JPH10244451A - 研磨工具及びそれを用いた研磨方法 - Google Patents
研磨工具及びそれを用いた研磨方法Info
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- JPH10244451A JPH10244451A JP9061764A JP6176497A JPH10244451A JP H10244451 A JPH10244451 A JP H10244451A JP 9061764 A JP9061764 A JP 9061764A JP 6176497 A JP6176497 A JP 6176497A JP H10244451 A JPH10244451 A JP H10244451A
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- Japan
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- polishing
- polisher
- polished
- polishing tool
- tool
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Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多種多様な形状のワークに少数の研磨工具で
対応できるとともに、摺り合わせの不要な画期的な研磨
工具及びそれを用いた研磨方法を提供する。 【解決手段】 本発明の研磨工具１の工具本体４は、伸
縮性ポリシャ２で覆われた研磨面を有する。そして、ポ
リシャ２の内側には磁性流体３が封入されている。さら
に、選択された方向に向けて該磁性流体３を付勢する磁
気付勢手段７が設けられており、伸縮性ポリシャ２を被
研磨面に押し付けることができる。
対応できるとともに、摺り合わせの不要な画期的な研磨
工具及びそれを用いた研磨方法を提供する。 【解決手段】 本発明の研磨工具１の工具本体４は、伸
縮性ポリシャ２で覆われた研磨面を有する。そして、ポ
リシャ２の内側には磁性流体３が封入されている。さら
に、選択された方向に向けて該磁性流体３を付勢する磁
気付勢手段７が設けられており、伸縮性ポリシャ２を被
研磨面に押し付けることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズや光学素子
等の研磨方法及びそれに用いる研磨工具に関する。特に
は、多種多様な形状のワークに少数の研磨工具で対応で
きる研磨工具及びそれを用いた研磨方法に関する。
等の研磨方法及びそれに用いる研磨工具に関する。特に
は、多種多様な形状のワークに少数の研磨工具で対応で
きる研磨工具及びそれを用いた研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高度な形状精度を要求されるレンズや光
学素子等の仕上げ研磨には、通常、図８に示すような、
弾性材料からなるポリシャ１０を用いた研磨工具が使用
される。ポリシャ１０は、タール等を主成分とするピッ
チや、発泡ウレタン等を主成分とする研磨用パッド等で
形成されており、保持盤１３上に貼り付けられている。
ポリシャ１０は、保持盤１３と共に、その軸回りに回転
する。そして、ポリシャ１０の上面の研磨面１１（作業
面）に研磨液を供給しながらワーク（図示されず）を押
し付けて研磨する。通常、このようなポリシャ１０の研
磨面１１には、溝やピット１２等が形成されており、研
磨加工中に補給される遊離砥粒が、加工物の表面との間
で適当に保持されている。
学素子等の仕上げ研磨には、通常、図８に示すような、
弾性材料からなるポリシャ１０を用いた研磨工具が使用
される。ポリシャ１０は、タール等を主成分とするピッ
チや、発泡ウレタン等を主成分とする研磨用パッド等で
形成されており、保持盤１３上に貼り付けられている。
ポリシャ１０は、保持盤１３と共に、その軸回りに回転
する。そして、ポリシャ１０の上面の研磨面１１（作業
面）に研磨液を供給しながらワーク（図示されず）を押
し付けて研磨する。通常、このようなポリシャ１０の研
磨面１１には、溝やピット１２等が形成されており、研
磨加工中に補給される遊離砥粒が、加工物の表面との間
で適当に保持されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の研
磨工具のポリシャ１０の研磨面１１は、特定の形状のワ
