JPH10245663A - 水素吸蔵合金の製造方法 - Google Patents

水素吸蔵合金の製造方法

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JPH10245663A
JPH10245663A JP9063990A JP6399097A JPH10245663A JP H10245663 A JPH10245663 A JP H10245663A JP 9063990 A JP9063990 A JP 9063990A JP 6399097 A JP6399097 A JP 6399097A JP H10245663 A JPH10245663 A JP H10245663A
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JP
Japan
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hydrogen storage
alloy
heat treatment
treatment
present
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JP9063990A
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English (en)
Inventor
Hidenori Iba
英紀 射場
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10—Energy storage using batteries

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  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、水素吸蔵合金の製造に関し、特に
均質化処理によって平坦になったプラト領域が、引き続
きの時効処理によって、再び傾斜を有するようにして、
この時効処理を適切に選択し、用途に応じた水素吸蔵特
性に制御できる水素吸蔵合金の製造方法を提供する。 【解決手段】 溶解・鋳造後、第一段の熱処理として、
850℃以上1400℃以下で10分から30時間加熱
する均質化処理を行い、その後さらに、第二段の熱処理
として、400〜800℃で10分〜100時間加熱す
る時効処理を行うことを特徴とし、前記水素吸蔵特性を
有する合金がBCC相を主体とし、さらに前記時効処理
が、BCC相内部の微細な2相分離により同一結晶構造
で整合な粒子を析出させることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水素吸蔵合金の製
造に関し、特に均質化処理によって平坦になったプラト
領域が、引き続きの時効処理によって、再び傾斜を有す
るようにして、この時効処理を適切に選択し、用途に応
じた水素吸蔵特性に制御できる水素吸蔵合金の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】水素吸蔵合金は水素の吸蔵・放出を可逆
的に行うことができることから、エネルギー貯蔵タンク
やニッケル水素電池をはじめ、水素放出時の吸熱反応を
利用したヒートポンプなどの用途に用いられる。従来技
術として、例えば、特開昭57−63669号公報に
は、500〜1000℃に加熱してプラト域が平坦であ
るミッシュメタル−ニッケル系三元合金の水素吸蔵用合
金の製造方法が開示され、また、特開平7−65834
号公報には、均質化として700℃以上融点以下の温度
で熱処理して、加圧水素雰囲気で水素吸蔵させ粉砕する
方法が開示されている。これらのAB5 型合金やAB2
型合金の水素吸蔵合金においては、高温の熱処理で圧力
−組成等温線のプラト領域の傾きを平坦化できることが
知られていた。元々、圧力−組成等温線のプラト領域
は、単相の合金では、原理的には水平になるが、製造時
の偏析や組成のバラツキおよび第2相の析出などによ
り、鋳造したままでは傾きをもっていることが多い。こ
れを高温で熱処理することにより単相化することにより
平坦化できる。このような熱処理プロセスは一般的に均
質化と称される。
【0003】一方、水素貯蔵タンクを設計する場合、完
全に平坦なプラト領域をもつ合金においては、温度の制
御で吸放出が制御し易い反面、小さな温度変化や圧力変
化で、急激に水素が移動する可能性がある。そのため適
当な傾きにプラト圧を制御する手法が必要となってい
る。また、貯蔵タンクにおいては、放出した流量でタン
クの残量を計算する方法が考えられるが、プラトが実用
運転範囲内で一定の傾きをもっていれば、タンクの内圧
から残量を求めることができる等の利便があり、このプ
ラト域の傾斜をコントロールする技術開発が望まれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、BC
C固溶体型の合金における連続的な濃度バラツキを均質
化する熱処理を検討し、さらに適当な傾きにプラト平衡
圧を制御できる水素吸蔵合金の製造方法を提供すること
にある。また、本発明の他の目的は、プラト平衡圧の平
坦化を得るための熱処理を検討し、前記合金組成および
合金組織の最適化を実現できる水素吸蔵合金の製造方法
を提供することにある。さらに、本発明の別の目的は、
平坦なプラト平衡圧状態からこれに比較的簡便な熱処理
を付加することによって、再度、実用運転範囲内で一定
の傾きを有するようにし、これをコントロール可能とす
る水素吸蔵合金の製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、溶解・鋳
造後、第一段の熱処理として、850℃以上1400℃
