JPH10244752A - 光学的記録媒体 - Google Patents

光学的記録媒体

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JPH10244752A
JPH10244752A JP9050127A JP5012797A JPH10244752A JP H10244752 A JPH10244752 A JP H10244752A JP 9050127 A JP9050127 A JP 9050127A JP 5012797 A JP5012797 A JP 5012797A JP H10244752 A JPH10244752 A JP H10244752A
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JP
Japan
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tricyanoethylene
ethyl
optical recording
recording medium
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JP9050127A
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Shuichi Maeda
修一 前田
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 620〜690nmのレーザー光で記録再生
するのに好適な有機色素層を記録層とする光学的記録媒
体を提供する。 【解決手段】 光記録層の色素として下記式のものを用
いる。 【化1】 1 、R2 は置換されていてもよいアルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルキル基又はアリール基を示すが、R
1 とR2 とが結合して複素環を形成していてもよく、ま
たR1 とR3 が結合して複素環を形成していてもよい。
3 はR1 と結合して複素環を形成していない場合に
は、水素原子、ハロゲン原子又は置換されていてもよい
アルキル基若しくはアルコキシ基を示す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光により記
録可能な光学的記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高密度記録のためレーザー光の発
振波長の短波長化が注目され、780nm、830nm
よりも短波長のレーザー光で記録再生可能な光学的記録
媒体が求められている。かかる状況において提案されて
いる光学的記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化
記録媒体、カルコゲン酸化物系記録媒体、有機色素系記
録媒体等がある。これらの中で、安価で製造が容易であ
るという点で、有機色素系記録媒体は優位性を有するも
のと考えられる。
【0003】ところで、有機色素系の光学的記録媒体に
は、記録可能なコンパクトディスクとして、反射率の高
い金属層を薄い有機色素層の上に積層したタイプのもの
が広く知られているが、現在提案されているものは、記
録感度が悪く、高い線速度での記録には不利である。ま
た、記録時に色素以外に基板も変形するため、ビット長
再生方式においてはビットの長さのばらつきが多くな
り、ジッターが大きくなるという問題がある。
【0004】それに対し、有機色素単層での記録方式に
関しては、記録再生光の膜面入射方式を含め、非常に多
くの研究がなされ、一部は、780nm用の光学的記録
媒体として実用化されている。しかしながら、短波長用
途については、特開平4−74690号公報、特開平4
−238036号公報、特開平5−38878号公報等
の各種の提案がなされているものの、耐光性、耐環境性
等は未だ不十分であり、また短波長用途に固有の問題に
ついては何ら解決されていないのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の有機色素系の光
学的記録媒体は、記録により生じるリムの形成が、短波
長用途、すなわち短ビット記録による高密度記録には不
利であるという問題があった。また、10m/s以上の
高線速記録において、十分な記録密度と記録特性を得る
ことが困難であった。本発明はこのような問題を解決せ
んとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光学的記録
媒体は、基板上に有機色素層を有する波長620〜69
0nmのレーザー光で記録再生するための光学的記録媒
体であって、有機色素層が、下記一般式〔I〕で表わさ
れるトリシアノビニル系化合物を含有することを特徴と
するものである。
【0007】
【化2】
【0008】(式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立し
て、置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基、
シクロアルキル基若しくはアリール基を示すか、又はR
1 とR 2 が結合して複素環を形成するか若しくはR1
3 が結合して複素環を形成する。R3 はR1 と結合し
て複素環を形成していない場合には、水素原子、ハロゲ
ン原子、又は置換されていてもよいアルキル基若しくは
アルコキシ基を示す。)
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係る光学的記録媒体は、基板上に有機色素層を
設けた構成を基本とするが、所望により有機色素層の上
に金属反射層を成膜したり、紫外線硬化性樹脂膜を積層
してもよい。また、基板上に有機色素層を設けた2枚の
媒体を貼合わせてもよい。
【0010】基板としては、ポリカーボネート基板、非
晶質ポリオレフィン基板、ガラス基板等、公知の透明で
複屈折の小さいものが好ましく用いられる。有機色素層
は、通常、有機色素を溶媒に溶解したものを基板上に塗
布乾燥するか、有機色素を基板上に真空蒸着することに
より形成する。塗布法の場合の溶媒としては、例えば、
ポリカーボネート基板の場合は、エタノール、3−ヒド
ロキシ−3−メチル−2−ブタノン、ジアセトンアルコ
ール、フッ素系アルコール等のポリカーボネート基板を
侵さないものが好ましく使用され、ポリオレフィン基板
の場合には、クロロホルム、メチルエチルケトン等の極
性溶媒が好ましく使用される。
【0011】有機色素層は、その分光吸収極大が510
nm〜730nmの範囲にあることが好ましい。この範
囲外に吸収極大があると、十分な感度が得られなかった
り、良好な再生信号が得られないことがある。また、有
機色素層の膜厚は20〜100nmの範囲にあることが
好ましい。有機色素層の膜厚が20nm未満では塗膜が
溝にのみ形成され、溝間記録が困難となる。逆に、10
0nmを超えると、リムが厚くなったり、記録部のレー
ザー光走査方向の非対称性が強調されるため、ビット長