ークの加工に適した曲率及び直径に精度良く整形されて
いる。つまり、１つの研磨工具の用途は特定の形状の被
研磨面の研磨加工にのみ使用される。したがって、多種
に昇るレンズの各曲率及び各直径に適した研磨工具をそ
れぞれ準備しなければならないという不都合が生じる。
磨工具のポリシャ１０の研磨面１１は、特定の形状のワ
ークの加工に適した曲率及び直径に精度良く整形されて
いる。つまり、１つの研磨工具の用途は特定の形状の被
研磨面の研磨加工にのみ使用される。したがって、多種
に昇るレンズの各曲率及び各直径に適した研磨工具をそ
れぞれ準備しなければならないという不都合が生じる。
【０００４】また、研磨加工の進行に伴ってポリシャ１
０の研磨面１１の形状が徐々に変形し劣化するので、研
磨加工中に適宜ポリシャ１０の研磨面１１に摺り合わせ
処理を施して転写性に代表される研磨性能の回復を図る
ことが、加工精度を維持するために採るべき定石とされ
ている。ところが、この煩雑な摺り合わせ処理に費やさ
れる多大な時間が、製造効率の低下と製造コストの増大
に直結するという問題を生じる。つまり、摺り合わせ処
理中はポリシャを生産に使用することはできないので、
生産設備は摺り合わせ待ちとなる。
０の研磨面１１の形状が徐々に変形し劣化するので、研
磨加工中に適宜ポリシャ１０の研磨面１１に摺り合わせ
処理を施して転写性に代表される研磨性能の回復を図る
ことが、加工精度を維持するために採るべき定石とされ
ている。ところが、この煩雑な摺り合わせ処理に費やさ
れる多大な時間が、製造効率の低下と製造コストの増大
に直結するという問題を生じる。つまり、摺り合わせ処
理中はポリシャを生産に使用することはできないので、
生産設備は摺り合わせ待ちとなる。
【０００５】本発明は、多種多様な形状のワークに少数
の研磨工具で対応できるとともに、摺り合わせの不要な
画期的な研磨工具及びそれを用いた研磨方法を提供する
ことを目的とする。
の研磨工具で対応できるとともに、摺り合わせの不要な
画期的な研磨工具及びそれを用いた研磨方法を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の研磨工具は、伸縮性ポリシャで覆われた研
磨面を有し、該ポリシャの内側に液体が封入されている
ことを特徴とする。
め、本発明の研磨工具は、伸縮性ポリシャで覆われた研
磨面を有し、該ポリシャの内側に液体が封入されている
ことを特徴とする。
【０００７】また、本発明の研磨方法は、 伸縮性ポリ
シャで覆われた研磨面を有し、該ポリシャの内側に液体
が封入されている研磨工具を用い、 該研磨工具をワー
クに押し付けて、該ポリシャの研磨面をワークの被研磨
面にフィットさせ、 この状態で上記伸縮性ポリシャと
ワークとを相対的に運動させて被研磨面を研磨すること
を特徴とする。
シャで覆われた研磨面を有し、該ポリシャの内側に液体
が封入されている研磨工具を用い、 該研磨工具をワー
クに押し付けて、該ポリシャの研磨面をワークの被研磨
面にフィットさせ、 この状態で上記伸縮性ポリシャと
ワークとを相対的に運動させて被研磨面を研磨すること
を特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明においては、さらに、上記
液体が磁性流体であり、選択された方向に向けて該磁性
流体を付勢する磁気付勢手段を用いて伸縮性ポリシャを
被研磨面に押し付けることが好ましい。
液体が磁性流体であり、選択された方向に向けて該磁性
流体を付勢する磁気付勢手段を用いて伸縮性ポリシャを
被研磨面に押し付けることが好ましい。
【０００９】この態様においては、磁界中の磁性流体の
移動によって、ポリシャを自由に変形させることができ
る。また、ポリシャの変形形状は、鉄心の形状を変える
ことによっても制御可能である。つまり、ポリシャの研
磨面の曲率と研磨圧とを自在に変えることができるの
で、曲率の異なる種々のレンズ研磨に対し、研磨工具を
取り替えることなく加工が可能である。さらに、非球面
レンズのような表面形状の曲率が変化する加工物等に対
して良好な仕上げの研磨加工を施すことができる。この
際、摺り合わせ処理を施す必要はない。
移動によって、ポリシャを自由に変形させることができ
る。また、ポリシャの変形形状は、鉄心の形状を変える
ことによっても制御可能である。つまり、ポリシャの研
磨面の曲率と研磨圧とを自在に変えることができるの
で、曲率の異なる種々のレンズ研磨に対し、研磨工具を