以下で10分から30時間加熱する均質化処理を行い、
その後さらに、第二段の熱処理として、400〜800
℃で10分〜100時間加熱する時効処理を行うことを
特徴とする水素吸蔵合金の製造方法によって達成され
る。また、上記の目的は、前記水素吸蔵特性を有する合
金がBCC相を主体とするものである水素吸蔵合金の製
造方法によっても達成される。さらに、上記の目的は、
前記時効処理が、BCC相内部の微細な2相分離により
同一結晶構造で整合な粒子を析出させる水素吸蔵合金の
製造方法によっても達成される。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明では、均質化焼鈍で濃度バ
ラツキがなくなることにより、プラト領域が平坦化す
る。さらに時効処理を行うことで、濃度バラツキのなく
なったBCC相から2相分離で微細な粒子が析出し、そ
れによってプラト領域が再び傾きを持つようにできる。
さらに、時効処理条件を適切に選択することで、用途に
応じた傾きに制御することができる。この用途の例とし
ては、例えば、水素タンクがあり、この場合小さな温度
変化、圧力変動で急激に水素の移動が起こることは好ま
しくないので、本発明をこれに適用できる。
【0007】本発明は、本発明者等の次の知見によって
達成されたものである。BCC固溶体型の合金に対して
行う均質化の後に時効処理を行うと、組成の連続的な変
化によるバラツキが起こりやすい。さらに、ナノオーダ
ーの濃度ゆらぎに起因する微細なβ→β1 +β2 の2相
分離も確認されている。このようなBCC型合金のプラ
ト領域の平坦性を制御する方法として、前記本発明の特
徴である次の組み合わせが最適である。 まず連続的な濃度バラツキを均質化することを目的と
して、850℃以上1400℃以下で、10min 〜30
hの熱処理で行う。次に、の熱処理後、均質化した
合金に対して、さらに400℃〜800℃の一定温度で
10min 〜100hの時効熱処理を行う。この熱処理に
おいては、BCC相内部の微細な2相分離を成長させる
ことを目的としている。このような成長によりプラト領
域の傾きは、再度大きくできる。なお、第一段の熱処理
において、850℃未満の均質化温度では、前記濃度の
均一化効果を期待できない。また、1400℃超の温度
は工業的熱処理を逸脱し、設備等の問題が大きくなる。
均質化時間については、均質化温度と関連するが、10
min 未満では、均一化には不十分であって、30h超で
はその効果が飽和する傾向にあり、前記の請求範囲に限
定した。
【0008】第二段の熱処理として、時効処理が400
℃未満の時効温度では、前記析出効果を期待できない。
また、800℃超の温度はその効果が飽和する。時効時
間については、時効温度と関連するが、10min 未満で
は、析出が不十分であって、100h超ではその効果が
飽和する傾向にあり、前記の請求範囲に限定した。以下
に、本発明について実施例に添付の図面に基づいてさら
に詳述する。
【0009】
【実施例】本実施例における合金組成の設定理由につい
て説明する。合金系としてTi−Cr−V系において
は、図1の三元状態図に示すように、Ti−Mn−V系
と同様に、ラーベス(C14)相とBCC相とが共存す
る領域がある。そこで、本実施例ではナノオーダの微細
組織による効果を検討するために、図2のV−TiCr2
線の擬二元状態図を参考にして、合金組成を低温で熱処
理してもC14相の出現しないTi25Cr35V40に組成
を設定した。
【0010】図3に、Ti25Cr35V40合金の鋳造した
ままと各熱処理後の圧力−組成等温線を示す。アーク溶
解で鋳造したままの合金では、圧力−組成等温線の平衡
圧は大きく傾いている。これを平坦化するために400
℃から1200℃までの温度で均質化熱処理を施した。
1000℃までの温度では、プラトの平坦性にほとんど
変化は認められなかったが、1200℃の熱処理では、
プラトは大きく平坦化した。このような平坦化効果に関
する検討として、Ti25Cr35V40合金の鋳造したまま
と、1200℃の熱処理品とで各合金元素の濃度分布を
EPMAで組成分析した結果を図4に、ここで図4
(a)鋳造したまま、図4(b)1200℃×2h熱処
理を示す。またTEMに付属のEDXで分析した結果を
表1に示す。
【0011】
【表1】
【0012】鋳造したままのものでは、α−Tiのデン
ドライトが晶出しており、これに向かってTiの正の濃
度勾配がある。BCC相のマトリックスのTi富化およ
び欠乏部分では7at%程度の濃度差があり、これがプラ
トの傾きを大きくしていると考えられる。これに対して
熱処理品では、α−Tiのデンドライトは島状に残って
いるが、BCC相のマトリックスは十分均質化されてお
り、濃度差は1at%以内である、ことから、圧力−組成
等温線の平衡圧プラトの傾きがTiとCrの濃度分布に
よるものであると考えられる。
【0013】次に、本実施例の熱処理による組織変化と
して、二段熱処理の効果を確認した結果について説明す
る。図5にTi25Cr35V40合金の鋳造したまま(図5
(a))、1200℃×5hの熱処理で均質化した(図
5(b))試料についての透過電子顕微鏡組織を示す。
これらの試料のBCC相内部には、Zr−Ti−V−M
n系やTi−Cr−V合金において通常認められる微細
な層状組織はみられない。この状態をベースに、さらに
低温での時効処理を行いBCC相の内部組織を成長させ
た。図6に、時効の温度を変えて熱処理した合金の圧力
−組成等温線測定の結果を示す。時効熱処理により明確
にプラトの傾きが大きくなっている。さらに、図7に
は、700℃で時間を変えて熱処理した合金の圧力−組
成等温線測定の結果を示す。やはり時効時間の増大とと
もにプラトの傾きが大きくなっていることが確認でき
た。
