JPH10245355A - 光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 一般式 R1OH(式中、R1は置換もしくは
未置換のアルキル基またはフェニル基を表わす。)で表
わされるアルコールと一般式 R2CX2CHO(式中、R 2はフ
ッ素原子、塩素原子、またはフッ素原子で置換されても
よいアルキル基を表わし、Xはフッ素原子または塩素原
子を表わす。)で表わされるアルデヒドを光学活性なチ
タン錯体存在下反応させることを特徴とする、一般式
(I) 【化1】 (式中、R1、R2、Xは上記と同一であり、*を付した炭素
は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活性1−アル
コキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の
製造方法。 【効果】 これまで立体選択的合成が困難な、光学活性
含フッ素もしくは含塩素化合物の合成中間体として有用
な、光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコー
ルおよびその誘導体を容易に製造することができる。
未置換のアルキル基またはフェニル基を表わす。)で表
わされるアルコールと一般式 R2CX2CHO(式中、R 2はフ
ッ素原子、塩素原子、またはフッ素原子で置換されても
よいアルキル基を表わし、Xはフッ素原子または塩素原
子を表わす。)で表わされるアルデヒドを光学活性なチ
タン錯体存在下反応させることを特徴とする、一般式
(I) 【化1】 (式中、R1、R2、Xは上記と同一であり、*を付した炭素
は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活性1−アル
コキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の
製造方法。 【効果】 これまで立体選択的合成が困難な、光学活性
含フッ素もしくは含塩素化合物の合成中間体として有用
な、光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコー
ルおよびその誘導体を容易に製造することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶等の有機機能材
料や医薬等の生理活性物質などの合成中間体として有用
な光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール
およびその誘導体の製造方法に関する。
料や医薬等の生理活性物質などの合成中間体として有用
な光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール
およびその誘導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】フロラール(CF3CHO)やクロラール(CC
l3CHO)を始めとする含フッ素または含塩素アルデヒド
類はフッ素または塩素を有する化合物の合成原料として
有用である。しかしながら、光学活性化合物の合成に利
用された例は少なく、フロラールとオレフィン類を光学
活性なビナフトール-チタン錯体を触媒として反応さ
せ、トリフルオロメチル基を有する光学活性アルコール
の合成が報告されているだけである(三上ら、Tetrahed
ron, 52, 85-98 (1996))。一方、本発明者らは光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジフルオロアルキルスルホ
ナートに有機アルミニウム反応剤を作用させることによ
って、1,1−ジフルオロアルキル基を有する光学活性
アルコールが合成できることを見いだしている。しかし
ながら、その合成原料である光学活性1−アルコキシ−
2,2−ジフルオロアルキルスルホナートは、ラセミ体
の1−アルコキシ−2,2−ジフルオロアルコールをス
ルホニル化することによって得られるラセミ体の1−ア
ルコキシ−2,2−ジフルオロアルキルスルホナートを
光学異性体分離カラムを用いて分割することによって得
ており、簡便な合成法は知られていない(特願平8-4852
5、第70回有機合成シンポジウム (1996), 要旨集 p119-
202)。また、光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハ
ロアルコール誘導体として、光学活性酢酸1−メトキシ
−2,2,2−トリクロロエチルは、そのラセミ体を酵
素を用いて不斉加水分解する方法で製造できることが報
告されているが、その適用範囲は狭い(R. Chenevert
ら、Chemistry Letters, 1990, 33-34)。
l3CHO)を始めとする含フッ素または含塩素アルデヒド
類はフッ素または塩素を有する化合物の合成原料として
有用である。しかしながら、光学活性化合物の合成に利
用された例は少なく、フロラールとオレフィン類を光学
活性なビナフトール-チタン錯体を触媒として反応さ
せ、トリフルオロメチル基を有する光学活性アルコール
の合成が報告されているだけである(三上ら、Tetrahed
ron, 52, 85-98 (1996))。一方、本発明者らは光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジフルオロアルキルスルホ
ナートに有機アルミニウム反応剤を作用させることによ
って、1,1−ジフルオロアルキル基を有する光学活性
アルコールが合成できることを見いだしている。しかし
ながら、その合成原料である光学活性1−アルコキシ−
2,2−ジフルオロアルキルスルホナートは、ラセミ体
の1−アルコキシ−2,2−ジフルオロアルコールをス
ルホニル化することによって得られるラセミ体の1−ア
ルコキシ−2,2−ジフルオロアルキルスルホナートを
光学異性体分離カラムを用いて分割することによって得
ており、簡便な合成法は知られていない(特願平8-4852
5、第70回有機合成シンポジウム (1996), 要旨集 p119-
202)。また、光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハ
