JPH10249825A - 化粧セメント板の製造方法 - Google Patents
化粧セメント板の製造方法Info
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- JPH10249825A JPH10249825A JP6159297A JP6159297A JPH10249825A JP H10249825 A JPH10249825 A JP H10249825A JP 6159297 A JP6159297 A JP 6159297A JP 6159297 A JP6159297 A JP 6159297A JP H10249825 A JPH10249825 A JP H10249825A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】フローオン成形法でフェルトベルト上に基層と
表層を積層して板状体を製板する場合薄い表層を幅方向
にわたって均一に供給することを目的とする。 【解決手段】裏面にサクションボックス２を臨ませたフ
ェルトベルト１上にセメントスラリー３を層状に供給
し、吸引脱水しつつ製板するフローオン成形法におい
て、フェルトベルト１上に成層されて移送される基層用
セメントスラリー３上面に、表層用セメントスラリー４
を直接供給して堆積させ、この表層用セメントスラリー
４を前記基層用セメントスラリーの動きに伴って堆積手
段５の下端から順次引き出させることによって前記基層
用セメントスラリー層３表面に表層を形成する。
表層を積層して板状体を製板する場合薄い表層を幅方向
にわたって均一に供給することを目的とする。 【解決手段】裏面にサクションボックス２を臨ませたフ
ェルトベルト１上にセメントスラリー３を層状に供給
し、吸引脱水しつつ製板するフローオン成形法におい
て、フェルトベルト１上に成層されて移送される基層用
セメントスラリー３上面に、表層用セメントスラリー４
を直接供給して堆積させ、この表層用セメントスラリー
４を前記基層用セメントスラリーの動きに伴って堆積手
段５の下端から順次引き出させることによって前記基層
用セメントスラリー層３表面に表層を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、化粧セメント板
の製造方法に関し、詳しくはいわゆるフローオン成形法
を用いた化粧セメント板の製造方法の改良に関する。
の製造方法に関し、詳しくはいわゆるフローオン成形法
を用いた化粧セメント板の製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、繊維補強セメント板の製造方法と
して裏面にサクションボックスを臨ませたフェルトベル
ト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引脱水しつ
つ製板するフローオン一層成形法が知られている。
して裏面にサクションボックスを臨ませたフェルトベル
ト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引脱水しつ
つ製板するフローオン一層成形法が知られている。
【０００３】このフローオン成形法は、製品板厚に相当
する量のセメトスラリーをフェルトベルト上に層状に供
給して一気に製板する方法であるから、種膜をメーキン
グロール上に積層し、所望の厚さにした後切開して平ら
にプレスして製板するフローオン多層成形法に比べて工
程数が少なく製造時間が短縮できる利点を有する。
する量のセメトスラリーをフェルトベルト上に層状に供
給して一気に製板する方法であるから、種膜をメーキン
グロール上に積層し、所望の厚さにした後切開して平ら
にプレスして製板するフローオン多層成形法に比べて工
程数が少なく製造時間が短縮できる利点を有する。
【０００４】しかし、フローオン一層成形法は、一時に
目的厚さの板を製板してしまうので、例えば強度を上げ
るための材料配合とした場合で、その配合材料が製品の
表面装飾性に問題がある場合などはそのまま一旦製板
し、表面装飾は後の工程で処理する必要が生じて、製造
に手間がかかる問題点がある。
目的厚さの板を製板してしまうので、例えば強度を上げ
るための材料配合とした場合で、その配合材料が製品の
表面装飾性に問題がある場合などはそのまま一旦製板
し、表面装飾は後の工程で処理する必要が生じて、製造
に手間がかかる問題点がある。
【０００５】そこで、このようなフローオン成形法にお
いて図５に示すように、強度を受け持つ基層Ａと表面化
粧を受け持つ表層ＢとをフローボックスＦ、Ｆから順次
フェルトベルトＣ上に流し込んで層状に供給し、積層体