記録においてジッターが悪くなり易い。本発明では有機
色素層に前記一般式〔I〕で表わされるトリシアノビニ
ル系色素を用いる。
【0012】前記一般式〔I〕において、R1 、R2
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、sec
−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘ
プチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシ
ル基、n−オクタデシル基等の炭素数1〜20のアルキ
ル基、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、より好
ましくは炭素数1〜6のアルキル基;フェニル基、トリ
ル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数6〜12のア
リール基;ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、イ
ソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニ
ル基、2−ペンテニル基等の炭素数2〜10のアルケニ
ル基;ベンジル基、フェネチル基等のアリールアルキル
基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオ
クチル基等の炭素数3〜10のシクロアルキル基が挙げ
られる。
【0013】これらの基に結合する置換基としては、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、se
c−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシル
オキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ
基、n−デシルオキシ基等の炭素数1〜10のアルコキ
シ基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロ
ポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエト
キシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシプロポキシ
基、エトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エト
キシブトキシ基等の炭素数2〜12のアルコキシアルコ
キシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキ
シエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシ
エトキシエトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エ
トキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数3〜15の
アルコキシアルコキシアルコキシ基;アリルオキシ基;
フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナ
フチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ
基;シアノ基;ニトロ基;ヒドロキシ基;テトラヒドロ
フリル基;メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニ
ルアミノ基、n−プロピルスルホニルアミノ基、イソプ
ロピルスルホニルアミノ基、n−ブチルスルホニルアミ
ノ基、tert−ブチルスルホニルアミノ基、sec−
ブチルスルホニルアミノ基、n−ペンチルスルホニルア
ミノ基、n−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数1
〜6のアルキルスルホニルアミノ基;フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボ
ニル基、tert−ブトキシカルボニル基、sec−ブ
トキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル
基、n−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7
のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ
基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニ
ルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブ
チルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニル
オキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペ
ンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオ
キシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ
基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニル
オキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプ
ロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニル
オキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、s
ec−ブトキシカルボニルオキシ基、n−ペンチルオキ
シカルボニルオキシ基、n−ヘキシルオキシカルボニル
オキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキ
シ基等が挙げられる。
【0014】また、R1 はR2 と結合してピペリジン
環、モルホリン環等の複素環を形成するか又はR3 と結
合して複素環を形成していてもよい。R3 はR1 と結合
して複素環を形成しない場合には水素原子;メチル基、
エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基等の炭素数1
〜20のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基、n−ブトキシ基等の炭素数1〜20のアル
コキシ基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原
子等のハロゲン原子等を示す。R1 とR2 又はR 1 とR