ロアルコール誘導体として、光学活性酢酸1−メトキシ
−2,2,2−トリクロロエチルは、そのラセミ体を酵
素を用いて不斉加水分解する方法で製造できることが報
告されているが、その適用範囲は狭い(R. Chenevert
ら、Chemistry Letters, 1990, 33-34)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機機能材
料や生理活性化合物などの合成中間体として有用な光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよび
その誘導体の製造方法を提供する。
料や生理活性化合物などの合成中間体として有用な光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよび
その誘導体の製造方法を提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、光学活性なチタン錯体存在下、アルコールと
2,2−ジハロアルデヒドを反応させると、光学活性1
−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール(光学活性な
2,2−ジハロアルデヒドのヘミアセタール)が得られ
ることを見出した。さらに、これを単離することなく、
エステル化またはスルホニル化することによって、光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール誘導体
を得ることができることを見出し、本発明を完成するに
至った。
た結果、光学活性なチタン錯体存在下、アルコールと
2,2−ジハロアルデヒドを反応させると、光学活性1
−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール(光学活性な
2,2−ジハロアルデヒドのヘミアセタール)が得られ
ることを見出した。さらに、これを単離することなく、
エステル化またはスルホニル化することによって、光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール誘導体
を得ることができることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【0005】すなわち本発明は、一般式 R1OH(式中、R
1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基
を表わす。)で表わされるアルコールと一般式 R2CX2CH
O(式中、R2はフッ素原子、塩素原子、またはフッ素原
子で置換されてもよいアルキル基を表わし、Xはフッ素
原子または塩素原子を表わす。)で表わされるアルデヒ
ドを光学活性なチタン錯体存在下反応させることを特徴
とする、一般式(I)
1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基
を表わす。)で表わされるアルコールと一般式 R2CX2CH
O(式中、R2はフッ素原子、塩素原子、またはフッ素原
子で置換されてもよいアルキル基を表わし、Xはフッ素
原子または塩素原子を表わす。)で表わされるアルデヒ
ドを光学活性なチタン錯体存在下反応させることを特徴
とする、一般式(I)
【0006】
【化4】
【0007】(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキ
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子、またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基
を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子を表わし、*を
付した炭素は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールの製造方
法を提供する。
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子、またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基
を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子を表わし、*を
付した炭素は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールの製造方
法を提供する。
【0008】また、本発明は、一般式 R1OH(式中、R1
は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基を
表わす。)で表わされるアルコールと一般式 R2CX2CHO
(式中、R2はフッ素原子、塩素原子、またはフッ素原子
で置換されてもよいアルキル基を表わし、Xはフッ素原
子または塩素原子を表わす。)で表わされるアルデヒド
を光学活性なチタン錯体存在下反応させ、一般式(I)
は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基を
表わす。)で表わされるアルコールと一般式 R2CX2CHO
(式中、R2はフッ素原子、塩素原子、またはフッ素原子
で置換されてもよいアルキル基を表わし、Xはフッ素原
子または塩素原子を表わす。)で表わされるアルデヒド
を光学活性なチタン錯体存在下反応させ、一般式(I)
【0009】
【化5】
【0010】(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキ
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子、またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基
を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子を表わし、*を
付した炭素は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールを得、つ
いで、一般式 R3Y(式中、R3は -COR4で表わされる置換