として板状体Ｇを一時に製板することが提案されてい
る。なお、図中Ｈは吸引脱水用のサクションボックスを
示す。
いて図５に示すように、強度を受け持つ基層Ａと表面化
粧を受け持つ表層ＢとをフローボックスＦ、Ｆから順次
フェルトベルトＣ上に流し込んで層状に供給し、積層体
として板状体Ｇを一時に製板することが提案されてい
る。なお、図中Ｈは吸引脱水用のサクションボックスを
示す。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フロー
オン一層成形法で基層を成形し、その後この基層上に引
き続き表層となるセメントスラリーをフローボックスＦ
からの流し込みにより均一厚さに供給するのは、表層用
のセメントスラリーの固形分が20％前後と非常に流動性
に富むことと表層はできるだけ薄い層とすることが望ま
しいことから、非常に困難となる欠点があった。
オン一層成形法で基層を成形し、その後この基層上に引
き続き表層となるセメントスラリーをフローボックスＦ
からの流し込みにより均一厚さに供給するのは、表層用
のセメントスラリーの固形分が20％前後と非常に流動性
に富むことと表層はできるだけ薄い層とすることが望ま
しいことから、非常に困難となる欠点があった。
【０００７】即ち、表層は後のプレス工程での仕上がり
状態、特に凹凸模様のエッジを鮮明にするためには、厚
さをできるだけ薄くすることが望ましく、また副次的に
は表層のセメントスラリーは基層となるセメントスラリ
ーに対し材料的に高品質のものが用いられることから経
済的にも層厚はできるだけ薄い方が望ましい。
状態、特に凹凸模様のエッジを鮮明にするためには、厚
さをできるだけ薄くすることが望ましく、また副次的に
は表層のセメントスラリーは基層となるセメントスラリ
ーに対し材料的に高品質のものが用いられることから経
済的にも層厚はできるだけ薄い方が望ましい。
【０００８】これらから、例えば基層は13〜15mmの厚み
であるのに対し表層は 2〜3mm などとされ、このような
薄層を成形するために上述のような流動性に富むセメン
トスラリーをフローボックスＦから製板体の幅方向全面
にわたって均一に供給するのはかなり困難となる問題が
あった。
であるのに対し表層は 2〜3mm などとされ、このような
薄層を成形するために上述のような流動性に富むセメン
トスラリーをフローボックスＦから製板体の幅方向全面
にわたって均一に供給するのはかなり困難となる問題が
あった。
【０００９】このため、表層の成形材料は粉状体とし、
フローオン成形法で製板された基層上に表層用の粉状材
料を散布供給することなども行われている。しかし、こ
の場合最終的にロールで表面を均一に均す工程が不可欠
となり、工程数が増加する他、条件によっては散布ムラ
ができて均一厚さの層にもしにくいといった問題があっ
た。
フローオン成形法で製板された基層上に表層用の粉状材
料を散布供給することなども行われている。しかし、こ
の場合最終的にロールで表面を均一に均す工程が不可欠
となり、工程数が増加する他、条件によっては散布ムラ
ができて均一厚さの層にもしにくいといった問題があっ
た。
【００１０】この発明は上記問題点に鑑み、フローオン
成形法において基層と表層を積層する場合において薄い
表層を幅方向にわたって均一に供給できる化粧セメント
板の製造方法を提供することを目的としてなされたもの
である。
成形法において基層と表層を積層する場合において薄い
表層を幅方向にわたって均一に供給できる化粧セメント
板の製造方法を提供することを目的としてなされたもの
である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の化粧セ
メント板の製造方法は、裏面にサクションボックスを臨
ませたフェルトベルト上にセメントスラリーを層状に供
給し、吸引脱水しつつ製板するフローオン成形法におい
て、フェルトベルト上に成層されて移送される基層用セ
メントスラリー上面に、表層用セメントスラリーを直接
供給して堆積させ、この表層用セメントスラリーを前記
基層用セメントスラリーの動きに伴って前記表層用セメ
ントスラリーを堆積させる手段の下端から順次引き出さ
せることによって前記基層用セメントスラリー層表面に
表層を形成することを特徴とするものである。
メント板の製造方法は、裏面にサクションボックスを臨
ませたフェルトベルト上にセメントスラリーを層状に供
給し、吸引脱水しつつ製板するフローオン成形法におい
て、フェルトベルト上に成層されて移送される基層用セ
メントスラリー上面に、表層用セメントスラリーを直接
供給して堆積させ、この表層用セメントスラリーを前記
