JPH08332772A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 透明基板上に光吸収層、光反射層および保護
層を順次積層してなる光記録媒体において、該光吸収層
が下記一般式［Ｉ］で示されるアゾ化合物と金属塩から
形成される含金属アゾ化合物を含有し、かつ該光反射層
が銀または銀合金の薄膜よりなることを特徴とする光記
録媒体。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に関する。詳
しくは、有機色素を用いた追記型のコンパクトディスク
に好適な光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは従来の記録媒体と比べて記
録容量が大きく、ランダムアクセスも可能なことから、
オーディオソフト、コンピュータソフト、ゲームソフ
ト、電子出版用などの再生専用の媒体として広く用いら
れている。これに対して、種々の記録原理に基づいた有
機記録層や無機記録層を備えた追記型や書換型の記録可
能光ディスクが開発され一部は実用化に至っている。

【０００３】その中のひとつに記録可能コンパクトディ
スク（ＣＤ−ＷＯ）があり、追記記録が可能であると共
に、再生専用コンパクトディスクと同等の反射率を示す
ため、記録後に再生専用コンパクトディスクプレイヤ
ー、ドライブで再生可能であるという特徴を持つ。この
記録可能コンパクトディスクは、通常案内溝を有する透
明基板上にシアニン色素等の有機色素からなる光吸収
層、金属からなる光反射層および紫外線硬化樹脂からな
る保護層を順次設けることにより作製され、記録は、１
μｍ程度に絞り込まれたレーザービームを用いたヒート
モードによる光吸収層およびそれに隣接する層の変形・
変質などにより行われている。近年一層の高密度化を狙
って、トラックピッチを１μｍ未満にし、使用レーザー
光波長を６００〜６８０ｎｍとした高密度コンパクトデ
ィスク規格が提唱されている。（日経エレクトロニク
ス、１９９５、２月２７日号、ｐ８７−１００）このよ
うな高密度規格においても同様に記録可能な媒体が求め
られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】既に実用化・市販され
ている記録可能コンパクトディスクでは、光反射層とし
て読み出しレーザー光の波長（７８０ｎｍ近傍）に対し
て６５％以上の高反射率と高耐腐食性を得るために金お
よび金を主成分とする合金が使用されているものが多い
が、金が高価であるためコストの上で大きな問題となっ
ている。また、金では今後主流となると考えられる波長
７００〜６００ｎｍのレーザー光に対しては、むしろ反
射率が低下する傾向がある。

【０００５】これらの波長ではむしろ安価で金並みの高
反射率を有する銀、銅、アルミニウムなどの金属および
それらを主成分とする合金を光反射層として用いること
も考えられるがその場合には、隣接する光吸収層の有機
色素が光反射層の腐食を促進して、エラー増加や記録感
度の低下などのディスク特性の経時変化を起こしやすく
なるため、使用環境に対して十分な信頼性のある記録可
能コンパクトディスクの作製が困難であった。

【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決し、波長
７００〜６００ｎｍの短波長を利用した高密度のコンパ
クトディスクに適した光反射層である銀または銀合金膜
を使用し、光記録媒体の寿命・信頼性を損なうことな
く、高密度記録が可能でかつ低コストの光記録媒体を提
供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】既に述べたように、高耐
食性を有する金の代わりに銀、銅、アルミニウムおよび
それらを主成分とする合金を光反射層として用いた場合
には、光吸収層と光反射層の界面から光反射層の腐食が
促進され、エラー増加や記録感度の低下などのディスク
特性の経時変化を起こしやすいという問題があった。そ
こで、本発明者らは上述した問題点を克服するために、
波長７００〜６００ｎｍ領域において有効な光反射層材
質と有機色素の組合せについて鋭意検討を行った結果、
光反射層を銀または銀を主成分とする合金の薄膜とした
場合には比較的高い反射率（少なくとも３０％）を得る
ことが容易で、かつ光吸収層を構成する有機色素にさら
に含金属アゾ色素を添加することにより、ディスク特性
の経時変化を大幅に抑制できるという知見を得るに至っ
た。