もしくは未置換の1-アルカノイル基または置換もしくは
未置換のベンゾイル基、あるいは -SO2R5で表わされる
置換もしくは未置換のアルカンスルホニル基または置換
もしくは未置換のベンゼンスルホニル基を表わし、Yは
塩素原子または臭素原子を表わす。ここで、R4および R
5は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基
を表わす。)で表わされる酸ハロゲン化物、または一般
式 R3 2O(式中、R3は -COR4で表わされる置換もしくは
未置換の1−アルカノイル基または置換もしくは未置換
のベンゾイル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換も
しくは未置換のアルカンスルホニル基または置換もしく
は未置換のベンゼンスルホニル基を表わす。ここでR4お
よび R5は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェ
ニル基を表わす。)で表わされる酸無水物を作用させる
ことを特徴とする、一般式(II)
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子、またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基
を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子を表わし、*を
付した炭素は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活
性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールを得、つ
いで、一般式 R3Y(式中、R3は -COR4で表わされる置換
もしくは未置換の1-アルカノイル基または置換もしくは
未置換のベンゾイル基、あるいは -SO2R5で表わされる
置換もしくは未置換のアルカンスルホニル基または置換
もしくは未置換のベンゼンスルホニル基を表わし、Yは
塩素原子または臭素原子を表わす。ここで、R4および R
5は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基
を表わす。)で表わされる酸ハロゲン化物、または一般
式 R3 2O(式中、R3は -COR4で表わされる置換もしくは
未置換の1−アルカノイル基または置換もしくは未置換
のベンゾイル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換も
しくは未置換のアルカンスルホニル基または置換もしく
は未置換のベンゼンスルホニル基を表わす。ここでR4お
よび R5は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェ
ニル基を表わす。)で表わされる酸無水物を作用させる
ことを特徴とする、一般式(II)
【0011】
【化6】
【0012】(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキ
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基を
表わし、R3は -COR4で表わされる置換もしくは未置換の
1−アルカノイル基または置換もしくは未置換のベンゾ
イル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換もしくは未
置換のアルカンスルホニル基または置換もしくは未置換
のベンゼンスルホニル基を表わし、Xはフッ素原子また
は塩素原子を表わし、*を付した炭素は不斉炭素を表わ
す。ここで、R4および R5は置換もしくは未置換のアル
キル基またはフェニル基を表わす。)で表わされる光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール誘導体
の製造方法を提供する。
ル基またはフェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素
原子またはフッ素原子で置換されてもよいアルキル基を
表わし、R3は -COR4で表わされる置換もしくは未置換の
1−アルカノイル基または置換もしくは未置換のベンゾ
イル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換もしくは未
置換のアルカンスルホニル基または置換もしくは未置換
のベンゼンスルホニル基を表わし、Xはフッ素原子また
は塩素原子を表わし、*を付した炭素は不斉炭素を表わ
す。ここで、R4および R5は置換もしくは未置換のアル
キル基またはフェニル基を表わす。)で表わされる光学
活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコール誘導体
の製造方法を提供する。
【0013】
【発明の実施の形態】上記、一般式(I)、(II)およ
びR1OH中のR1としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。
びR1OH中のR1としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。
【0014】上記、一般式(I)、(II)およびR2CX2CH
O中のR2としてはフッ素原子、塩素原子のほか、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ジフルオロ
メチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチ
ル基、ヘプタフルオロプロピル基等の含フッ素アルキル
基が挙げられる。
O中のR2としてはフッ素原子、塩素原子のほか、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ジフルオロ
メチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチ
ル基、ヘプタフルオロプロピル基等の含フッ素アルキル
基が挙げられる。
【0015】上記、一般式(II)、R3YおよびR3 2Oにお