取り替えることなく加工が可能である。さらに、非球面
レンズのような表面形状の曲率が変化する加工物等に対
して良好な仕上げの研磨加工を施すことができる。この
際、摺り合わせ処理を施す必要はない。
【００１０】以下に図面を参照して、実施例によって詳
細に説明する。この実施例で用いている磁性流体は、フ
ェライト等の強磁性微粉末を液相（水）中に分散させた
コロイド溶液である。強磁性微粉末（分散剤）の粒径が
数十から数百Å程度と極めて微細であるため、常時性的
挙動を示す磁気的性質を持つ。すなわち、磁場を印加す
ることによって、磁性流体は磁束経路に引き付けられ、
特に磁束密度の大きい方に引き寄せられるのである。
細に説明する。この実施例で用いている磁性流体は、フ
ェライト等の強磁性微粉末を液相（水）中に分散させた
コロイド溶液である。強磁性微粉末（分散剤）の粒径が
数十から数百Å程度と極めて微細であるため、常時性的
挙動を示す磁気的性質を持つ。すなわち、磁場を印加す
ることによって、磁性流体は磁束経路に引き付けられ、
特に磁束密度の大きい方に引き寄せられるのである。
【００１１】図１は、本発明の１実施例に係る研磨工具
の全体構成を模式的に示す側面断面図である。図２は、
図１の研磨工具のカップ部の詳細を示す側面断面図であ
る。この研磨工具１は、上下の電磁石７、７′と、その
間に挟まれている工具本体４とから構成されている。工
具本体４の上面と、上電磁石７の下の間にワーク５（レ
ンズ）を配置して加工する。このワーク５は、基本的
に、工具本体４に対してある基準的な位置に位置決めさ
れて固定される。しかし、ワークの種類によっては、回
転・揺動・左右前後動する構造としてもよい。
の全体構成を模式的に示す側面断面図である。図２は、
図１の研磨工具のカップ部の詳細を示す側面断面図であ
る。この研磨工具１は、上下の電磁石７、７′と、その
間に挟まれている工具本体４とから構成されている。工
具本体４の上面と、上電磁石７の下の間にワーク５（レ
ンズ）を配置して加工する。このワーク５は、基本的
に、工具本体４に対してある基準的な位置に位置決めさ
れて固定される。しかし、ワークの種類によっては、回
転・揺動・左右前後動する構造としてもよい。
【００１２】工具本体４は、回転駆動されるカップ４ａ
（材質：真鍮等）を基本として構成されている。カップ
４ａは、上面が開放されており、この上面はポリシャ２
（詳細後述）で覆われている。ポリシャ２は、後述する
機構によりその上面（研磨面）をワーク５に押し付けて
研磨加工する。ポリシャ２の周縁部２ａは、カップ４ａ
の外周面に張り出している。周縁部２ａの外周は、保持
具９で固く均一に固縛されている。保持具９は、水道ホ
ースの締め具のような金属バンドと締め上げ機構（図示
されず）を有し、ポリシャ周縁部２ａを液密にシールす
るとともに上面を皺のない状態としている。
（材質：真鍮等）を基本として構成されている。カップ
４ａは、上面が開放されており、この上面はポリシャ２
（詳細後述）で覆われている。ポリシャ２は、後述する
機構によりその上面（研磨面）をワーク５に押し付けて
研磨加工する。ポリシャ２の周縁部２ａは、カップ４ａ
の外周面に張り出している。周縁部２ａの外周は、保持
具９で固く均一に固縛されている。保持具９は、水道ホ
ースの締め具のような金属バンドと締め上げ機構（図示
されず）を有し、ポリシャ周縁部２ａを液密にシールす
るとともに上面を皺のない状態としている。
【００１３】カップ４ａの底は、若干の周縁部を残して
開口４ｃが開いている。開口４ｃの上には、カップ４ａ
内の体積を一定にするための伸縮性底板４ｂが貼られて
いる。この底板４ｂは、ポリシャ２同様の伸縮性を有す
る材料でできている。同底板４ｂは、接着剤及び機械的
締め付け具（図示されず）で液密にカップ４ａに固定さ
れている。カップ４ａ内には上述の磁性流体３が封入さ
れている。
開口４ｃが開いている。開口４ｃの上には、カップ４ａ
内の体積を一定にするための伸縮性底板４ｂが貼られて
いる。この底板４ｂは、ポリシャ２同様の伸縮性を有す
る材料でできている。同底板４ｂは、接着剤及び機械的
締め付け具（図示されず）で液密にカップ４ａに固定さ
れている。カップ４ａ内には上述の磁性流体３が封入さ
れている。
【００１４】電磁石８は、中央部の鉄心６と、その周り
のコイル８を備える。コイル８に通電すると、上下の鉄
心６、６′間に磁束φ（ファイ、２点鎖線）が形成され
る。この磁束の影響で、封入した磁性流体３は、磁束形