基層用セメントスラリーの動きに伴って前記表層用セメ
ントスラリーを堆積させる手段の下端から順次引き出さ
せることによって前記基層用セメントスラリー層表面に
表層を形成することを特徴とするものである。
【００１２】即ち、基層用セメントスラリー層上に供給
される表層用セメントスラリーは、基層用セメントスラ
リー層上面を底面として直接基層用セメントスラリー上
に供給される。
される表層用セメントスラリーは、基層用セメントスラ
リー層上面を底面として直接基層用セメントスラリー上
に供給される。
【００１３】そして表層の成層は堆積させる手段の下端
から基層用セメントスラリーの動きに伴って表層用セメ
ントスラリーを引き出させるように構成しているため、
基層用セメントスラリー表面と前記制限手段の下端との
間の隙間によって表層の厚さが規制され、また前述のよ
うに表層用セメントスラリーを基層用セメントスラリー
表面に直接貯留するようにしているので層間密着性も良
い。
から基層用セメントスラリーの動きに伴って表層用セメ
ントスラリーを引き出させるように構成しているため、
基層用セメントスラリー表面と前記制限手段の下端との
間の隙間によって表層の厚さが規制され、また前述のよ
うに表層用セメントスラリーを基層用セメントスラリー
表面に直接貯留するようにしているので層間密着性も良
い。
【００１４】請求項２に記載の化粧セメント板の製造方
法は、裏面にサクションボックスを臨ませたフェルトベ
ルト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引脱水し
つつ製板するフローオン成形法において、フェルトベル
ト上に成層されて移送される基層用セメントスラリー上
面に、無底の枠体を、底面開口面を前記セメントスラリ
ー層表面に対面させて配設し、該枠体内に表層用セメン
トスラリーを満たして前記枠体の下縁とセメントスラリ
ー表面との間に設けた隙間から前記表層用セメントスラ
リーを前記基層用セメントスラリーの動きによって引き
出させて表層を形成することを特徴とするものである。
法は、裏面にサクションボックスを臨ませたフェルトベ
ルト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引脱水し
つつ製板するフローオン成形法において、フェルトベル
ト上に成層されて移送される基層用セメントスラリー上
面に、無底の枠体を、底面開口面を前記セメントスラリ
ー層表面に対面させて配設し、該枠体内に表層用セメン
トスラリーを満たして前記枠体の下縁とセメントスラリ
ー表面との間に設けた隙間から前記表層用セメントスラ
リーを前記基層用セメントスラリーの動きによって引き
出させて表層を形成することを特徴とするものである。
【００１５】即ち、枠体内に満たされる表層用セメント
スラリーは、固形分濃度20％前後の流動性を有している
ため、枠体内に満たしたときに基層用セメントスラリー
層を底面とする一定の水準面を保ち、この結果基層用セ
メントスラリー層の幅方向全面にわたって均一な水圧と
なる。
スラリーは、固形分濃度20％前後の流動性を有している
ため、枠体内に満たしたときに基層用セメントスラリー
層を底面とする一定の水準面を保ち、この結果基層用セ
メントスラリー層の幅方向全面にわたって均一な水圧と
なる。
【００１６】従って、基層用セメントスラリー層が移動
した時、その表面に表層用セメントスラリーが一定の厚
さとなって枠体の下面から順次引き出されていく。これ
によって、フローオン成形において基層表面に表層用セ
メントスラリーを薄い、かつ均一な層として成層してい
くことが可能となる。
した時、その表面に表層用セメントスラリーが一定の厚
さとなって枠体の下面から順次引き出されていく。これ
によって、フローオン成形において基層表面に表層用セ
メントスラリーを薄い、かつ均一な層として成層してい
くことが可能となる。
【００１７】請求項３に記載の化粧セメント板の製造方
法は、上記請求項２に記載の化粧セメント板の製造方法
において、無底の枠体内のセメントスラリーの水頭が常
時一定となるように表層用セメントスラリーを前記枠体
に供給することを特徴とするものである。
法は、上記請求項２に記載の化粧セメント板の製造方法
において、無底の枠体内のセメントスラリーの水頭が常
時一定となるように表層用セメントスラリーを前記枠体
に供給することを特徴とするものである。
【００１８】即ち、この請求項３における化粧セメント
板の製造方法では、無底の枠体内に表層用セメントスラ
リーを供給する場合、その水頭を常時一定となるように
するため、基層用セメントスラリーの表面に加わる圧力
が常時一定となり、この結果さらに均質な厚さの表層が