【０００８】しかし一方で、光吸収層を構成する有機色
素に含金属アゾ化合物を添加した場合、光吸収層を構成
する有機色素に元来固有の記録再生特性が損なわれる場
合があったため、更に有効な含金属アゾ化合物について
検討を加えた結果、一般式［Ｉ］で示されるアゾ化合物
と金属塩から形成される含金属アゾ化合物を光吸収層に
用いた場合、記録再生特性の変化が少なく、銀または銀
合金の薄膜よりなる光反射層の腐食を抑制するばかりで
なく、光吸収層の結晶化や光劣化を抑制し、耐高温高湿
性をも向上させることが判明し、本発明を完成させた。

【０００９】即ち、本発明の要旨は、透明基板上に光吸
収層、光反射層および保護層を順次積層してなる光記録
媒体において、該光吸収層が一般式［Ｉ］で示されるア
ゾ化合物と金属塩から形成される含金属アゾ化合物を含
有し、かつ該光反射層が銀または銀合金の薄膜よりなる
ことを特徴とする光記録媒体に存する。

【００１０】

【化２】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² はそれぞれ独立して、水素原
子、置換されていてもよい、アルキル基、アリール基、
アルケニル基またはシクロアルキル基を表わし、Ｒ ¹ と
Ｒ² は環化して炭化水素環または複素環を形成していて
もよい。環Ａおよび環Ｂは置換基を有していてもよい。
Ｘはヒドロキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基または
これらの塩を表わす。） これらの色素は特に、７００〜６００ｎｍにおいて、良
好な吸収特性、屈折率を有する。

【００１１】以下に、本発明の光記録媒体を詳細に説明
する。本発明に用いられる透明基板としては、ポリカー
ボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶性ポリオレフ
ィンなどのプラスチックまたはガラスが挙げられる。こ
れらの透明基板は、好ましくは厚み０．４〜１．４ｍｍ
でスパイラル状に案内溝を形成したものが用いられる。
本発明の光記録媒体は、光吸収層が前記一般式［Ｉ］で
示されるアゾ化合物と金属塩から形成される含金属アゾ
化合物を含有することを特徴とする。

【００１２】一般式［Ｉ］において、Ｒ¹ およびＲ
² は、それぞれ独立して、水素原子、置換されていても
よい、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはシ
クロアルキル基を表し、さらに詳しくは、Ｒ¹ およびＲ
² は、それぞれ独立して水素原子；メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル
基等の炭素数１〜２０のアルキル基、好ましくは炭素数
１〜１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６の
アルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフ
チル基等の炭素数６〜１２のアリール基；ビニル基、１
−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、２−ブ
テニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基
等の炭素数２〜１０のアルケニル基；またはシクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭
素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。かかる炭素数
１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、
炭素数２〜１０のアルケニル基および炭素数３〜１０の
シクロアルキル基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチル
オキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ
基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭
素数１〜１０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエ
トキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ
基、メトキシプロポキシ基、エトキシプロポキシ基、メ
トキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数２〜
１２のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメト
キシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキ
シメトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシ
メトキシメトキシ基、エトキシメトキシエトキシ基、エ
トキシエトキシメトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキ
シ基；アリルオキシ基；フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基；フ
ェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフ
チルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；
シアノ基；ニトロ基、ヒドロキシ基；テトラヒドロフリ
ル基；メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルア
ミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ基、イソプロピ
ルスルホニルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニルアミノ
基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ基、ｓｅｃ−ブ
チルスルホニルアミノ基、ｎ−ペンチルスルホニルアミ
ノ基、ｎ−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜
６のアルキルスルホニルアミノ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボ
ニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブ
トキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル
基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７
のアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルオキシ
基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニ
ルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブ
チルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル
オキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペ
ンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオ
キシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ
基；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオ
キシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロ
ポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオ
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｓｅ
ｃ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ
カルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオ
キシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ
基等で置換されていてもよい。

【００１３】又、Ｒ¹ ，Ｒ² は環化して、炭化水素環ま
たは複素環を形成していてもよい。これらの中でも特に
炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。前記一般式
［Ｉ］において、Ｘで表わされるヒドロキシ基、カルボ
ン酸基、スルホン酸基の塩としては、Ｎａ⁺ ，Ｌｉ⁺ ，
Ｋ⁺ 等の無機系の陽イオンもしくはＰ⁺ （フェニル），
Ｎ⁺ （Ｃ₂ Ｈ₅ ），Ｎ⁺ （Ｃ₄ Ｈ₉ （ｎ））₄ ，（フェ
ニル−Ｎ⁺ ）（ＣＨ₃ ）₃ 等の有機系の陽イオン等のカ
チオンを表す。