成部に引き寄せられて液面が盛り上がり、ポリシャ２は
点線で示したように隆起し、ポリシャ２の研磨面がワー
ク５の下面（被研磨面）に密着するように変形する。こ
こで、磁性流体３に印加する磁場の強度は、コイル８に
流す電流量を変化させれば調整できる。一方、磁場分布
は鉄心６の先端の形状を変えることで変化させることが
可能であるため、ポリシャの硬度や形状を調整できる。
例えば、鉄心６の中央部がワーク５方向に突き出すよう
な形にすれば、ポリシャ２の中央部も鋭く盛り上がる。
また、鉄心６をリング状とすれば、ポリシャ２もリング
状に盛り上がる。
のコイル８を備える。コイル８に通電すると、上下の鉄
心６、６′間に磁束φ（ファイ、２点鎖線）が形成され
る。この磁束の影響で、封入した磁性流体３は、磁束形
成部に引き寄せられて液面が盛り上がり、ポリシャ２は
点線で示したように隆起し、ポリシャ２の研磨面がワー
ク５の下面（被研磨面）に密着するように変形する。こ
こで、磁性流体３に印加する磁場の強度は、コイル８に
流す電流量を変化させれば調整できる。一方、磁場分布
は鉄心６の先端の形状を変えることで変化させることが
可能であるため、ポリシャの硬度や形状を調整できる。
例えば、鉄心６の中央部がワーク５方向に突き出すよう
な形にすれば、ポリシャ２の中央部も鋭く盛り上がる。
また、鉄心６をリング状とすれば、ポリシャ２もリング
状に盛り上がる。
【００１５】この電磁石７は、研磨加工具４とワーク５
の両側についている必要はなく、いずれか一方のみでも
同様の効果が得られる。電磁石の効果が充分出るよう、
鉄心６の中心と研磨加工具４の中心は一致し、ポリシャ
面と鉄心６は直行するよう位置することが好ましい。ま
た、電磁石７の替りに永久磁石を使用しても同様の効果
が得られることは言うまでもない。この場合、永久磁石
の位置を変えることにより、磁場の強度を変えることが
できる。
の両側についている必要はなく、いずれか一方のみでも
同様の効果が得られる。電磁石の効果が充分出るよう、
鉄心６の中心と研磨加工具４の中心は一致し、ポリシャ
面と鉄心６は直行するよう位置することが好ましい。ま
た、電磁石７の替りに永久磁石を使用しても同様の効果
が得られることは言うまでもない。この場合、永久磁石
の位置を変えることにより、磁場の強度を変えることが
できる。
【００１６】ここでポリシャは０．１から１．０mm程度
の厚さを持った伸縮性のあるシートを使用する。材質
は、特にクロロプレンゴム又はニトリルゴムが望まし
い。しかし、これに限らず、伸縮性のある素材であれ
ば、対応可能である。
の厚さを持った伸縮性のあるシートを使用する。材質
は、特にクロロプレンゴム又はニトリルゴムが望まし
い。しかし、これに限らず、伸縮性のある素材であれ
ば、対応可能である。
【００１７】図３は、図１の研磨工具を用いてワーク
（レンズ）の凸面を研磨する様子を示す一部断面側面図
である。磁場を印加しない状態では、磁性流体３は自由
に移動できるため、図３のように被研磨面が凸面のワー
ク５を磨く場合、凸面に沿ってポリシャ２が凹に変形
し、それに伴い、磁性流体３が移動する。この場合、ポ
リシャ２はワーク５の被研磨面に積極的に作用しないた
め、少ない加工量を得たい場合に適している。
（レンズ）の凸面を研磨する様子を示す一部断面側面図
である。磁場を印加しない状態では、磁性流体３は自由
に移動できるため、図３のように被研磨面が凸面のワー
ク５を磨く場合、凸面に沿ってポリシャ２が凹に変形
し、それに伴い、磁性流体３が移動する。この場合、ポ
リシャ２はワーク５の被研磨面に積極的に作用しないた
め、少ない加工量を得たい場合に適している。
【００１８】多くの加工量を必要とする場合、磁場を印
加することによって磁性流体３が鉄心６の方向に移動
し、ワーク５に対して適当な圧力を与えるので、良好な
研磨量と加工面形状を得ることができる。
加することによって磁性流体３が鉄心６の方向に移動
し、ワーク５に対して適当な圧力を与えるので、良好な
研磨量と加工面形状を得ることができる。
【００１９】図４は、図１の研磨工具を用いて、平面の
被研磨面を磨く様子を示す一部断面側面図である。この
ような場合は、磁場を印加することによって磁性流体３
を鉄心６の方向に移動させ、ポリシャ２表面の圧力分布
が均一になるよう電磁石のコイルに流す電流を調節す
る。ワーク５に対し、ポリシャ２が適当な圧力を加える
ため、良好な、研磨量と加工面形状を得ることができ
る。
被研磨面を磨く様子を示す一部断面側面図である。この