成層されることになる。
板の製造方法では、無底の枠体内に表層用セメントスラ
リーを供給する場合、その水頭を常時一定となるように
するため、基層用セメントスラリーの表面に加わる圧力
が常時一定となり、この結果さらに均質な厚さの表層が
成層されることになる。
【００１９】
【発明の実施の形態】次にこの発明の実施の形態を説明
する。図１はこの発明の方法を実施する装置の要部断面
図である。
する。図１はこの発明の方法を実施する装置の要部断面
図である。
【００２０】図１において、この発明の方法に使用され
る装置は、セメントスラリーが層状に供給されるフェル
トベルト１と、このフェルトベルト１下面に接して配置
されるサクションボックス２と、フェルトベルト１上に
セメントスラリーを層状に供給し成層する基層用セメン
トスラリー供給装置３Ａと、移送される基層用セメント
スラリー３上面に、直接表層用セメントスラリー４を連
続供給すると共に、堆積させる手段５とを備え、この堆
積手段５の移送方向下流側に基層用セメントスラリー層
３表面との間に隙間ｄを設けた構成とされている。
る装置は、セメントスラリーが層状に供給されるフェル
トベルト１と、このフェルトベルト１下面に接して配置
されるサクションボックス２と、フェルトベルト１上に
セメントスラリーを層状に供給し成層する基層用セメン
トスラリー供給装置３Ａと、移送される基層用セメント
スラリー３上面に、直接表層用セメントスラリー４を連
続供給すると共に、堆積させる手段５とを備え、この堆
積手段５の移送方向下流側に基層用セメントスラリー層
３表面との間に隙間ｄを設けた構成とされている。
【００２１】上記において表層用セメントスラリー４を
基層用セメントスラリー３上面に堆積する手段５は、具
体的には図２、図３に示すように無底の枠体６を、底面
開口面を基層用セメントスラリー層３表面に対面させて
配設した構成とされ、該枠体内に、例えば固形分濃度が
20％前後とされた表層用セメントスラリー４を満たして
前記枠体６の下縁とセメントスラリー３表面との間に設
けた隙間ｄから前記表層用セメントスラリー４を排出す
るようにされている。
基層用セメントスラリー３上面に堆積する手段５は、具
体的には図２、図３に示すように無底の枠体６を、底面
開口面を基層用セメントスラリー層３表面に対面させて
配設した構成とされ、該枠体内に、例えば固形分濃度が
20％前後とされた表層用セメントスラリー４を満たして
前記枠体６の下縁とセメントスラリー３表面との間に設
けた隙間ｄから前記表層用セメントスラリー４を排出す
るようにされている。
【００２２】また、上記の無底の枠体６の移送方向側の
底部側面には表層用セメントスラリー４が移送上流側へ
流出するのを防止するシャッター板６Ａが上下位置調節
可能に設けられ、送られてくる基層用セメントスラリー
層３の厚さに応じて調節できるようにされている。
底部側面には表層用セメントスラリー４が移送上流側へ
流出するのを防止するシャッター板６Ａが上下位置調節
可能に設けられ、送られてくる基層用セメントスラリー
層３の厚さに応じて調節できるようにされている。
【００２３】また、下流側側面には表層用セメントスラ
リー層４の厚さを調整するゲート板６Ｂが設けられ、こ
の上下位置を調節することにより表層用セメントスラリ
ー層４の厚さが規制されるように構成されている。
リー層４の厚さを調整するゲート板６Ｂが設けられ、こ
の上下位置を調節することにより表層用セメントスラリ
ー層４の厚さが規制されるように構成されている。
【００２４】また、移送方向に対して側面となる面に
は、供給された表層用セメントスラリー４の側方向への
流出を防ぐ枠板６Ｃ、６Ｃがやはり上下位置調節可能に
設けられ基層用セメントスラリー３及び表層用セメント
スラリー４の幅方向規制板として機能するようにされて
いる。
は、供給された表層用セメントスラリー４の側方向への
流出を防ぐ枠板６Ｃ、６Ｃがやはり上下位置調節可能に
設けられ基層用セメントスラリー３及び表層用セメント
スラリー４の幅方向規制板として機能するようにされて
いる。
【００２５】なお、図中６Ｄはゲート６Ｂの上下位置調
節ネジ、６Ｅは枠体６全体を上下調節することにより枠
板６Ｃの上下位置を調節する位置調節ネジを示す。ま
た、図中７は無底の枠体６に表層用セメントスラリー４
の供給装置を示す。
節ネジ、６Ｅは枠体６全体を上下調節することにより枠
板６Ｃの上下位置を調節する位置調節ネジを示す。ま
た、図中７は無底の枠体６に表層用セメントスラリー４
の供給装置を示す。
【００２６】この供給装置７は枠体６にセメトスラリー
を供給するにあたり、均一に供給されるよう分散経路７