けるR3中のR4としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。
けるR3中のR4としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。
【0016】上記、一般式(II)、R3YおよびR3 2Oにお
けるR3中のR5としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。ただし、R3Y(すなわすちR5SO2Y)お
よびR3 2O(すなわち(R5SO2)2O)の入手の容易さから、R
5としてはメチル基、フェニル基、4−メチルフェニル
基、4−ブロモフェニル基およびトリフルオロメチル基
が好ましい。
けるR3中のR5としては置換または未置換のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基もしくは
置換または未置換のフェニル基が挙げられる。その置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などのアルキル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−
ブテキル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アリルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基などのアルコ
キシル基もしくはアリールオキシ基およびフェニル基な
どが挙げられる。ただし、R3Y(すなわすちR5SO2Y)お
よびR3 2O(すなわち(R5SO2)2O)の入手の容易さから、R
5としてはメチル基、フェニル基、4−メチルフェニル
基、4−ブロモフェニル基およびトリフルオロメチル基
が好ましい。
【0017】上記本発明で用いる光学活性なチタン錯体
は、光学活性なルイス酸として不斉合成によく用いられ
るものであり、チタンテトラアルコキシドまたはジハロ
ゲン化チタンジアルコキシドと光学活性ジオールを反応
させるか、あるいはテトラハロゲン化チタンもしくはジ
ハロゲン化チタンジアルコキシドと光学活性ジオールの
リチウム塩またはナトリウム塩を反応させるなどの方法
によって容易に合成できる。ここで用いるチタンテトラ
アルコキシドとしては、テトラメトキシチタン、テトラ
エトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソ
プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラベン
ジルオキシチタンなどが挙げられる。ジハロゲン化チタ
ンジアルコキシドとしてはジクロロジイソプロポキシチ
タン、ジブロモジイソプロポキシチタン、ジクロロジブ
トキシシチタン、ジブロモブトキシチタンなどが挙げら
れる。テトラハロゲン化チタンとしてはテトラフルオロ
チタン、テトラクロロチタン、テトラブロモチタンが挙
げられる。光学活性ジオールとしては 1,1'-ビ-2-ナフ
トール、1,2-ジフェニル-1,2-エタンジオール、2,3-ブ
タンジオール、1,4-ジメトキシ-2,3-ブタンジオール、
2,4-ペンタンジオール、2,6-ジメチル -3,5-ヘプタンジ
オール、2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルヒドロキシ
メチル)-1,3-ジオキサン、2メチル-2-フェニル-4,5-ビ
ス(ジフェニルヒドロキシメチル)-1,3-ジオキサン、2,2
-ジメチル-4,5-ビス(ジ-1-ナフチルヒドロキシメチル)-
1,3-ジオキサン、2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジ-2-ナフチ
ルヒドロキシメチル)-1,3-ジオキサン、酒石酸ジメチ
ル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジイソプロピルなどが挙げ
られる。また、光学活性なチタン錯体はアルデヒドに対
し、触媒量から過剰量まで用いることができるが、0.1m
ol%から200mol%までが好ましく、2mol%から100mol%
までが特に好ましい。
は、光学活性なルイス酸として不斉合成によく用いられ
るものであり、チタンテトラアルコキシドまたはジハロ
ゲン化チタンジアルコキシドと光学活性ジオールを反応
させるか、あるいはテトラハロゲン化チタンもしくはジ
ハロゲン化チタンジアルコキシドと光学活性ジオールの
リチウム塩またはナトリウム塩を反応させるなどの方法
によって容易に合成できる。ここで用いるチタンテトラ
アルコキシドとしては、テトラメトキシチタン、テトラ
エトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソ
プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラベン
ジルオキシチタンなどが挙げられる。ジハロゲン化チタ
ンジアルコキシドとしてはジクロロジイソプロポキシチ
タン、ジブロモジイソプロポキシチタン、ジクロロジブ
トキシシチタン、ジブロモブトキシチタンなどが挙げら
れる。テトラハロゲン化チタンとしてはテトラフルオロ
チタン、テトラクロロチタン、テトラブロモチタンが挙
げられる。光学活性ジオールとしては 1,1'-ビ-2-ナフ
トール、1,2-ジフェニル-1,2-エタンジオール、2,3-ブ
タンジオール、1,4-ジメトキシ-2,3-ブタンジオール、
2,4-ペンタンジオール、2,6-ジメチル -3,5-ヘプタンジ
オール、2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルヒドロキシ
メチル)-1,3-ジオキサン、2メチル-2-フェニル-4,5-ビ
ス(ジフェニルヒドロキシメチル)-1,3-ジオキサン、2,2
-ジメチル-4,5-ビス(ジ-1-ナフチルヒドロキシメチル)-
1,3-ジオキサン、2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジ-2-ナフチ
ルヒドロキシメチル)-1,3-ジオキサン、酒石酸ジメチ