3 とが結合して形成する複素環や、R3 が環を形成しな
い場合のアルキル基、アルコキシ基には、前述のR1
2 について述べたのと同様の置換基が結合していても
よい。本発明で用いられるトリシアノビニル系化合物の
いくつかを下記の表−1に例示する。
【0015】
【表1】表−1 トリシアノビニル系色素 A−1 1−(P−ジエチルアミノフェニル)−1,
2,2−トリシアノエチレン A−2 1−(P−ジメチルアミノフェニル)−1,
2,2−トリシアノエチレン A−3 1−(P−ジ−n−プロピルアミノフェニル)
−1,2,2−トリシアノエチレン A−4 1−(P−ジ−i−プロピルアミノフェニル)
−1,2,2−トリシアノエチレン A−5 1−(P−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−
1,2,2−トリシアノエチレン A−6 1−(P−ジ−sec−ブチルアミノフェニ
ル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−7 1−(P−エチル−n−ブチルアミノフェニ
ル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−8 1−(P−エチル−(2エチル−n−ヘキシ
ル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレ
ン A−9 1−(P−ジ−n−ペンチルアミノフェニル)
−1,2,2−トリシアノエチレン A−10 1−(P−ビス(2−エチル−n−ヘキシル)
アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−11 1−(P−エチル−フェニルアミノフェニル)
−1,2,2−トリシアノエチレン A−12 1−(P−エチル−(p−メチルフェニル)ア
ミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−13 1−(P−エチル−(3,5−ジメチルフェニ
ル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレ
【0016】
【表2】表−1 (つづき) A−14 1−(P−エチル−ビニルアミノフェニル)−
1,2,2−トリシアノエチレン A−15 1−(P−エチル−(2−メチルビニル)アミ
ノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−16 1−(P−エチル−アリルアミノフェニル)−
1,2,2−トリシアノエチレン A−17 1−(P−エチル−(3−メチルアリル)アミ
ノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−18 1−(P−エチル−ベンジルアミノフェニル)
−1,2,2−トリシアノエチレン A−19 1−(P−エチル−フェネチルアミノフェニ
ル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−20 1−(P−エチル−シクロペンチルアミノフェ
ニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−21 1−(P−エチル−シクロヘキシルアミノフェ
ニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−22 1−(P−エチル−(2−メトキシエチル)ア
ミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−23 1−(P−エチル−(2,3−ジメトキシプロ
ピル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチ
レン A−24 1−(P−エチル−(2−(2−メトキシエト
キシ)エチル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシ
アノエチレン A−25 1−(P−エチル−(2−(2−(2−メトキ
シエトキシ)エトキシ)エチル)アミノフェニル)−
1,2,2−トリシアノエチレン A−26 1−(P−エチル−(2−ヒドロキ−3−エト
キシプロピル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシ
アノエチレン
【0017】
【表3】表−1 (つづき) A−27 1−(P−ビス(2−メトキシエチル)アミノ
フェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−28 1−(P−ビス(2−n−ブトキシエチル)ア
ミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−29 1−(P−エチル−(p−メチルフェノキシ)
メチルアミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチ
レン A−30 1−(P−エチル−(2−フェノキシエチル)
アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−31 1−(P−エチル−(2−シクロヘキシルオキ
シエチル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノ
エチレン A−32 1−(P−エチル−テトラヒドロフルフリルア
ミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−33 1−(P−エチル−(2−ヒドロキシエチル)
アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−34 1−(P−エチル−(2−シアノエチル)アミ
ノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−35 1−(P−エチル−(2−エチルスルホニルア
ミノエチル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシア
ノエチレン A−36 1−(P−エチル−(2−ヨードエチル)アミ
ノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−37 1−(P−エチル−(2−アセチルオキシエチ
ル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレ
ン A−38 1−(P−エチル−(2−エトキシカルボニル
エチル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエ
チレン A−39 1−(P−エチル−(2−エトキシカルボニル
オキシエチル)アミノフェニル)−1,2,2−トリシ
アノエチレン
【0018】
【表4】表−1 (つづき) A−40 1−(P−ビス(2−アセチルオキシエチル)
アミノフェニル)−1,2,2−トリシアノエチレン A−41 1−P−ピペリジノフェニル−1,2,2−ト