【００１４】金属塩の金属は、配位子であるアゾ系化合
物とキレート化合物を形成する能力を有する金属であれ
ば特に制限されないが、ニッケル、コバルト、鉄、ルテ
ニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オスミウム、イリ
ジウム、白金、ジルコニウム等の遷移元素が好ましく、
特にニッケル、コバルト、パラジウムが好ましい。環Ａ
は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、
アルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリー
ルチオ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、
カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルファ
モイル基、スルフィン酸基、アミノ基、ヒドロキシル
基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、ビニル基等が挙
げられ、これらの置換基は更に置換基を有していてもよ
い。これらの置換基の中で好ましいものとしては、ヒド
ロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換
基を有していてもよい、炭素数１〜２５のアルキル基、
炭素数１〜２５のアルコキシ基、炭素数１〜２５のチオ
アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリールチオ基、炭素
数１〜２５のアルキルスルファモイル基、炭素数６〜３
０のフェニルスルファモイル基、炭素数１〜２５のアル
キルスルフィン酸基、炭素数６〜３０のフェニルスルフ
ィン酸基、炭素数６〜３０のピリジノアゾ基、炭素数２
〜２６のエステル基、炭素数２〜２６のアルキルカルバ
モイル基、炭素数６〜３０のフェニルカルバモイル基、
炭素数２〜２６のアシル基、炭素数１〜２５のアシルア
ミノ基、−ＮＲ³ Ｒ⁴ （Ｒ³ およびＲ⁴ は、それぞれ独
立して、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数
１〜２５のアルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ³お
よびＲ⁴ は互いに結合して５員環もしくは６員環を形成
してもよい。）、−ＣＲ⁵ ＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ⁶ （Ｒ⁵ は、
水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ⁶
はシアノ基または炭素数２〜７のアルコキシカルボニル
基を表す。）等が挙げられ、より好ましくはハロゲン原
子等の置換基を有していてもよい、炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜
１０のチオアルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。

【００１５】環Ｂは、−ＮＲ¹ Ｒ² 基および−Ｘ基以外
に置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、
アルキル基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基；
アルコキシ基、好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ
基；ハロゲン原子等が挙げられ、これらのアルキル基、
アルコキシ基等の置換基は更にハロゲン原子などの置換
基を有していてもよい。本発明における好ましい化合物
の一つの態様として、下記一般式［II］

【００１６】

【化３】 （式中、Ｙは水素原子、無機系の陽イオン、有機系の陽
イオン等のカチオンを表わし、Ｚは水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子を表わす。）で示され
るモノアゾ化合物と金属塩との金属キレート化合物が挙
げられる。ここで、一般式［Ｉ］のモノアゾ化合物につ
いて、好ましい具体例を下記に示す。

【００１７】

【化４】

【００１８】

【化５】

【００１９】

【化６】

【００２０】

【化７】

【００２１】

【化８】

【００２２】

【化９】

【００２３】

【化１０】

【００２４】

【化１１】

【００２５】

【化１２】

【００２６】

【化１３】

【００２７】

【化１４】

【００２８】

【化１５】

【００２９】

【化１６】

【００３０】

【化１７】

【００３１】ここで、含金属アゾ化合物について、特に
好ましいＲ¹ ，Ｒ² 、環Ａの置換基、環Ｂの置換基（−
ＮＲ¹ Ｒ² 基および−Ｘ基以外のもの）、Ｘおよび金属
塩の金属の組み合わせを表−１に示す。

【００３２】

【表１】

【００３３】含金属アゾ化合物は、単独あるいは数種類
を混合して用いてもよい。光吸収層に用いられる含金属
アゾ化合物以外の他の有機色素としては、シアニン系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アズ
レニウム系色素、トリアリールアミン系色素、アントラ
キノン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、インドアニ
リン金属錯体色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシ
アニン系色素、分子間型ＣＴ色素などが用いられるが、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、その中でもシ
アニン系色素、特にインドレニン系シアニン色素が好ま
しく用いられる。