Ａとされている。なお、上記の実施の形態において、図
１に示すように基層用セメントスラリー層３も同様に無
底の枠体８で成層可能とされている。
を供給するにあたり、均一に供給されるよう分散経路７
Ａとされている。なお、上記の実施の形態において、図
１に示すように基層用セメントスラリー層３も同様に無
底の枠体８で成層可能とされている。
【００２７】即ち、フェルトベルト１の走行始端側に無
底の枠体８が配置され、該枠体内に例えば固形分濃度が
20％前後とされた基層用セメントスラリー３を満たして
前記枠体８の下縁とフェルトベルト１表面との間に設け
た隙間Ｄから前記表層用セメントスラリー３が排出され
るようにされている。
底の枠体８が配置され、該枠体内に例えば固形分濃度が
20％前後とされた基層用セメントスラリー３を満たして
前記枠体８の下縁とフェルトベルト１表面との間に設け
た隙間Ｄから前記表層用セメントスラリー３が排出され
るようにされている。
【００２８】従って、基層用セメントスラリー層３も上
記隙間Ｄにより厚さが規制され均一な層厚とされる。な
お、基層用セメントスラリー層３は他の製法、例えば押
出成形法、抄造法などによって成形された層であっても
良い。
記隙間Ｄにより厚さが規制され均一な層厚とされる。な
お、基層用セメントスラリー層３は他の製法、例えば押
出成形法、抄造法などによって成形された層であっても
良い。
【００２９】上記の装置により化粧セメント板を製造す
る場合、無底の枠体６に表層用セメントスラリー４を供
給装置７より供給する。表層用セメントスラリー４は分
散経路７Ａにより分散されて均一な状態で枠体６へ供給
される。
る場合、無底の枠体６に表層用セメントスラリー４を供
給装置７より供給する。表層用セメントスラリー４は分
散経路７Ａにより分散されて均一な状態で枠体６へ供給
される。
【００３０】枠体６内では、表層用セメトスラリー４は
基層用セメントスラリー３表面を底として貯留される。
しかも、枠体６内に供給されるセメントスラリーは固形
分濃度20％前後の流動性を有するから枠体６内で均一な
水面レベルを保つ。
基層用セメントスラリー３表面を底として貯留される。
しかも、枠体６内に供給されるセメントスラリーは固形
分濃度20％前後の流動性を有するから枠体６内で均一な
水面レベルを保つ。
【００３１】一方、基層用セメントスラリー３の層は図
１、図２に示す矢印方向へ移動しているので、その移送
方向の影響を受け表層用セメントスラリー４は枠体６と
基層用セメントスラリー３との隙間ｄから基層用セメン
トスラリー３によって引き出されるようにして成層され
ていく。
１、図２に示す矢印方向へ移動しているので、その移送
方向の影響を受け表層用セメントスラリー４は枠体６と
基層用セメントスラリー３との隙間ｄから基層用セメン
トスラリー３によって引き出されるようにして成層され
ていく。
【００３２】従って、基層用セメントスラリー３上には
隙間ｄに応じて均一な厚さの表層用セメントスラリー層
４が成層されるのである。なお、フェルトベルト１の移
動速度と上記枠体６の隙間ｄの相関より単位時間当たり
のセメントスラリーの流出量が決まるので、これに見合
った表層用セメントスラリーを連続的に供給すれば枠体
６内でのセメントスラリーの水頭を一定に保つことが可
能となり、これによって全長にわたりより均一な厚さの
表層を形成することが可能となる。
隙間ｄに応じて均一な厚さの表層用セメントスラリー層
４が成層されるのである。なお、フェルトベルト１の移
動速度と上記枠体６の隙間ｄの相関より単位時間当たり
のセメントスラリーの流出量が決まるので、これに見合
った表層用セメントスラリーを連続的に供給すれば枠体
６内でのセメントスラリーの水頭を一定に保つことが可
能となり、これによって全長にわたりより均一な厚さの
表層を形成することが可能となる。
【００３３】
【発明の効果】この発明は以上説明したように、基層用
セメントスラリー層上に表層用セメントスラリー層を成
層する場合、基層用セメントスラリーの移動に伴って表
層用セメントスラリーを枠体などの制限手段の下面から
引き出させるようにして成層していくため、薄い厚さの
層であっても均質かつ一定厚さの表層を成層することが
できる。
セメントスラリー層上に表層用セメントスラリー層を成
層する場合、基層用セメントスラリーの移動に伴って表
層用セメントスラリーを枠体などの制限手段の下面から
引き出させるようにして成層していくため、薄い厚さの
層であっても均質かつ一定厚さの表層を成層することが
できる。
【００３４】また、枠体内のセメントスラリー層の液面
レベルを常時一定にしておけば、その水頭による圧力に
よって均一な層が成層可能となる。従って、従来困難で
