電加工機の加工槽に供給される。吸
着円盤１１に吸着した加工屑は吸着円盤１１の回転方向
下流にあるスクレーパ１７のフォーク部１７ａで掻き落
とされ、加工屑バケット１９に排出される。加工液中に
クロム、シリコンなどの非磁性体の粉体を混入した粉体
混入加工液中から、磁性体の加工屑だけを分離する場合
にも、本装置が有効に使える。 【００１６】 【発明の効果】磁性体でなる複数枚の吸着円盤全体に複
数個の磁石が埋め込まれているので、吸着板に吸着した
加工屑が再び加工液中に落ちることなく、効率よく回収
できる。また、磁性体の吸着円盤に吸着円盤と同じ厚さ
で、円盤面の両側と同一の高さとなるように磁石が埋め
込まれているので、円盤の表面に磁石が取り付けられて
いる場合に比べ、磁力線が吸着円盤内を通る距離が長く
なる。よって、円盤面の磁気吸着力が強くなり、かつ吸
着円盤の全体に複数個の磁石が埋め込まれているので、
加工屑の吸着面積が広くなり、より多くの加工屑を吸着
分離することができ、加工屑の回収効率が良くなる。よ
って、加工液中から加工屑を効率よく分離することがで
きる。また、粉体混入加工液の場合には、加工液中から
加工屑のみを効率よく分離することができ、放電加工の
仕上げ面品位を向上できる。

【図面の簡単な説明】 【図１】 本発明の実施の形態を示す放電加工機の加工
屑分離装置の側断面図である。 【図２】 図１におけるＡ−Ａ断面図である。 【符号の説明】 １ 基台 ３ ダーティタンク ５ 分離タンク ７ クリーンタンク ９ 磁石 １１ 吸着円盤 １３ 軸 １５ 軸受 １７ スクレーパ １７ａ フォーク部 １９ 加工屑バケット

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項1 】 磁性体でなるワークを加工液中で放電加
   工したとき発生する加工屑を加工液中から分離する放電
   加工機の加工屑分離装置において、 基台と、 前記基台に回転可能に設けられ、所定間隔をあけて平行
   に取り付けられた磁性体でなる複数枚の吸着円盤と、 前記各吸着円盤と同一の厚さで、円盤面の両側と同一の
   高さとなるように前記各吸着円盤に埋め込まれた複数個
   の磁石と、 前記基台に取り付けられ、前記加工屑を含んだ加工液を
   受容するとともに、前記吸着円盤の下方部を若干の隙間
   をあけて覆う半円筒状の底面を有し、一方の側から前記
   加工屑を含んだ加工液が流入し、他方の側から前記吸着
   円盤により加工屑が分離された加工液が流出する分離タ
   ンクと、 前記各吸着円盤の円盤面の両側と接するように設けら
   れ、前記吸着円盤の回転により前記分離タンク内に収容
   されている加工液の液面上に引き上げられた前記吸着円
   盤の各円盤面に磁気吸着した加工屑を掻き落とし、加工
   屑を回収するスクレーパと、 を具備することを特徴とした放電加工機の加工屑分離装
   置。 【請求項2 】前記複数個の磁石が埋め込まれた前記各吸
   着円盤の円盤面両側は保護用薄板で覆われ、前記スクレ
   ーパは前記保護用薄板と接するように設けられた請求項
   １に記載の放電加工機の加工屑分離装置。