【００３４】含金属アゾ化合物以外の他の有機色素は、
それぞれ単独あるいは数種類を混合して用いてもよい。
光吸収層への含金属アゾ化合物の混合比率は５重量％以
上、より好ましくは１０〜９０重量％とするのが効果的
である。本発明の含金属アゾ化合物は通常の劣化防止剤
とは異なり、含金属アゾ化合物自体が光記録材料として
も良好な特性を有しているため、含金属アゾ化合物の配
合比を大きくしても記録再生特性の変化は少なく、有機
色素に固有の特性を損ねない利点を有している。

【００３５】光吸収層中には、前述した有機色素及び含
金属アゾ化合物以外に、有機色素に対する劣化防止剤、
バインダーなどを添加してもよい。光吸収層の形成法と
しては、被塗物を有機溶媒に溶解して前記透明基板上に
スピンコートする方法が好ましく用いられる。光反射層
には銀または銀合金の薄膜を用い、成膜にはスパッタリ
ング法、真空蒸着法などの手法が用いられるが、特にス
パッタリング法が好ましく用いられ、光反射層は、基板
面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線
回折スペクトルにおいて、（１１１）面によるＸ線回折
強度をＩ₁₁₁ 、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ
₂₀₀ としたとき、Ｉ₂₀₀ ／Ｉ₁₁₁ ≦０．２となるような
銀の多結晶薄膜とするのが好適である。光反射層の膜厚
は５０〜２００ｎｍとするのが好ましい。銀合金薄膜を
光反射層に用いる場合、その合金組成は再生レーザー光
に対して高反射率のものであれば特に限定されないが、
耐食性向上のためにロジウム、パラジウム、白金、チタ
ン、モリブデン、ジルコニウム、タンタル、タングステ
ン、バナジウムなどの添加元素を５原子％以下の範囲で
含有させてもよい。

【００３６】また、光反射層の保護層側の表面に対する
耐食性向上のためにトリアジンチオール系化合物、トリ
アジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール
系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ジチ
オカルバミン酸塩から選ばれる少なくとも１種の化合物
による表面処理を施してもよい。光反射層上に形成する
保護層の材質としては、紫外線硬化樹脂、特にアクリル
系の紫外線硬化樹脂を用いるのが好適であり、スピンコ
ート法やスクリーン印刷法により厚み２〜２０μｍで塗
布した後、紫外線照射により硬化させて形成される。ま
た、紫外線硬化樹脂には、光反射層の保護層側の表面に
対する防食剤として、トリアジンチオール系化合物、ト
リアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾー
ル系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ジ
チオカルバミン酸塩から選ばれる少なくとも１種の化合
物を含有させて用いてもよい。また、保護層の上には必
要に応じて第二の保護層やレーベル等の印刷層を設けて
もよい。

【００３７】

【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に画期
的に蛇行したトラッキング溝を設けた直径１２０ｍｍ、
厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。

【００３８】光吸収層は、下記構造式（１）で示される
含金属アゾ化合物を２．６重量％の濃度でテトラフルオ
ロプロパノールに溶解して、濾過した後、前記基板上に
スピンコート法により成膜した。色素塗布の後、色素層
中の溶媒を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中
で１０分間乾燥を行った。

【００３９】

【化１８】

【００４０】次いで、光吸収層の上に光反射層として、
平均厚さ１００ｎｍの銀をＤＣマグネトロンスパッタ法
により形成した。さらに、光反射層の上に紫外線硬化剤
ＳＤ−３１８（大日本インキ化学（株）製）をスピンコ
ート法により３μｍの厚さで塗布し、紫外線照射装置で
紫外線を照射して硬化させて、保護層を形成した。

【００４１】得られた記録可能コンパクトディスクにつ
いて、６３５ｎｍの半導体レーザーでＥＦＭ信号の記録
及び初期特性評価を行ったところ良好であった。温度８
０℃、湿度９０％の条件で５００時間の高温高湿試験の
後に、ブロックエラーレートの変化を測定したところ、
わずかなエラーの増加が見られるだけであった。結果を
表−２に示した。