ル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジイソプロピルなどが挙げ
られる。また、光学活性なチタン錯体はアルデヒドに対
し、触媒量から過剰量まで用いることができるが、0.1m
ol%から200mol%までが好ましく、2mol%から100mol%
までが特に好ましい。
【0018】本発明で用いるアルデヒド(R2CX2CHO)は
容易に製造することができ、その一部は市販されてい
る。たとえば、フロラールは市販のフロラールのメチル
ヘミアセタールやエチルヘミアセタールとポリリン酸を
作用させることによって容易に発生させることができ
る。また、アルデヒド(R2CX2CHO)はアルコール(R1O
H)に対し過剰量まで用いることができるが、多量に用
いるとオリゴマーやポリマーを副成することがあるの
で、0.5〜2等量が好ましい。
容易に製造することができ、その一部は市販されてい
る。たとえば、フロラールは市販のフロラールのメチル
ヘミアセタールやエチルヘミアセタールとポリリン酸を
作用させることによって容易に発生させることができ
る。また、アルデヒド(R2CX2CHO)はアルコール(R1O
H)に対し過剰量まで用いることができるが、多量に用
いるとオリゴマーやポリマーを副成することがあるの
で、0.5〜2等量が好ましい。
【0019】本発明の方法においては、溶媒を用いるこ
とが好ましく、溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジク
ロロエタン、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、ジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどを用い
ることができるが、ジクロロメタン、トルエンが好まし
い。反応温度は溶媒凝固温度から、溶媒還流温度までの
範囲で行なえるが、好ましくは、-100℃から室温の範囲
であり、-80℃から0℃の範囲が特に好ましい。
とが好ましく、溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジク
ロロエタン、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、ジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどを用い
ることができるが、ジクロロメタン、トルエンが好まし
い。反応温度は溶媒凝固温度から、溶媒還流温度までの
範囲で行なえるが、好ましくは、-100℃から室温の範囲
であり、-80℃から0℃の範囲が特に好ましい。
【0020】なお、本発明における一般式(I)および
(II)で表わされる光学活性化合物は、その光学純度が
20%eeから100%eeのものである。
(II)で表わされる光学活性化合物は、その光学純度が
20%eeから100%eeのものである。
【0021】
【実施例】以下に実施例をあげて、本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明および適用範囲はこれらの実
施例により何ら制限されるものではない。
明するが、もちろん本発明および適用範囲はこれらの実
施例により何ら制限されるものではない。
【0022】なお、化合物の構造はNMR、IR、MSおよび
元素分析により確認した。IRにおける(KBr)は錠剤成
形、(neat)は液膜による測定を表わす。NMRにおけるC
DCl3は溶媒である重水素化クロロホルムを表わし、dは
2重線、tは3重線、qは4重線、septetは7重線、mは
多重線を表わす。 MSにおけるM+は親ピークを表わし、
カッコの中の数値はそのピーク相対強度を表わす。また
化合物の光学純度(鏡像体過剰率、ee)は光学異性体分
離カラムを用いた高速液体クロマトグラフィーおよび比
旋光度から決定したが、その絶対配置は決定されていな
い。
元素分析により確認した。IRにおける(KBr)は錠剤成
形、(neat)は液膜による測定を表わす。NMRにおけるC
DCl3は溶媒である重水素化クロロホルムを表わし、dは
2重線、tは3重線、qは4重線、septetは7重線、mは
多重線を表わす。 MSにおけるM+は親ピークを表わし、
カッコの中の数値はそのピーク相対強度を表わす。また
化合物の光学純度(鏡像体過剰率、ee)は光学異性体分
離カラムを用いた高速液体クロマトグラフィーおよび比
旋光度から決定したが、その絶対配置は決定されていな
い。
【0023】(実施例1)(+)−安息香酸1−イソプ
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の1)
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の1)
【0024】
【化7】
【0025】(R)-1,1'-ビ-2-ナフトール(286 mg, 1 mm
ol)のトルエン(15 ml)溶液に、室温でモレキュラー
シーブス 4A(600 mesh, 5 g)とチタンテトライソプロ
ポキシド(0.3 ml, 1 mmol)を加え、1時間かく拌し
た。反応溶液を-78℃に冷却し、この中に、1-エトキシ-
2,2,2-トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を1
50℃でポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下するこ
とにより発生させたフロラールガスを吹き込んだ。15分
間かく拌した後、トリエチルアミン(0.56 ml,4 mmo
l)、塩化ベンゾイル(0.28 ml, 2.4 mmol)および、4-
ジメチルアミノピリジン(約 10 mg)を加え、1時間か
く拌した。反応液にエーテル(35 ml)を加え、室温ま
で昇温し、セライトろ過した。ろ液を飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル C-200, ヘキ
サン/酢酸エチル=99 : 1)で精製し、(+)−安息香
酸1−イソプロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチ
ル(408 mg, 収率 78%, 81% ee)を得た。