あった薄い表層を均一にかつ迅速に成層可能となるので
ある。
レベルを常時一定にしておけば、その水頭による圧力に
よって均一な層が成層可能となる。従って、従来困難で
あった薄い表層を均一にかつ迅速に成層可能となるので
ある。
【図１】この発明の方法に使用される装置の一形態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】この発明の方法に使用される装置の一形態を示
す要部拡大側断面図である。
す要部拡大側断面図である。
【図３】この発明の方法に使用される装置の一形態を示
す要部拡大縦断面図である。
す要部拡大縦断面図である。
【図４】スラリー供給装置の平面図である。
【図５】従来例の側面図である。
１…フェルトベルト ２…サクションボックス ３…基層用セメントスラリー ３Ａ…基層用セメントスラリー供給装置 ４…表層用セメントスラリー ５…表層用セメントスラリーを連続供給すると共に堆積
させる手段 ６…無底の枠体 ６Ａ…シャッター板 ６Ｂ…ゲート板 ６Ｃ…枠板 ７…表層用セメントスラリー４の供給装置 ７Ａ…分散経路 ｄ…隙間
させる手段 ６…無底の枠体 ６Ａ…シャッター板 ６Ｂ…ゲート板 ６Ｃ…枠板 ７…表層用セメントスラリー４の供給装置 ７Ａ…分散経路 ｄ…隙間
Claims (3)
- 【請求項１】裏面にサクションボックスを臨ませたフェ
ルトベルト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引
脱水しつつ製板するフローオン成形法において、フェル
トベルト上に成層されて移送される基層用セメントスラ
リー上面に、表層用セメントスラリーを直接供給して堆
積させ、この表層用セメントスラリーを前記基層用セメ
ントスラリーの動きに伴って前記表層用セメントスラリ
ーを堆積させる手段の下端から順次引き出させることに
よって前記基層用セメントスラリー層表面に表層を形成
することを特徴とする化粧セメント板の製造方法。 - 【請求項２】裏面にサクションボックスを臨ませたフェ
ルトベルト上にセメントスラリーを層状に供給し、吸引
脱水しつつ製板するフローオン成形法において、フェル
トベルト上に成層されて移送される基層用セメントスラ
リー上面に無底の枠体を、底面開口面を前記セメントス
ラリー層表面に対面させて配設し、該枠体内に表層用セ
メントスラリーを満たして前記枠体の下縁とセメントス
ラリー表面との間に設けた隙間から前記表層用セメント
スラリーを前記基層用セメントスラリーの動きによって
引き出させて表層を形成することを特徴とする化粧セメ
ント板の製造方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の化粧セメント板の製造方
法において、無底の枠体内のセメントスラリーの水頭が
常時一定となるように表層用セメントスラリーを前記枠
体に供給することを特徴とする化粧セメント板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6159297A JPH10249825A (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 化粧セメント板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6159297A JPH10249825A (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 化粧セメント板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10249825A true JPH10249825A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13175584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6159297A Pending JPH10249825A (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 化粧セメント板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10249825A (ja) |
-
1997
- 1997-03-17 JP JP6159297A patent/JPH10249825A/ja active Pending
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