【００４２】なお、本評価で使用したドライブは、基本
的に現行のコンパクトディスク規格に基づいた評価可能
なドライブの光ヘッドのみを、６３５ｎｍレーザーに変
更したものである。ＥＦＭ信号変調方式等は現行コンパ
クトディスクと同様であり、ブロックエラーレートもこ
の変調方式にのっとって評価した。さらに、本コンパク
トディスクでは、クロック周波数及びトラックピッチを
あげることにより、現行のコンパクトディスクの約半分
のピッチ（０．８μｍ）、半分のマーク長でも良好な特
性が得られた。 実施例２ 下記構造式（２）

【００４３】

【化１９】

【００４４】で示される含金属アゾ化合物を１．３重量
％の濃度でオクタフルオロペンタノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能なコンパクトディスクを作製した。得られたディスク
について、実施例１と同様に試験したところ、６５０ｎ
ｍの半導体レーザーで、ＥＦＭ信号の記録及び初期特性
評価は良好であった。また、実施例１と同様に試験を行
ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけであ
った。結果を表−２に示した。 実施例３ 下記構造式（３）

【００４５】

【化２０】

【００４６】で示される含金属アゾ化合物を１．３重量
％の濃度でオクタフルオロペンタノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能なコンパクトディスクを作製した。得られたディスク
について、実施例１と同様に試験したところ、６５０ｎ
ｍの半導体レーザーで、ＥＦＭ信号の記録及び初期特性
評価は良好であった。また、実施例１と同様に試験を行
ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけであ
った。結果を表−２に示した。 実施例４ 下記構造式（４）

【００４７】

【化２１】

【００４８】で示される含金属アゾ化合物を１．３重量
％の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能なコンパクトディスクを作製した。得られたディスク
について、実施例１と同様に試験したところ、６３５ｎ
ｍの半導体レーザーで、ＥＦＭ信号の記録及び初期特性
評価は良好であった。また、実施例１と同様に試験を行
ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけであ
った。結果を表−２に示した。 実施例５ 下記構造式（５）

【００４９】

【化２２】

【００５０】で示される含金属アゾ化合物を１．３重量
％の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能なコンパクトディスクを作製した。得られたディスク
について、実施例１と同様に試験したところ、６５０ｎ
ｍの半導体レーザーで、ＥＦＭ信号の記録及び初期特性
評価は良好であった。また、実施例１と同様に試験を行
ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけであ
った。結果を表−２に示した。 実施例６ 下記構造式（６）

【００５１】

【化２３】

【００５２】で示される含金属アゾ化合物を１．３重量
％の濃度でオクタフルオロペンタノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能なコンパクトディスクを作製した。得られたディスク
について、実施例１と同様に試験したところ、６３５ｎ
ｍの半導体レーザーで、ＥＦＭ信号の記録及び初期特性
評価は良好であった。また、実施例１と同様に試験を行
ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけであ
った。結果を表−２に示した。

【００５３】実施例７ 下記構造式（７）で示されるシアニン系色素及び前記構
造式（１）で示される含金属アゾ化合物を重量比１：１
で混合した後、該混合物を２．４重量％の濃度でテトラ
フルオロプロパノールに溶解して塗布液を調製したこと
以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディ
スクを作製した。

【００５４】

【化２４】

【００５５】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験したところ、６３５ｎｍの半導体レーザーで、
ＥＦＭ信号の記録及び初期特性評価は良好であった。ま
た、実施例１と同様に試験を行ったところ、わずかなエ
ラーの増加が見られるだけであった。結果を表−２に示
した。

【００５６】実施例８ 下記構造式（８）で示されるシアニン系色素及び前記構
造式（４）で示される含金属アゾ化合物を重量比１：１
で混合した後、該混合物を１．３重量％の濃度でテトラ
フルオロプロパノールに溶解して塗布液を調製したこと
以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディ
スクを作製した。

【００５７】

【化２５】

【００５８】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験したところ、６３５ｎｍの半導体レーザーで、
ＥＦＭ信号の記録及び初期特性評価は良好であった。ま
た、実施例１と同様に試験を行ったところ、わずかなエ
ラーの増加が見られるだけであった。結果を表−２に示
した。

【００５９】実施例９ 下記構造式（９）で示されるシアニン系色素及び前記構
造式（５）で示される含金属アゾ化合物を重量比１：１
で混合した後、該混合物を１．３重量％の濃度でテトラ
フルオロプロパノールに溶解して塗布液を調製したこと
以外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディ
スクを作製した。