ol)のトルエン(15 ml)溶液に、室温でモレキュラー
シーブス 4A(600 mesh, 5 g)とチタンテトライソプロ
ポキシド(0.3 ml, 1 mmol)を加え、1時間かく拌し
た。反応溶液を-78℃に冷却し、この中に、1-エトキシ-
2,2,2-トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を1
50℃でポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下するこ
とにより発生させたフロラールガスを吹き込んだ。15分
間かく拌した後、トリエチルアミン(0.56 ml,4 mmo
l)、塩化ベンゾイル(0.28 ml, 2.4 mmol)および、4-
ジメチルアミノピリジン(約 10 mg)を加え、1時間か
く拌した。反応液にエーテル(35 ml)を加え、室温ま
で昇温し、セライトろ過した。ろ液を飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル C-200, ヘキ
サン/酢酸エチル=99 : 1)で精製し、(+)−安息香
酸1−イソプロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチ
ル(408 mg, 収率 78%, 81% ee)を得た。
【0026】無色油状物質 [α]D 20 +34.7°(c = 9.6, CHCl3)1 H NMR (CDCl3) δ 8.15 (broad dm, J = 8.0 Hz, 2H),
7.63 (broad tm, J = 7.5 Hz, 1 H), 7.49 (broad t,
J = 7.7 Hz, 2 H), 6.35 (q, J = 3.9 Hz, 1 H),4.18
(septet, J = 6.2 Hz, 1 H), 1.31 (d, J 6.2 Hz, 3
H), 1.24 (d, J = 6.2 Hz, 3 H) IR (neat) 2980, 1735, 1600, 1450, 1375, 1335, 129
0, 1260, 1190, 1160, 1110, 1080, 1060, 1020, 980,
940, 710 cm-1 Mass m/z (相対強度)247 (M+-Me, trace), 242 (M+-H
F, trace), 140 (27), 105 (100), 77 (27), 51 (13),
43 (33) Mass (CI, iso-butane) 263 (M++1)
7.63 (broad tm, J = 7.5 Hz, 1 H), 7.49 (broad t,
J = 7.7 Hz, 2 H), 6.35 (q, J = 3.9 Hz, 1 H),4.18
(septet, J = 6.2 Hz, 1 H), 1.31 (d, J 6.2 Hz, 3
H), 1.24 (d, J = 6.2 Hz, 3 H) IR (neat) 2980, 1735, 1600, 1450, 1375, 1335, 129
0, 1260, 1190, 1160, 1110, 1080, 1060, 1020, 980,
940, 710 cm-1 Mass m/z (相対強度)247 (M+-Me, trace), 242 (M+-H
F, trace), 140 (27), 105 (100), 77 (27), 51 (13),
43 (33) Mass (CI, iso-butane) 263 (M++1)
【0027】(実施例2)(+)−安息香酸1−イソプ
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の2)
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の2)
【0028】
【化8】
【0029】(R)-1,1'-ビ-2-ナフトール(286 mg, 1 mm
ol)のトルエン(20 ml)溶液に、0℃でブチルリチウ
ム(1.8 M ヘキサン溶液, 1.1 ml, 2 mmol)を加えた
後、ジクロロビスイソプロポキシチタン(0.5M トルエ
ン溶液, 2 ml, 1 mmol)を室温で加え、1時間かく拌し
た。反応溶液を-78℃に冷却し、この中に、1-エトキシ-
2,2,2-トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を1
50℃でポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下するこ
とにより発生させたフロラールガスを吹き込みながら、
2-プロパノール(0.15 ml, 2 mmol)のトルエン(1 m
l)溶液を滴下した。さらに25分間かく拌した後、トリ
エチルアミン(0.56 ml, 4 mmol)、塩化ベンゾイル
(0.28 ml, 2.4 mmol)および、4-ジメチルアミノピリ
ジン(約 10 mg)を加え、1時間かく拌した。反応液に
酢酸エチル(10 ml)を加え、室温まで昇温したのち、
水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(ワコーゲル C-200,ヘキサン/酢酸エチル
=99 : 1)で精製し、(+)−安息香酸1−イソプロポ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル(448 mg, 収率
86%, 86% ee)を得た。 [α]D 20 +38.2°(c = 4.0, CHCl3)
ol)のトルエン(20 ml)溶液に、0℃でブチルリチウ
ム(1.8 M ヘキサン溶液, 1.1 ml, 2 mmol)を加えた
後、ジクロロビスイソプロポキシチタン(0.5M トルエ
ン溶液, 2 ml, 1 mmol)を室温で加え、1時間かく拌し
た。反応溶液を-78℃に冷却し、この中に、1-エトキシ-
2,2,2-トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を1
50℃でポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下するこ
とにより発生させたフロラールガスを吹き込みながら、
2-プロパノール(0.15 ml, 2 mmol)のトルエン(1 m