リシアノエチレン A−42 1−P−モルホリノフェニル−1,2,2−ト
リシアノエチレン A−43 3−(3−メチル−4−ジエチルアミノ)フェ
ニル−1,2,2−トリシアノエチレン A−44 1−(3−クロロ−4−ジエチルアミノ)フェ
ニル−1,2,2−トリシアノエチレン A−45 1−(3−メトキシ−4−ジエチルアミノ)フ
ェニル−1,2,2−トリシアノエチレン
【0019】
【表5】
【0020】
【表6】
【0021】
【表7】
【0022】これらの色素は単独で用いてもよいし、2
種以上混合して用いてもよい。さらに耐候性等を向上さ
せるため、クエンチャーや含金属アゾ系色素と混合して
用いてもよい。本発明に係る光学的記録媒体を用いて記
録、再生を行うには、基板側から波長620〜690n
mのレーザー光を入射して行う。入射されたレーザー光
を有機色素層が吸収して発熱し、主減量開始温度を超え
る温度に達した時に低分子量のフラグメントに分解し始
め、その結果凹部が形成される。この凹部には色素が若
干残っているか殆どないため、再生光を照射した時に反
射率が低下し、記録部として検知される。
【0023】一般に有機色素層を有する光学的記録媒体
では、記録部の形状は使用する色素により大きく異な
り、有機色素層の膜厚を薄くするとリムは薄くなるが、
記録部の非対称性は改善されるとは限らない。しかし本
発明で用いる前記一般式〔I〕で示されるトリシアノビ
ニル系色素を含む有機色素層を有する光学的記録媒体
は、リムがほとんど形成されず、高線速記録においても
良好なジッター特性を示す。
【0024】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例1〜6 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝を設けた直径120mm、
厚さ1.2mmのポリカーボネート基板を用いた。この
基板上に表−2の有機色素溶液をスピンコート法により
塗布した。次いで色素層中の溶媒を完全に蒸発させるた
め100℃のオーブン中で30分間乾燥を行った。
【0025】次いで、色素層の上に、平均厚さが100
nmとなるように金をDCマグネトロンスパッタ法によ
り成膜して光反射層を形成した。さらに、光反射層の上
に紫外線硬化剤SD−318 (大日本インキ化学(株)
製)をスピンコート法により4μmの厚さで塗布し、紫
外線照射装置で紫外線を照射して硬化させて、保護層を
形成した。
【0026】この光学的記録媒体について、635nm
の半導体レーザーでEFM信号の記録及び初期特性評価
を行ったところ、ビット長ジッターは良好であり、良好
なリム形状の記録部が得られた。温度80℃、湿度90
%の条件で500時間の高温高湿試験の後に、ブロック
エラーレートの変化を測定したところ、わずかなエラー
の増加が見られるだけであった。なお、本評価で使用し
たドライブは、基本的に現行のコンパクトディスク規格
に基づいたドライブの光ヘッドのみを635nmレーザ
ーに変更したものである。EFM信号変調方式等は現行
コンパクトディスクと同様であり、ブロックエラーレー
トもこの変調方式にのっとって評価した。
【0027】
【表8】 色素の表示は表−1に依る。
【0028】実施例7 深さ150nm、幅(半値幅)0.25μmの溝が0.
80μmのピッチで形成されているU字型案内溝を有す
る厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を用い、かつ
表−1のA−23の色素をオクタフルオロプロパノール
に2.5重量%となるように溶解した溶液を用いた以外
は、実施例1と同様にして表面に保護層を有するディス
クを製作した。このディスク2枚をホットメルト接着剤
で接着して光学的記録媒体とした。
【0029】この記録媒体につき、640nmの半導体
レーザー評価機(開口数NA=0.6)を用いて、EF
M信号の記録及び初期特性評価を行ったところ、ビット
長ジッターは良好であり、良好なリム形状の記録部が得
られた。また温度80℃、湿度90%の条件で500時
間の高温高湿試験の後に、ブロックエラーレートの変化
を測定したところ、わずかなエラー増加が見られるだけ
であった。
【0030】
【発明の効果】本発明に係る光学的記録媒体は、リムが
殆んど無い良好な微小記録部が形成され、ビット長ジッ
ターが小さく、波長620〜690nmの短波長記録に
好適に適用でき、いわゆるDVD−W/O、DVD−R
といわれる規格に好適である。また、クロック周波数及
びトラックピッチをあげることにより、現行のコンパク
トディスクの約半分のピッチ、約半分のマーク長でも良
好な特性を示す。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で用いた色素の分光特性であり、破線
はクロロホルム溶液のスペクトル(λmax=524n
m)、実線は基板に塗布したもののスペクトル(635
nmにおける吸収0.06)を示す。
【図2】実施例7で用いた色素の分光特性であり、破線
はクロロホルム溶液のスペクトル(λmax=522n
m)、実線は基板に塗布したもののスペクトル(635
nmにおける吸収0.06)を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に有機色素層を有する光学的記録
    媒体において、有機色素層が、下記一般式〔I〕で表わ
    されるトリシアノビニル系化合物を含有することを特徴
    とする波長620〜690nmのレーザー光で記録再生
    するための短波長記録用光学的記録媒体。 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、置換され
    ていてもよいアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
    ル基若しくはアリール基を示すか、又はR1 とR 2 が結
    合して複素環を形成するか若しくはR1 とR3 が結合し
    て複素環を形成する。R3 はR1 と結合して複素環を形
    成していない場合には、水素原子、ハロゲン原子、又は
    置換されていてもよいアルキル基若しくはアルコキシ基
    を示す。)
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003019549A1 (en) * 2001-08-27 2003-03-06 Beall Developers Inc. Optical recording medium
US6936323B2 (en) 2003-04-30 2005-08-30 Ricoh Company, Ltd. Optical recording medium, and method and device using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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