ような場合は、磁場を印加することによって磁性流体３
を鉄心６の方向に移動させ、ポリシャ２表面の圧力分布
が均一になるよう電磁石のコイルに流す電流を調節す
る。ワーク５に対し、ポリシャ２が適当な圧力を加える
ため、良好な、研磨量と加工面形状を得ることができ
る。
【００２０】図５は、図１の研磨工具を用いて、凹面の
被研磨面を磨く様子を示す一部断面側面図である。この
ような場合は、磁場を印加することによって磁性流体３
を鉄心６の上方向に移動させ、ポリシャ２表面の中心部
分の圧力が高くなるよう電磁石のコイルに流す電流を調
節する。ワーク５に対し、ポリシャ２が凸面に変形し適
当な圧力を加えるため、良好な研磨量と加工面形状を得
ることができる。
被研磨面を磨く様子を示す一部断面側面図である。この
ような場合は、磁場を印加することによって磁性流体３
を鉄心６の上方向に移動させ、ポリシャ２表面の中心部
分の圧力が高くなるよう電磁石のコイルに流す電流を調
節する。ワーク５に対し、ポリシャ２が凸面に変形し適
当な圧力を加えるため、良好な研磨量と加工面形状を得
ることができる。
【００２１】図６は、曲率の大きい凸面に対応する研磨
工具を用いて、ワークの凸面を研磨している様子を示す
一部断面側面図である。カップ４にポリシャ２を皺がで
きないように貼り、さらにカップ４とポリシャ２との間
に磁性流体３を封入する。その際、磁性流体３が漏れな
いよう保持具９でチャックをする。このような曲率の大
きい凸面のワーク５を加工する場合、ポリシャをあらか
じめ凸面形状に成形した物を用いた方が磁性流体の移動
に伴う変形に追従しやすいため、さらに効果的な加工が
可能になる。
工具を用いて、ワークの凸面を研磨している様子を示す
一部断面側面図である。カップ４にポリシャ２を皺がで
きないように貼り、さらにカップ４とポリシャ２との間
に磁性流体３を封入する。その際、磁性流体３が漏れな
いよう保持具９でチャックをする。このような曲率の大
きい凸面のワーク５を加工する場合、ポリシャをあらか
じめ凸面形状に成形した物を用いた方が磁性流体の移動
に伴う変形に追従しやすいため、さらに効果的な加工が
可能になる。
【００２２】磁場を印加しない状態では、磁性流体３は
自由に移動できるため、図６のように曲率の大きい凸面
のワーク５を磨く場合、ポリシャ２がワーク５の凸面に
沿って凹に変形し、それに伴い、磁性流体３が移動す
る。この場合、ポリシャ２はワーク５の凸面に積極的に
作用しないため、少ない加工量を得たい時に適してい
る。
自由に移動できるため、図６のように曲率の大きい凸面
のワーク５を磨く場合、ポリシャ２がワーク５の凸面に
沿って凹に変形し、それに伴い、磁性流体３が移動す
る。この場合、ポリシャ２はワーク５の凸面に積極的に
作用しないため、少ない加工量を得たい時に適してい
る。
【００２３】多くの加工量を必要とする場合、磁場を印
加することによって磁性流体３が鉄心６の方向に移動
し、ワーク５に対して適当な圧力を与えるので、良好な
研磨量と加工面形状を得ることができる。
加することによって磁性流体３が鉄心６の方向に移動
し、ワーク５に対して適当な圧力を与えるので、良好な
研磨量と加工面形状を得ることができる。
【００２４】図７は、曲率の大きい凹面に対応する研磨
工具を用いて、ワークの凹面を研磨している様子を示す
一部断面側面図である。図６の場合と同様に大曲率凹面
の研磨加工を行うことができる。
工具を用いて、ワークの凹面を研磨している様子を示す
一部断面側面図である。図６の場合と同様に大曲率凹面
の研磨加工を行うことができる。
【００２５】研磨加工時の加工圧は、印加する磁場強度
を変化させることによって制御可能である。このことを
応用すれば、非球面の加工も可能である。曲率が大きい
部分では加工圧が高くなるように磁場を制御し、曲率が
小さい部分では逆に加工圧が低くなるよう磁場を制御す
ることによって、連続した加工で非球面形状を得ること
ができる。加工圧の強度はスムーズに変化させられるの
で、加工による折れやゆがみも従来の加工法に比べ、少
なくなる。
を変化させることによって制御可能である。このことを
応用すれば、非球面の加工も可能である。曲率が大きい
部分では加工圧が高くなるように磁場を制御し、曲率が
小さい部分では逆に加工圧が低くなるよう磁場を制御す
ることによって、連続した加工で非球面形状を得ること
ができる。加工圧の強度はスムーズに変化させられるの
で、加工による折れやゆがみも従来の加工法に比べ、少