l)溶液を滴下した。さらに25分間かく拌した後、トリ
エチルアミン(0.56 ml, 4 mmol)、塩化ベンゾイル
(0.28 ml, 2.4 mmol)および、4-ジメチルアミノピリ
ジン(約 10 mg)を加え、1時間かく拌した。反応液に
酢酸エチル(10 ml)を加え、室温まで昇温したのち、
水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(ワコーゲル C-200,ヘキサン/酢酸エチル
=99 : 1)で精製し、(+)−安息香酸1−イソプロポ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル(448 mg, 収率
86%, 86% ee)を得た。 [α]D 20 +38.2°(c = 4.0, CHCl3)
【0030】(実施例3)(+)−安息香酸1−イソプ
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の3) (R)-1,1'-ビ-2-ナフトール(57 mg, 0.2 mmol)のトル
エン(10 ml)溶液に、0℃でブチルリチウム(1.75 M
ヘキサン溶液, 0.23 ml, 0.4 mmol)を加えた後、ジク
ロロビスイソプロポキシチタン(0.5M トルエン溶液,
0.4 ml, 0.2 mmol)を室温で加え、1時間かく拌した。
反応溶液を-78℃に冷却し、これに、1-エトキシ-2,2,2-
トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を150℃で
ポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下することによ
り発生させたフロラールガスを吹き込みながら、2-プロ
パノール(0.15 ml, 2 mmol)のトルエン(1 ml)溶液
を滴下した。さらに25分間かく拌した後、トリエチルア
ミン(0.56 ml, 4 mmol)、塩化ベンゾイル(0.28 ml,
2.4 mmol)および、4-ジメチルアミノピリジン(約 10
mg)を加え、1時間かく拌した。反応液にエーテル(1
0 ml)とヘキサン(20 ml)を加え、室温まで昇温し
た。これをシリカゲルショートカラムを通し、ヘキサン
/エーテル(2:1)混合液(160 ml)で洗い、濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル
C-200, ヘキサン/酢酸エチル=99 : 1)で精製し、
(+)−安息香酸1−イソプロポキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル(411 mg, 収率 78%, 82% ee)を得
た。 [α]D 20 +38.0°(c = 2.9, CHCl3)
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成(そ
の3) (R)-1,1'-ビ-2-ナフトール(57 mg, 0.2 mmol)のトル
エン(10 ml)溶液に、0℃でブチルリチウム(1.75 M
ヘキサン溶液, 0.23 ml, 0.4 mmol)を加えた後、ジク
ロロビスイソプロポキシチタン(0.5M トルエン溶液,
0.4 ml, 0.2 mmol)を室温で加え、1時間かく拌した。
反応溶液を-78℃に冷却し、これに、1-エトキシ-2,2,2-
トリフルオロエタノール(0.47 ml, 4 mmol)を150℃で
ポリリン酸(約 20 ml)に15分かけて滴下することによ
り発生させたフロラールガスを吹き込みながら、2-プロ
パノール(0.15 ml, 2 mmol)のトルエン(1 ml)溶液
を滴下した。さらに25分間かく拌した後、トリエチルア
ミン(0.56 ml, 4 mmol)、塩化ベンゾイル(0.28 ml,
2.4 mmol)および、4-ジメチルアミノピリジン(約 10
mg)を加え、1時間かく拌した。反応液にエーテル(1
0 ml)とヘキサン(20 ml)を加え、室温まで昇温し
た。これをシリカゲルショートカラムを通し、ヘキサン
/エーテル(2:1)混合液(160 ml)で洗い、濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル
C-200, ヘキサン/酢酸エチル=99 : 1)で精製し、
(+)−安息香酸1−イソプロポキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル(411 mg, 収率 78%, 82% ee)を得
た。 [α]D 20 +38.0°(c = 2.9, CHCl3)
【0031】(実施例4)(−)−安息香酸1−イソプ
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成 実
施例1と同様な条件下、(R)-1,1'-ビ-2-ナフトールのか
わりに、(4R,5R)-4,5-ビス(ジフェニルヒドロキシメチ
ル)-2-メチル-2-フェニル-1,3-ジオキソランを用いて、
(−)−安息香酸1−イソプロポキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル(収率 83%, 60% ee)を得た。 [α]D 20 -26.5°(c = 6.1, CHCl3)
ロポキシ−2,2,2−トリフルオロエチルの合成 実
施例1と同様な条件下、(R)-1,1'-ビ-2-ナフトールのか
わりに、(4R,5R)-4,5-ビス(ジフェニルヒドロキシメチ
ル)-2-メチル-2-フェニル-1,3-ジオキソランを用いて、
(−)−安息香酸1−イソプロポキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル(収率 83%, 60% ee)を得た。 [α]D 20 -26.5°(c = 6.1, CHCl3)
【0032】
【発明の効果】 本発明により、これまで立体選択的合
成が困難であり、光学活性含フッ素もしくは含塩素化合
物の合成中間体として有用な、光学活性1−アルコキシ
−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体を容易に
製造することができる。