【0014】因みに、図10(a)のように、プラト圧
が完全に平坦な場合は、吸蔵量がX1 からX2 に増加し
たり、X2 からX1 に減少した場合にも常に圧力はP0
で一定である。これに対して、図10(b)のように、
適当な傾きを持つ場合は、吸蔵量に応じて平衡圧が増減
するため、圧力から吸蔵量を知ることができる。水素タ
ンク等の応用の場合、プラト領域を外れて吸蔵させた
り、放出させたりすることは好ましくないが、プラトの
限界点を検知するシステムの設計が可能となる。さら
に、プラト圧は温度変化により増減するが、図11
(a)のように、完全に平坦な場合、全量の水素が移動
してしまうが、図11(b)のように、適度の傾きがあ
る場合、あるいは傾きが制御できる場合には、このよう
な温度変化による吸蔵・放出量を合金自体の特性で制御
することが可能となる。
【0015】このようなプラトの傾きは、変調構造の成
長によるものと考えられ、プラトの傾きの増大のみられ
た700℃×20hと100hの熱処理試料について、
透過電子顕微鏡観察を行った結果を、図8(a)700
℃×20h、図8(b)700℃×100hのそれぞれ
を示す。700℃×20hの熱処理試料の明視野像に
は、縞状の変調構造とは別の粒状の析出物が観察されて
いる。さらに時効の進んだ100hの試料においては、
この析出物は粗大化していることが確認された。この析
出物は、構造はマトリックスと同じBCC構造で、ED
Xによる組成分析もマトリックスとほとんど同じであっ
た。この結果から、粒状の析出物は、マトリックスの変
調構造が成長した結果であると考えられる。本来、スピ
ノーダル分解により形成された変調構造の成長は、その
濃度波長を増大させ、次第に整合性がなくなって界面転
位がみられるようになる成長過程が知られている。これ
に対して、本実施例では、第一段熱処理時に1200℃
×5hで、変調構造が一旦溶体化されるが、冷却過程の
任意の温度で形成した変調構造が700℃での時効析出
の核となって、このような不均質な組織となったと考え
られる。
【0016】前記のことから、第一段熱処理後の冷却が
析出物に何らかの影響を及ぼすことも考えられる。図9
は、この検討のために、種々の溶体化条件を検討した結
果であるが、いずれの場合もさらなるプラト平坦化効果
は得られなかった。このことから、第一段熱処理と第二
段熱処理との間の冷却速度の影響は小さく、適宜冷却を
選択することが可能であることがわかる。場合によって
は、第一段熱処理温度から直接第二段熱処理温度へ降下
させることも可能である。
【0017】
【発明の効果】本発明によって、二段熱処理により、ミ
クロンオーダーで存在する溶質元素の濃度勾配が均質化
され、これによりプラト平坦性が大きく改善でき、均質
化後の時効処理により、変調構造が成長し、再びプラト
平坦性の傾斜を大きくできる。さらに、この熱処理を調
整することによってプラト域の傾斜を適宜コントロール
することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るTiCrV系三元合金状態図に実
施例の組成および格子定数を示す図である。
【図2】本発明に係るTiCr2 −V擬二元合金状態図
を示す図である。
【図3】本発明の実施例に係る鋳造ままおよび均質化処
理後の圧力組成等温線を示す図である。
【図4】本発明の実施例に係る(a)鋳造ままおよび
(b)均質化処理後の合金元素の濃度分布を分析した結
果の図である。
【図5】本発明の実施例に係るTi25Cr35V40合金の
均質化処理後の金属組織の透過電子顕微鏡写真で、
(a)鋳造まま、(b)1200℃×2hを示す。
【図6】本発明の実施例に係るTi25Cr35V40合金の
時効処理後の圧力組成等温線を示す図である。
【図7】本発明の実施例に係るTi25Cr35V40合金の
時効処理時間による圧力組成等温線を示す図である。
【図8】本発明の実施例に係るTi25Cr35V40合金の
時効処理後の金属組織の透過電子顕微鏡写真で、(a)
700℃×20h、(b)700℃×100hを示す。
【図9】本発明の実施例に係るTi25Cr35V40合金の
均質化処理後の冷却速度による圧力組成等温線を示す図
である。
【図10】本発明に係るプラト平坦性を示し、(a)平
坦なもの、(b)傾斜を有するものを示す説明図であ
る。
【図11】本発明に係るプラト平坦性を示し、(a)完
全に水素が移動するもの、(b)一部の水素の移動を示
す説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C22F 1/00 691 C22F 1/00 691B 691C

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶解・鋳造後、第一段の熱処理として、
    850℃以上1400℃以下で10分から30時間加熱
    する均質化処理を行い、その後さらに、第二段の熱処理
    として、400〜800℃で10分〜100時間加熱す
    る時効処理を行うことを特徴とする水素吸蔵合金の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 前記水素吸蔵特性を有する合金がBCC
    相を主体とするものである請求項1に記載の水素吸蔵合
    金の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記時効処理が、BCC相内部の微細な
    2相分離により同一結晶構造で整合な粒子を析出させる
    請求項2に記載の水素吸蔵合金の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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