なくなる。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、本発明の研磨工具を使用することにより、少
ない研磨工具でも様々なワーク形状に対応できる。ま
た、磁場調整を行う態様では、細かいポリシャの面形状
や加工圧も、鉄心形状や磁場強度を変えることによって
も制御可能である。つまり、ポリシャの作業面の曲率と
研磨圧とを自在に変えることができるので、曲率の異な
る種々のレンズ研磨に対し、研磨工具を取り替えること
なく加工が可能である。さらに、非球面レンズのような
表面形状の曲率が変化する加工物等に対して良好な仕上
げの研磨加工を施すことができる。したがって、研磨工
具に摺り合わせ処理を施す必要がなく、研磨工具準備に
費やされた多大なる時間及び経費が削減できる。
によれば、本発明の研磨工具を使用することにより、少
ない研磨工具でも様々なワーク形状に対応できる。ま
た、磁場調整を行う態様では、細かいポリシャの面形状
や加工圧も、鉄心形状や磁場強度を変えることによって
も制御可能である。つまり、ポリシャの作業面の曲率と
研磨圧とを自在に変えることができるので、曲率の異な
る種々のレンズ研磨に対し、研磨工具を取り替えること
なく加工が可能である。さらに、非球面レンズのような
表面形状の曲率が変化する加工物等に対して良好な仕上
げの研磨加工を施すことができる。したがって、研磨工
具に摺り合わせ処理を施す必要がなく、研磨工具準備に
費やされた多大なる時間及び経費が削減できる。
【図１】本発明の１実施例に係る研磨工具の全体構成を
模式的に示す側面断面図である。
模式的に示す側面断面図である。
【図２】図１の研磨工具のカップ部の詳細を示す側面断
面図である。
面図である。
【図３】図１の研磨工具を用いてワークの凸面を研磨す
る様子を示す一部断面側面図である。
る様子を示す一部断面側面図である。
【図４】図１の研磨工具を用いて、平面の被研磨面を磨
く様子を示す一部断面側面図である。
く様子を示す一部断面側面図である。
【図５】図１の研磨工具を用いて、凹面の被研磨面を磨
く様子を示す一部断面側面図である。
く様子を示す一部断面側面図である。
【図６】曲率の大きい凸面に対応する研磨工具を用い
て、ワークの凸面を研磨している様子を示す一部断面側
面図である。
て、ワークの凸面を研磨している様子を示す一部断面側
面図である。
【図７】曲率の大きい凹面に対応する研磨工具を用い
て、ワークの凹面を研磨している様子を示す一部断面側
面図である。
て、ワークの凹面を研磨している様子を示す一部断面側
面図である。
【図８】従来の研磨工具の構成を示す側面図である。
１ 研磨工具 ２ ポリシャ ２ａ 周縁部 ３ 磁性流体 ４ 工具本体 ４ａ カップ ４ｂ 伸縮性底板 ４ｃ 底開口 ５ ワーク（レンズ） ６ 鉄心 ７ 電磁石 ８ コイル ９ 保持具 １０ ポリシャ（ピ
ッチ、ウレタン） １１ 研磨面 １２ ピット １３ 保持盤
ッチ、ウレタン） １１ 研磨面 １２ ピット １３ 保持盤
Claims (4)
- 【請求項１】 伸縮性ポリシャで覆われた研磨面を有
し、該ポリシャの内側に液体が封入されていることを特
徴とする研磨工具。 - 【請求項２】 上記液体が磁性流体であり、 かつ、選択された方向に向けて該磁性流体を付勢する磁
気付勢手段が設けられていることを特徴とする請求項１
記載の研磨工具。 - 【請求項３】 伸縮性ポリシャで覆われた研磨面を有
し、該ポリシャの内側に液体が封入されている研磨工具
を用い、 該研磨工具をワークに押し付けて、該ポリシャの研磨面
をワークの被研磨面にフィットさせ、 この状態で上記伸縮性ポリシャとワークとを相対的に運
動させて被研磨面を研磨することを特徴とする研磨方
法。 - 【請求項４】 さらに、上記液体が磁性流体であり、 選択された方向に向けて該磁性流体を付勢して伸縮性ポ
リシャを被研磨面に押し付けることを特徴とする請求項