【００６０】

【化２６】

【００６１】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験したところ、６５０ｎｍの半導体レーザーで、
ＥＦＭ信号の記録及び初期特性評価は良好であった。ま
た、実施例１と同様に試験を行ったところ、わずかなエ
ラーの増加が見られるだけであった。結果を表−２に示
した。

【００６２】実施例１０ 下記構造式（１０）で示されるシアニン系色素、下記構
造式（１１）で示されるジチオールニッケル錯塩系色素
及び前記構造式（１）で示される含金属アゾ化合物を重
量比６：１：３で混合した後、該混合物を２．４重量％
の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗布液
を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可能
コンパクトディスクの作製を行った。

【００６３】

【化２７】

【００６４】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験したところ、６３５ｎｍの半導体レーザーで、
ＥＦＭ信号の記録及び初期特性評価は良好であった。ま
た、実施例１と同様に試験を行ったところ、わずかなエ
ラーの増加が見られるだけであった。結果を表−２に示
した。

【００６５】比較例１ 前記構造式（７）で示されるシアニン系色素を２．４重
量％の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗
布液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録
可能コンパクトディスクの作製を行った。得られたディ
スクについて、実施例１と同様に試験を行ったところ、
大きなエラーの増加が見られた。結果を表−２に示し
た。

【００６６】比較例２ 前記構造式（１０）で示されるシアニン系色素及び前記
構造式（１１）で示されるジチオールニッケル錯塩系色
素を重量比６：１で混合した後、該混合物を２．４重量
％の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗布
液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録可
能コンパクトディスクの作製を行った。得られたディス
クについて、実施例１と同様に試験を行ったところ、大
きなエラーの増加が見られた。結果を表−２に示した。

【００６７】比較例３ 前記構造式（８）で示されるシアニン系色素を１．３重
量％の濃度でテトラフルオロプロパノールに溶解して塗
布液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして記録
可能コンパクトディスクの作製を行った。得られたディ
スクについて、実施例１と同様に試験を行ったところ、
大きなエラーの増加が見られた。結果を表−２に示し
た。

【００６８】参考例 実施例１〜１０、比較例１〜３のそれぞれにおいて、光
反射層の材質を金としたこと以外は同様にして記録可能
コンパクトディスクの作製を行った。得られたディスク
について、それぞれ実施例１と同様に試験を行った。結
果を表−２の中で各実施例及び比較例に対応させて示し
た。

【００６９】

【表２】

【００７０】表−２により次のことが明らかである。比
較例１〜３では高温高湿試験後に、光反射層の腐食に基
づく多大なブロックエラーの増加が見られている。これ
に対して、本発明を適用した実施例１〜１０では、高温
高湿試験後においても、ブロックエラーの増加が少な
く、金を光反射層として用いた参考例の場合と同等のデ
ィスク信頼性が得られている。本発明による光記録媒体
は、ＥＦＭ変調方式の他に、短波長（７００〜６００ｎ
ｍ）レーザーを用いた高密度でのマーク長記録全般に適
用可能である。

【００７１】

【発明の効果】本発明によれば、耐久性に優れた高信頼
性光記録媒体が低コストで製造可能となるため、工業上
非常に有用である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に光吸収層、光反射層および
   保護層を順次積層してなる光記録媒体において、該光吸
   収層が下記一般式［Ｉ］で示されるアゾ化合物と金属塩
   から形成される含金属アゾ化合物を含有し、かつ該光反
   射層が銀または銀合金の薄膜よりなることを特徴とする
   光記録媒体。 【化１】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² はそれぞれ独立して、水素原
   子、置換されていてもよい、アルキル基、アリール基、
   アルケニル基またはシクロアルキル基を表わし、Ｒ ¹ と
   Ｒ² は環化して炭化水素環または複素環を形成していて
   もよい。環Ａおよび環Ｂは置換基を有していてもよい。
   Ｘはヒドロキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基または
   これらの塩を表わす。）
2. 【請求項２】 光吸収層が、含金属アゾ化合物以外の他
   の有機色素としてシアニン系色素を含有する請求項１に
   記載の光記録媒体。