成が困難であり、光学活性含フッ素もしくは含塩素化合
物の合成中間体として有用な、光学活性1−アルコキシ
−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体を容易に
製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07M 7:00
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式 R1OH(式中、R1は置換もしくは
未置換のアルキル基またはフェニル基を表わす。)で表
わされるアルコールと一般式R2CX2CHO(式中、R2 はフ
ッ素原子、塩素原子、またはフッ素原子で置換されても
よいアルキル基を表わし、Xはフッ素原子または塩素原
子を表わす。)で表わされるアルデヒドを光学活性なチ
タン錯体存在下反応させることを特徴とする、一般式
(I) 【化1】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素原子、または
フッ素原子で置換されてもよいアルキル基を表わし、X
はフッ素原子または塩素原子を表わし、*を付した炭素
は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活性1−アル
コキシ−2,2−ジハロアルコールの製造方法。 - 【請求項2】 一般式 R1OH(式中、R1は置換もしくは
未置換のアルキル基またはフェニル基を表わす。)で表
わされるアルコールと一般式R2CX2CHO(式中、R2はフッ
素原子、塩素原子、またはフッ素原子で置換されてもよ
いアルキル基を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子
を表わす。)で表わされるアルデヒドを光学活性なチタ
ン錯体存在下反応させ、一般式(I) 【化2】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素原子、または
フッ素原子で置換されてもよいアルキル基を表わし、X
はフッ素原子または塩素原子を表わし、*を付した炭素
は不斉炭素を表わす。)で表わされる光学活性1−アル
コキシ−2,2−ジハロアルコールを得、ついで、一般
式 R3Y(式中、R3は -COR4で表わされる置換もしくは未
置換の1-アルカノイル基または置換もしくは未置換のベ
ンゾイル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換もしく
は未置換のアルカンスルホニル基または置換もしくは未
置換のベンゼンスルホニル基を表わし、Yは塩素原子ま
たは臭素原子を表わす。ここで、R4および R5は置換も
しくは未置換のアルキル基またはフェニル基を表わ
す。)で表わされる酸ハロゲン化物、または一般式R3 2O
(式中、R3は -COR4で表わされる置換もしくは未置換の
1-アルカノイル基または置換もしくは未置換のベンゾイ
ル基、あるいは -SO2R5で表わされる置換もしくは未置
換のアルカンスルホニル基または置換もしくは未置換の
ベンゼンスルホニル基を表わす。ここで、R4および R5
は置換もしくは未置換のアルキル基またはフェニル基を
表わす。)で表わされる酸無水物を作用させることを特
徴とする、一般式(II) 【化3】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2はフッ素原子、塩素原子またはフ
ッ素原子で置換されてもよいアルキル基を表わし、R3は
-COR4で表わされる置換もしくは未置換の1-アルカノイ
ル基または置換もしくは未置換のベンゾイル基、あるい
は -SO2R5で表わされる置換もしくは未置換のアルカン
スルホニル基または置換もしくは未置換のベンゼンスル
ホニル基を表わし、Xはフッ素原子または塩素原子を表
わし、*を付した炭素は不斉炭素を表わす。ここで、R4
および R5は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わす。)で表わされる光学活性1−アルコ
キシ−2,2−ジハロアルコール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9048867A JPH10245355A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9048867A JPH10245355A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10245355A true JPH10245355A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=12815247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9048867A Pending JPH10245355A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光学活性1−アルコキシ−2,2−ジハロアルコールおよびその誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10245355A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315990A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| JP2007119351A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP9048867A patent/JPH10245355A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315990A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| JP2007119351A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
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