３記載の研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9061764A JPH10244451A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 研磨工具及びそれを用いた研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9061764A JPH10244451A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 研磨工具及びそれを用いた研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10244451A true JPH10244451A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=13180532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9061764A Pending JPH10244451A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 研磨工具及びそれを用いた研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10244451A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6875090B2 (en) | 1999-12-01 | 2005-04-05 | Gerber Coburn Optical, Inc. | Apparatus for finishing optical surfaces, including a pad compensation device |
| JP2006524587A (ja) * | 2003-04-28 | 2006-11-02 | マイクロン・テクノロジー・インコーポレーテッド | 微細形状ワークピースを機械的及び／又は化学機械的に研磨するためのアンダーパッドを含む研磨機及び方法 |
| CN103465112A (zh) * | 2013-09-03 | 2013-12-25 | 黑龙江科技大学 | 基于磁流变胶体或磁流变泡沫材料的柔性抛光方法和装置 |
| CN104942661A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-09-30 | 深圳市智博高科光电装备有限公司 | 一种适用于平面光学零件的磁流变抛光磨头及装置 |
| CN108687647A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-10-23 | 成都信息工程大学 | 一种用于空竹加工用的无损抛光装置 |
| CN116551552A (zh) * | 2023-06-06 | 2023-08-08 | 顺德职业技术学院 | 智能磁研磨抛光机 |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP9061764A patent/JPH10244451A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6875090B2 (en) | 1999-12-01 | 2005-04-05 | Gerber Coburn Optical, Inc. | Apparatus for finishing optical surfaces, including a pad compensation device |
| JP2006524587A (ja) * | 2003-04-28 | 2006-11-02 | マイクロン・テクノロジー・インコーポレーテッド | 微細形状ワークピースを機械的及び／又は化学機械的に研磨するためのアンダーパッドを含む研磨機及び方法 |
| CN103465112A (zh) * | 2013-09-03 | 2013-12-25 | 黑龙江科技大学 | 基于磁流变胶体或磁流变泡沫材料的柔性抛光方法和装置 |
| CN104942661A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-09-30 | 深圳市智博高科光电装备有限公司 | 一种适用于平面光学零件的磁流变抛光磨头及装置 |
| CN108687647A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-10-23 | 成都信息工程大学 | 一种用于空竹加工用的无损抛光装置 |
| CN116551552A (zh) * | 2023-06-06 | 2023-08-08 | 顺德职业技术学院 | 智能磁研磨抛光机 |
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